JPH025295A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH025295A
JPH025295A JP63154213A JP15421388A JPH025295A JP H025295 A JPH025295 A JP H025295A JP 63154213 A JP63154213 A JP 63154213A JP 15421388 A JP15421388 A JP 15421388A JP H025295 A JPH025295 A JP H025295A
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JP
Japan
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transistor
level
potential
circuit
writing
Prior art date
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Pending
Application number
JP63154213A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhisa Sugao
菅生 靖久
Mitsuya Kawada
川田 充哉
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH025295A publication Critical patent/JPH025295A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent the glitch of an output waveform and to realize a multi-bit constitution of a semiconductor device while satisfying a high-speed data processing request by dropping immediately the base potential of an R/W transistor in the latter writing period. CONSTITUTION:A writing circuit 50 consists of transistors TR 51-56, resistance 57-59, current sources 60-61, a delay circuit 62, and an inverter 63. An output signal set at a high level is reset at the potential set at reading and supplied to the control (R/W) TR 51 and 52 inserted into a pair of bit lines out of those output signals of the circuit 50 set at high levels in the prescribed timing before the end of a writing action. Therefore both TR 51 and 52 are never turned off temporarily when the writing action is through. Thus it is possible to obtain a semiconductor memory of a multi-bit constitution that can prevent the output glitch after a writing action while maintaining the high-speed data processing performance.

Description

【発明の詳細な説明】 〔目次〕 概要 産業上の利用分野 従来の技術       (第5〜7図)発明が解決し
ようとする課題 課題を解決するための手段 作用 実施例 (1)本発明の第1実施例 (第1.2図)(2)本発
明の第2実施例 (第3図)(3)本発明の第3実施例
 (第4図)発明の効果 〔概要〕 半導体記憶装置に関し、 データ処理の高速性を維持しつつ、書込動作終7後の出
力グリソジ杏防止することのできる多ビット構成の半導
体記憶装置を提供することを目的とし、 ワード線とビット線によって選択可能な多数のバイポー
ラ型のメモリセルを格子状に配置し、各ビット線にデー
タの書込み/読出しを制御する制御トランジスタを介挿
し、該制御トランジスタは、データをメモリセルに書込
むとき該メモリセルに接続される選択されたビット線対
の電位を制御するものであって、データを書込むとき、
所定の書込回路により前記制御トランジスタの入力レベ
ルを読出し時の電位に比べて一方を高レベルとし、他方
を低レベルとする半導体記憶装置において、前記書込回
路は、書込動作の終了前における所定のタイミングで前
記高レベルに設定された一方の入力レベルを読出し時の
電位に戻すように構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Table of Contents] Overview Industrial Application Fields Prior Art (Figures 5 to 7) Problems to be Solved by the Invention Examples of Means and Actions for Solving the Problems (1) Sections of the Invention 1st embodiment (Fig. 1.2) (2) 2nd embodiment of the present invention (Fig. 3) (3) 3rd embodiment of the present invention (Fig. 4) Effects of the invention [Summary] Concerning a semiconductor memory device The purpose is to provide a semiconductor memory device with a multi-bit configuration that can prevent output gridlock after the end of a write operation while maintaining high-speed data processing. A large number of bipolar memory cells are arranged in a grid, and a control transistor for controlling data writing/reading is inserted in each bit line, and the control transistor is connected to the memory cell when writing data to the memory cell. It controls the potential of the selected bit line pair, and when writing data,
In a semiconductor memory device in which a predetermined write circuit sets the input level of the control transistor to a high level and the other to a low level compared to a potential at the time of reading, the write circuit sets The one input level set to the high level is returned to the read potential at a predetermined timing.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、半導体記憶装置に係り、詳しくはバイポーラ
RAMに適用され、書込回路の改良を図った半導体記憶
装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that is applied to a bipolar RAM and has an improved write circuit.

バイポーラRAMは高速動作するため、大型計算機のバ
ッファ装置などに利用されているが、近年増々高速化・
大容量化が要求されている。このため、最新のリソグラ
フィー技術等を用いて素子の微細化が進められているが
、回路的にもRAMと周辺ロジック部とを同一チップに
搭載する等の対策が採られている。また、システムの高
速化を図るためには一度に大量のデータを処理する必要
があるため、メモリの構成を多ビット化することも必要
である。
Because bipolar RAM operates at high speed, it is used as a buffer device in large computers, but in recent years it has become faster and faster.
Larger capacity is required. For this reason, miniaturization of elements is progressing using the latest lithography technology, and countermeasures are also being taken in terms of circuitry, such as mounting a RAM and a peripheral logic section on the same chip. Furthermore, in order to speed up the system, it is necessary to process a large amount of data at once, so it is also necessary to increase the memory configuration to a multi-bit configuration.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のバイポーラRAMとしては、例えば第5図に示す
ようなものが知られている。第5図はバイポーラRAM
のセルの周辺を示す回路図であり、この図において、1
a、1b、2a12bはワード線、3a、3b、4a、
4bはビット線である。
As a conventional bipolar RAM, one shown in FIG. 5, for example, is known. Figure 5 shows bipolar RAM
1 is a circuit diagram showing the periphery of a cell, and in this figure, 1
a, 1b, 2a12b are word lines, 3a, 3b, 4a,
4b is a bit line.

なお、このようなワード線対およびビット線対は多数設
けられているが、第5図では2対ずつを示している。
Although a large number of such word line pairs and bit line pairs are provided, FIG. 5 shows two pairs each.

ワード線1a、■b、2a、2bおよびビット線3a、
3b、4a、4bによって区画される格子状の部分には
メモリセル5〜8が配置されており、そのうち1つのメ
モリセル5についてのみ回路が示されている。メモリセ
ル5は現在主流となっているダイオードクランプ形マル
チエミッタメモリセルと称されるもので、トランジスタ
9.10、ショットキーバリアダイオード11.12お
よび抵抗13.14により構成される。メモリセル5は
ワード線1aの電位によって行方向の選択、非選択が行
われ、例えば−〇、8■で選択、−1,7Vで非選択と
なるようなレベルに設定される。
Word lines 1a, ■b, 2a, 2b and bit lines 3a,
Memory cells 5 to 8 are arranged in the lattice-shaped portion defined by 3b, 4a, and 4b, and the circuit for only one memory cell 5 is shown. The memory cell 5 is called a diode clamp type multi-emitter memory cell, which is currently the mainstream, and is composed of a transistor 9.10, a Schottky barrier diode 11.12, and a resistor 13.14. The memory cell 5 is selected or unselected in the row direction depending on the potential of the word line 1a, and is set to a level such that, for example, it is selected at -0, 8V, and unselected at -1, 7V.

一方、列方向の選択はビット線選択信号B1がトランジ
スタ15.16のベースに印加されると行われ、これに
より、電流源17.18がビットvA3 a 。
On the other hand, selection in the column direction is performed when a bit line selection signal B1 is applied to the base of transistor 15.16, which causes current source 17.18 to select bit vA3 a .

3bにそれぞれ接続される。なお、電流源17.18は
電源v□に接続され、Vtt=  5.2 V、GND
=0■である。非選択のビット線4a、4bにも同様に
トランジスタ19.20が介挿され、ビット線選択信号
B2が印加可能になっている。
3b, respectively. In addition, the current sources 17.18 are connected to the power supply v□, Vtt=5.2 V, GND
=0■. Similarly, transistors 19 and 20 are inserted in unselected bit lines 4a and 4b, so that a bit line selection signal B2 can be applied.

読出し時には書込回路21から中間レベル(例えば−1
,2vで読出し時の電位に相当する)の電圧がR/W)
ランリスタ(読み出し/書込み制御用トランジスタ)2
2.23のベースに印加される。いま、メモリセル5の
トランジスタ10がオン、トランジスタ9がオフしてい
る場合、トランジスタ10とR/W)ランリスタ22お
よびトランジスタ9とR/W)ランリスタ23とでそれ
ぞれECL回路を構成し、ベース電位の最も高いトラン
ジスタに電流が流れるから、電流alX17による電流
源電流IRいはトランジスタ10から流れ、−万雷流源
18による電流源電流11W′はR/W)ランリスタ2
3から流れる。トランジスタ15の記憶内容の検出は抵
抗24.25の電位ドロップに基づいて行われる。すな
わち、トランジスタ10がオン、トランジスタ9がオフ
している上述の例であれば、抵抗24には電位ドロップ
が発生しないが、抵抗25には抵抗値XIIIW′なる
電位ドロップが発生する。この電圧はセンス増幅器26
により増幅され、読出しデータとして取り出される。
When reading, the write circuit 21 outputs an intermediate level (for example, -1).
, 2V corresponds to the potential during readout) is R/W)
Run lister (transistor for read/write control) 2
2.23 applied to the base. Now, when the transistor 10 of the memory cell 5 is on and the transistor 9 is off, the transistor 10 and the R/W) run lister 22 and the transistor 9 and the R/W) run lister 23 constitute an ECL circuit, and the base potential Since the current flows through the transistor with the highest current, the current source current IR due to the current al
It flows from 3. Detection of the memory contents of the transistor 15 is performed based on the potential drop of the resistors 24 and 25. That is, in the above example where the transistor 10 is on and the transistor 9 is off, no potential drop occurs in the resistor 24, but a potential drop with a resistance value of XIIIW' occurs in the resistor 25. This voltage is applied to the sense amplifier 26
is amplified and taken out as read data.

次に、書込み時には一方のR/Wl−ランリスタ22の
ベース電位を中間レベルから高レベルに移し、他方のR
/Wトランジスタ23のベース電位を低レベルに設定す
ることで書込み動作が可能となる。
Next, during writing, the base potential of one R/Wl-run lister 22 is moved from an intermediate level to a high level, and the base potential of the other R/Wl-run lister 22 is moved from an intermediate level to a high level.
A write operation is possible by setting the base potential of the /W transistor 23 to a low level.

この設定によりR/W)ランリスタ23よりトランジス
タ90ベース電位の方が高くなるので、R/Wトランジ
スタ23に流れていた電流源電流1+iwがトランジス
タ9に切り換わる。したがって、トランジスタ9のコレ
クタ電位が引き下げられ、トランジスタ10はオンから
オフ状態に変化する。その後、R/Wl−ランリスタ2
2.23のベース電位を読出しレベル(中間レベル)に
戻しても、トランジスタ9.10のベースのコレクタが
交差接続されているので、新しい情報が保持され、書込
み動作が完了する。なお、他のビット線4a、4bに連
なるメモリセル6.8等についても同様の動作が行われ
、ピッl−4i14a、4bにはR/W)ランリスタ2
7.28がそれぞれ介挿されている。
With this setting, the base potential of the transistor 90 becomes higher than that of the R/W) run lister 23, so the current source current 1+iw flowing through the R/W transistor 23 is switched to the transistor 9. Therefore, the collector potential of transistor 9 is lowered, and transistor 10 changes from on to off. After that, R/Wl-Run Lister 2
Even if the base potential of 2.23 is returned to the read level (intermediate level), the new information is retained and the write operation is completed, since the base collector of transistor 9.10 is cross-connected. Note that the same operation is performed for the memory cells 6, 8, etc. connected to the other bit lines 4a, 4b, and the R/W) run list 2 is connected to the bit lines 4i14a, 4b.
7.28 are inserted respectively.

ここで、256ビツl−のRAMを単位として考えた場
合、X:Y(7)比は256xlのときは16X16.
256X4のときは32X 8.256 X 8以上に
なると64×4という構成になる。この場合、ビット線
にはXの数だけメモリセルのエミッタが接続されること
になり、R/Wl−ランリスタの負荷は多ビツト構成に
なる程大きくなる。一方、書込回路21の出力はR/W
l−ランリスタのベースが負荷となるので、多ビツト構
成になる程小さくなる。
Here, when considering a 256 bit l-RAM as a unit, the X:Y(7) ratio is 16X16.
When it is 256×4, it becomes 32×8.256×8 or more, it becomes 64×4. In this case, the emitters of memory cells as many as X are connected to the bit line, and the load on the R/Wl-run lister increases as the number of bits increases. On the other hand, the output of the write circuit 21 is R/W
Since the base of the L-run lister becomes a load, the load becomes smaller as the number of bits increases.

第6図は書込回路21の一例を示す図である。この図に
おいて、書込回路21はトランジスタ31〜37、電流
源38〜41および抵抗42〜44により構成され、使
用される信号W、D、D、Vrefの電位レベルは第7
図(a)のようになっている。
FIG. 6 is a diagram showing an example of the write circuit 21. In this figure, the write circuit 21 is composed of transistors 31 to 37, current sources 38 to 41, and resistors 42 to 44, and the potential levels of the signals W, D, D, and Vref used are the seventh.
It is as shown in figure (a).

読出し時にライトイネイブル信号WがW−“H”に設定
されると、エミッタが共通接続された3つのトランジス
タ33〜35のうちトランジスタ35のみがオンして電
流源40による電流は抵抗42からトランジスタ35を
通って流れる一方、電流源41による電流はトランジス
タ36を通って流れる。このため、抵抗43.44には
電位ドロップが生せず、したがって、同一レベル(中間
レベルに相当)の電位がエミフタホロクのトランジスタ
31.32を介し2つの出力としてそれぞれ取り出され
、前述したR/Wトランジスタ22.23にそれぞれ供
給される。このとき、書込回路21の出力波形は第7図
(b)のように示され、中間レベルとなる。
When the write enable signal W is set to W-“H” during reading, only the transistor 35 is turned on among the three transistors 33 to 35 whose emitters are commonly connected, and the current from the current source 40 is transferred from the resistor 42 to the transistor. Current from current source 41 flows through transistor 36 while flowing through transistor 35 . Therefore, no potential drop occurs in the resistors 43 and 44, and therefore, potentials at the same level (corresponding to an intermediate level) are taken out as two outputs via the emifter lock transistors 31 and 32, respectively, and the R/W are supplied to transistors 22 and 23, respectively. At this time, the output waveform of the write circuit 21 is shown as shown in FIG. 7(b), and is at an intermediate level.

一方、書込み時はデータ信号り、Dに所定のデータに対
応するレベルが加えられ、W=“L”に設定される。こ
のため、書込みのデータ信号D、Dに従ってトランジス
タ33.34の何れがオンとなる。例えば、第7図(a
)のようにDが低レベル、Dが高レベルの場合であれば
、トランジスタ34がオン、トランジスタ33がオフし
て電流源40による電流は抵抗42、抵抗44を介しト
ランジスタ34を通して流れる。一方、電流源41によ
る電流はトランジスタ37がオンするため、このトラン
ジスタ37を通して流れる。したがって、抵抗43.4
4の間に電位差が生じ、これがそれぞれトランジスタ3
1.32を介して出力として取り出され、その出力レベ
ルは第7図(b)のように示され、一方の出力信号は中
間レベルに対して高レベル(例えば、−1,OV)、他
方の出力信号は中間レベル(−1,2V)に対して低レ
ベル(例えば、−1,8V)となる。
On the other hand, during writing, a level corresponding to predetermined data is added to the data signal D, and W="L" is set. Therefore, whichever of the transistors 33 and 34 is turned on according to the write data signals D and D. For example, in Figure 7 (a
), when D is at a low level and D is at a high level, the transistor 34 is on, the transistor 33 is off, and the current from the current source 40 flows through the transistor 34 via the resistor 42 and the resistor 44. On the other hand, since the transistor 37 is turned on, the current from the current source 41 flows through the transistor 37. Therefore, resistance 43.4
A potential difference is created between transistors 3 and 4, which causes a potential difference between transistors 3 and
1.32, and its output level is shown as shown in FIG. The output signal has a low level (for example, -1, 8V) with respect to an intermediate level (-1, 2V).

そして、このようにレベルの異なる出力信号が第5図に
示すR/Wトランジスタ22.23のベースに印加され
、前述した書込動作が行われる。
Then, the output signals having different levels as described above are applied to the bases of the R/W transistors 22 and 23 shown in FIG. 5, and the write operation described above is performed.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、このような従来のバイポーラRAMにあ
っては、書込回路の出力レベルが書込みレベルから読出
しレベル(中間レベル)に戻るときに、メモリセルが多
ビツト構成(例えばX:Y=64X4のとき)であれば
、書込回路の出力側につく負荷は4個であるが、R/W
1ランジスタのエミッタ側につく負荷が64個となって
両者の負荷がアンバランスとなる。このため、R/Wト
ランジスタのベース電位の下がり方に対して、エミッタ
電位の下がり方が遅くなり、−時的にR/W)ランリス
タがカットオフされてコレクタ電流が減少する。この場
合、RAMの出力はこのR/Wl−ランリスタのコレク
タ電流を検出しているので、上記カットオフの時間幅だ
け出力波形にグリッジを生ずるという問題点があった。
However, in such a conventional bipolar RAM, when the output level of the write circuit returns from the write level to the read level (intermediate level), the memory cell has a multi-bit configuration (for example, when X:Y=64X4). ), the number of loads attached to the output side of the write circuit is four, but the R/W
The number of loads attached to the emitter side of one transistor is 64, and the loads on both sides become unbalanced. For this reason, the emitter potential decreases more slowly than the base potential of the R/W transistor, and the R/W transistor is cut off and the collector current decreases. In this case, since the output of the RAM detects the collector current of this R/Wl-run lister, there is a problem that a glitch occurs in the output waveform by the time width of the cutoff.

ここに、グリッジとは出力波形にいわゆるヒゲが突出し
て、これがスレシホールドレベルを越える等してノイズ
となることであり、例えば本来的には“L”の出力であ
るにも拘らず一時的に“1■”の論理が現れるという不
具合が生じる。
Here, a glitch is a protruding so-called whisker in the output waveform, which exceeds a threshold level and becomes noise. For example, even though the output is originally "L", it temporarily A problem arises in that the logic of "1■" appears in .

なお、多ビツト構成であっても、例えば64 X 64
のようにX:Yが等しくいわゆる正方形に近いよっなセ
ル配列であれば、上記再負荷のアンバランスが生せず、
グリッジの発生には到らない。したがって、セルの配列
を長方形のようにしたときグリッジの問題が顕著なもの
となる。これを解決するためには、例えばデータの処理
タイム(サイクルタイム)を長くすることも考えられる
が、これでは近時の高速性の要求に反することとなり、
妥当でない。
Note that even if it is a multi-bit configuration, for example, 64 x 64
If the cell arrangement is close to a so-called square where X:Y is equal as shown in the figure, the reload imbalance described above will not occur.
This does not lead to the occurrence of glitches. Therefore, when the cells are arranged in a rectangular manner, the glitch problem becomes more noticeable. In order to solve this problem, for example, it may be possible to lengthen the data processing time (cycle time), but this would go against the recent demands for high speed.
Not valid.

そこで本発明は、データ処理の高速性を維持しつつ、壽
込動作終了後の出力グリッジを防止することのできる多
ビツト構成の半導体記憶装置を提供することを目的とし
ている。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a multi-bit semiconductor memory device that can prevent output glitches after the end of a write operation while maintaining high-speed data processing.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明による半導体記憶装置は上記目的達成のため、ワ
ード線とビット線によって選択可能な多数のバイポーラ
型のメモリセルを格子状に配置し、各ビット線にデータ
の書込み/読出しを制御する制御トランジスタを介挿し
、該制御トランジスタは、データをメモリセルに書込む
とき該メモリセルに接続される選択されたビット線対の
電位を制御するものであって、データを書込むとき、所
定のV込回路により前記制御トランジスタの入力レベル
を読出し時の電位に比べて一方を高レベルとし、他方を
低レベルとする半導体記憶装置において、前記書込回路
は、書込動作の終了前における所定のタイミングで前記
高レベルに設定された一方の人力レベルを読出し時の電
位に戻すように構成されている。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention has a large number of bipolar memory cells selectable by word lines and bit lines arranged in a grid, and a control transistor for controlling data writing/reading on each bit line. is inserted, and the control transistor controls the potential of a selected bit line pair connected to the memory cell when writing data to the memory cell, and when writing data, the control transistor controls the potential of a selected bit line pair connected to the memory cell. In a semiconductor memory device in which a circuit sets the input level of the control transistor to a high level and the other to a low level compared to a potential at the time of reading, the write circuit controls the input level of the control transistor at a predetermined timing before the end of the write operation. It is configured to return one of the human power levels set to the high level to the potential at the time of reading.

〔作用〕[Effect]

本発明では、書込動作の終了前における所定タイミング
で書込回路の出力信号のうち高レベルに設定された1つ
が読出し時の電位に戻されてビット線対に介挿された制
御トランジスタ(R/Wトランジスタ)に供給される。
In the present invention, at a predetermined timing before the end of the write operation, one of the output signals of the write circuit set to a high level is returned to the read potential, and the control transistor (R /W transistor).

したがって、書込み動作終了時に一時的にR/Wトラン
ジスタがオフ状態になることがなく、データ出力波形の
グリッジが有効に防止される。
Therefore, the R/W transistor does not temporarily turn off at the end of the write operation, and glitches in the data output waveform are effectively prevented.

〔実施例〕〔Example〕

・以下、本発明を図面に基づいて説明する。 -Hereinafter, the present invention will be explained based on the drawings.

第1.2図は本発明に係る半導体記憶装置の1実施例を
示す図である。本発明はバイポーラRAMに適用される
ものであるが、RAM周辺回路のうち本実施例では書込
回路に特徴があるため、書込回路について十分に開示し
、その他の構成は第5図に示した従来例と同様であるた
め、省略する。
FIG. 1.2 is a diagram showing one embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. Although the present invention is applied to a bipolar RAM, among the RAM peripheral circuits, this embodiment has a feature in the write circuit, so the write circuit will be fully disclosed, and the other configurations are shown in FIG. Since this is the same as the conventional example, it will be omitted.

第1図はバイポーラRAMに適用される書込回路を示す
回路図であり、この図において、書込回路50はトラン
ジスタ51〜56、抵抗57〜59、電流源60〜61
、遅延回路62およびインバータ63によす構成される
。トランジスタ51.52のベースにはデータ信号り、
Dがそれぞれ供給され、トランジスタ51〜53の各エ
ミッタは共通接続されてECL回路を構成して電流源6
0に接続、トランジスタ51.52の各コレクタ側から
出力が取り出される。また、トランジスタ54〜56の
各エミッタも同様に共通接続されてECL回路を構成し
て電流源61に接続され、トランジスタ53.54のベ
ースにはライトイネイブル信号Wが、トランジスタ55
のベースには基準電圧Vre(が、さらにトランジスタ
56のベースには遅延回路62およびインバータ63を
介してライトイネイブル信号Wが供給される。遅延回路
62はライトイネイブル信号Wを所定時間だけ遅延させ
て次段に伝達するもので、遅延時間は予め適切な値(グ
リッジを生じない値)に設定され、これは実験等により
求められる。各信号り、D、W、Vrefの電位関係は
第7図(a)に示すものと同様である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a write circuit applied to a bipolar RAM. In this figure, a write circuit 50 includes transistors 51 to 56, resistors 57 to 59, current sources 60 to 61
, a delay circuit 62 and an inverter 63. The bases of transistors 51 and 52 receive data signals,
D is supplied to each, and the emitters of transistors 51 to 53 are commonly connected to form an ECL circuit and a current source 6
0, and the output is taken out from each collector side of the transistors 51 and 52. Furthermore, the emitters of transistors 54 to 56 are similarly connected in common to form an ECL circuit and are connected to a current source 61, and a write enable signal W is applied to the bases of transistors 53 and 54.
A reference voltage Vre is supplied to the base of the transistor 56, and a write enable signal W is supplied to the base of the transistor 56 via a delay circuit 62 and an inverter 63.The delay circuit 62 delays the write enable signal W by a predetermined time. The delay time is set in advance to an appropriate value (a value that does not cause glitches), and this can be determined through experiments, etc. The potential relationship of each signal, D, W, and Vref, is This is similar to that shown in FIG. 7(a).

なお、本実施例ではトランジスタ51.52のコレクタ
電流をそのまま出力として取り出しているが、この後に
従来例と同様に1段のエミッタホロワ増幅器を介挿して
外部に取り出すようにしてもよい。
In this embodiment, the collector currents of the transistors 51 and 52 are taken out as output as they are, but a one-stage emitter-follower amplifier may be inserted after this as in the conventional example to take them out to the outside.

以上の構成において、読出し時にライトイネイブル信号
WをW=″H″にすると、トランジスタ53がオンして
電流源60による電流■、はトランジスタ53のみを通
り、オフ状態にあるトランジスタ51.52を通らない
ため、抵抗58.59に電位ドロップが生ぜず、出力の
レベルは従来例と同様に何れも中間レベルとして出力さ
れる。また、同時にW=″H”によりトランジスタ54
がオンして電流源61による電流I2はトランジスタ5
4を通って流れる。これにより、抵抗57にはIl +
I2なる電流が流れることになる。なお、トランジスタ
56のベースにはインバータ63を介してW−“L”の
信号が供給されるため、トランジスタ56はオフとなっ
ている。したがって、以後、従来例と同様にメモリセル
からのデータ読出しが行われる。
In the above configuration, when the write enable signal W is set to "H" at the time of reading, the transistor 53 is turned on, and the current (2) from the current source 60 passes only through the transistor 53, and the transistors 51 and 52 which are in the off state are turned on. Since no potential drop occurs at the resistors 58 and 59, the output level is output as an intermediate level as in the conventional example. At the same time, W=“H” causes the transistor 54 to
turns on and the current I2 from the current source 61 flows through the transistor 5.
flows through 4. As a result, the resistor 57 has Il +
A current I2 will flow. Note that since the base of the transistor 56 is supplied with the W-"L" signal via the inverter 63, the transistor 56 is off. Therefore, data is subsequently read from the memory cell in the same manner as in the conventional example.

次に、書込み時にライトイネイブル信号WをW−L″に
すると、直ちにトランジスタ53がオフとなり、データ
信号り、Dのレベルに従ってトランジスタ51.52の
何れかがオンとなる。
Next, when the write enable signal W is set to W-L'' during writing, the transistor 53 is immediately turned off, and one of the transistors 51 and 52 is turned on according to the level of the data signal D.

例えば、Dが低レベル、Dが高レベルの場合であれば、
トランジスタ52がオン、トランジスタ51がオフとな
り、電流源60による電流1.は抵抗57、抵抗59を
介しトランジスタ52を通して流れる。このとき、W=
“L”になった直後から遅延回路62によって決まる所
定の遅延時間の間はトランジスタ56のベースに11”
レベルが印加されないため、トランジスタ55のみがオ
ンとなり電流源61の電流I2はGND (グランド)
から流れて抵抗57を通過しない。したがって、書込み
動作の初期(書込開始から遅延時間の間を指す。以下、
書込初期という)では抵抗57には電流■、のみが流れ
、その電圧ドロップは 1、XR。
For example, if D is low level and D is high level,
The transistor 52 is turned on, the transistor 51 is turned off, and the current 1. flows through the transistor 52 via the resistor 57 and the resistor 59. At this time, W=
11" at the base of the transistor 56 for a predetermined delay time determined by the delay circuit 62 immediately after it becomes "L".
Since no level is applied, only the transistor 55 is turned on and the current I2 of the current source 61 is connected to GND (ground).
flows through the resistor 57 and does not pass through the resistor 57. Therefore, the initial stage of the write operation (the period from the start of writing to the delay time).Hereinafter,
(referred to as the initial stage of writing), only current 2 flows through the resistor 57, and its voltage drop is 1, XR.

但し、R1:抵抗57の抵抗値 という値になる。その結果、第2図に書込回路50の出
力波形を示すように、一方の出力電圧は書込初期では中
間レベルに対してI、XR,という値だけ高い高レベル
になり、他方の出力電圧は低レベルとなる。
However, R1 is the resistance value of the resistor 57. As a result, as shown in the output waveform of the write circuit 50 in FIG. 2, one output voltage becomes a high level higher than the intermediate level by the values I, XR, at the initial stage of writing, and the other output voltage is at a low level.

次いで、上記遅延時間が経過すると(以下、書込後期と
いう)、ライトイネイブル信号Wがインバータ63によ
り反転されW=“H”の状態でトランジスタ56のベー
スに印加される。このとき、“H”>Vrefの関係に
あるから、トランジスタ55がオフすると同時にトラン
ジスタ56がオンして抵抗57を電流I2が流れるよう
になり、抵抗57の電圧ドロップは(1,+I、)xR
,となる。したがって、抵抗57の電圧ドロップが読出
し時と同様になり、一方の出力電圧のみは第2図に示す
ように中間レベル(読出しレベル)に低下する。その後
、ライトイネイブル信号Wが”H”レベルに復帰すると
、両方の出力信号が共に再び中間レベルとなる。
Next, when the delay time has elapsed (hereinafter referred to as the late write period), the write enable signal W is inverted by the inverter 63 and applied to the base of the transistor 56 in the state of W="H". At this time, since the relationship "H"> Vref exists, the transistor 56 turns on at the same time as the transistor 55 turns off, and the current I2 flows through the resistor 57, and the voltage drop across the resistor 57 is (1, +I,)xR
, becomes. Therefore, the voltage drop across the resistor 57 is similar to that during reading, and only one output voltage drops to an intermediate level (reading level) as shown in FIG. After that, when the write enable signal W returns to the "H" level, both output signals become the intermediate level again.

以上のことから、本実施例では、仮にセル配列がX :
 Y=64X 4のような長方形の多ビツト構成であっ
ても、書込後期になると直ちにR/Wトランジスタのベ
ース電位が下げられることとなるので、書込み動作終了
時にR/Wトランジスタがオフすることがなく、出力波
形のグリッジが有効に防止される。したがって、サイク
ルタイムを長くする必要は全くなく、データ処理の高速
化の要求を満たしつつ、多ビット化の要請に答えること
ができる。
From the above, in this example, if the cell arrangement is X:
Even in a rectangular multi-bit configuration such as Y=64×4, the base potential of the R/W transistor is immediately lowered in the latter half of the write operation, so the R/W transistor is turned off at the end of the write operation. This effectively prevents glitches in the output waveform. Therefore, there is no need to lengthen the cycle time, and it is possible to meet the demand for multi-bit data processing while satisfying the demand for high-speed data processing.

第3図は本発明に係る半導体記憶装置の第2実施例を示
す図であり、書込回路70を示している。
FIG. 3 is a diagram showing a second embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, and shows a write circuit 70. In FIG.

第3図において、書込回路70はトランジスタ71〜7
6、抵抗77〜80、電流源81.82、ダイオード8
3.84、遅延回路85およびインバータ86により構
成され、第1実施例同様の各信号は図示の位置に供給さ
れる。書込み時にW=“L”になると、書込初期は、ま
ず、]・ランジスタフ5がオフして1−ランジスタフ4
.76がデータ信号り、Dに従ってそれぞれオン、オフ
し、電流源82による電流I、が流れる。
In FIG. 3, the write circuit 70 includes transistors 71 to 7.
6, Resistance 77-80, Current source 81.82, Diode 8
3.84, a delay circuit 85 and an inverter 86, and each signal similar to the first embodiment is supplied to the positions shown. When W becomes "L" during writing, at the beginning of writing, ]-Langistav 5 is turned off and 1-Langistav 4 is turned off.
.. 76 is turned on and off according to the data signal D, and a current I from a current source 82 flows.

このとき、同時にトランジスタ73がオフ、トランジス
タ71がオンとなり、電流源81による電流I2はl・
ランジスタフ1を通して流れる。したがって、トランジ
スタ74あるいはトランジスタ75のオンに伴う電流■
1は抵抗78あるいは抵抗79を流れるが、電流■2は
これらの抵抗78.79を流れない。次いで、書込後期
になると、インバータ86から“H”レベルの信号が出
力されてトランジスタ72のベースに印加されるため、
電流■2がトランジスタ72を通して流れることとなり
、このとき該電流■2は抵抗78およびダイオード83
を介するルートと抵抗79およびダイオード84を介す
るルートの2つに分流して流れる。したがって、第1実
施例の場合と同様に抵抗78あるいは抵抗79を流れる
電流は何れか1つくトランジスタ74、トランジスタ7
5のうちオン状態にあるものに対応する)が(II  
+12)となるため、第2図の波形と同様になる。その
結果、第1実施例と同様の効果が得られる。
At this time, the transistor 73 is turned off and the transistor 71 is turned on at the same time, and the current I2 from the current source 81 is l.
Flows through Landistav 1. Therefore, the current caused by turning on the transistor 74 or the transistor 75 is
Current 1 flows through resistor 78 or resistor 79, but current 2 does not flow through these resistors 78 and 79. Next, in the latter half of writing, an "H" level signal is output from the inverter 86 and applied to the base of the transistor 72.
Current ■2 will flow through transistor 72, and at this time, current ■2 will flow through resistor 78 and diode 83.
The current flows through two routes, one through the resistor 79 and the diode 84. Therefore, as in the case of the first embodiment, the current flowing through the resistor 78 or the resistor 79 is limited to either the transistor 74 or the transistor 7.
5, which corresponds to the one in the on state) is (II
+12), resulting in a waveform similar to that shown in FIG. As a result, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

第4図は本発明に係る半導体記憶装置の第3実施例を示
す図であり、書込回路90を示している。
FIG. 4 is a diagram showing a third embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention, and shows a write circuit 90. In FIG.

第4図に示す書込回路90において、第1図に示した回
路素子と同一構成部分には同一番号を符して示し、配置
等が異なる部分には新たな番号を符して説明する。書込
回路90は、異なる部分としてトランジスタ91.92
、ダイオード93.94、電流源95、遅延回路96お
よびインバータ97を含んで構成され、第1実施例同様
の各信号は図示の位置に供給される。書込初期にW=“
L”になると、トランジスタ53がオフしデータ信号り
、Dのレベルに従って1−ランリスタ51.52の何れ
かがオンとなり電流11が抵抗57を通して流れる。こ
のとき、同時に1−ランリスタ55がオンとなり、電流
I2が流れる。また、トランジスタ91は遅延回路96
があるため、直ちにオンとならず、電流源95による電
流I、はトランジスタ92がオンとなって流れている。
In the write circuit 90 shown in FIG. 4, components that are the same as those of the circuit elements shown in FIG. 1 are designated by the same numbers, and parts with different arrangement or the like are designated by new numbers for explanation. The write circuit 90 includes transistors 91 and 92 as different parts.
, diodes 93 and 94, a current source 95, a delay circuit 96, and an inverter 97, and each signal similar to the first embodiment is supplied to the positions shown. W=“ at the beginning of writing
When it becomes "L", the transistor 53 is turned off and the data signal is turned on, and according to the level of D, one of the 1-run listers 51 and 52 is turned on and the current 11 flows through the resistor 57.At this time, the 1-run lister 55 is turned on at the same time. A current I2 flows. Also, the transistor 91 is connected to the delay circuit 96.
Therefore, the transistor 92 is not turned on immediately, and the current I from the current source 95 flows while the transistor 92 is turned on.

次いで、書込後期になると、遅延回路96の出力が“H
″に反転してトランジスタ91がオン、トランジスタ9
2がオフとなり、電流■3はトランジスタ91を通して
流れるようになる。このため、トランジスタ51又はト
ランジスタ52のうち何れか高い方の電位がダイオード
93又は94を介してトランジスタ91から抜けるよう
になり、結局、電流I、が抵抗57を流れて■、に加算
されることとなる。したがって、書込回路90の出力波
形は第2図に示した場合と同様になり、前記実施例と同
様の効果を得ることができる。
Next, in the latter half of writing, the output of the delay circuit 96 becomes “H”.
'', transistor 91 is turned on, transistor 9
2 is turned off, and current 3 begins to flow through transistor 91. Therefore, the potential of the higher one of the transistors 51 and 52 comes to exit from the transistor 91 via the diode 93 or 94, and as a result, the current I flows through the resistor 57 and is added to becomes. Therefore, the output waveform of the write circuit 90 is similar to that shown in FIG. 2, and the same effects as in the previous embodiment can be obtained.

〔効果〕〔effect〕

本発明によれば、サイクルタイムを長くすることなく書
込動作終了後の出力グリフジを防止することができ、デ
ータ処理の高速性を維持しつつ、多ビツト構成のバイポ
ーラRAMを得ることができる。
According to the present invention, it is possible to prevent output glyphage after the write operation is completed without increasing the cycle time, and it is possible to obtain a multi-bit bipolar RAM while maintaining high speed data processing.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1.2は本発明に係る半導体記憶装置の第1実施例を
示す図であり、 第1図はその書込回路の回路図、 第2図はその書込回路の出力波形を示す図、第3図は本
発明に係る半導体記憶装置の第2実施例を示すその書込
回路の回路図、 第4図は本発明に係る半導体記憶装置の第3実施例を示
すその書込回路の回路図、 第5〜7図は従来のバイポーラRAMを示す図であり、 第5図はその要部回路図、 第6図はその書込回路の回路図、 第7図(a)(b)はその書込回路の作用を説明する信
号波形図である。 la、lb、2a 、  2b−−−−・−ワード線、
3 as  3 bx  4 a14 b””・・ビッ
ト線、5〜8・・・・・・メモリセル、 21・・・・・・書込回路、 22.23.27.28・・・・・・R/Wトランジス
タ(制御トランジスタ)、 50.70.90・・・・・・書込回路、51〜56.
71〜76.91〜92・・・・・・トランジスタ、5
7〜59.77〜80・・・・・・抵抗、60.61.
81.82.95・・・・・・電流源、62.85.9
6・・・・・・遅延回路、63.86.97・・・・・
・インバータ。 第1 v)j4jの害込回路の二が及形Σ示7囚第2図 ンレrミ来QJtLさ>rAゴ51シー(リイロ巨11
ゴ菟説し目で1シイ場シさfヲ*−W≧C配置第7図
1.2 is a diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 1 is a circuit diagram of a write circuit thereof, FIG. 2 is a diagram showing an output waveform of the write circuit, FIG. 3 is a circuit diagram of a write circuit showing a second embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram of a write circuit showing a third embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention. Figures 5 to 7 are diagrams showing a conventional bipolar RAM. Figure 5 is a circuit diagram of its main parts, Figure 6 is a circuit diagram of its write circuit, and Figures 7 (a) and (b) are FIG. 3 is a signal waveform diagram illustrating the operation of the write circuit. la, lb, 2a, 2b---word line,
3 as 3 bx 4 a14 b""...Bit line, 5 to 8...Memory cell, 21...Write circuit, 22.23.27.28... R/W transistor (control transistor), 50.70.90...Write circuit, 51-56.
71-76.91-92...transistor, 5
7-59.77-80...Resistance, 60.61.
81.82.95...Current source, 62.85.9
6...Delay circuit, 63.86.97...
・Inverter. 1st v) The second part of the harm circuit of j4j is also the form Σ shown 7th prisoner Figure 2
Figure 7

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ワード線とビット線によって選択可能な多数のバイポー
ラ型のメモリセルを格子状に配置し、各ビット線にデー
タの書込み/読出しを制御する制御トランジスタを介挿
し、 該制御トランジスタは、データをメモリセルに書込むと
き該メモリセルに接続される選択されたビット線対の電
位を制御するものであって、データを書込むとき、所定
の書込回路により前記制御トランジスタの入力レベルを
読出し時の電位に比べて一方を高レベルとし、他方を低
レベルとする半導体記憶装置において、 前記書込回路は、書込動作の終了前における所定のタイ
ミングで前記高レベルに設定された一方の入力レベルを
読出し時の電位に戻すように構成されていることを特徴
とする半導体記憶装置。
[Scope of Claims] A large number of bipolar memory cells selectable by word lines and bit lines are arranged in a grid, and a control transistor for controlling data writing/reading is inserted in each bit line, and the control transistor controls the potential of a selected bit line pair connected to a memory cell when writing data to the memory cell, and when writing data, the input of the control transistor is controlled by a predetermined write circuit. In a semiconductor memory device in which one level is set to a high level and the other level is set to a low level compared to a potential at the time of reading, the write circuit is set to the high level at a predetermined timing before the end of a write operation. A semiconductor memory device characterized in that it is configured to return one input level to a read potential.
JP63154213A 1988-06-22 1988-06-22 Semiconductor memory Pending JPH025295A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7763553B2 (en) 2007-02-06 2010-07-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Manufacturing method of semiconductor device subjected to heat treatment by use of optical heating apparatus

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