JPH0255897A - 複合真空ポンプ - Google Patents

複合真空ポンプ

Info

Publication number
JPH0255897A
JPH0255897A JP20412888A JP20412888A JPH0255897A JP H0255897 A JPH0255897 A JP H0255897A JP 20412888 A JP20412888 A JP 20412888A JP 20412888 A JP20412888 A JP 20412888A JP H0255897 A JPH0255897 A JP H0255897A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum pump
circumferential groove
area
gas
pump area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20412888A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2724840B2 (ja
Inventor
Tatsuji Ikegami
池上 達治
Tetsuo Obayashi
哲郎 大林
Keiichi Yoshida
恵一 吉田
Masashi Iguchi
昌司 井口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
Original Assignee
OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK filed Critical OSAKA SHINKU KIKI SEISAKUSHO KK
Priority to JP63204128A priority Critical patent/JP2724840B2/ja
Priority to DE3919529A priority patent/DE3919529C2/de
Publication of JPH0255897A publication Critical patent/JPH0255897A/ja
Priority to US07/582,783 priority patent/US5074747A/en
Priority to US07/769,410 priority patent/US5219269A/en
Priority to US07/769,365 priority patent/US5217346A/en
Priority to US07/769,409 priority patent/US5221179A/en
Priority to US07/769,463 priority patent/US5160250A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2724840B2 publication Critical patent/JP2724840B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)産業上の利用分野 本発明は半導体製造用真空装置その他核融合実験炉等の
真空装置において、有害なガスを排気し清浄な超高真空
を得るのに好適な複合真空ポンプに関する。
(2)従来の技術 従来の真空ポンプにおいては、真空ポンプ油が汚染され
変質したり、同位体を含有することがあり、このため吸
入室内に油を用いないドライ真空ポンプや、更にオイル
レス真空ポンプの要望が急速に増加してきた。そしてド
ライ真空ポンプとしてはピストン式、ルーツ式。
スクリュー式、遠心式1円周流式等の真空ポンプが知ら
れている。
(3)発明が解決しようとする問題点 現在半導体製造用真空装置に用いるドライ真空ポンプと
しては100m″/h程度の排気速度をもち、到達圧力
はlPa以下であることが通常必要とされている。
しかし前記各方式において、例えばピストン式真空ポン
プでは回転数が遅いので全体に大型となり到達圧力は3
00Paと低く所要圧力のlPa以下にするには4段以
上直列にする必要がある。又ルーツ式真空ポンプでは所
要圧力に対しては3〜5段を直列に構成し、且つ2台を
直列に接続せねばならず、騒音の発生やタイミングギヤ
の油や軸受油等の侵入を防止することが困難である。更
にスクリュー式真空ポンプではlPa以下の到達圧力と
するためにはロータ間の間隙を微小にする必要があり、
そのために装置が高価となり油の侵入防止も前記ルーツ
式真空ポンプと同様の問題を有している。遠心式及び円
周流式真空ポンプは1段で得られる圧力比は前者で最大
1.95.後者で1.5〜3.0であるが、吐出側圧力
が高い領域に限られ10QPa以下の領域では圧縮性能
が低下する。又遠心式真空ポンプは多段結合する場合求
心方向の通路を要し多段構成が難しく1円周流式真空ポ
ンプでは8段直列にしても一体型で到達圧力がIPaに
到着するのは困難である。
本発明は、L記の種々の欠点を解消し、所要の排気速度
と到達圧力を比較的小型軽量にして達成できる複合真空
ポンプを提供することを目的とする。
(4)問題点を解決するための手段 この問題を達成するため本発明は、吸気【」と排気[1
とを有するポンプ筐体内に、該吸気[1側から円周溝真
空ポンプと渦流真空ポンプ部を順次配設したことを特徴
とする。
(5)作用 運転の初期状態において吸気口に流入した気体は主とし
て渦流真空ポンプ部で乱流状態となって圧縮排気され、
その後流入気体は主として円周溝真空ポンプ部において
、高速回転する回転円板の特に高速回転する周辺部によ
り気体分子摩擦によるモレキュラードラッグ効果による
輸送効果を生じ、大きな排気速度で吸入され4)F気「
2に向って分子流から粘性流にJIE縮排気され、短時
間に超高真空が得られる。
(6)実 流側 本発明の複合分子ポンプの第1実施例を第1図乃至第8
図に従って説明する。
(1)は飾体を示し、該飾体(1)内にはその]一部に
円周溝真空ポンプ部(2)とその下方に渦流真空ポンプ
部(3)が設けられており、これらポンプ部(2)(3
)c7)ロータ(13)は共通で一体に形成されており
、そして該円周溝真空ポンプ部(2)は次のように構成
されている。
即ち前記ロータ(13)の外周面に3枚の回転円板(2
a)が突設されており、これら回転円板(2a)はその
上方から下方になるに従って板厚を順次大から小にする
と共に両面の周辺部を切欠いて切込段部(2b)  (
2b)に形成し、これら各回転円板(2a)の切込段部
(2b)  (2b)の切込み深さをに方から下方にな
るに従って前述と同様に大から小にした。
又(2C)は前記使体(1)の内面に固定したステータ
を示し、該ステータ(2C)は前記回転円板(2a)に
相当する位置において該回転円板(2a)が介入される
環状の四部(2d)が形成されており、該凹部(2d)
と前記切込段部(2b)  (2b)により前記各回転
円板(2a)の周辺部の両面に通風路(2e)(2e)
を形成した。
ここで各回転円板(2a)の通風路(2e)(2e)に
おける回転円板(2a)側とステータ(2C)側の対向
面間の距*bは前述の如く切込段部(2b)(2b)の
切込み深さに応じて上方から下方になるに従って大から
小になる。そして前記各凹部(2d)に、前記回転円板
(2a)の周辺部が通過する部分を截除した隔壁(2f
)を前記ステータ(2C)より突設して該隔壁(2f)
により通風路(2e)(2e)を区切り、隣り合う回転
円板(2a)(2a)の通風路(2e)  (2e)及
び(2e)  (2e)において上流側の回転円板(2
a)の通風路(2e)(2e)の隔壁(2f)の他側の
終端部と下!i側の回転円板(2a)の通風路(2e)
  (2e)の隔壁(2f)の1側の始端部との間を連
通路(2g)により連通し、更にこれら隔壁(2f)及
び連通路(2g)を第2図乃至第7図の如く上流側から
下流側に至るに従ってその位置を順次ずらせて形成し、
かくて吸気口からの気体分子は連通路(2g)を介して
送られながら各回転円板(2a)の通風路(2e)(2
e)において順次圧縮され、相当に高い圧縮比が得られ
る。そして最も上流側の回転円板(2a)の通風路(2
e)  (2e)の隔壁(2f)の1側の始端部を第1
図及び第2図の如く吸気口(9)に、又最も下流側の回
転円板(2a)の通風路(2e)  (2e)の隔壁(
2f)の他側の終端部を第2図及び第8図の如く前記渦
流真空ポンプ部(3)への中間排出孔(14)へ連通し
た。
又該渦流真空ポンプ部(3)は周辺に放射状の四部を設
けて大部(3b)を形成した同転円板(3a)と1円周
状に通風路(3d)を有するステータ(3c)とからな
る、そして前記ポンプ部(2)(3)のロータ(13)
の軸(4)は前記筐体(1)の下方部のモータ筆体(6
)から上方に突出する内筒(6a)の上方部に設けたJ
一部軸受(7a)及び該モータ筐体(6)の底板(6b
)に設けた下部軸受(7b)によって支承し、又前記軸
(4)の中間部には前記モータ筐体(6)内に設けたイ
ンダクションモー夕、ヒステリシスモータ等からなる高
周波モータ(5)のロータ(5a)が固定されていると
共に、該軸(4)の下端部が前記底板(6b)の下方に
設けた潤滑油槽(8)内の潤滑油中に没入しており、前
記高周波モータ(5)の駆動による前記軸(4)の高速
回転によって潤滑油が該軸(4)の中心孔(4a)及び
その枝孔(4b)を経て上部軸受(7a)に供給される
。尚、(9)は筐体上端に開[」シた吸気口であり、(
10)は前記モータハウジング(6)に削孔され、前記
渦流ポンプ部(3)の通風路(3d)と連通した排気1
1であり、該排気+1(10)の中間路に消音器(11
)が設けられている。(12)は水冷ジャケットを示す
次に上記実施例の複合真空ポンプの作動を説明する。
高周波モータ(5)の駆動によりロータ(13)が高速
で回転すると、その初期状態において吸気口(9)に流
入した気体は乱流となってIKPaまでは主として渦流
ポンプ部(3)で圧縮排気される。このとき吸入気体は
円周溝ポンプ部(2)の通風路(2e)(2e)を主と
して通過するのみである。
その後は主として1懐円周溝ポンプ部(2)において、
吸入気体は回転円板(2a)のhkも高速回転移動する
周辺部の切込段部(2b)(2b)の両面に出ってこの
時の気体分子摩擦によるモレギュラードラッグ効果によ
り輸送効果が生じ連通路(2g)を介して各回転円板(
2a)の通風路(2e)(2e)を第1図の矢印の如く
順次輸送され1分子流から粘性流にある圧力領域におい
て排気作用を生じてl00Pa以」−まで圧縮する。そ
して気体は中間排出孔(14)から渦流真空ポンプ部(
3)において、直列多段に構成された渦流ポンプによっ
て順次に排気圧縮作用を受け、大気圧まで圧縮されて排
気口(10)から排出される。
かくて本発明の排気圧縮機能部には全くポンプ油、及び
潤滑油が存在せず清??1なドライ真空を容易に得られ
更に有害ガスによる汚染を受けることがない。
尚、排気1−J(10)の内面にスポンジその他の多孔
性の材料からなる筒状の消音器(11)を設けることに
より運転中の騒音を防止することができる。
又発明者の実験によれば、外径300mm高;;650
mmで本体の重ばが約90kgの小型軽vl(の本発明
の複合真空ポンプにより第9図に示す如<IPa以下の
到達圧力と吸入圧力が3〜60Paの領域で1oorn
’/h以上の排気速度を得ることが可能で半導体製造用
真空装置として極めて有用である。
又、)(通のロータ(13)に円周溝真空ポンプ部(2
)の回転円板(2a)及び渦流真空ポンプ部(3)の回
転円板(3a)を突設する式であるので、動的釣合いが
とり易く、振動が極めて小さい。又排気+:+(10)
側は渦流真空ポンプ部(3)の翼部(3b)を有し高速
回転する回転円板(3a)であるから排気の脈動が小さ
くて騒音の発生が生じにくく、又吸気側も脈動がない、
更に、運転中に多少固形物粉末を吸入したり或いは圧縮
排気する個所で固形物が生成しても該固形物が遠心力に
よって外方に飛ばされて気体と共に吹き流されて下方に
落下排出される。
尚、前記第1実施例では、円周溝真空ポンプ部(3)を
3枚の回転円板(3a)により構成した場合を示したが
、要求される圧縮比により回転円板(3a)が1〜2枚
或いは4枚以−Lのいずれにより構成してもよい。
次に第10図乃至第13図は円周溝真空ポンプ部の第2
実施例を示し、11に実施例においては前記各回転円板
(2a)の通風路(2e)(2e)における回転円板(
2a)側とステータ(2C)側の対向面間の距離すが始
端部から終端部に向って徐々に小となるように形成した
。かくて前記第1実施例の如く回転円板(2a)を高速
に回転すると1通風路(2e)(2e)内の気体はその
始端部から終端部に至るに従って高い圧力となって気体
の平均自山行程入が小となり、これに応じて前述の如く
通風路(2e)  (2e)の夕、1向面間の距g1b
が徐々に小となるので、b/入が最適値に近い値を保ち
輸送効果が更に増大すると共に排気圧縮性能が向」ニす
る。
第14図は円周溝真空ポンプ部の第3実施例を示し、該
実施例においては、前記各回転円板(2a)の周辺部の
切込段部(2b)  (2b)の個所の肉厚を外方にな
るに従って徐々に薄く形成すると共に、これら切込段部
(2b)(2b)とこれらに対向する前記凹部(2d)
の内面との間の距#bは半径方向のいずれの位置でも等
しくなるように該凹部(2d)を外方に向うのに・従っ
て間隔が狭くなるように形成しており、かくて前記回転
円板(2a)の周辺部の切込段部(2b)  (2b)
の個所の肉厚が外方になるのに従って徐々に小となって
いるので、該回転円板(2a)が高速で回転してもその
中心部に作用する遠心応力の最大値が小となり、従って
該回転円板(2a)にかなりの強度を要求されることな
く、該回転円板(2a)の材質としてエンジニアリング
プラスチックやセラミフクス、或いは鋳造物であっても
よく、更に大型機を容易に製作可能となる。
又、第15図乃至第18図は円周溝真空ポンプ部の第4
実施例を示し、該実施例においては各回転円板(2a)
の通風路(2e)  (2e)において前記吸気++(
9)、連通路(2g)又は中間排気++(14)をそれ
ぞれ180度の間隔をもって2個所、没けると共に、こ
れに応じて隔1tt (2f )も2個所設けており、
かくて隔壁(2f)  (2f)により仕切られた2個
所の略半円周状の通風路(2e)  (2e)において
気体分子が圧縮排気されるので、その1に気速度は略2
倍になる。尚この実施例では2個の隔壁(2f)により
通風路(2e)  (2e)を2個所に区切った例を示
したが、3個以上の隔壁(2f)により通風路(2e)
  (2e)を3個所以上に区切ってもよい。
尚、前述したいずれの実施例も回転円板(2a)の周辺
部の両面をyJ込んで切込段部(2b)(2b)を形成
しているが、回転円板の周辺部には切込みを設けず、代
りに該周辺部に夕4向するステータ(2C)の凹部の内
面に環状渦を形成してもよい。
(7)発明の効果 このように本発明によると吸気口と排気日とを右するポ
ンプ筐体内に、吸気口側から円周溝真空ポンプ部と渦流
真空ポンプ部とを順次配設したので、実JTj上!!!
要な吸入圧力領域1〜10’Paにおける大きな排気速
度と、lPa以下の到達圧力を比較的小型軽量にして達
成でき、fL空ポンプ油や軸受油による汚染や振動、騒
75.がなく長期にわたって保守費用を低減できる等の
効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の複合分子ポンプの第1実施例の全体の
断面図、第2図は第1図のH−II線線断断面図第3図
は第2図の■−■線截断面図、第4図は第2図のIV−
IT線線断断面図第5図は第2図のv−v&Ia截断面
同断面図図は第2図のVI−VI線線断断面図第7図は
第2図の■−■線截線面断面図8図は第2図の■−■線
截線面断面図9図は吸入圧力と排気速度との関係を示す
グラフ、第10図は円周溝真空ポンプ部の第2実施例の
平面図、第11図は第10図のI−I線の1部の裁断面
図、第12図は第10図(7) II  II tJa
 ノl B 17) 6m 断+1’171i4、p 
13 図は第1O図の■−■線の1部の裁断面図、第1
41、;dは円周溝真空ポンプ部の第3実施例の部分断
面図、第15図は円周溝真空ポンプ部の第4実施例の上
面図、第16図は第15図の工■線の11部の裁断面図
、第17図は第15図のIT −II mの1部の裁断
面図、第18図は第15図のlll−[線の1部の裁断
面図である。 (1)・・・筆体 (2)・・・円周JM真真空ポン陥 部3)・・・渦流真空ポンプ部 (9)・・・吸入口 (10)・・・排気[1 第 1図 第3図 あ14図 第15図 第16図 a 第17図 a 第18図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 吸気口と排気口とを有するポンプ筐体内に、該吸気口側
    から円周溝真空ポンプ部と渦流真空ポンプ部を順次配設
    したことを特徴とする複合分子ポンプ。
JP63204128A 1988-07-13 1988-08-17 複合真空ポンプ Expired - Fee Related JP2724840B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63204128A JP2724840B2 (ja) 1988-08-17 1988-08-17 複合真空ポンプ
DE3919529A DE3919529C2 (de) 1988-07-13 1989-06-15 Vakuumpumpe
US07/582,783 US5074747A (en) 1988-07-13 1990-09-14 Vacuum pump
US07/769,410 US5219269A (en) 1988-07-13 1991-10-01 Vacuum pump
US07/769,365 US5217346A (en) 1988-07-13 1991-10-01 Vacuum pump
US07/769,409 US5221179A (en) 1988-07-13 1991-10-01 Vacuum pump
US07/769,463 US5160250A (en) 1988-07-13 1991-10-01 Vacuum pump with a peripheral groove pump unit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63204128A JP2724840B2 (ja) 1988-08-17 1988-08-17 複合真空ポンプ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0255897A true JPH0255897A (ja) 1990-02-26
JP2724840B2 JP2724840B2 (ja) 1998-03-09

Family

ID=16485294

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63204128A Expired - Fee Related JP2724840B2 (ja) 1988-07-13 1988-08-17 複合真空ポンプ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2724840B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0886298A (ja) * 1994-09-19 1996-04-02 Hitachi Ltd ドライターボ真空ポンプ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4815606U (ja) * 1971-06-30 1973-02-22
JPS5762995A (en) * 1980-10-01 1982-04-16 Hitachi Ltd Molecular pump
JPS60116895A (ja) * 1983-11-30 1985-06-24 Hitachi Ltd 真空ポンプ
JPS6385291A (ja) * 1986-09-29 1988-04-15 Hitachi Ltd 真空ポンプ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4815606U (ja) * 1971-06-30 1973-02-22
JPS5762995A (en) * 1980-10-01 1982-04-16 Hitachi Ltd Molecular pump
JPS60116895A (ja) * 1983-11-30 1985-06-24 Hitachi Ltd 真空ポンプ
JPS6385291A (ja) * 1986-09-29 1988-04-15 Hitachi Ltd 真空ポンプ

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0886298A (ja) * 1994-09-19 1996-04-02 Hitachi Ltd ドライターボ真空ポンプ

Also Published As

Publication number Publication date
JP2724840B2 (ja) 1998-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5160250A (en) Vacuum pump with a peripheral groove pump unit
JP3971821B2 (ja) 気体摩擦ポンプ
JP3939352B2 (ja) 中間取入れ口を備えた摩擦真空ポンプ
JP6353195B2 (ja) 固定円板および真空ポンプ
US5219269A (en) Vacuum pump
JP6692635B2 (ja) 連結型ネジ溝スペーサ、および真空ポンプ
CN109296532A (zh) 旋片电子抽气泵
JP2021116806A (ja) 分子真空ポンプ
JPH0255897A (ja) 複合真空ポンプ
JPS62258186A (ja) 多段型ドライ真空ポンプ
CN209704843U (zh) 一种旋片电子抽气泵
JPS60204997A (ja) 複合真空ポンプ
US5217346A (en) Vacuum pump
JP2628351B2 (ja) 複合分子ポンプ
CN109882410A (zh) 一种旋片电子抽气泵
JP2627437B2 (ja) 複合真空ポンプ
WO1996001373A1 (en) Molecular pump with multiple air suction grooves
JPH05141389A (ja) 真空ポンプ
JPH0311193A (ja) 真空ポンプ
JPH02264196A (ja) ターボ真空ポンプ
JPH03237297A (ja) ターボ分子ポンプ
JPS6361798A (ja) 多段一体羽根車
JPH05172091A (ja) 真空ポンプ
JP2005194994A (ja) ターボ型真空ポンプ
JPH02108895A (ja) ターボ真空ポンプ

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees