JPH0255133A - ポリエステル樹脂積層成形体およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 九肌立１査欠ヱ 本発明は、溶融成形性、延伸性に優れ、機械的強度、透
明性およびガスバリヤ−性に優れ、容器用などの素材と
して適した性能を有するポリヒドロキシポリエーテルを
含む層を有する積層成形体、延伸積層成形体、多層中空
成形体用プリフォームおよび多層中空成形体に関する。

の　　　　　ｔらびに　の　題 従来から、ビールおよび日本酒などの酒類、炭酸飲料な
どの清涼飲料、調味料、油、化粧品並びに洗剤などの容
器を形成する素材としては、ガラスが広く使用されてい
る。ガラス容器は、優れた透明性、成形性およびガスバ
リヤ−性を有するとの利点を有しているが、製造コスト
が高いとの問題があり、通常、使用後の空容器を回収し
循環再使用することによりコストの低減が図られている
。

しかし、このような回収の際に、ガラス容器は重いので
運送経費がかさみ、コストの低減を充分に図ることがで
きない、さらに、運搬の際などに破損し易く、取り扱い
にくいとの間顕がある。

そこで、前述のような問題を有するガラス容器の代わり
に次第にプラスチック容器が使用されるようになってき
ている。

このようなプラスチック容器の製造に用いられるプラス
チック素材は、基本的に、溶融成形性および延伸性など
、容器の製造時に要求される特性が高いレベルにあるこ
とが必要であると共に、得られた容器の機械的強度およ
び透明性などの特性も高いレベルにあることが必要であ
る。

このような特性を有する素材として、ポリエチレンテレ
フタレートがあり、このポリエチレンテレフタレートル
は、透明性および機械的強度等が代れていると共に、成
形性も良好であり、基本的にプラスチック容器の素材と
して適している。

ところで、調味料、洗剤あるいは化粧品などの容器にお
いては、機械的強度および透明性等が問題になることが
多く、ガスバリヤ−性については、問題になることが少
ない、従って上記のポリエチレンテレフタレートを用い
て製造された容器は、−４的に良好な特性を有している
ということができる。

しかしながら、たとえば炭酸飲料およびビールのような
スパークリング飲料の容器は、内部に高圧の炭酸ガス等
が充填されているため、この内部充填ガスの漏出を防止
するのに非常に高いガスバリヤ−性を有していることが
必要になる。そして、このような厳しいガスバリヤ−性
の要求される用途においては、プラスチック素材のうち
でも比較的高いガスバリヤ、−性を有しているポリエチ
レンテレフタレートであっても充分であるとは言い難い
。従って、上記のような高いガスバリヤ−性を必要とす
る用途にポリエチレンテレフタレートを使用しようとす
る場合には、容器の肉厚を厚くするなどの方法によりガ
スバリヤ−性を確保しなければならず、コスト的に不利
である。

現在、ポリエステル樹脂容器への需要は増々増大しつつ
あるが、上記のような非常に高いガスバリヤ−性が必要
な用途にポリエステル樹脂容器を使用するためには、現
在使用されているポリエチレンテレフタレートの優れた
特性を損なうことなく、ポリエチレンテレフタレートに
高いガスバリヤー性を賦与する必要がある。

このような要請下に、ポリエチレンテレフタレートにつ
いて、種々の改良が試みられている。

たとえば、特開昭５９−６４６２４号公報には、ポリエ
チレンイソフタレートのようなポリアルキレンイソフタ
レートおよびそのコポリマー並びにこれらのポリマーあ
るいはコポリマーを用いて得られた成形体が開示されて
いる。また、特開昭５９−６４０４９号公報には、上記
のポリアルキレンイソフタレートまたはそのコポリマー
からなる層と、ポリエチレンテレフタレートのようなポ
リアルキレンテレフタレートまたはそのコポリマーから
なる層とから構成される多層包装材料およびそれからな
る成形体が開示されている。さらに、特開昭５９−３９
５４７号公報には、最内層かエチレンテレフタレートを
主な繰返しを単位とするポリエステルからなり、そして
外層がエチレンイソフタレートを主な繰返し単位とする
ポリエステルからなる耐ガス透過性多層容器であって、
この容器の肉薄部分を少なくとも一方向に配向させるこ
とにより耐ガス透過性を向上させた多層容器が開示され
ている。また、特開昭５６−６４８６６号公報には、最
外層および最内層がエチレンテレフタレートを主な構成
単位とするポリエステルからなり、そして中間層が１−
キシリレンジアミンまたはトキシリレンジアミンとｐ−
キシリレンジアミンとの混合物をジアミン成分とするポ
リアミドからなり、かつ肉薄部分が少なくとも一方向に
配向されている多層容器が開示されている。さらに、特
開昭５８−１８３２４３号公報には、２つの内外両表面
層がポリエチレンテレフタレートからなり、そして中間
層がポリエチレンテレフタレートとキシリレン基含有ポ
リアミドとの混合材料からなる２軸延伸ブロー成形ビン
体が開示されている。

このように従来技術において、ポリエチレンテレフタレ
ートのようなポリアルキレンテレフタレート自体の構造
あるいは配向性等を変えることにより、ポリアルキレン
テレフタレートのガスバリヤ−性を改善しようとする試
みが数多くなされているが、このような改質によっては
、ポリアルキレンテレフタレートのガスバリヤ−性はス
パークリング飲料用の容器素材に適する適度までは向上
しない。

従ってスパークリング飲料の容器のように高いガスバリ
ヤ−性を必要とする容器の場合には、多層構造にしたり
、肉厚にするなど、従来から樹脂容器に利用されていた
ガスバリヤ−性を向上させるための技術を利用せざるを
得なかった。

上記のような方法とは別に、ポリエチレンテレフタレー
トにポリヒドロキシポリエーテルを配合することにより
ポリエチレンテレフタレートのガスバリヤ−性が向上す
ることが知られている。

このようなポリヒドロキシポリエーテルについて、Ｊｏ
ｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｏ１ｙＬＩｅｒ
　５ｃｉｅｎｃｅ、第７巻、　２１３５〜２１４４（１
９６３）には、下記式（Ａ）で表わされるホモポリヒド
ロキシエーテルのガスバリヤ−性についての検討結果が
記載されている。

上記式（Ａ＞において、Ｅが である。

このようなホモしドロキジエーテルのうちで、０■ ・・・　（Ａ） の重合体であり、その値は０　、５　ｃｃ−１１／　１
００ｉｎ２／　２４　ｈｒ／　ａｔｉである。また、水
蒸気移動度の低い重合体は、Ｅが の値は、１００Ｆ、９０％Ｒ，Ｈ，の条件下で３ｇ　−
１１ｉｌ／　１００　ｉｎ”　／　２４　ｈｒテある。

また、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｐｏ１
ｙｉｅｒ　５ｃｉｅｎｃｅ。

第７巻、　２１４５〜２１５２　Ｆ１９６３）には、下
記式（Ｂ）で表わされるコボヒドロキシボリエーテルの
ガスバリヤ−性についての検討結果が示されている。

Ｒ２は 上記式（Ｂ）において、Ｒ１は Ｒ２とは同一ではない。

このようなポリヒドロキシポリエーテルのうちで、酸素
透過率の低い重合体は、Ｒ１がであり、そしてＲ２が いずれもその値は、５ｒ　　ｍｌ／１００ｉｎ２／２４
ｈｒ／　ａｔｎである。また、水蒸気移動度の低い重合
体は、Ｒ１が Ｒ２が である重合体であり、水 蒸気移動度は、いずれも１００Ｆ、９０％Ｒ，Ｈ。

の条件下で４ｇ−ｍ！／１００ｉｎ２／２４ｈｒである
。

このようなポリヒドロキシポリエーテルは、ハイドロキ
ノンとエピクロルヒドリンとの反応により製造すること
ができる（米国特許第２６０２０７５号公報ｆ１９４８
．１１．２６）参照）。

Ｒ１が しかしながら、このようなポリヒドロキシポリエーテル
を含むポリエステル樹脂をポリアルキレンテレフタレー
トからなる層に積層して、積層体を製造すると、ガスバ
リヤ−性は向上するものの、積層体の透明性が低下する
傾向があり、透明性を維持しながらガスバリヤ−性を向
上させることはできなかった。

九匪立１ヱ 本発明の目的は、ポリアルキレンテレフタレートからな
る層と、ポリヒドロキシポリエーテルを含むポリエステ
ル樹脂層とが積層されてなる新規な積層成形体を提供す
ることにある。

本発明の他の目的は、酸素および炭酸ガスに対するガス
バリヤ−性および透明性に優れた積層成形体を提供する
ことにある。

本発明の他の目的は、ガスバリヤ−性および透明性に優
れていると共に、溶融成形性、延伸性にも優れた積層成
形体を提供することにある。

さらに、本発明の他の目的は、特に透明性およびガスバ
リヤ−性に優れた延伸積層成形体、多層中空成形体用プ
リフォームおよび多層中空成形体を提供することにある
。

免肌ム且ヌ 本発明に係るポリエステル樹脂積層成形体は、ポリヒド
ロキシポリエーテルからなる層若しくは、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
るポリエステルｖＩ４脂積層成形体であって、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位ニ−０−ＣＨ−Ｃ
Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ２−０−Ａｒ（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒａ　はｐ−
フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１３で表わされる構成単位；−０−ＣＨ２−
ｃ旧０Ｈ）−ＣＨ２−０−＾「（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒｂは、２−
フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン
基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２
，７−ナフチレン基、４，４°−ジフェニレン基、４，
４゛−オキシジフェニレン基、４，４’−ケトジフェニ
レン基および４，４°−スルホジフェニレン基よりなる
群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み、
かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモ
ル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質上
線状であって、０−クロロフェノール中２５℃で測定し
た極限粘度［η１が０．３〜２ｄｊ／、の範囲内にあり
、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあることを特
徴としている。

また、本発明に係るポリエステル樹脂延伸積層成形体は
、 ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
るポリエステル樹脂延伸Ｍ層成形体であって、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位；−０−ＣＭ　２
−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−０−＾「（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒａ　は０−
フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位；−０−ＣＨ２−
ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−０−Ａｒ（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒｂは、２−
フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン
基、１．５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２
，７−ナフチレン基、４．４゛−ジフェニレン基、４，
４゛−オキシジフェニレン基、４，４゛−ケトジフェニ
レン基および４，４°−スルホジフェニレン基よりなる
群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み、
かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモ
ル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質上
線状であって、Ｏ−クロロフェノール中２５℃″Ｃ″測
定した極限粘度［７７］が０．３〜２ｄ、Ｇ／ｒの範囲
内にあり、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にある
ことを特徴としている。

さらに、本発明に係るポリエステル樹脂多層中空成形体
用プリフォームは、 ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは、 エチレンテレフタレート構成単位を主＃１ｒＩｉ、単位
とするポリアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロ
キシポリエーテルを含むポリエステル樹脂組成物からな
る層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
るポリエステル樹脂多層中空成形体用プリフォームであ
って、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位；−０−Ｃ８−Ｃ
Ｉ（Ｏｔｌ）−ＣＨ，、−０−＾「（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒ　　はｐ−
フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位；−０−ＣＨ−Ｃ
Ｍ（Ｏ旧−ＣＨ２−０−Ａｒ（ｂ−１） しただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒｂは、２−
フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン
基、１．５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２
，７−ナフチレン基、４．４°−ジフェニレン基、４．
４′−オキシジフェニレン基、４．４゛−ケトジフェニ
レン基および４，４゛−スルホジフェニレン基よりなる
群から選ばれる少なくとも一種の基である〕とを含み、
かつ該構成単位（ａ−１）とＷ４或単位（ｂ−１）との
モル比が８５：１５〜５う：４５の範囲内にあり、実質
上線状であって、０−タロロフェノール中２５℃″′Ｃ
測定した極限粘度［η］が０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内
にあり、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあるこ
とを特徴としている。

さらにまた、本発明のポリエステル樹脂多層中空成形体
は、 ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
エーテルを含むポリエステルｖ１１脂組成物からなる層
と、 エチレンテレフタレート構成単位を１構成単位とするポ
リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
るポリエステル樹脂多層中空成形体であって− 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位；一０−Ｃｌ　　
−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−０−Ａｒ［ただし、上記式（
ａ−１）において、Ａｒａ　はｐ−フェニレン基を表わ
す］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位ニ−０−Ｃ８−Ｃ
Ｈ（叶）−ＣＨ２−０−Ａｒ（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒｂは、２−
フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン
基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２
．７−ナフチレン基、４，４゛−ジフェニレン基、４，
４°−オキシジフェニレン基、４．４−ケトジフェニレ
ン基および４，４′−スルホジフェニレン基よりなる群
から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み、か
つ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモル
比が８５：Ｌ５〜５５　：　４５の範囲内にあり、実質
上線状であって、０−クロロフェノール中２５℃″Ｃ″
測定した極限粘度［ηコが０６３〜２ｄＪ／ｆの範囲内
にあり、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあるこ
とを特徴としている。

（以下余白） （ａ−１１ 良コ！」ｕ幻函乳朋 以下、本発明に係るポリエステル樹脂積層成形体、延伸
積層成形体、多層中空成形体用プリフォームおよび多層
中空成形体について具体的に説明する。

まず、本発明のポリエステル樹脂積層成形体について説
明する。

本発明のポリエステル樹脂積層成形体は、基本的には、
特定のポリヒドロキシポリエーテルからなる層、若しく
は、上記特定のポリヒドロキシポリエーテルとポリアル
キレンテレフタレートを含む樹脂組成物からなる層（以
下、両者を「ポリヒドロキシポリエーテル層」と記載す
ることもある）と、このポリヒドロキシポリエーテル層
に積層されたポリアルキレンテレフタレート層とからな
る。

まず、本発明のポリエステル樹脂積層成形体において用
いられるポリヒドロキシポリエーテルについて説明する
。

本発明において用いられるポリヒドロキシポリエーテル
は、次式（ａ−１）で表わされる構成単位と、次式（ｂ
−１）で表わされる構成単位とを含み、かつ構成単位（
ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモル比が特定の範囲
内にある。

−０−ＣＨ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ−０−＾「８（ａ−１
） ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒａ　はｐ−フ
ェニレン基を表わす。

−０−ＣＨ−ＣＩ（ＯＨ）−ＣＨ，、−０−＾「（ｂ−
１） ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒｂは、２−フ
ェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基
、１，５−ナフチレン基、２．６−ナフチレン基、２．
７−ナフチレン基、４．４°−ジフェニレン基、４．４
−オキシジフェニレン基、４，４°−ケトジフェニレン
基および４，４゛−スルホジフェニレン基よりなる群か
ら選ばれる少なくとも一種の基を表わす。

そして、本発明で使用されるポリヒドロキシポリエーテ
ルは、実質上線状であり、極限粘度［η］が０．３〜２
ｄｊ／ｇの範囲内にあり、屈折率が１．６１〜１．６３
の範囲内にあるポリヒドロキシポリエーテルである。

従って、本発明で使用されるポリヒドロキシポリエーテ
ルは、たとえば次式（ａ＞で表わすことができる。

−（０−Ｃ８、、−ＣＨ１（０）１）−ＣＨ２−０−Ａ
ｒ　）。

（ａ） ただし、上記式（ａ）において、Ａｒ　及びＡｒｂは、
上述の記載におけるそれと同じ意味であり、Ｐとｑとの
比は８５：１５〜５５：４５の範囲内にある。

本発明で使用されるポリヒドロキシポリエーテルの分子
末端は、通常は前記式（ａ）において末端が水素原子で
５あるが、１僅の炭化水素基でありてもよい、炭化水素
基としては、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基
等のアルキル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基
等のシクロアルキル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニ
ル基、トメチルフェニル基等の芳香族炭化水素基等を例
示することができる。

本発明で使用される上記式（ａ）で表されるポリヒドロ
キシポリエーテルは、基本的には次のようにして製造す
ることができる。

すなわち、まず、下記式（Ｉ）で表わされる単核芳香族
ジオール： ＨＯ−Ａｒ　　−ＯＨ・・・（Ｉ） ［上記式（Ｉ）において、Ａｒａはｐ−フェニレンであ
る。コ、および、場合によっては、下記式（Ｉ［）で表
わされる三核芳香族ジオールＨＯ−Ａｒ　ｂ−ＯＨ−（
ＩＩ） ［上記式（ＩＩ）において、Ａｒｂは２−フェニル−１
，４−フェニレン基、１，４−ナフチレン基、１．５−
ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、２，７−ナフチ
レン基、４．４°−ジフェニレン基、４，４゛−オキシ
ジフェニレン基、４，４°−ケトジフェニレン基および
４，４゜−スルホジフェニレン基から選ばれる基である
。コと、 下記式（ｉｆ）で表わされるエビ八口ヒドリン：［上記
式（ＩＩＩ）において、Ｘは弗素原子、塩素原子および
臭素原子などのハロゲン原子である。］とを水酸化アル
カリ金属化合物の存在下に反応させることにより、下記
式（ＩＶ）で表わされるハイドロキノンジグリシジルエ
ーテル若しくはハイドロキノンジグリシジルエーテルオ
リゴマーを得る。

−（０−ＣＨ２−ＣＨ（Ｏ旧−ＣＨ２−０−Ａｒ　）。

υ ・・・　（ＩＶ　） ただし上記式（ＩＶ）において、ｍおよびｎはそれぞれ
０または正の整数から選ばれる任意の数である。

また、Ａｒａは、Ａｒ　　またはＡｒｂを示し、ここで
Ａｒａ　は、ｐ−フェニレン基を表し、また、Ａｒｂは
、２−７エー１ルー１．４−７　エニレン基、１，４−
ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２．６−ナフチ
レン基、２．７−ナフチレン基、４，４゛−ジフェニレ
ン基、４．４゛−オキシジフェニレン基、４，４−ゲト
ジフエニレン基、４，４°−スルホジフェニレン基から
選ばれる基である。

上記の反応において用いられる式（Ｉ）で表わされる単
核芳香族ジオールの例としては、ｐ−フェニレン基を有
する化合物を有する化合物であり、具体的にはハイドロ
キノンである。

なお、上記の反応において用いられる式＜Ｉ）で表わさ
れる単核芳香族ジオールは、芳香族環に低級アルキル基
などの置換基を有していてもよい。

上記式（ｎ）で表わされる三核芳香族ジオールの例とし
ては、フェニルフェノール、１，４−ナフタリンジオー
ル、１，５−ナフタリンジオール、２，６−ナフタリン
ジオール、２．７−ナフタリンジオール、４゜４゛−ジ
ヒドロキシジフェニル、４，４゛−ジヒドロキシジフェ
ニルエーテル、４．４−ジヒドロキシジフェニルゲトン
および４．４′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを挙
げることができる。これらの三核芳香族ジオールは単独
、あるいは組合わせて使用することができる。

式（Ｉ［［）で表わされるエビハロヒドリンとしては、
たとえばエビフロルヒドリン、エピクロルヒドリンおよ
びエビブロモヒドリンを挙げることができる。特に本発
明においては、エビクロルヒト上記の反応の際に使用さ
れる水酸化アルカリ金属化合物の例としては、水酸化リ
チウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等を挙
げることができるが、本発明においては水酸化ナトリウ
ムあるいは水酸化カリウムを単独で、あるいは組合わせ
て使用することが好ましい。このような水酸化アルカリ
金属化合物は、通常は固体であり、反応系に固体の状態
で添加することらできるし、また水溶液として反応系に
添加することらできる。

さらに、式（ＩＩＩ）で表わされるエピハロヒドリンは
、上記式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオールと式（
ＩＩ）で表わされる三核芳香族ジオールとの合計の使用
量に対して、１〜３倍モル、好ましくは１．１〜２．８
倍モルの範囲で使用される。また、水酸化アルカリ金属
化合物は、式（Ｉ＞で表わされる単核芳香族ジオールと
式（Ｉ［）で表わされる三核芳香族ジオールとの合計の
使用量に対して、１〜３倍モル、好ましくは１．１〜２
．８倍モルの範囲内で使用される。

上記の反応における反応条件は、式（Ｉ）で表わされる
単核芳香族ジオールと式（ｎ）で表わされる三核芳香族
ジオールおよび／または式（ＩＩ）で表わされるエビハ
ロヒドリンとが反応し得る条件であれば特に制限はない
、たとえば式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオールお
よび／または式（ＩＩ）で表わされる三核芳香族ジオー
ルと式（ＩＩＩ）で表わされるエビハロヒドリンとを混
合し、水酸化アルカリ金属化合物を添加後、反応温度を
６０〜１４０℃、好ましくは７０〜１３０℃、反応時間
を１〜１０時間、好ましくは２〜８時間の範囲内に設定
し、撹拌下に反応させることにより製造することができ
る。

なお、この方法においては、反応液を粘度を調整し、反
応を円滑に進行させると共に、反応によって副生ずる塩
化ナトリウムなどのハロゲン化アルカリ金属と、この反
応における目的生成物であるジグリシジルエーテルまた
はそのオリゴマーとの分離を容易にするために、使用原
料および目的生成物に対して不活性な溶媒を反応溶媒と
して使用することもできる。

反応溶媒を用いる場合に、使用することができる溶媒の
例としては、ｎ−デカンおよびデカヒドロナフタリンな
どの飽和炭化水素類： ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、
テトラメチルベンゼン、エチルベンゼン、キュメン、ｎ
−ブチルベンゼン、テトラヒドロナフタリンおよびナフ
タリンなどの芳香族炭化水素類；メチルエチルゲトン、
メチルイソブチルゲトン、２−ヘキサノン、シクロヘキ
サノンおよびアセトフェノンなどのケトン類； Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドおよびトメチル−２−ピ
ロリドンなどのアミド類；並びに、 ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などを挙げ
ることができる。上記反応における目的生成物であるジ
グリシジルエーテルまたはそのオリゴマーは、ケトン類
に対する溶解性が高いので、反応溶媒としてケトン類を
用いることにより、目的生成物を高い収率で得ることが
できる。これらの反応溶媒を使用する場合には、これら
の反応溶媒は、式（ＩＶ）で表わされるジグリシジルエ
ーテルまたはそのオリゴマー１重量部に対して、通常は
、３重量部以下、好ましくは２重量部以下、さらに好ま
しくは１重量部以下で用いられる。

上記のようにして式（１）で表わされる単核芳香族ジオ
ールおよび／または式＜ｆｆ）で表わされる三核芳香族
ジオールと式（ＩＩ［）で表わされるエピハロヒドリン
とを反応させた後、反応によって副生じた塩化ナトリウ
ムなどのハロゲン化アルカリ金属を分Ｍする。このハロ
ゲン化アルカリ金属の分離は、分液あるいは濾過など公
知の方法を利用して行なうことができる。また、上記反
応においてエピハロヒドリンを過剰に用いた場合には、
未反応のエピハロヒドリンを蒸留などの方法を利用して
除去する。さらに、反応溶媒を用いた場合にも、この反
応溶媒を蒸留などの方法を利用して除去する。このよう
にしてハロゲン化アルカリ金属、未反応のエピハロヒド
リンおよび反応溶媒等を除去することにより、ジグリシ
ジルエーテルまたはそのオリゴマーを得ることができる
。このジグリシジルエーテルまたはそのオリゴマーは、
次式（ＩＶ）で表わすことができる。

−（０−ＣＨ−ＣＭ（ＯＨ）−ＣＨ２−０−Ａｒ　　）
。

・・・　（ＩＶ） ただし上記式（ｒＶ）において、ｍおよびｎはそれぞれ
０または正の整数から選ばれる任意の数である。

また、ＡｒはＡｒａ　またはＡｒｂのいずれかを示し、
ここでＡｒａは、ｐ−フェニレン基であり、また、Ａｒ
ｂは、２−フェニル−１，４−フェニレン基、１．４−
ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２．６−ナフチ
レン基、２，７−ナフチレン基、４，４−ジフェニレン
基、４，４゛−オキシジフェニレン基、４，４’−ケト
ジフェニレン基、４，４−スルホジフェニレン基から選
ばれる基である。

上記式＜ＩＶ）における＜ｍ−１−ｎ）の値は、式（Ｉ
）で表わされる単核芳香族ジオールおよび式（ｎ）で表
わされる三核芳香族ジオールの合計量と、式（ＩＩＩ）
で表、わされるエピハロヒドリンとの使用割合によって
定まる。すなわち式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオ
ールおよび式（ＩＩ）で表される三核芳香族ジオールの
合計量を１モルとした場合に対する式＜１）で表わされ
るエピハロヒドリンの使用割合が大きくなるほど（ｍ＋
−ｎ）の値は小さくなり、式（１１１１）で表わされる
エピハロヒドリンの使用割合が２倍モルを超えると実質
的に（ｍ＋ｎ）が０である式（ＩＶ）で表わされるグリ
シジルエーテルを得ることができる。上記式（１ｙ）に
おける（ｍ＋ｎ）の値は、本発明におけるポリヒドロキ
シポリエーテルの式＜ａ）における（ｐ＋ｑ）の値より
も小さいのが一般的である。

なお、上記のようにして分離された式（１ｖ）で表わさ
れるジグリシジルエーテルまたはそのオリゴマー中には
、製造原料である式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオ
ールおよび式（ＩＩ）で表わされる三核芳香族ジオール
あるいは式（ＩＩＩ）で表わされるエピハロヒドリン、
若しくは式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオールまた
は式（ＩＩ）で表わされる三核芳香族ジオールと、式（
Ｉ［［）で表わされるエビハロヒドリンとの反応生成物
であるモノグリシジルエーテルなどが含有されていても
よく、このような化合物の混入によっても次の段階の反
応性が低下することは殆どない。

このようにして得られた式（ＩＶ　）で表わされるジグ
リシジルエーテルまたはそのオリゴマーを、たとえば塩
基性触媒の存在下に、式（Ｉ）で表わされる単核芳香族
ジオールおよび／または式（Ｕ）で表わされる三核芳香
族ジオールとさらに反応させることにより、本発明で使
用されるポリヒドロキシポリエーテルである式（ａ）を
製造することができる。ここで式（ＩＶ）で表わされる
ジグリシジルエーテルまたはそのオリゴマーと反応する
式（Ｉ）で表わされる単核芳香族ジオールおよび式（ｆ
Ｉ）で表わされる三核芳香族ジオールとしては、上記式
（ＪＶ　）で表わされるジグリシジルエーテルまたはそ
のオリゴマーを製造する際に用いることができるジオー
ルを単独、または組み合わせて使用することができる。

これらのジオールは、上記式ＮＶ）で表されるジグリシ
ジルエーテルまたはそのオリゴマーを製造した際に用い
たジオールと同一のものであってもよいし、また異なっ
たものであってもよい。

さらに、これらのジオールの使用割合は、上記式（ＩＶ
）で表されるジグリシジルエーテルまたはそのオリゴマ
ーを製造する際に用いたジオールと、上記式（ＩＶ）で
表されるジグリシジルエーテルまたはそのオリゴマーに
対して反応させたジオールとの総和において、式（Ｉ＞
で表される単核ジオールと式（ＩＩ＞で表される三核芳
香族ジオールとは、８５：１５〜５５：４５の範囲内で
使用される。

なお、上記式（ＴＶ）で表わされるジグリシジルエーテ
ルまたはそのオリゴマーとしては、ジグリシジルエーテ
ルおよびジグリシジルエーテルのオリゴマーを単離して
それぞれを個別に使用することもできるし、ジグリシジ
ルエーテルおよびジグリシジルエーテルのオリゴマーの
混合物として使用することもできる。

上記の反応において使用することができる塩基性触媒の
例としては、第三アミン化合物、第四アンモニウム化合
物、第三ホスフィン化合物および第四ホスホニウム化合
物を挙げることができる。

そして、上記の触媒として用いられる第三アミン化合物
としては、たとえば、トリエチルアミン、トリーイソプ
ロピルアミン、トリーイソプロピルアミン、トリーロー
ブチルアミン、トリーセカンダリ−ブチルアミン、トリ
ー〇−ヘキシルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエ
チルベンジルアミンおよびトリベンジルアミンなどを挙
げることができる。また、第四アンモニウム化合物とし
ては、たとえば、水酸化テトラメチルアンモニウム、水
酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラｎ−プロ
ピルアンモニウム、水酸化テトライソプロピルアンモニ
ウム、水酸化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、水酸化
トリメチルベンジルアンモニウムおよび水酸化トリエチ
ルベンジルアンモニウムなどを挙げることができる。さ
らに、第三ホスフィン化合物としては、たとえば、トリ
エチルホスフィン、トリーｎ−ブチルホスフィン、トリ
フェニルホスフィンおよびトリノニルフェニルホスフィ
ンなどを挙げることができる。、Ｉｔたさらに、第四ホ
スホニウム化合物としては、たとえば、水酸化テトラメ
チルホスホニウムなどのような水酸化第四ホスホニウム
化合物を挙げることができる。このような触媒は単独で
あるいは組合わせて使用することができる。

上記の反応において、式（Ｉ）で表わされる単核芳香族
ジオールおよび／または式（ＩＩ）で表わされる三核芳
香族ジオールは、式（ＩＶ）で表わされるジグリシジル
エーテルまたはそのオリゴマー１モルに対して、通常は
０．５〜１．５モル、好ましくは０．６〜１．４モル、
特に好ましくは０．７〜１．３モルの範囲内で使用され
る。

また、上記反応における塩基性触媒の使用割合は、上記
式（ＩＶ）で表わされるジグリシジルエーテルまたはそ
のオリゴマーに対して、通常は０．００１〜１０モル％
、好ましくは０．００５〜５モル％、特に好ましくは０
．１〜１モル％の範囲内にある。

また、上記製造方法においては、生成物であるポリヒド
ロキシポリエーテルの末端を安定化させるために、１個
のフェノール性水酸基を含有する化合物を少量添加して
反応させることができる。

これらのフェノール性水酸基を１個含有する化合物とし
ては、フェノール、０−クレゾール、ｌ−クレゾール、
ｐ−クレゾール、Ｄ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−フェ
ニルフェノール、ｐ−クミルフェノール等を例示するこ
とができる。これらのフェノール性水酸基を１個含有す
る化合物を用いる場合には、通常芳香族ジオールのグリ
シジルエーテル１モル当り、０．０５モル以下、好まし
くは０．０３モル以下、さらに好ましくは０．０２モル
以下の量で用いることが好適である。

さらに、上記の式（ＩＶ　）で表わされるジグリシジル
エーテルまたはそのオリゴマーと、式（Ｉ）で表わされ
、る単核芳香族ジオールおよび／または式（ＩＩ）で表
わされる三核芳香族ジオールとの反応は、反応溶媒を用
いずに行なうこともできるが、反応系の粘度を調整し、
反応を円滑に進行させるために反応溶媒を使用すること
ができる。この場合、使用することができる反応溶媒は
、上記式（ＰＩ）で表わされるジグリシジルエーテルを
製造した際に用いた反応溶媒を挙げることができる。

さらにこの場合に使用する反応溶媒の１は、生成する式
（ａ）で表わされるポリヒドロキシポリエーテル１重量
部に対して、通常は、Ｂｆｉ量部具部以下ましくは２重
量部以下、さらに好ましくは１重量部以下である。

また、上記式（ａ）で表わされるポリヒドロキシポリエ
ーテルを製造する際の反応温度は、適宜設定することが
できる。たとえば反応溶媒を使用しない場合においては
、通常は９０〜１８０℃、好ましくは１００〜１７０℃
の範囲内、また、反応溶媒を使用する場合においては、
通常は８０〜２００℃、好ましくは１００〜１８０℃の
範囲内の温度に設定される。さらに、この反応は、常圧
、加圧、減圧のいずれの圧力条件でも行なうことができ
る。特に反応溶媒を使用した場合には、反応圧力を一定
に維持すれば、その圧力におけるその反応溶媒の沸点に
反応温度を維持することができるので、反応温度の変動
を防止することができるとの利点がある。このような反
応条件における反応時間は、通常は０．５〜１０時間の
範囲内にある。

このようにして反応を行なった後、たとえば反応溶媒、
未反応原料などを蒸留などの方法を利用して除去するこ
とにより、次式（ａ）で表わされるポリヒドロキシポリ
エーテルを得ることができる。

−（０−ＣＨ−ＣＨ（Ｏ旧−０Ｍ２−０−Ａｒ　　）　
。

・・・　（ａ） ただし上記式（ａ）において、ｐおよび９は正の整数か
ら選ばれる任意の数であり、ｐ：９のモル比が８５：１
５〜５５　：　４．５の範囲内にある。

そして、（ｐ＋−ｑ）は前記式＜ＩＶ）における（ｍモ
ｎ）よりも大きな値を示す、また、Ａｒ　　は、ｐ−フ
ェニレン基である。

さらに、Ａｒｂは、２−フェニル−１，４−フェニレン
基、１，４−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２
．６−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、４，４−
ジフェニレン基、４，４°−オキシジフェニレン基、４
．４’−ケトジフェニレン基、４，４゛−スルホジフェ
ニレン基から選ばれる基である。

このようにして得られた式（ａ）で表わされるポリヒド
ロキシポリエーテルにおいて、構成単位−０−ＣＨ−Ｃ
Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ−０−＾「　−の一部が、原料である
式（１）で表わされるエビへロヒドリンから脱離したハ
ロゲン原子、上記エビハロヒドリンのグリシジル基がβ
−開裂して結合することにより形成される１、２結合楕
遣、あるいはグリシジル基が分子内水酸基と反応するこ
とによって形成される分岐構造などを１少程度であれば
有していてもよい。

（以下余白） このようにして生成したポリヒドロキシポリエーテルは
、反応溶媒を使用した場合には反応溶媒を蒸留等の方法
を利用して除去することにより得ることができる。なお
、反応溶媒は、上記のような蒸留による除去の外、再沈
澱法などの池の公知の方法を利用することによっても除
去することもできる。

このようにして反応溶媒を除去した後、本発明のポリヒ
ドロキシポリエーテルを、たとえば、溶融体とし、次い
で、ストランド状に押出して、冷却後、カッティングす
るなどの公知の方法を利用することにより、ポリヒドロ
キシポリエーテルのベレットを得ることができる。

このようにして得られたポリヒドロキシポリエーテルは
、０−クロロフェノール中２５℃で測定した極限粘度［
η］か０．３〜２ｄｌｌ／＋ｒの範囲内にあり、さらに
製造条件等を制御することにより、上記極限粘度［η］
を０．４〜１．８ｄＪ／ｇの範囲内に調整することがで
きる。このような極限粘度［η］を有するポリヒト０キ
シポリエーテルの数平均分子量（Ｍｎ　＞は、通常は、
２０００〜１００，０００の範囲内、好ましくは３００
０〜８０，０００の範囲内にある。極限粘度［η］が０
．１６Ｊ／ｇより小さいポリヒドロキシポリエーテルを
含有する成形体あるいは延伸成形体は、機械的強度が低
下する傾向がある。

また、上記式（ａ）において、ｐ：ｑのモル比は８５：
１５〜５５：４５とした。

ρの量が８５モル％より大きいと、ポリヒドロキシポリ
エーテルの屈折率が１．６１よりも小さくなり、また５
５モル％よりも小さいと、屈折率は１．６３よりも大き
くなり、延伸したポリアルキレンテレフタレート（たと
えば３倍×３倍に二軸延伸）との屈折率差が大きくなり
、ポリアルキレンテレフタレートとブレンドした時の透
明性が悪くなる。

このようにして得られたポリヒドロキシポリエーテルの
屈折率は、１．６１〜１．６３の範囲にあり、さらに製
造条件を制御することにより、上記屈折率を１．６１〜
１．６２の範囲に制御することができる。ポリヒドロキ
シポリエーテルの屈折率が１．６１より小さくなっても
、また、１．６３より大きくなっても、このポリヒドロ
キシポリエーテルをポリアルキレンテレフタレートに配
合して組成物を形成させたり、このポリヒドロキシポリ
エーテルとポリアルキレンテレフタレートとを積層させ
て積層成形体を形成させた場合には透明性が低下する傾
向がある。

上記のポリヒドロキシポリエーテルは、通常は、３０〜
１５０℃のガラス転移温度を有しており、好ましくは４
０〜１２０℃のガラス転移温度を有する。

さらに、上記のポリヒドロキシポリエーテルは、重量平
均分子ｉ（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ
　／Ｍｎ　）で定義される分子量分布を示す値は、通常
１．５〜１０の範囲内に存在している。

上記のポリヒドロキシポリエーテルは実質上線状構造を
有している。

ここで実質上線状とは、ポリヒド口キシボリエーテルが
実質的に分枝鎖を有しない鎖状１１造を有しており、ゲ
ル状架橋構造（網状構造）を実質的に含まないことを意
味する。そして、具体的には、２５℃のＯ−クロロフェ
ノール１００　ｍｌに０．５ｆのポリヒドロキシポリエ
ーテルを溶解した際に不溶性成分が実質的に存在しない
ことをいつ。

本発明で使用されるポリヒドロキシポリエーテルは、そ
れを製造する際に使用する原料化合物の割合によって、
その末端が、 他の芳香族ジオール単位 であることができる。

これらの末端水酸基（−ＯＨ）　、あるいはり は、それ自体公′知のエステル化法あるいはエーテル化
法によりカルボン酸エステル、たとえば酢酸エステル（
−０ＣＯＣＨ３）　、あるいはエーテル、たとえばエト
キシ基（−０ＣＣＨ５）に変換することができる０本発
明のポリヒドロキシポリエーテルには上記のような末端
を有するものも包含される。

なお、本発明で使用されるポリヒドロキシポリエーテル
は、製造の際、反応系内に存在する水分とグ、リシジル
基との反応によって生成したβ、γ−ジヒドロキシプロ
ピオキシ基あるいは上記の反応によって誘導される基を
末端基としているポリヒドロキシポリエーテルを少量含
有することもある。

このようにして得られたポリヒドロキシポリエーテルを
、そのまま使用して、本発明におけるポリエステル層と
することもできるし、また、特定のアルキレンテレフタ
レートと混合して、組成物を得、この組成物を用いて、
本発明におけるポリエステル層とすることができる。

ポリエステル層が上記のポリヒドロキシポリエーテルと
ポリアルキレンテレフタレートを含む組成物である場合
に使用することができるポリアルキレンテレフタレート
は、エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とす
るポリアルキレンテレフタレートである。

ここで、ポリアルキレンテレフタレート中におけるエチ
レンテレフタレート構成単位の含有率は、通常、５０モ
ル％以上、好ましくは７０モル％以上である。

従って、本発明において用いられるポリアルキレンテレ
フタレートは、通常は、５０モル％未満、好ましくは３
０モル％未満で、テレフタル酸成分単位以外の芳香族系
ジカルボン酸成分単位を含む組成単位を含有していても
よい。

ここで、テレフタル酸成分単位以外の他の芳香族系ジカ
ルボン酸成分単位として、具体的には、イソフタル酸、
フタル酸およびナフタレンジカルボン酸などから誘導さ
れる成分単位を挙げることができる。また、ポリアルキ
レンテレフタレートを構成するジオール成分単位として
は、エチレングリコール成分単位であることが好ましい
が、エチレングリコール成分単位の外に他のジオール成
分単位を少量含有していてもよい、エチレングリコール
成分単位以外の他のジオール成分単位としては、たとえ
ば、１．３−プロパンジオール、１．４−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジオール
、シクロヘキサンジメタツール、１．４−ビス（β−ヒ
ドロキシエトキシ）ベンゼン、１．３−ビス（β−ヒド
ロキシエトキシ）ベンゼン、２．２−ビス（４−β−ヒ
ドロキシエトキシフェニル）プロパンおよびビス（４−
β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホンなどの炭素
原子数が３〜１５のジオールから誘導される成分単位を
挙げることができる。

また、ポリアルキレンテレフタレートは、前記芳香族系
ジカルボン酸成分単位および前記ジオール成分単位の他
に必要に応じて、他の多官能性化金物から誘導される構
成単位を含んでいてもよい。

ここで多官能性化合物から誘導される成分単位を形成す
る多官能性化合物として、具体的には、トリメリット酸
、トリメシン酸および３，３°、５．５’−テトラカル
ボキシジフェニルなどの芳香族系多塩基酸；ブタンテト
ラカルボン酸などの脂肪族系多塩基酸；フロログルシン
および１，２，４．５−テトラヒドロキシベンゼンなど
の芳香族系ポリオール；グリセリン、トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパンおよびペンタエリスリト
ールなどの脂肪族系ポリオール；酒石酸およびリンゴ酸
などのオキシポリカルボン酸などを挙げることができる
。

このようなポリアルキレンテレフタレートにおける構成
成分の存在率は、テレフタル醸成分単位の含有率が、通
常、５０〜１００モル％、好ましくは７０〜１００モル
％の範囲にあり、テレフタル酸成分単位以外の芳香族系
ジカルボン酸成分単位の含有率が、通常、０〜５０モル
％、好ましくは０〜３０モル％の範囲にあり、エチレン
グリコール成分単位の含有率が、通常、５０〜１００モ
ル％、好ましくは７０〜１００モル％の範囲にあり、エ
チレングリコール成分単位以外のジオール成分単位の含
有率が、通常０〜５０モル％、好ましくは０〜３０モル
％の範囲にあり、そして、多官能性化合物成分単位の含
有率が、通常０〜２モル％、好ましくは０〜１モル％の
範囲にある。

また、このようなポリアルキレンテレフタレートの極限
粘度［η］、（０−クロロフェノール中で２５℃″′Ｃ
″測定した値）は、通常、０．５〜１．５ｄｊ／ｇ、好
ましくは０．６〜１．２ｄ、Ｑ／ｇの範囲であり、融点
は、通常、２１０〜２６５℃１好ましくは２２０〜２６
０℃の範囲であり、ガラス転移温度は、通常、５０〜１
２０℃、好ましくは６０〜１００℃の範囲にある。

ポリヒドロキシポリエーテルとポリアルキレンテレフタ
レートとを混合した組成物を用いる場合、ポリヒドロキ
シポリエーテルの配合割合は、ポリアルキレンテレフタ
レートｔｏｏｆｆｉｉ部に対して、通常は、１〜１００
重量部、好ましくは２〜５０重量部、特に好ましくは３
〜３０重量部の範囲内にある。

なお、本発明において、上記のようにポリヒドロキシポ
リエーテルを単独で用いる場合、あるいは樹脂組成物を
用いる場合に、樹脂あるいは組成物の特性を損なわない
範囲内で、他の樹脂を配合することもできる。さらに、
このような樹脂あるいは樹脂組成物には、核剤、無機充
填剤、滑剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、安定
剤、帯電防止剤、防曇剤、顔料など、通常使用されてい
る樹脂添加剤を配合することもできる。

本発明において、上記のようなポリヒドロキシポリエー
テルからなる層若しくはポリヒドロキシポリエーテルと
ポリアルキレンテレフタレートとの樹脂組成物からなる
層、すなわちポリヒドロキシポリエーテル層と積層され
る層は、エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位
とするポリアルキレンテレフタレートからなる層である
。

ここで、用いられるポリアルキレンテレフタレートとし
ては、上記ポリヒドロキシポリエーテルと樹脂組成物を
形成するために使用したポリアルキレンテレフタレート
を挙げることができる。

本発明における積層成形体としては、具体的には、ポリ
ヒドロキシポリエーテル層およびポリエチレンテレフタ
レートを主構成単位とするポリアルキレンテレフタレー
ト層（以下「ポリアルキレンテレフタレート層」と記載
することもある）の二層から構成される二層積層成形体
、 ポリヒドロキシポリエーテル層を中間層とし、かつ両件
側層をポリアルキレンテレフタレート層とする三層積層
成形体、 ポリアルキレンテレフタレート層を中間層とし、かつ両
側層をポリヒドロキシポリエーテル層とする三層積層成
形体、 ポリヒドロキシポリエーテル層および上記ポリアルキレ
ンテレフタレート層を交互に積層した四層構造以上の積
層成形体であって、両数外層がポリアルキレンテレフタ
レート層から構成される多層積層成形体、 ポリヒドロキシポリエーテル層およびポリアルキレンテ
レフタレート層を交互にＷＩ層した四層構遣以上の積層
成形体であって、Ｉ最外層がポリヒドロキシポリエーテ
ル層から構成される多層積層成形体、 ポリヒドロキシポリエーテル層およびポリアルキレンテ
レフタレート層を交互に積層した四層構造以上の積層成
形体であって、最外層がポリヒドロキシポリエーテル層
およびポリアルキレンテレフタレート層から構成される
多層積層成形体などを挙げることができる。

なお、ここでポリヒドロキシポリエーテル層とは、上述
のように、本発明における特定のポリヒドロキシポリエ
ーテル単独で形成されている層、または、このポリヒド
ロキシポリエーテルとてリアルキレンテレフタレートと
の樹脂組成物からなる層を表わす。

上記の積層成形体は、シート状物、板状物、管状物、中
空体、容器等の種々の形状で用いることができる。この
積層成形体は、従来から公知の方法によって製造するこ
とができる。

このような積層成形体を構成するポリヒドロキシポリエ
ーテル層およびポリアルキレンテレフタレート層の厚さ
に特に制限はなく、積層成形体の用途に応ごて、適宜決
定することができる。たとえば、この積層成形体が前記
二層積層成形体である場合には、ポリヒドロキシポリエ
ーテル層の厚さは、通常４〜３５０μｍ、好ましくは６
〜２００μｍの範囲にあり、ポリアルキレンテレフタレ
ート層の厚さ、は８〜６００μｍ、好ましくは１０〜５
００μｍの範囲にある。また、この積層成形体が前記三
層積層成形体のうちの前者である場合には、ポリヒドロ
キシポリエーテル中間層の厚さは、通常４〜３５０μｍ
、好ましくは６〜２００μｍの範囲であり、ポリアルキ
レンテレフタレート層からなる両件側層のそれぞれの厚
さは、通常４〜３００μｍ、好ましくは５〜２５０μｍ
の範囲である。また、積層成形体が前記三層積層成形体
のうちの後者である場合には、ポリアルキレンテレフタ
レート層からなる中間層の厚さは、通常８〜６００μｍ
、好ましくは１０〜５００μｍの範囲であり、ポリヒド
ロキシポリエーテル層からなる両件側層の厚さは、通常
４〜１００μｍ、好ましくは６〜５０μｍの範囲である
。さらに、積層成形体が前記四層構造以上の多層積層成
形体である場合にも、ポリヒドロキシポリエーテル層に
よって構成される中間層および最外側層の厚さならびに
ポリアルキレンテレフタレート層によって構成される中
間層および最外側層の厚さは、前記同様に設定すること
ができる。

このような積層成形体は、延伸性、電気的特性特に電気
絶縁性、機械的強度、透明性およびガスバリヤ−性など
の性質に優れている。

上記のような積層体は、さらに延伸成形体とすることが
できる。

すなわち、本発明における延伸積層成形体は、前記積層
体を延伸することによって製造することができる。

本発明の延伸積層成形体を製造する方法としては、従来
から公知のいずれの方法も採用することができる。一般
には、前記ポリヒドロキシポリエーテルを単独で若しく
はこれに必要に応じて前記添加剤を配合した組成物を用
いて成形したフィルムまたはシートなどの蒸成形体を、
そのまま、あるいはガラス転移点以下の温度に冷却して
固化させた後に、ガラス転移点以上、好ましくはガラス
転移点ないしガラス転移点よりも８０℃高い温度の範囲
で延伸する。

本発明の延伸積層成形体を製造する方法として゛は、た
とえば蒸成形体がフィルムまたはシートである場合には
、未延伸のフィルムまたはシートを一軸方向に延伸する
方法（−軸延伸法）、縦軸方向に延伸した後、さらに横
軸方向に延伸する方法（二軸延伸法）、縦軸方向および
横軸方向に同時に延伸する方法（同時二軸延伸法）、二
軸延伸した後に、さらにいずれかの一方向に逐次延伸を
繰返す方法、二軸延伸した後に、さらに両方向に延伸す
る方法、フィルムまたはシートと金型とにより形成され
る空間を減圧することによって延伸成形するいわゆる真
空成形法などを挙げることができる。ここで、−軸延伸
する場合の延伸倍率は、通常は１．１＝１〜１０倍、好
ましくは１．２〜８倍、特に好ましくは１．５〜７倍の
範囲である。

また二軸延伸して成形体を製造する場合の延伸倍率は、
横軸方向に、通常、１．１〜８倍、好ましくは１．２〜
７倍、特に好ましくは１．５〜６倍の範囲であり、横方
向に、通常、１．１〜８倍、好ましくは１．２〜７倍、
特に好ましくは１．５〜６倍の範囲である。

本発明の延伸積層成形体は、機械的強度およびガスバリ
ヤ−性が優れている。特に、電気部材、電子部材および
延伸積層成形体は、機械的強度、透明性およびガスバリ
ヤ−性などの性質に優れている。特に、延伸積層成形体
がフィルムである場合には、たとえば電気部材、電子部
材あるいは金属部材の被覆用として用いることにより、
長期間電気電子回路の保護し、あるいは金属部材の腐蝕
の有効に防止することができる。また延伸積層フィルム
は、コンデンサー用、モーター用、トランス用あるいは
電線被覆用の素材としての有用性も高い、さらに延伸積
層フィルムは、食品包装材として使用することもできる
。また、上記の延伸積層成形体は、優れたガスバリヤ−
性を有しているので、食品および炭酸飲料用の容器とし
て使用することらできる。

本発明のポリエステル樹脂延伸中空成形体用プリフォー
ムは、前記ポリエステル樹脂積層体から形成される。

このような延伸中空成形体用プリフォームは、従来から
利用されている方法により製造することができる。たと
えば、前記ポリエステル樹脂積層体を管状に成形するこ
とにより、本発明のポリエステル中空成形体用プリフォ
ームを得ることができる。

本発明のポリエステル樹脂多層中空積層成形体は、たと
えば前記延伸中空成形体用プリフォームを延伸ブロー成
形することにより製造することができる。

本発明の延伸多層中空成形体は、−軸延伸成形体であっ
ても二軸延伸成形体であってもよい、特に本発明におい
ては、二軸延伸成形体にすることによって延伸多層中空
成形体の機械的強度およびガスバリヤ−性が向上する。

本発明において、延伸多層中空成形体の製造方法として
は、前記ポリエステル樹脂からなる中空成形体用プリフ
ォームを延伸ブロー成形することにより製造することが
できるが、このときの延伸ブロー成形条件としては、前
記の積層成形体における延伸温度の範囲内で、上記プリ
フォームを縦軸方向に延伸した後、さらに、ブロー成形
することによって横軸方向に延伸する方法（二軸延伸ブ
ロー成形法）などを挙げることができる。

本発明のポリエステル樹脂多層中空成形体は、機械的強
度、透明性およびガスバリヤ−性に優れているので種々
の用途に利用することができる。

特に本発明の二軸延伸ブロー成形容器は、ガスバリヤ−
性に優れているので、調味料、油、酒類、化粧品、洗剤
などの容器として使用することができるのは勿論、コー
ラ、サイダー、ビールなとのスパークリング飲料の容器
に適している。すなわち、本発明の延伸中空成形体を用
いることにより、従来の容器のように容器の肉厚を厚く
することなく、賞味期間を延長することができる。

（以下余白） 魚涯しＬ艷釆 本発明で用いられるポリヒドロキシポリエーテルは、透
明性が非常に良好である。

このような特性を有するポリヒドロキシポリエーテルを
含む本発明の積層成形体、積層延伸成形体、延伸中空成
形体用プリフォールおよび延伸多層中空成形体は、非常
に良好な透明性を有すると共にガスバリヤ−性も優れて
いる。また、このような成形体等は機械的強度も良好で
ある。

［実施例］ 次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。なお
、実施例および比較例において、特に限定しないかぎり
「部」との表現は「重量部Ｊを意味する。

また、ポリヒドロキシポリエーテルの性能評価は以下に
記載する方法に従って行なった。

４負五羞 ポリヒドロキシポリエーテルの組成は、得られたポリヒ
ドロキシポリエーテルの磁気共鳴スペクトルを測定する
ことによって定めた。

極限粘度［ηＪは、Ｏ−タロロアエノール中２５℃で測
定した。

ガラス転移温度は、得られたポリヒドロキシポリエーテ
ルを溶融流動状態になるまで加熱した後、室温にまで急
冷して得られた樹脂試料を示差走査型熱址計を用いて昇
温速度１０℃／分で測定して求めた。

機械的性質は、常法に従ってインストロン式引張試験機
を用いて測定した。

ガスバリヤ−性は、酸素ガス透過係数を、モコ７　（Ｈ
ＯＣＯＮ）社製オ＊　シト−ｊ　ン（ＯＸＴＲＡＮ）装
置を用い、また炭酸ガス透過係数をモコン（ＨＯＣＯＮ
）社製パーマトラン（ＰＥＲｔ４ＡｆＲＡＮ）　Ｃ−Ｉ
Ｖ装置を用いて、それぞれ２５℃で測定し、この値で評
価した。

屈折率は、アタゴ■製アツベ屈折率計３０２型を用いて
、２５℃でナトリウムＤｆｆｌによって測定した。

色相は、日本重色工業■製ＮＤ−１００１ＤＰ型色差計
を用いて測定した。

曇り度は、日本な色工業■製ＮＤＨ−２０Ｄ型ヘイズメ
ーターを用いて測定した。

１１凰ユ ハイドロキノンジグリシジルエーテル（エポキシ含有率
８．８９ｅｑ／ｋｇ、末端ヒドロキシ基含有率２０ｅｑ
／１０６ｇ　）　４２４９部、ｐ、ｐ’−ビフェノール
２２３４部、ハイドロキノン８８１部、シクロへキサノ
ン２９５０部および水酸化テトラエチルアンモニウムの
２０％水溶ｉ１４．７部を、撹拌装置、還流装置、留出
管および底部に排出弁を装備した反応槽に仕込んだ。

還流装置および留出管は、いずれもバルブを介して反応
槽に装備されており、それぞれのバルブを開閉すること
によって、還流あるいは蒸発成分を系外に留去できるよ
うになっている。また、留出管は、真空ポンプと減圧調
整器とからなる真空装置に接続されており、蒸発物を減
圧下に留去可能な構造となっている。

重合は、留出管のバルブを閉じ、一方還流装置のバルブ
を開けて還流が可能な状態にして、まず系内を充分に窒
素ｉｔ換した後、約１３０℃で２時間、次いで約１５０
”Ｃに昇温して２時間窒素雰囲気下、常圧で撹拌下に保
持して反応を進行させた。

次いで、留出管へのバルブを開けると共に、還流装置へ
のバルブを閉じた後、反応系を約１７０℃まで約１時間
かけて昇温し、さらに約１７０℃で約１時間撹拌下に保
持した。

この間、シクロヘキサノンが留出管を通して留去され、
系内の粘度が上昇した。

次いで、約１時間をかけて反応系内の温度を２５０℃ま
で昇温すると共に、真空ポンプを作動させて系内の圧力
を常圧から約１　ｎｓ＋　ＨＱまで徐々に降下させ、さ
らに約２５０℃、約１１ＩＩＩＩＨｇで約１時間保持し
た。この間に反応系に少量残存しているシクロヘキサノ
ンおよび未反応のハイドロキノンが留出した。

以上のようにして重合反応を行なった後、系を窒素で常
圧まで戻すと共に、温度を約２５０℃に保ったまま、反
応槽底部の排出弁を開き、生成した重合体をストランド
状に抜き出し、水中に投入して冷却した後、カッターを
用いて切断してべレット状にした。さらに得られたペレ
ットを、約６０℃で減圧下に乾燥した。

このようにして得られた重合体は、極限粘度［η］が、
０．５０ｄｊ／ｇで、ガラス転移温度が７３℃、屈折率
が１．６２０であり、炭酸ガス透過係数が１　、　ＯＩ
　ＣＣ−ａｍ／　ｒｄ−ｄａｙ　Ｈａｔｌｌであり、ハ
イドロキノンとｐ、Ｄ’ビフェノールとのモル比が７０
　：　３０であるハイドロキノン−ｐ、ｐ’−ビフェノ
ールコポリヒドロキシポリエーテルであった。

髪Ｊ１Ｌしヱ１ 参考例１に示した反応槽を用いて、ｐ、ｐ’−ビフェノ
ール、ハイドロキノンの量を表１に示すように変えた以
外は参考例１と同様にして重合および後処理を行なって
ベレット状の重合体を得た。

得られた重合体の芳香族ジオールの組成比（モル比）、
極限粘度［η］、ガラス転移温度、屈折率、炭酸ガス透
過係数を表１に記載する。

１１且ユ 参考例１に示した反応槽を用いて、ハイドロキノン９６
９部、２，６−ジヒドロキシナフタレフ１フ９４部との
混合物を用いた以外は参考例１と同様に重合および後処
理を行なってベレット状の重合体を得た。

このようにして得られた重合体は、極限粘度［η］が０
．５９ｄＪ／ｇであり、ガラス転移温度が７４．２℃で
あり、屈折率が、１．６１８であり、炭酸ガス透過係数
か０．５３ＣＣ−Ｍ／ゴ・ｄａｙ　−ａｔｌであり、さ
らにハイドロキノンと２，６−シヒドロキシナフタレン
とのモル比が７２　＋　２８であるハイドロキノン−２
，６−シヒドロキシナフタレンコポリヒドロキシボリエ
ーテルであった。

１１匠旦二五 参考例１に示した反応槽を用いて、２．６−ジしドロキ
シナフタレン、ハイドロキノン、ハイドロキノンジグリ
シジルエーテルの延を表１に示すように変えた以外は参
考例１と同様にして重合および後処理を行なってベレッ
ト状の重合体を得た。

得られた重合体の芳香族ジオールの組成比（モル比）、
極限粘度［η〕、ガラス転移温度、屈折率、炭酸ガス透
過係数を表１に記載する。

１１且ユ 参考例１に示した反応槽を用いて、ハイドロキノンジグ
リシジルエーテル４５２０部、ｐ、ｏ’−ビフェノール
８７５部、ハイドロキノン１５５３部、シクロへキサノ
ン２９７８部および水酸化テトラエチルアンモニウムの
２０％水溶液１３．８部を用い、約１３０℃で約２時間
、次いで約１５０℃で約３時間反応させて初期重合反応
を行なった。

このようにして初期の重合反応を行なった後、フェノー
ルを６７８部添加して、さらに約１５０℃で約２時間反
応させた。

次いで、参考例１と同様にバルブ開閉操作を行なった後
、１７０℃まで約１時間かけて昇温し、約１時間保持し
た。さらに１時間かけて２５０℃にまで昇温すると共に
１　ｃｍ　ＨＱにまで減圧し、この温度および圧力に約
１時間保持して後反応を行なった。

さらに重合反応後、参考例１と同様に後処理をして、ベ
レット状の重合体を得た。

このようにして得られた重合体は、極限粘度［η］が０
．５１ｄｊｌ／ｆであり、ガラス転移温度が７０℃であ
り、屈折率が１．６１３であり、炭酸ガス透過係数が、
０　、９３ＣＣ−ｍｖ／　ｒｒ？−ｄａｙ・ａｎであり
、さらにハイドロキノンとｐ、ｐ’−ビフェノールとの
モル比が８０　：　２０であるハイドロキノン−ｐ、ｐ
’−ビフェノールコポリヒドロキシポリエーテルであ、
つな。

１１叢１厘 参考例１に示した装置を用いて、ハイドロキノン１７６
２部およびｐ、ｐ’−ビフェノール７４５部の混合物を
用いた以外は参考例１と同様に重合および後処理を行な
ってベレット状の重合体を得た。

このようにして得られた重合体は、極限粘度［η］が０
．４６ｄ、１１７ｇであり、ガラス転移温度が６５℃で
あり、屈折率が１．６０５であり、炭酸ガス透過係数が
０　、８３ＣＣ−ｗ／ｒｒ？−ｄａｙａｔｌであり、ハ
イドロキノンとｐ、ｐ’−ビフェノールとのモル比が９
０：ＬＯであるイドロキノンーｏ、ｐ’−ビフェノール
コポリヒド口キシボリエーテルであった。

１１匠上上ユエユ 参考例１に示した反応槽を用いて、ハイドロキノン、２
．６−ジしドロキシナフタレン（ただし参考例１２は、
２，６−ジしドロキシナフタレンの代わりにｐ、ｐ’−
ビフェノールを使用した）、ハイドロキノンジグリシジ
ルエーテルの量を表１に示すように変えた以外は、参考
例１と同様に重合および後処理を行なってベレット状の
重合体を得た。

得られた重合体の芳香族ジオールのｍ或比（モル比）、
極限粘度［η］、ガラス転移温度、屈折率、炭酸ガス透
過係数を表１に記載する。

栗」１己１ 乾燥させたポリエチレンテレフタレート（三層ＰＥＴ　
’ａ４　脂ｔＪＭ　製、三層ＰＥＴ　Ｊ１３５）を１台
の押出機を用いて溶融し、別途参考例１で製造したポリ
ヒドロキソポリエーテルとポリエチレンテレフタレート
との混合物（混合重量比：２０／８０）を他の押出機を
用いて溶融し、二種三層のＴ−ダイにそれぞれ供給して
、ポリエチレンテレフタレート／ポリヒドロキシポリエ
ーテルとポリエチレンテレフタレートとの組成ｅｌ／ポ
リエチレンテレフタレート（１００μｍ／２００ｕｍ／
１００μｍ）から構成される共押出シートを作製した。

この共押出シートは透明であり、ポリエチレンテレフタ
レート層とポリヒドロキシポリエーテル層との密着性は
良好であった。

さらにこの複数の層からなる共押出シートを二軸延伸装
置を用いて約９０℃の温度で、縦軸、横軸方向にそれぞ
れ３倍に同時延伸を行なって、平均厚さが約５０μｍで
ある二種三層からなる二軸延伸フィルムを作製した。

この二軸延伸フィルムのポリヒドロキシポリエーテル層
とポリエチレンテレフタレート層との密着性も良好であ
−りな。

この二軸延伸フィルムの透明性および炭酸ガス透過係数
を表２に記載する。

尺１叢ｌニュ 実施例１において、参考例１で得られたポリヒドロキシ
ポリエーテルの代わりに参考例２〜９で得られたポリヒ
ドロキシポリエーテルを使用した以外は同様にしてポリ
エチレンテレフタレート／ポリヒドロキシポリエーテル
とポリエチレンテレフタレートとの組成物／ポリエチレ
ンテレフタレート（１００μｍ／２００ｕｍ／１００μ
ｍｌから横ｖｉ、される共押出シートを作製した。

これらの共押出シートは透明であり、ポリエチレンテレ
フタレート層とポリヒドロキシポリエーテル層との密着
性は良好であった。

次いで、これらの共押出シートを、実施例１と同様にし
て二軸延伸して二種三層からなる二軸延伸フィルムを作
製した。

得られた二軸延伸フィルムの透明性および炭酸ガス透過
係数を表２に記載する。

を暫叢エニュ 実施例１において、参考例１で得られたポリヒドロキシ
ポリエーテルの代わりに参考例１０〜１４で得られたポ
リヒドロキシポリエーテルを使用した以外は同様にして
ポリエチレンテレフタレート／ポリヒドロキシポリエー
テルとボ１へエチレンテレフタレートとの組成物／ポリ
エチレンテレフタレート（１００μｍ／２００μｍ／　
１００μｍ）から構成される共押出シートを作製した。

これらの共押出シートは透明感に欠けていた。

次いで、これらの共押出シートを、実施例１と同様にし
て二軸延伸して二種三層からなる二軸延伸フィルムを作
製した。

得られた二軸延伸フィルムの透明性および炭酸ガス透過
係数を表２に記載する。

Ｘ乃１旦 まず最初に実施例１と同様にしてポリエチレンテレフタ
レートを用いて射出成形を行ない、次いで参考例１で得
られたポリヒドロキシポリエーテルとポリエチレンテレ
フタレートとからなる組成物（混合重量比２０　：　８
０）を再度射出成形して、ポリヒドロキシポリエーテル
層（厚さ約１．６ｒｒｍ）とポリエチレンテレフタレー
トの組成物層（厚さ約１．６ｍ）とからなるプリフォー
ムを作製した。

次いで、このプリフォームを遠赤外線の加熱装置を用い
て８５〜９５℃に加熱し、これを延伸ブロー成形機を用
いて縦方向的２．５倍、横方内約４．３倍に延伸してポ
リエチレンテレフタレート層の最小肉厚部の厚さが約１
５０μｍ、またポリヒドロキシポリエーテルとポリエチ
レンテレフタレートとの組成物の層の最小肉厚部の厚さ
が約１５０μｍである、内容積ＩＪの延伸ボトルを成形
した。

この延伸ボトルの炭酸ガス透過係数は１．０２ｃｃ／ｄ
ａｙ−ｂｏｔｔｌｅ−ａｔｍであり、胴部のヘイズ値は
１．２％であった。

１１匠上上ニ１１ 実施例１０において、参考例１で製造したポリヒドロキ
シポリエーテルの代わりに参考例２〜９で製造したポリ
ヒドロキシポリエーテルを使用した以外は同様にして延
伸ボトルを作製した。

得られた延伸ボトルの炭酸ガス透過係数およびヘイズ値
を表３に記載する。

１１医ｉ二五 実施例１０において、参考例１で製造したポリヒドロキ
シポリエーテルの代わりに参考例１０〜１３で製造した
ポリヒドロキシポリエーテルを使用した以外は同様にし
て延伸ボトルを作製した。

得られた延伸ボトルの炭酸ガス透過係数およびヘイズ値
を表３に記載する。

叉ＪＬＬＬユ まず、実施例１におけるポリエチレンテレタレートを１
台の押出機を用いて溶融し、別途参考例１で製造したポ
リヒドロキシポリエーテルとポリエチレンテレフタレー
トとの組成物（混合重量比８０：２０）を他の１台の押
出機を用いて溶融し二種三層のパイプダイにそれぞれ供
給し、ポリエチレンテレフタレート／ポリヒドロキシポ
リエーテルとポリエチレンテレフタレートとの組成物／
ポリエチレンテレフタレート（厚さ０．９＋ｎ＋／　１
　、８ｍ＋／　０　、９ｍｍ）から構成される三層パイ
プを押出し、水で冷却し、外径２４．８ｍ、厚さ３．６
ｍの三層パイプを製造した。

次いで、このパイプを切り取り、一端を加熱溶融させて
底部加工し、他端を同様に加熱溶融させて口栓部加工を
行ない、全長１６．５ｃｍ、重量的５０ｇのプリフォー
ムを得た。

次いで、二軸延伸吹込成形ｍ＜コーホプラスト（ＣＯＲ
ＰＯＰＬＡＳＴ）社製、ＬＢＯＩ）を用いて縦２．４倍
および横４倍に二軸延伸し、内容積が１．５ｊの延伸ボ
トル（ポリエチレンテレフタレート／ポリヒドロキシポ
リエーテルとポリエチレンテレフタレートとの組成物／
ポリエチレンテレフタレート−約９０μｍ／約１８０μ
ｍ／約９０．ｕｍ）を得た。

得られた延伸ボトルの炭酸ガス透過係数を測定したとこ
ろ１　、０４　ｃｃ／ｄａｙ−ｂｏｔｔｌｅ−ａＬｎで
あり、胴部のヘイズ値は１．６％であった。

次いで、この延伸ボトルに０℃の水を充填して落下試験
を行なった結果、１ｍの高さからの落下によっては、こ
の延伸ボトルは破壊されることがなかった。また各層の
デラミネーションも認められなかった。

Ｌ畝血ユ 実施例１つにおいて、参考例１０で製造したポリヒドロ
キシポリエーテルを使用した以外は同様にして延伸ボト
ルを製造した。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは
   、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
   エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
   るポリエステル樹脂積層成形体であって、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ａ−（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒ＾ａはｐ−
   フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ｂ−（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒ＾ｂは、２
   −フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレ
   ン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、
   ２，７−ナフチレン基、４，４’−ジフェニレン基、４
   ，４’−オキシジフェニレン基、４，４’−ケトジフェ
   ニレン基および４，４−スルホジフェニレン基よりなる
   群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み、
   かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモ
   ル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質上
   線状であって、ｏ−クロロフェノール中２５℃で測定し
   た極限粘度［η］が０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内にあり
   、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあることを特
   徴とするポリエステル樹脂積層成形体。
2. （２）ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは
   、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
   エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
   るポリエステル樹脂延伸積層成形体であって、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ａ−（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒ＾ａはｐ−
   フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ｂ−（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒ＾ａは、２
   −フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレ
   ン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、
   ２，７−ナフチレン基、４，４−ジフェニレン基、４，
   ４’−オキシジフェニレン基、４，４’−ケトジフェニ
   レン基および４，４’−スルホジフェニレン基よりなる
   群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み、
   かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）とのモ
   ル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質上
   線状であって、ｏ−クロロフェノール中２５℃で測定し
   た極限粘度［η］が０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内にあり
   、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあることを特
   徴とするポリエステル樹脂延伸積層成形体。
3. （３）ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは
   、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
   エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
   るポリエステル樹脂多層中空成形体用プリフォームであ
   つて、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ａ−（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒ＾ａはｐ−
   フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ｂ−（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒ＾ｂは、２
   −フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレ
   ン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、
   ２，７−ナフチレン基、４，４’−ジフェニレン基、４
   ，４’−オキシジフェニレン基、４，４’−ケトジフェ
   ニレン基および４，４’−スルホジフェニレン基よりな
   る群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み
   、かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）との
   モル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質
   上線状であって、ｏ−クロロフェノール中２５℃で測定
   した極限粘度［η］が０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内にあ
   り、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあることを
   特徴とするポリエステル樹脂多層中空成形体プリフォー
   ム。
4. （４）ポリヒドロキシポリエーテルからなる層若しくは
   、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートおよびポリヒドロキシポリ
   エーテルを含むポリエステル樹脂組成物からなる層と、 エチレンテレフタレート構成単位を主構成単位とするポ
   リアルキレンテレフタレートからなる層とから構成され
   るポリエステル樹脂多層中空成形体であって、 該ポリヒドロキシポリエーテルが、 次式（ａ−１）で表わされる構成単位； −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ａ−（ａ−１） ［ただし、上記式（ａ−１）において、Ａｒ＾ａはｐ−
   フェニレン基を表わす］と、 次式（ｂ−１）で表わされる構成単位： −Ｏ−ＣＨ＿２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ＿２−Ｏ−Ａｒ＾
   ｂ−（ｂ−１） ［ただし、上記式（ｂ−１）において、Ａｒ＾ｂは、２
   −フェニル−１，４−フェニレン基、１，４−ナフチレ
   ン基、１，５−ナフチレン基、２，６−ナフチレン基、
   ２，７−ナフチレン基、４，４’−ジフェニレン基、４
   ，４’−オキシジフェニレン基、４，４’−ケトジフェ
   ニレン基および４，４’−スルホジフェニレン基よりな
   る群から選ばれる少なくとも一種の基である］とを含み
   、かつ該構成単位（ａ−１）と構成単位（ｂ−１）との
   モル比が８５：１５〜５５：４５の範囲内にあり、実質
   上線状であって、ｏ−クロロフェノール中２５℃で測定
   した極限粘度［η］が０．３〜２ｄｌ／ｇの範囲内にあ
   り、屈折率が１．６１〜１．６３の範囲内にあることを
   特徴とするポリエステル樹脂多層中空成形体。