JPH0254799A - メッキ処理槽における給電装置 - Google Patents
メッキ処理槽における給電装置Info
- Publication number
- JPH0254799A JPH0254799A JP20574288A JP20574288A JPH0254799A JP H0254799 A JPH0254799 A JP H0254799A JP 20574288 A JP20574288 A JP 20574288A JP 20574288 A JP20574288 A JP 20574288A JP H0254799 A JPH0254799 A JP H0254799A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- anode
- plating
- current
- stop processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、被処理物をメッキ処理槽内で間欠的に移送し
ながら、各停止処理位置で、被処理物に陰極付与し、該
被処理物に対向して配置した陽極により、被処理物にメ
ッキ処理を施すメッキ処理槽において、その給電装置の
改良に関するものである。
ながら、各停止処理位置で、被処理物に陰極付与し、該
被処理物に対向して配置した陽極により、被処理物にメ
ッキ処理を施すメッキ処理槽において、その給電装置の
改良に関するものである。
〈従来技術〉
長時間のメッキ処理が必要な被処理物にあっては、メッ
キ処理槽内に、複数の停止処理位置を設定し、各停止処
理位置を間欠的に順送りさせて、該必要処理時間を満た
すようにされる。
キ処理槽内に、複数の停止処理位置を設定し、各停止処
理位置を間欠的に順送りさせて、該必要処理時間を満た
すようにされる。
このようなメッキ処理槽に備えられる給電装置において
、従来は、メッキ処理槽内の各停止処理位置の両側に十
電位の電圧を印加された陽極を浸漬配置するとともに、
移送路に沿って差し渡したー電位の電圧を印加された陰
極側給電バーに被処理物と電気的に接続する集電子を接
触させながら、間欠的に停止処理位置に移送させ、メッ
キ処理を施す構成になるものである。
、従来は、メッキ処理槽内の各停止処理位置の両側に十
電位の電圧を印加された陽極を浸漬配置するとともに、
移送路に沿って差し渡したー電位の電圧を印加された陰
極側給電バーに被処理物と電気的に接続する集電子を接
触させながら、間欠的に停止処理位置に移送させ、メッ
キ処理を施す構成になるものである。
〈発明が解決しようとする課題〉
上記従来構成にあっては、通常陽極と陰極は、夫々すべ
て電気的に共通とし、単一の整流器により給電するよう
にしていたため、大きさや形の異なる被処理物を混在さ
せた場合に、または被処理物の量が異なる場合に均一な
厚さのメッキを形成することができなかった。
て電気的に共通とし、単一の整流器により給電するよう
にしていたため、大きさや形の異なる被処理物を混在さ
せた場合に、または被処理物の量が異なる場合に均一な
厚さのメッキを形成することができなかった。
この解決策として、陰極側給電バーを共通とし、各停止
処理位置の両側に配置された陽極を夫々電気的に独立さ
せて、個々の整流器により給電するようにし、夫々被処
理物に対応して、電流設定をすることが考えられた。
処理位置の両側に配置された陽極を夫々電気的に独立さ
せて、個々の整流器により給電するようにし、夫々被処
理物に対応して、電流設定をすることが考えられた。
しかしながら、このような手段では、陰極が共通である
が故に、特定の被処理物に対応すべき陽極の電流が、隣
接する被処理物にも分散することになり、個々の陽極電
流を高精度に制御してみても、陰極側から見れば、高精
度の電流設定とはなり得す、その目的を達し得ないもの
である。
が故に、特定の被処理物に対応すべき陽極の電流が、隣
接する被処理物にも分散することになり、個々の陽極電
流を高精度に制御してみても、陰極側から見れば、高精
度の電流設定とはなり得す、その目的を達し得ないもの
である。
本発明は、上述の各従来欠点を除去することを目的とす
るものである。
るものである。
〈課題を解決するための手段〉
本発明は、
メッキ処理槽内で、被処理物が間欠送りされる移送路の
各停止処理位置毎に浸漬配置された陽極と、 移送路に沿って差し渡され、かつ各停止処理位置間に絶
縁区画部が設けられて、各停止処理位置に対応する複数
の部分給電域が電気的に独立して形成されてなる陰極側
給電バーと、 被処理物を吊持するハンガーに固定されて、被処理物と
電気的に接続すると共に、被処理物の浸漬移動に伴って
、陰極側給電バーに摺擦する集電子と、 各停止処理位置の陽極一部分給電域対に個別に結線され
、被処理物の移動に伴って、当該被処理物に対応する電
流値を各陽極一部分給電域対に順次設定する電流制御装
置と を備えたことを特徴とするメッキ処理槽における給電装
置である。
各停止処理位置毎に浸漬配置された陽極と、 移送路に沿って差し渡され、かつ各停止処理位置間に絶
縁区画部が設けられて、各停止処理位置に対応する複数
の部分給電域が電気的に独立して形成されてなる陰極側
給電バーと、 被処理物を吊持するハンガーに固定されて、被処理物と
電気的に接続すると共に、被処理物の浸漬移動に伴って
、陰極側給電バーに摺擦する集電子と、 各停止処理位置の陽極一部分給電域対に個別に結線され
、被処理物の移動に伴って、当該被処理物に対応する電
流値を各陽極一部分給電域対に順次設定する電流制御装
置と を備えたことを特徴とするメッキ処理槽における給電装
置である。
く作用〉
各停止ト処理位置で、陽極と、部分給電域に接続された
被処理物（陰極）とが、夫々一対となり電流制御装置に
より独立して電気的に制御される。
被処理物（陰極）とが、夫々一対となり電流制御装置に
より独立して電気的に制御される。
このため、被処理物の寸法、形状、量、所要のメッキ厚
等に対応して、電′圧設定をすることができる。
等に対応して、電′圧設定をすることができる。
ここにおいて、制御されるのは１個々の陰極電流であり
、隣接する陽極から電流が流入することがあってもメッ
キの結果には影響を与えないものである。
、隣接する陽極から電流が流入することがあってもメッ
キの結果には影響を与えないものである。
〈実施例〉
第１図は、メッキ処理槽ｌの平面図であって。
被処理物Ｗの送り方向に長く、その内部の被処理物Ｗの
移送路には１図中四箇所の停止処理位置２８〜２ｄが配
設される。そして、第２図に示す様に、メッキ処理槽１
上には、該メッキ処理槽１の側方に設けられた機枠３に
保持されたキャリア（図示せず）により昇降可能、かつ
送り方向移動可能にハンガー４が支持され、該ハンガー
４の先端を各停止処理位置２ａ〜２ｄ上に差し渡し、そ
の端部に被処理物Ｗを吊持している。また、前記ハンガ
ー４のメッキ処理槽１の側傍には、集電子６が設けられ
、陰極側の給電バー８に上方から接触している。さらに
また、メッキ処理槽１内にあって、各停止処理位置２ａ
〜２ｄの両側には、夫／／陽極７．７が対向して浸漬さ
れている。
移送路には１図中四箇所の停止処理位置２８〜２ｄが配
設される。そして、第２図に示す様に、メッキ処理槽１
上には、該メッキ処理槽１の側方に設けられた機枠３に
保持されたキャリア（図示せず）により昇降可能、かつ
送り方向移動可能にハンガー４が支持され、該ハンガー
４の先端を各停止処理位置２ａ〜２ｄ上に差し渡し、そ
の端部に被処理物Ｗを吊持している。また、前記ハンガ
ー４のメッキ処理槽１の側傍には、集電子６が設けられ
、陰極側の給電バー８に上方から接触している。さらに
また、メッキ処理槽１内にあって、各停止処理位置２ａ
〜２ｄの両側には、夫／／陽極７．７が対向して浸漬さ
れている。
前記給電バー８は、メッキ処理槽１の移送路に沿って差
し渡されていると共に、各停止処理位置２ａ〜２ｄ間の
中間位置には第３図に示す様に、絶縁区画部９が配設さ
れている。この絶縁区画部９の幅は、集電子６の幅より
も狭くし、移動中の集電子６が、絶縁区画部９を通過す
るときは、必ず左右いずれかの部分給電域１０．１０に
接触する様にする。
し渡されていると共に、各停止処理位置２ａ〜２ｄ間の
中間位置には第３図に示す様に、絶縁区画部９が配設さ
れている。この絶縁区画部９の幅は、集電子６の幅より
も狭くし、移動中の集電子６が、絶縁区画部９を通過す
るときは、必ず左右いずれかの部分給電域１０．１０に
接触する様にする。
この各停止処理位置２８〜２ｄにあって、給電バー８の
部分給電域１０と、陽極７．７は、夫々個別に、電流制
御装置１３に備えられた停止処理位置２ａ〜２ｄに対応
する整流器１４ａ〜１４ｄに接続され、各停止処理位置
２８〜２ｄへの電解電流の調整を別個に施し得る様にし
ている。そして、゛この電流値は、当該停止処理位置２
ａ〜２ｄに到来する被処理物Ｗに対応して夫々別個に設
定される。
部分給電域１０と、陽極７．７は、夫々個別に、電流制
御装置１３に備えられた停止処理位置２ａ〜２ｄに対応
する整流器１４ａ〜１４ｄに接続され、各停止処理位置
２８〜２ｄへの電解電流の調整を別個に施し得る様にし
ている。そして、゛この電流値は、当該停止処理位置２
ａ〜２ｄに到来する被処理物Ｗに対応して夫々別個に設
定される。
前記構成の給電装置にあって、その電流制御を第３図に
従って説明する。
従って説明する。
各停止処理位置２８〜２ｄには、ハンガー４に吊持され
た被処理物Ｗが浸漬して、所要時間停止する。この停止
時間は、メッキ処理ライン上の各処理工程における最短
処理時間に合わせて設定される。そして、各被処理物Ｗ
はメッキ処理槽ｌ内で、停止処理位置２ａ〜２ｄに停止
すると、第３図イに示すように、各集電子６が停止処理
位置２８〜２ｄの各部分給電域１０に接触し、電流制御
装置１３により、当該被処理物Ｗに対応した所定の電圧
が部分給電域１０と、陽極７．７に印加され、メッキ処
理液内で所定電解電流が流れてメッキ処理が施される。
た被処理物Ｗが浸漬して、所要時間停止する。この停止
時間は、メッキ処理ライン上の各処理工程における最短
処理時間に合わせて設定される。そして、各被処理物Ｗ
はメッキ処理槽ｌ内で、停止処理位置２ａ〜２ｄに停止
すると、第３図イに示すように、各集電子６が停止処理
位置２８〜２ｄの各部分給電域１０に接触し、電流制御
装置１３により、当該被処理物Ｗに対応した所定の電圧
が部分給電域１０と、陽極７．７に印加され、メッキ処
理液内で所定電解電流が流れてメッキ処理が施される。
この電流制御装置１３の被処理物Ｗに対応する電流設定
は、シーケンス制御のほか、中央制御装置ＣＰＵ等を用
いて容易に実現し得るものである。
は、シーケンス制御のほか、中央制御装置ＣＰＵ等を用
いて容易に実現し得るものである。
所定停止時間が経過すると、各被処理物Ｗはメッキ処理
液に浸漬したままメッキ処理槽ｌ内を一斉に進行する。
液に浸漬したままメッキ処理槽ｌ内を一斉に進行する。
そしてこれに伴い、集電子６は給電バー８と接触状態を
維持しなから摺擦移動し、第３図口に示すように絶縁区
画部９を通過する。
維持しなから摺擦移動し、第３図口に示すように絶縁区
画部９を通過する。
ところで、各部分給電域１０には、夫々各被処理物Ｗに
対応した所定の電解電流を流すような電圧が、電流制御
装置１３により制御印加される。
対応した所定の電解電流を流すような電圧が、電流制御
装置１３により制御印加される。
このため、隣接する部分給電域１０．１０の電位は夫々
異なる。従って、集電子６の移動に際しても、その電位
を維持しておくと、電位差によりスパークを生じたり、
移動中に過剰なメッキ処理が施されたりする。
異なる。従って、集電子６の移動に際しても、その電位
を維持しておくと、電位差によりスパークを生じたり、
移動中に過剰なメッキ処理が施されたりする。
一方、この移動中に給電を停止すると、メッキ処理が施
されないから、時間の浪費となる上、バイポーラ現象を
生じて、メッキの剥離又は二重メッキを生じてしまう。
されないから、時間の浪費となる上、バイポーラ現象を
生じて、メッキの剥離又は二重メッキを生じてしまう。
そこで、これらの課題を解決するために、集電子６の移
動中には、各停止処理位置２ａ〜２ｄに供給される最小
電流以下の電流を、電流制御装置１３の各整流器１４ａ
−１４ｄから、各陽極７゜７及び部分給電域１０間に供
給する。これにより、スパーク等を生ずることがなく、
移動中にも適正なメッキ処理が施されることとなる。
動中には、各停止処理位置２ａ〜２ｄに供給される最小
電流以下の電流を、電流制御装置１３の各整流器１４ａ
−１４ｄから、各陽極７゜７及び部分給電域１０間に供
給する。これにより、スパーク等を生ずることがなく、
移動中にも適正なメッキ処理が施されることとなる。
また、上述のように、集電子６の幅は、絶縁区画部９の
幅よりも広くし、絶縁区画部９を通過する時は、必ずそ
の左右の部分給電域１０．１０のいずれかに接触する様
にしており、その移動中に、絶縁区画部９により給電が
中断されることはないので、バイポーラ現象を生じない
。
幅よりも広くし、絶縁区画部９を通過する時は、必ずそ
の左右の部分給電域１０．１０のいずれかに接触する様
にしており、その移動中に、絶縁区画部９により給電が
中断されることはないので、バイポーラ現象を生じない
。
そして、各被処理物Ｗが第３図ハに示すように、停止処
理位置２８〜２ｄ位置に到来すると、再び、電流制御装
置１３により電流値を切換えて、各被処理物Ｗに最適な
電流を各陽極７．７及び部分給電域１０間に供給する。
理位置２８〜２ｄ位置に到来すると、再び、電流制御装
置１３により電流値を切換えて、各被処理物Ｗに最適な
電流を各陽極７．７及び部分給電域１０間に供給する。
従って、各被処理物Ｗは、対応する電解電流を、どの停
止処理位置２ａ〜２ｄでも、供給され得ることとなる。
止処理位置２ａ〜２ｄでも、供給され得ることとなる。
そして、かかるメッキ処理を、呂停止処理位置２ａ〜２
ｄ毎に施されることにより、所要のメッキ処理時間が充
足されて、所定メッキ厚となる。
ｄ毎に施されることにより、所要のメッキ処理時間が充
足されて、所定メッキ厚となる。
〈発明の効果〉
本発明は、−上述の様に、メッキ処理槽ｌ内の各停止処
理位置２ａ〜２ｄに陽極７．７を配置すると共に、集電
子６が摺擦するメッキ処理槽１の被処理物Ｗの移送路に
沿って差し渡された給電バー８に絶縁区画部９を設けて
、停止処理位置２１１〜２ｄに対応して部分給電域１０
を区画し、各陽極７．７及び部分給電域１０を一対とし
て、電流制御装置１３で別途に制御し得る様にしたから
、イ）被処理物Ｗは、最適電解電流を、いずれの停止処
理位置２８〜２ｄでも供給され得ることとなる。
理位置２ａ〜２ｄに陽極７．７を配置すると共に、集電
子６が摺擦するメッキ処理槽１の被処理物Ｗの移送路に
沿って差し渡された給電バー８に絶縁区画部９を設けて
、停止処理位置２１１〜２ｄに対応して部分給電域１０
を区画し、各陽極７．７及び部分給電域１０を一対とし
て、電流制御装置１３で別途に制御し得る様にしたから
、イ）被処理物Ｗは、最適電解電流を、いずれの停止処
理位置２８〜２ｄでも供給され得ることとなる。
口）従って、大きさ、形状の異なる被処理物を任意の量
、ランダムに投入しても、夫々所望の処理が施される。
、ランダムに投入しても、夫々所望の処理が施される。
ハ）隣接する部分給電域１０間で電位が異なっても、各
部分給電域１０を移送中に電流制御することにより、電
位差による問題を容易に解消できる。従って、被処理物
Ｗの移送中にも、スパーク等を発生せず、給電が継続さ
れることから、バイポーラ現象を生ずることもなく、処
理時間の損失も最小に抑えることができる。
部分給電域１０を移送中に電流制御することにより、電
位差による問題を容易に解消できる。従って、被処理物
Ｗの移送中にも、スパーク等を発生せず、給電が継続さ
れることから、バイポーラ現象を生ずることもなく、処
理時間の損失も最小に抑えることができる。
等の優れた効果がある。
添付図面は本発明の一実施例を示し、第１図はモ面図、
第２図は縦断側面図、第３図は給電バー８に対する集電
子６の摺擦を示す作動説明図である。 ｌ・−・メッキ処理槽 ２ａ〜２ｄ・・−停止処理位置 ６・・・集電子 ７．７・・・陽極 ８・・−給電バー ９・・・絶縁区画部 １０−・一部分給電域 １３・・・電流制御装置 第３日 冥２０
第２図は縦断側面図、第３図は給電バー８に対する集電
子６の摺擦を示す作動説明図である。 ｌ・−・メッキ処理槽 ２ａ〜２ｄ・・−停止処理位置 ６・・・集電子 ７．７・・・陽極 ８・・−給電バー ９・・・絶縁区画部 １０−・一部分給電域 １３・・・電流制御装置 第３日 冥２０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 メッキ処理槽内で、被処理物が間欠送りされる移送路の
各停止処理位置毎に浸漬配置された陽極と、 移送路に沿って差し渡され、かつ各停止処理位置間に絶
縁区画部が設けられて、各停止処理位置に対応する複数
の部分給電域が電気的に独立して形成されてなる陰極側
給電バーと、 被処理物を吊持するハンガーに固定されて、被処理物と
電気的に接続すると共に、被処理物の浸漬移動に伴って
、陰極側給電バーに摺擦する集電子と、 各停止処理位置の陽極一部分給電域対に個別に結線され
、被処理物の移動に伴って、当該被処理物に対応する電
流値を各陽極一部分給電域対に順次設定する電流制御装
置と を備えたことを特徴とするメッキ処理槽における給電装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63205742A JP2539671B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | メッキ処理槽における給電装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63205742A JP2539671B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | メッキ処理槽における給電装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0254799A true JPH0254799A (ja) | 1990-02-23 |
| JP2539671B2 JP2539671B2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=16511909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63205742A Expired - Fee Related JP2539671B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | メッキ処理槽における給電装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2539671B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013091821A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Kyocer Slc Technologies Corp | めっき装置 |
| KR102206395B1 (ko) * | 2020-06-30 | 2021-01-25 | (주)네오피엠씨 | 개별파티션을 구비한 도금장치 |
| CN115216820A (zh) * | 2021-04-18 | 2022-10-21 | 苏州易益新能源科技有限公司 | 一种电镀阴极电接触的方法和设备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551998A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-09 | Manuf Metarirujiku Dou Torunu | Coating aluminium and its preparation |
| JPS60135599A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-18 | Nippon Light Metal Co Ltd | 金属の表面処理方法 |
| JPS6270180U (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-02 |
-
1988
- 1988-08-19 JP JP63205742A patent/JP2539671B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS551998A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-09 | Manuf Metarirujiku Dou Torunu | Coating aluminium and its preparation |
| JPS60135599A (ja) * | 1983-12-22 | 1985-07-18 | Nippon Light Metal Co Ltd | 金属の表面処理方法 |
| JPS6270180U (ja) * | 1985-10-21 | 1987-05-02 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013091821A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Kyocer Slc Technologies Corp | めっき装置 |
| KR102206395B1 (ko) * | 2020-06-30 | 2021-01-25 | (주)네오피엠씨 | 개별파티션을 구비한 도금장치 |
| TWI769643B (zh) * | 2020-06-30 | 2022-07-01 | 南韓商耐奧匹艾姆西股份有限公司 | 具備個別分區的電鍍裝置 |
| CN115216820A (zh) * | 2021-04-18 | 2022-10-21 | 苏州易益新能源科技有限公司 | 一种电镀阴极电接触的方法和设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2539671B2 (ja) | 1996-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6482298B1 (en) | Apparatus for electroplating alloy films | |
| KR20250105491A (ko) | 전기 도금 장치 및 전기 도금 방법 | |
| JP2002531699A (ja) | インライン式めっき用設備 | |
| KR102164884B1 (ko) | 개별 지그의 전류를 제어하는 도금장치 | |
| JP2017031438A (ja) | サクションめっき装置 | |
| KR102306782B1 (ko) | 기판 개별 전류량 제어 시스템 | |
| JP2539671B2 (ja) | メッキ処理槽における給電装置 | |
| TW201923158A (zh) | 表面處理裝置 | |
| JPH07188984A (ja) | 金属部品の電気泳動表面処理装置 | |
| US5315087A (en) | Wirecut electrical discharge machine utilizing silicon powder suspended in a dielectric material | |
| US4511448A (en) | Plating apparatus | |
| JPH1161495A (ja) | 均一メッキ処理を可能にした電気メッキ処理システム | |
| JPH0472095A (ja) | 給電方法 | |
| JPH10291129A (ja) | 電解加工装置および電解加工方法 | |
| JPH11135462A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2002013000A (ja) | 電気メッキ処理装置の製品ガイド機構 | |
| JP6115309B2 (ja) | 化学処理装置 | |
| JPH09279392A (ja) | 金属ストリップの連続電気めっき装置 | |
| JP2018044249A (ja) | 表面処理装置及びワーク保持治具 | |
| JPH01205096A (ja) | 電着装置 | |
| SU538861A1 (ru) | Способ легировани металла при электрошлаковом процессе | |
| JPH0222497A (ja) | 多段式通電電着塗装装置 | |
| JP2017128817A (ja) | 表面処理装置 | |
| SU425748A1 (ru) | Способ дуговой сварки | |
| JPH03110070A (ja) | 消耗電極式自動アーク溶接方法及びその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |