JPH0253828A - 新規芳香族ポリイミド及びその製造方法 - Google Patents
新規芳香族ポリイミド及びその製造方法Info
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- JPH0253828A JPH0253828A JP20433288A JP20433288A JPH0253828A JP H0253828 A JPH0253828 A JP H0253828A JP 20433288 A JP20433288 A JP 20433288A JP 20433288 A JP20433288 A JP 20433288A JP H0253828 A JPH0253828 A JP H0253828A
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- JP
- Japan
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- aromatic
- polyimide
- polyamic acid
- aromatic polyimide
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- Pending
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は吸湿性を小さくした新規な芳香族ポリイミド及
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
[従来の技術、発明が解決しようとする課題]従来より
芳香族ポリイミドは超耐熱性ポリマーとして良く知られ
ている。
芳香族ポリイミドは超耐熱性ポリマーとして良く知られ
ている。
更には、優れた耐薬品性、電気的特性1機械的特性を有
しており、この芳香族ポリイミドは、フレキシブルプリ
ント基板のベースフィルムや、ICの封止材料や磁気記
録材料のベースフィルムとして、耐熱性を必要とする電
子材料分野に於いては非常に有用なポリマーである。
しており、この芳香族ポリイミドは、フレキシブルプリ
ント基板のベースフィルムや、ICの封止材料や磁気記
録材料のベースフィルムとして、耐熱性を必要とする電
子材料分野に於いては非常に有用なポリマーである。
従来、芳香族ポリイミドとしては1種々のタイプのもの
が知られており、代表的な例としては、4.4′−ソア
ミノノフェニルエーテルとピロメリット酸二無水物から
得られるポリイミドで、商業的的に大規模に生産されて
いる。
が知られており、代表的な例としては、4.4′−ソア
ミノノフェニルエーテルとピロメリット酸二無水物から
得られるポリイミドで、商業的的に大規模に生産されて
いる。
一方、一般にポリイミドは、その化学構造、即ち、イミ
ド結合の親水性により、吸湿率、或いは吸水率が大きく
なるとの欠点を有していた。このため、ポリイミドを電
子材料として用いた場合に吸湿による電気絶縁性の劣化
や、吸湿による寸法変化がもたらす緒特性の劣化を招く
ことがあり、重大な課題となっている。
ド結合の親水性により、吸湿率、或いは吸水率が大きく
なるとの欠点を有していた。このため、ポリイミドを電
子材料として用いた場合に吸湿による電気絶縁性の劣化
や、吸湿による寸法変化がもたらす緒特性の劣化を招く
ことがあり、重大な課題となっている。
芳香族ポリイミドの、こうした吸水吸湿特性を改良する
手段としては1例えば特開昭60−20:3638号公
報に開示されているものに、酸無水物成分としてピロメ
リット酸二無水物を用い、ジアミン成分として、2.2
′−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ゾ
ロパンを用いたポリイミドがある口 また吸湿時の寸法変化を改良したポリイミドとしては、
特開昭61−143435号公報では、ジアミン成分と
して芳香族4核体エーテルノアミン類を用いたポリイミ
ドが開示されている。同様に吸湿時の寸法変化を改良す
る手段として、特開昭61−296034号公報では、
ポリイミドフィルムを延伸する方法が開示されている。
手段としては1例えば特開昭60−20:3638号公
報に開示されているものに、酸無水物成分としてピロメ
リット酸二無水物を用い、ジアミン成分として、2.2
′−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ゾ
ロパンを用いたポリイミドがある口 また吸湿時の寸法変化を改良したポリイミドとしては、
特開昭61−143435号公報では、ジアミン成分と
して芳香族4核体エーテルノアミン類を用いたポリイミ
ドが開示されている。同様に吸湿時の寸法変化を改良す
る手段として、特開昭61−296034号公報では、
ポリイミドフィルムを延伸する方法が開示されている。
しかしながら、上述したような現状の技術では例えば、
長鎖のノアミノ類を用いたポリイミドでは、ポリイミド
本来の優れた耐熱性を損なうこととなり、また一方、延
伸等による改良法では、ポリイミドフィルムの大きな特
徴であるフレキシビリティ−を損なうこととなる等の課
題を有しており、いずれも実用化されるには至っていな
い。
長鎖のノアミノ類を用いたポリイミドでは、ポリイミド
本来の優れた耐熱性を損なうこととなり、また一方、延
伸等による改良法では、ポリイミドフィルムの大きな特
徴であるフレキシビリティ−を損なうこととなる等の課
題を有しており、いずれも実用化されるには至っていな
い。
本発明の目的はポリイミドの欠点である吸湿特性を、ポ
リイミドの特徴である耐熱性やフィルムとしてのフレキ
シビリティ−を損なうことなく改良することにある。
リイミドの特徴である耐熱性やフィルムとしてのフレキ
シビリティ−を損なうことなく改良することにある。
[課題を解決するための手段]
上記の課題を解決するため1本発明者らは鋭意検討の結
果 6一 (Roは4価の芳香族基) で示される反復単位を有することを特徴とする新規芳香
族ポリイミド及び、芳香族テトラカルぎン酸二無水物成
分と。
果 6一 (Roは4価の芳香族基) で示される反復単位を有することを特徴とする新規芳香
族ポリイミド及び、芳香族テトラカルぎン酸二無水物成
分と。
構造式
で示される化合物を成分とする芳香族ジアミン成分とを
有機極性溶媒中で重合して得られるポリアミド酸溶液を
2これに化学的脱水剤を添加するかまたは添加せずに支
持体上に流延塗布し、乾燥した後、支持体上から剥した
後、必要に応じ、このフィルムを周辺端部を固定するか
、または固定せずに加熱乾燥することを特徴とする新規
芳香族ポリイミドフィルムの製造方法を見出した。
有機極性溶媒中で重合して得られるポリアミド酸溶液を
2これに化学的脱水剤を添加するかまたは添加せずに支
持体上に流延塗布し、乾燥した後、支持体上から剥した
後、必要に応じ、このフィルムを周辺端部を固定するか
、または固定せずに加熱乾燥することを特徴とする新規
芳香族ポリイミドフィルムの製造方法を見出した。
本発明の芳香族ポリイミドは
で示される化合物を成分とする芳香族シアミン成分と全
有機極性溶媒中で重合し、ポリアミド酸溶液を得1次い
で、このポリアミド酸を脱水イミド化してポリイミドと
することを特徴とする新規芳香族ポリイミドの製造法、
及び、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と 構造式 %式%) で示される反復単位を含むすべてのポリイミド共重合体
をも包含するものである。特に構造式(1)で示される
反復単位を重合体1分子中平均して50モルチ以上特に
は80モルチ以上含有する重合体が好ましいが該反応単
位がこれ以下の量であって該反復単位を含有しない重合
体に比べ吸水率が改善される。本発明のポリイミドの分
子量としては1万〜10万のものが好ましい。このポリ
イミドの成型後の形態はブロック状の成型体やフィルム
やシートなどがあるが1本発明の効果の一つであるフレ
キシビリティ−を付与する効果が充分に期待できる形態
としてはシートやフィルムの形状が望ましい。
有機極性溶媒中で重合し、ポリアミド酸溶液を得1次い
で、このポリアミド酸を脱水イミド化してポリイミドと
することを特徴とする新規芳香族ポリイミドの製造法、
及び、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と 構造式 %式%) で示される反復単位を含むすべてのポリイミド共重合体
をも包含するものである。特に構造式(1)で示される
反復単位を重合体1分子中平均して50モルチ以上特に
は80モルチ以上含有する重合体が好ましいが該反応単
位がこれ以下の量であって該反復単位を含有しない重合
体に比べ吸水率が改善される。本発明のポリイミドの分
子量としては1万〜10万のものが好ましい。このポリ
イミドの成型後の形態はブロック状の成型体やフィルム
やシートなどがあるが1本発明の効果の一つであるフレ
キシビリティ−を付与する効果が充分に期待できる形態
としてはシートやフィルムの形状が望ましい。
本発明に用いられる芳香族テトラカルボン酸二無水物の
例としてはピロメリット酸二無水物、3゜3’、4,4
’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物。
例としてはピロメリット酸二無水物、3゜3’、4,4
’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物。
3.3’、4.4’−ベンゾフェノンテトラカルデン酸
二無水物、ナフタレン−1,2,5,6−テトラカルぎ
ン酸二無水物などが挙げられる。尚、不発明の効果を充
分に得るためにはピロメリット酸二無水物や3.3’、
4.4’−ビフェニルテトラカルぎン酸二無水物が好ま
しい。これらの化合物は単独或いは2種類以上組み合わ
せて用いることもできる。
二無水物、ナフタレン−1,2,5,6−テトラカルぎ
ン酸二無水物などが挙げられる。尚、不発明の効果を充
分に得るためにはピロメリット酸二無水物や3.3’、
4.4’−ビフェニルテトラカルぎン酸二無水物が好ま
しい。これらの化合物は単独或いは2種類以上組み合わ
せて用いることもできる。
芳香族ノアミノ成分としては
構造式
で示される化合物を含むことは必須であるがこの他に含
むことを許される芳香族ジアミン成分としては1例えば
パラフェニレンノアミン、 3,3’−ジメトキシ−4
,4′−ジアミノビフェニル、 3.3’−ジメチル−
4,4′−ノアミノビフェニル、3.3’−ジクロロ−
4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′−ジアミノノ
ヤラターフェニル、4,4′−ビス(4−アミノフェノ
キ7)ビフェニル+ 4.4’−ノアミノジフェニルス
ルフォン、 3.3’−ノアミノジフェニルスルフォン
、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スル
フォン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル
]スルフォン、ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フ
ェニルコスルフォン、1.4−ヒス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、1.3−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン、1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン。
むことを許される芳香族ジアミン成分としては1例えば
パラフェニレンノアミン、 3,3’−ジメトキシ−4
,4′−ジアミノビフェニル、 3.3’−ジメチル−
4,4′−ノアミノビフェニル、3.3’−ジクロロ−
4,4′−ジアミノビフェニル、4,4′−ジアミノノ
ヤラターフェニル、4,4′−ビス(4−アミノフェノ
キ7)ビフェニル+ 4.4’−ノアミノジフェニルス
ルフォン、 3.3’−ノアミノジフェニルスルフォン
、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スル
フォン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル
]スルフォン、ビス[4−(2−アミノフェノキシ)フ
ェニルコスルフォン、1.4−ヒス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、1.3−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン、1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン。
l、4−ビx(4−7ミノフエニル)ベンセン、ヒス[
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4
.4’−ノアミノノフェニルメタン、ビス(3−エチル
−4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4
−アミノフェニル)メタン。
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4
.4’−ノアミノノフェニルメタン、ビス(3−エチル
−4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4
−アミノフェニル)メタン。
ビス(3−クロロ−4−アミノフェニル)メタン。
3.3’−ジアミノジフェニルスルフオフ、4.4’−
−)アミツノフェニルスルフォン、 2.2’、5.5
’−テトラクロロ−4,4′−ノアミノビフェニル、
4.4’−ノアばノジフェニルスルフィド% 3t3’
−ジアミノノフェニルエーテル、 3.4’−ジアミノ
ノフェニルエーテル、4,4′−ノアミノノフェニルメ
タン、4.4’−ノアミノビフェニル、4,4′−ノア
ミノオクタンルオロビフェニル、 2.4’−ジアミノ
トルエン、メタフェニレンジアミン、2,2−ビス[4
−(4−7ミノフエノキシ)フェニル]プロパン、2,
2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ〕フェニル]へ
キサフルオロゾロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ニル)プロパン、 2.2−ビス(4−アミンフェニル
)へキサフルオロゾロパン、 2.2−ビス(3−ヒド
ロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)へキサフルオ
ロプロパン、 9.9−ビス(4−アミノフェニル)−
10−ヒドロ−アントラセン、オルトトリノンスルフォ
ン、などが挙げられる。これらの化合物は単独若しくは
2種類以上を組み合わせて用いても良い。更には、 3
.3’、4.4’−ビフェニルテトラアミン、 3.3
’、4.4’−テトラアミノジフェニルエーテル等の多
価アミン化合物の一部使用も可能である。
−)アミツノフェニルスルフォン、 2.2’、5.5
’−テトラクロロ−4,4′−ノアミノビフェニル、
4.4’−ノアばノジフェニルスルフィド% 3t3’
−ジアミノノフェニルエーテル、 3.4’−ジアミノ
ノフェニルエーテル、4,4′−ノアミノノフェニルメ
タン、4.4’−ノアミノビフェニル、4,4′−ノア
ミノオクタンルオロビフェニル、 2.4’−ジアミノ
トルエン、メタフェニレンジアミン、2,2−ビス[4
−(4−7ミノフエノキシ)フェニル]プロパン、2,
2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ〕フェニル]へ
キサフルオロゾロパン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ニル)プロパン、 2.2−ビス(4−アミンフェニル
)へキサフルオロゾロパン、 2.2−ビス(3−ヒド
ロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)へキサフルオ
ロプロパン、 9.9−ビス(4−アミノフェニル)−
10−ヒドロ−アントラセン、オルトトリノンスルフォ
ン、などが挙げられる。これらの化合物は単独若しくは
2種類以上を組み合わせて用いても良い。更には、 3
.3’、4.4’−ビフェニルテトラアミン、 3.3
’、4.4’−テトラアミノジフェニルエーテル等の多
価アミン化合物の一部使用も可能である。
次いで、本発明の新規芳香族ポリイミドの前駆体である
ポリアミド酸重合体の生成反応に使用される有機極性溶
媒としては1例えば、ツメチルスルフオキシド、ジエチ
ルスルフオキシドなどのスルフオキシド系溶媒、 N、
N−ツメチルフォルムアミド、N、N−ツメチルフォル
ムアミドなどのフォルムアミド系溶媒、N、N−ツメチ
ルアセトアミド、N、N−ジエチルアセドアεドなどの
アセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン N
−ビニル−2−ピロリドンなどのどロリドン系溶媒、フ
ェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、キシレノール、ハロダン化フェノール、カテコ
ールなどのフェノール系溶媒、或いはへキサメチルフォ
スフオルアミド、γ−プチロラクタンなどを挙げること
ができ、これらを単独または混合物として用いるのが望
ましいが、更にはキシレン、トルエンのような芳香族炭
化水素の使用も可能である。
ポリアミド酸重合体の生成反応に使用される有機極性溶
媒としては1例えば、ツメチルスルフオキシド、ジエチ
ルスルフオキシドなどのスルフオキシド系溶媒、 N、
N−ツメチルフォルムアミド、N、N−ツメチルフォル
ムアミドなどのフォルムアミド系溶媒、N、N−ツメチ
ルアセトアミド、N、N−ジエチルアセドアεドなどの
アセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン N
−ビニル−2−ピロリドンなどのどロリドン系溶媒、フ
ェノール、0−クレゾール、m−クレゾール、p−クレ
ゾール、キシレノール、ハロダン化フェノール、カテコ
ールなどのフェノール系溶媒、或いはへキサメチルフォ
スフオルアミド、γ−プチロラクタンなどを挙げること
ができ、これらを単独または混合物として用いるのが望
ましいが、更にはキシレン、トルエンのような芳香族炭
化水素の使用も可能である。
ポリアミド酸を得る際の反応温度としては80℃以下、
さらには50℃以下、特には10℃〜−20℃が適切で
ある。
さらには50℃以下、特には10℃〜−20℃が適切で
ある。
得られたポリアミド酸から本発明のポリイミドを得る方
法として、化学的な脱水閉環法を採用する際に用いられ
る脱水剤としては、例えば無水酢酸などの脂肪族酸無水
物、無水フタル酸などの芳香族酸無水物、クロル酢酸類
などが挙げられる。
法として、化学的な脱水閉環法を採用する際に用いられ
る脱水剤としては、例えば無水酢酸などの脂肪族酸無水
物、無水フタル酸などの芳香族酸無水物、クロル酢酸類
などが挙げられる。
また、脱水触媒としては1例えばトリエチルアミンなど
の脂肪族第三級アミン類、ピリノン、ピコリン類、イソ
キノリンなどの複葉環式第三級アミン類などが挙げられ
る。
の脂肪族第三級アミン類、ピリノン、ピコリン類、イソ
キノリンなどの複葉環式第三級アミン類などが挙げられ
る。
次に、本発明の新規芳香族ポリイミドの製造方法につい
て、フィルム状物の製造方法を例にとり詳述する。
て、フィルム状物の製造方法を例にとり詳述する。
構造式
で示される化合物を成分とする芳香族シアミン類と芳香
族テトラカルボン酸二無水物を非ゾロト/系極性溶媒系
内にて、実質的に無水の状態で、概略等モル反応し、5
〜40重量係、好ましくは10〜30重量%のポリアミ
ド酸溶液を得る。このポリアミド酸溶液からポリイミド
フィルムをえる方法としては以下の3通りの方法がある
。
族テトラカルボン酸二無水物を非ゾロト/系極性溶媒系
内にて、実質的に無水の状態で、概略等モル反応し、5
〜40重量係、好ましくは10〜30重量%のポリアミ
ド酸溶液を得る。このポリアミド酸溶液からポリイミド
フィルムをえる方法としては以下の3通りの方法がある
。
A)化学的脱水閉環イミド化法。
上記のポリアミド酸溶液に脱水剤及び脱水触媒を添加し
、混合後直ちに支持体上にキャストし、約60〜150
℃好ましくは80〜ll0Cにて1〜10分間好ましく
は3〜6分間加熱硬化乾燥後、自己支持性フィルムを得
る。この自己支持性フィルム支持体から引き剥し、端部
を固定枠に固定した状態で150〜250℃にて3〜7
分間。
、混合後直ちに支持体上にキャストし、約60〜150
℃好ましくは80〜ll0Cにて1〜10分間好ましく
は3〜6分間加熱硬化乾燥後、自己支持性フィルムを得
る。この自己支持性フィルム支持体から引き剥し、端部
を固定枠に固定した状態で150〜250℃にて3〜7
分間。
続いて250〜350℃にて3〜7分間、続いて350
〜450℃にて3〜7分間加熱乾燥した後固定枠から剥
し、本発明の芳香族ポリイミドフィルムを得る。
〜450℃にて3〜7分間加熱乾燥した後固定枠から剥
し、本発明の芳香族ポリイミドフィルムを得る。
B)熱的脱水閉環イミド化法(支持体上乾燥法)上記の
ポリアミド酸溶液を支持体上にキャストし、約40〜1
00℃好ましくは60〜80℃にて、5〜30分間好ま
しくは15〜20分間乾燥した後、100〜150℃に
て10〜20分間、続いて100〜250℃にて10〜
20分間、続いて300〜350℃にて5〜10分間、
続いて400〜450℃にて3〜7分間加熱乾燥した後
放冷し、支持体から引き剥し、本発明の新規芳香族ポリ
イミドフィルムラ得ル。
ポリアミド酸溶液を支持体上にキャストし、約40〜1
00℃好ましくは60〜80℃にて、5〜30分間好ま
しくは15〜20分間乾燥した後、100〜150℃に
て10〜20分間、続いて100〜250℃にて10〜
20分間、続いて300〜350℃にて5〜10分間、
続いて400〜450℃にて3〜7分間加熱乾燥した後
放冷し、支持体から引き剥し、本発明の新規芳香族ポリ
イミドフィルムラ得ル。
C)熱的脱水閉環イミド化法(固定枠固定法)上記のポ
リアミド酸溶液を支持体上にキャストし、約40〜10
0℃好ましくは60〜80℃にで%5〜30分間好まし
くは15〜20分間乾燥した後、100〜150℃にて
10〜20分間乾燥し、自己支持性のフィルムを得る。
リアミド酸溶液を支持体上にキャストし、約40〜10
0℃好ましくは60〜80℃にで%5〜30分間好まし
くは15〜20分間乾燥した後、100〜150℃にて
10〜20分間乾燥し、自己支持性のフィルムを得る。
次に支持体上から上記の自己支持性フィルム全支持体か
ら引き剥し、端部を固定枠に固定した状態で150〜2
50℃にて3〜7分間、続いて250〜350℃にて3
〜7分間、続いて350〜450℃にて3〜7分間加熱
乾燥した後、固定枠から引き剥し、本・発明の芳香族ポ
リイミドフィルムを得る。
ら引き剥し、端部を固定枠に固定した状態で150〜2
50℃にて3〜7分間、続いて250〜350℃にて3
〜7分間、続いて350〜450℃にて3〜7分間加熱
乾燥した後、固定枠から引き剥し、本・発明の芳香族ポ
リイミドフィルムを得る。
上記(A) (B) (C)の工程における乾燥の手段
としては。
としては。
例えば、熱風乾燥や遠赤外加熱などの方法が考えられる
。また、乾燥雰囲気としては、空気中でも。
。また、乾燥雰囲気としては、空気中でも。
不活性ガス中でも実施されることかり能である。
また、上記(A) (B) (C)の工程における支持
体からの引き剥しの際、引き剥し性の改良の目的でドー
グ内へ各種の離型剤を混入することも可能である。
体からの引き剥しの際、引き剥し性の改良の目的でドー
グ内へ各種の離型剤を混入することも可能である。
こうして得られるポリイミドフィルムは吸湿性が大きく
改善され、同時に高湿度下の寸法変化も小さくなり改善
される。更には従来のポリイミドフィルムの大きな特徴
であるフレキシビリティと優れた耐熱性を併せ持つ物で
ある。
改善され、同時に高湿度下の寸法変化も小さくなり改善
される。更には従来のポリイミドフィルムの大きな特徴
であるフレキシビリティと優れた耐熱性を併せ持つ物で
ある。
[実施例]
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが1本発
明は、これら実施例のみに限定されるものではない。
明は、これら実施例のみに限定されるものではない。
実施例中、DATPAは
構造式
で示される化合物を、ODAは4,4′−ソアミノジフ
ェニルエーテル’i、p−PDAハパラフェニレンジア
ミンを、 PMDAは無水ピロメリット酸、 BP
DAは3゜3’、4.4’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物を。
ェニルエーテル’i、p−PDAハパラフェニレンジア
ミンを、 PMDAは無水ピロメリット酸、 BP
DAは3゜3’、4.4’−ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物を。
DMAcはジメチルアセトアミドを表す。
比較例−1
DMAc中で、ODAとPMDA i重合させ、15重
量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸浴液
を約5℃以下に冷却した後、ポリアミド酸1繰シ返し単
位当たり約4倍モル量の無水酢酸と、2倍モル量のピリ
ジンを加え混合した後直ちにガラス板上に流延塗布し、
約100℃の熱風にて約5分間乾燥硬化した後、ガラス
板上から引き剥した。
量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸浴液
を約5℃以下に冷却した後、ポリアミド酸1繰シ返し単
位当たり約4倍モル量の無水酢酸と、2倍モル量のピリ
ジンを加え混合した後直ちにガラス板上に流延塗布し、
約100℃の熱風にて約5分間乾燥硬化した後、ガラス
板上から引き剥した。
こうして得られた自己支持性フィルムの周辺端部を支持
枠に固定し、その後、約200℃にて5分間、約350
℃にて5分間、約450℃にて3分間、熱風オープン中
にて加熱乾燥した、次いでこれを大気中にて放冷した後
、支持枠より切り出し。
枠に固定し、その後、約200℃にて5分間、約350
℃にて5分間、約450℃にて3分間、熱風オープン中
にて加熱乾燥した、次いでこれを大気中にて放冷した後
、支持枠より切り出し。
厚−1125μのポリイミドフィルムを得た。得られた
フィルムの性質を表−1に示す。
フィルムの性質を表−1に示す。
比較例−2
DMAc中で、 p−PDAとBPDAを重合させ、1
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
以下、比較例−1と同様の方法にて厚さ約25μのポリ
イミドフィルムを得た。得られたフィルム性質を表−1
に示す。
イミドフィルムを得た。得られたフィルム性質を表−1
に示す。
実施例−1
DMAc中でDATPAとPMDA ’i重合させ15
重量%のポリアミド酸溶液を得た。
重量%のポリアミド酸溶液を得た。
以下、比較例−1と同様の方法にて厚さ約25μポリイ
ミドフイルムを得た。得られたフィルムの性質を表−1
に示す。
ミドフイルムを得た。得られたフィルムの性質を表−1
に示す。
実施例−2
DMA c中でDATPAとBPDA i重合させ15
重量%のポリアミド酸溶液ヲ得た。
重量%のポリアミド酸溶液ヲ得た。
以下、比較例−1と同様の方法にて厚さ約25μのポリ
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
実施例−3
0MAc中でDATPA 0.5モル当量とODA 0
.5モル当量とPMDA 1モル当量とを重合させ、1
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
.5モル当量とPMDA 1モル当量とを重合させ、1
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
以下、比較例−1と同様の方法にて厚さ約25μのポリ
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
実施例−4
DMA c中でDATPA O,1モル当量と、0DA
0.4モル当量とPMDAIモル当量とを重合させ、1
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
0.4モル当量とPMDAIモル当量とを重合させ、1
5重量%のポリアミド酸溶液を得た。
以下、比較例−1と同様の方法にて厚さ約25μのポリ
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
イミドフィルムを得た。得られたフィルムの性質を表−
1に示す。
実施例−5
DMA c中で、DATPAとPMDAとを重合させ、
15重量%のポリアミド酸溶液を得た。
15重量%のポリアミド酸溶液を得た。
このポリアミド酸溶液をガラス板上に流延塗布し、約1
00℃にて約60分間乾燥し、続いて約200℃にて3
0分間、続いて約3oo℃にて1゜分間、続いて約45
0℃にて5分間加熱した後大気中に放冷した。
00℃にて約60分間乾燥し、続いて約200℃にて3
0分間、続いて約3oo℃にて1゜分間、続いて約45
0℃にて5分間加熱した後大気中に放冷した。
次に、こうして得られたフィルムをガラス板上より引き
剥し、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得た。この
フィルムの電性質を表−1に示す。
剥し、厚さ約25μのポリイミドフィルムを得た。この
フィルムの電性質を表−1に示す。
吸湿率は、23℃×湿度20%に1時間放置した後の重
量を測定し1w0とし、続いて23℃X湿度90チに1
時間放置後の重量を測定し、Wとし。
量を測定し1w0とし、続いて23℃X湿度90チに1
時間放置後の重量を測定し、Wとし。
ム
下記の計算式にて計算した。
吸湿率=W0/(WA−W。)X100 %[発明の効
果] 本発明による新規芳香族ポリイミドはポリイミド本来の
優れた耐熱性と7レキシビリテイーを有し、且つ、従来
のポリイミドの欠点であった吸湿性を大幅に改良したも
のであり、電子部品として好適に利用できる。
果] 本発明による新規芳香族ポリイミドはポリイミド本来の
優れた耐熱性と7レキシビリテイーを有し、且つ、従来
のポリイミドの欠点であった吸湿性を大幅に改良したも
のであり、電子部品として好適に利用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、構造式 (R_0は4価の芳香族基) で示される反復単位を有することを特徴とする新規芳香
族ポリイミド。 2、R_0が▲数式、化学式、表等があります▼である
請求項1記載の新規芳香族ポリイミド。 3、R_0が▲数式、化学式、表等があります▼である
請求項1記載の 新規芳香族ポリイミド。 4、新規芳香族ポリイミドが、厚さ5μ乃至150μの
ポリイミドフィルムである請求項1記載の新規芳香族ポ
リイミド。 5、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物を成分とする芳香族ジアミン成分とを
有機極性溶媒中で重合し、ポリアミド酸溶液を得、次い
でこのポリアミド酸を脱水イミド化してポリイミドとす
ることを特徴とする新規芳香族ポリイミドの製造方法。 6、芳香族テトラカルボン酸二無水物がピロメリット酸
二無水物である請求項5記載の新規芳香族ポリイミドの
製造方法。 7、芳香族テトラカルボン酸二無水物がビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物である請求項5記載の新規芳香族
ポリイミドの製造方法。 8、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物を成分とする芳香族ジアミン成分とを
有機極性溶媒中で重合して得られるポリアミド酸溶液を
、これに化学的脱水剤を添加するか、または添加せずに
、支持体上に流延塗布し乾燥した後、支持体上から剥し
た後、必要に応じ、このフィルムを周辺端部固定するか
または固定せずに加熱乾燥することを特徴とする新規芳
香族ポリイミドフィルムの製造方法。 9、芳香族テトラカルボン酸二無水物がピロメリット酸
二無水物である請求項8記載の新規芳香族ポリイミドフ
ィルムの製造方法。 10、芳香族テトラカルボン酸二無水物がビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物である請求項8記載の新規芳香
族ポリイミドフィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20433288A JPH0253828A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 新規芳香族ポリイミド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20433288A JPH0253828A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 新規芳香族ポリイミド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0253828A true JPH0253828A (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=16488744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20433288A Pending JPH0253828A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | 新規芳香族ポリイミド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0253828A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246709A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ウェットエッチングされた絶縁体及び電子回路部品 |
| JP2011090220A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| CN103589438A (zh) * | 2012-08-15 | 2014-02-19 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶配向剂、液晶配向膜及其液晶显示组件 |
| JP2014089469A (ja) * | 2013-12-26 | 2014-05-15 | Japan Display Inc | 液晶配向剤ワニス |
| CN104419430A (zh) * | 2013-09-04 | 2015-03-18 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶取向剂、液晶取向膜及液晶显示组件 |
-
1988
- 1988-08-17 JP JP20433288A patent/JPH0253828A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246709A (ja) * | 2001-02-16 | 2002-08-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ウェットエッチングされた絶縁体及び電子回路部品 |
| JP2011090220A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示装置 |
| CN103589438A (zh) * | 2012-08-15 | 2014-02-19 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶配向剂、液晶配向膜及其液晶显示组件 |
| CN103589438B (zh) * | 2012-08-15 | 2015-11-18 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶配向剂、液晶配向膜及其液晶显示组件 |
| CN104419430A (zh) * | 2013-09-04 | 2015-03-18 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶取向剂、液晶取向膜及液晶显示组件 |
| CN110105969A (zh) * | 2013-09-04 | 2019-08-09 | 达兴材料股份有限公司 | 液晶取向剂、液晶取向膜及液晶显示组件 |
| JP2014089469A (ja) * | 2013-12-26 | 2014-05-15 | Japan Display Inc | 液晶配向剤ワニス |
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