JPH0256288B2 - - Google Patents
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- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 80
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N zirconium hydrochloride Chemical compound Cl.[Zr] AZOOXWWPWARTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);dicarbonate Chemical compound [Zr+4].[O-]C([O-])=O.[O-]C([O-])=O XJUNLJFOHNHSAR-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 4
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L zirconyl chloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)=O IPCAPQRVQMIMAN-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 12
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 8
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 1
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical class Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
本発明はジルコニアの製造方法に関し、特に、
ニユーセラミツクスの素材として要求される高純
度で且つ超微粒のジルコニアを得るための製造方
法に係る。 ジルコニアは古くから顔料や耐熱材料として用
いられており、種々の方法により工業的に製造さ
れている。このうち、ジルコンを出発原料とする
製造方法としては、夫々次に述べる乾式法と湿式
法が従来広く行なわれている。 乾式法 ジルコンにカーボン粉末を配合し、この混合物
をアーク炉にて還元溶融することによりジルコニ
アを製造する方法である。この乾式法ではシリカ
の除去が困難である。なお、完全にシリカを除去
しようとする還元が過度に進行して炭化ジルコニ
ウムが生成するため、後で加熱酸化してジルコニ
アに戻さなければならない。更に、生成物が塊状
であるため、粉末状のジルコニアを得るためには
機械的に粉砕する工程を必要とし、その過程で不
純物が混入するから純度は低下せざるを得ない。 湿式法 ジルコンをアルカリ溶融することにより、シリ
カを水ガラスとして除去すると共に、ジルコニウ
ムはジルコン酸ソーダとして回収する。続いて、
回収したジルコン酸ソーダに鉱酸を加えてジルコ
ニル塩とした後、水酸化物を経由してジルコニア
とする。この湿式法によればシリカを除去するこ
とはできるが、ジルコンとアルカリとの反応性が
悪いために収率は低く、しかも多量の水ガラスが
発生する。その上、回収したジルコニル塩のNa+
除去度が不完全となるため、得られたジルコニア
の純度が低下し、また凝集し易くなる傾向があ
る。 ところで、ジルコニアを近年脚光を浴びている
ニユーセラミツクの用途、例えばエンジンのピス
トンヘツドやシリンダ内筒に用いようとする場
合、ジルコニアには高純度で且つ超微粒であるこ
とが要求される。就中、粒径はジルコニア焼結体
の物性、例えば靭性等に大きく影響することが知
られており、粒径が0.5μmを超えると焼結体の物
性に急激な経時変化を生じることが報告されてい
る(昭和58年6月25日 フアインセラミツクス協
会発行 F.C.REPORT Vol.1、No.6、pp8〜14)。
そして、上記従来の製造方法では、このような要
件を満たすジルコニアを得ることは極めて困難で
あつた。 そこで、高純度で且つ超微粒のジルコニアを製
造するために、種々の新しい製造方法が提案され
るに至つた。その中の代表的のものとして、次の
二つの製造方法が挙げられる。 第1の方法は、ジルコンサンドをプラズマ炉中
でジルコニアとシリカとに熱解離した後、これを
水酸化ナトリウムで処理し、ジルコニアを回収す
ると共にシリカを水ガラスとして除去するもので
ある。以下、この第1の方法を改良乾式法とい
う。 第2の方法は、ジルコンサンドにカーボン粉末
を配合し、この混合物を1000℃以上の高温で直接
塩素化してジルコン中に含まれるZr等の成分を
塩化物に転化してガス化した後、生成ガス中に含
まれる四塩化ジルコニウムを塩基性塩酸ジルコニ
ウム(ZrOCl2(OH)2)として他の成分から単離
し、これを焼成してジルコニアに転化するもので
ある。以下、この第2の方法を直接塩素化法とい
う。 これらの新しい方法によつて、従来の乾式法や
湿式法の場合に比較すればかなり高純度で且つ微
粒のジルコニアが得られるようになつた。然し乍
ら、これらの新しい製造方法によつても、ニユー
セラミツク材料として充分に満足できる高純度お
よび超微粒化は達成されておらず、しかも前記の
直接塩素化法では収率が低いという問題があつ
た。 上記事情に鑑み、本発明はニユーセラミツク材
料としての用途に要求される高純度および超微粒
の要件を満足するジルコニアを得ることを目的と
してなされたものである。 発明者は上記の目的を達成するために鋭意研究
を行なつた結果、上述の改良乾式法および直接塩
素化法を組み合わせ、ジルコンをジルコニアとシ
リカとに熱解離した後、これに塩素化法を適用す
ることによつて、従来達成されなかつた高純度で
且つ超微粒のジルコニアが高収率で得られること
を見出し、本発明に至つたものである。 即ち、本発明は、ジルコンを熱解離する工程
と、該熱解離されたジルコンにカーボン粉末を配
合した混合物を400〜600℃で塩素と反応させる工
程と、該反応工程から四塩化ジルコニウムを含む
気体生成物を抜き出して水中に導入することによ
り前記四塩化ジルコニウムを塩化ジルコニル
(ZrOCl2)に転化する工程と、該塩化ジルコニル
を含む水溶液から塩基性塩酸ジルコニウムを単離
する工程と、該塩基性塩酸ジルコニウムを焼成し
てジルコニアを得る工程とからなることを特徴と
するジルコニアの製造方法である。 以下に本発明の詳細を説明する。 本発明においては、まず原料に使用するジルコ
ンサンドを高温でジルコニアとシリカとに熱解離
する。その際の解離温度については研究者の報告
によつて区々であるが、1760℃でほとんど解離を
完了するとされている。この熱解離は電気炉など
で熱処理を行なつてもよいが、プラズマ炉中で行
なえば短時間で熱解離するため熱消費量が少なく
てすみ、また連続的に次の工程に移行させられる
点で優れている。 次に、上記の熱解離したジルコンにカーボン粉
末を配合して混合物とした後、これを400〜600℃
で塩素と反応させる。これによつて、混合物中に
含まれるジルコニアとシリカは下記の反応により
四塩化物となる。 ZrO2+C+2Cl2→ZrCl4+CO2 SiO2+C+2Cl2→SiCl4+CO2 ZrCl4(sub.p.300℃)、SiCl4(b.p.57℃)は、上記
の反応条件においてガス状の生成物となる。ま
た、原料中に不純物として含まれていたTi、Al、
Feも上記と同様に反応し、夫々ガス状生成物
TiCl4、AlCl3、FeCl2、FeCl3となる。なお、微
量不純物であるMgおよびCaも同様の反応によつ
て塩化物となるが、これらのb.p.は夫々1412℃、
1600℃と高いため、上記の反応温度においてはガ
ス状の生成物系には入つてこない。 上記のようにジルコンを熱解離した後、塩素化
を行なうのが本発明における最も重要な特徴であ
り、その作用は次の通りである。即ち、熱解離で
生成したジルコニアとシリカとでは熱膨張率がか
なり異なる。従つて、解離によりジルコンは増大
する歪応力によつて激しく崩壊して微粉化され
る。これが、本発明で超微粒のジルコンが得られ
る最大の理由と考えられる。また、こうして原料
のジルコンが微粉化されるため、その後の塩素化
工程での反応性が極めて良好となる。つまり、予
め熱解離を行なわない従来の直接塩素化法の場
合、充分な反応速度で塩素化を行なうためには
1000℃以上の高温を必要とし、且つ反応率も低い
のに対して、本発明の場合には400〜600℃という
低温で、しかも高い反応率で塩素化を行なうこと
ができる。この結果、既述のように微量不純物で
あるMg、Caはこの段階で排除される。 次に、上記の塩素化工程で得られたガス状生成
物からジルコニアを得る工程について説明する。
この工程は、従来の直接塩素化法の場合とほぼ同
じである。 まず、前記のガス状混合生成物を水中に導入す
る。これにより四塩化ジルコニウムおよび四塩化
珪素は次式により直ちに加水分解され、四塩化ジ
ルコニウムが塩化ジルコニルに転化されると共
に、四塩化珪素はシリカとして沈殿する。 ZrCl4+H2O→ZrOCl2+2HCl SiCl4+H2O→SiO2↓+4HCl 同時に、不純物として含まれる四塩化チタンも
加水分解され、チタン酸として沈殿する。 続いて、濾過により上記の沈殿物を除去した
後、濾液を塩酸酸性とする。これによつて、濾液
中の塩化ジルコニルは塩基性塩酸ジルコニウムと
して沈殿し、他方アルミニウム、鉄の塩化物は濾
液中に残留する。そこで、これを濾過することに
より塩基性塩酸ジルコニウムを単離する。 こうして得られた塩基性塩酸ジルコニウムを焼
成することにより、ジルコニアを得ることができ
る。この場合には塩素を完全に除去しにくいため
に純度が若干低下せざるを得ない。そこで、次に
述べるように、塩基性塩酸ジルコニウムを炭酸ア
ルカリ水溶液と反応させることにより、一旦塩基
性炭酸ジルコニウム(ZrCO3(OH)2)とし、これ
を1000℃以上の温度で焼成してジルコニアとする
のが望ましい。更に望ましくは、この塩基性塩酸
ジルコニウムに塩酸や硫酸等の鉱酸を加えて塩化
ジルコニルまたは硫酸ジルコニル(ZrOSO4)等
とした後、これにアンモニア水を添加して水酸化
ジルコニウムを析出沈殿させる。濾別後この沈殿
物を乾燥した後、1000℃以上で焼成することによ
り最も優れた結果、即ち、純度99.9%で、且つ最
大粒径0.08μmという超微粒のジルコニアを得る
ことが可能である。 以下に本発明の実施例を説明する。 実施例 1 後記第1表の組成を有するジルコンサンドを、
アークプラズマ炉(35kW、11000℃)中のフレ
ームに約0.2秒間接触させて熱解離を完了した。
こうして熱解離された粒径100メツシユ以下のジ
ルコン粉末100重量部に対して、カーボン粉末25
重量部を配合した。続いて、得られた混合物を石
英ボートに入れて30mmφの石英製反応管に収め
た。次いで、管状電気炉中に置かれた前記反応管
に200ml/minの塩素を通し、500℃で1時間反沖
を行なつた。この反応によるガス状生成物を水中
に誘導し、析出したシリカ、チタン酸を濾別した
後、濾液中に1N塩酸を添加して塩基性塩酸ジル
コニウムの沈殿物を得た。濾別後、塩基性塩酸ジ
ルコニウムの沈殿物を110℃で乾燥し、電気炉に
より1000℃で1時間焼成することによりジルコニ
アの粉末を得た。このときの収率と、純度および
最大粒径を後記第2表に示す。 実施例 2 実施例1と同様にして得た塩基性塩酸ジルコニ
ウム沈殿物を50%炭酸ソーダ水溶液中に投入し、
撹拌することにより、塩基性塩酸ジルコニウムの
沈殿物となし、濾別分離した。 その後、塩基性塩酸ジルコニウムの沈殿物を
110℃で乾燥し、1000℃で1時間焼成することに
より、ジルコニアの粉末を得た。このときの収率
と、純度および最大粒径を後記第2表に示す。 実施例 3 実施例2と同様にして得た塩基性炭酸ジルコニ
ウムを、30%塩酸溶液中に溶解して塩化ジルコニ
ル溶液とした。これに20%アルカル水を添加し、
PHを8に調整したところ、水酸化ジルコニウムの
沈殿が生成した。この沈殿を濾別し、110℃で乾
燥後、電気炉により1000℃で焼成してジルコニア
の粉末を得た。このときの収率と、純度および最
大粒径を後記第2表に示す。 比較例 第1表の組成を有するジルコンサンドを直接塩
素化法によつてジルコニア粉末を造つた。このと
きの収率と、純度および最大粒径を下記第2表に
示す。
ニユーセラミツクスの素材として要求される高純
度で且つ超微粒のジルコニアを得るための製造方
法に係る。 ジルコニアは古くから顔料や耐熱材料として用
いられており、種々の方法により工業的に製造さ
れている。このうち、ジルコンを出発原料とする
製造方法としては、夫々次に述べる乾式法と湿式
法が従来広く行なわれている。 乾式法 ジルコンにカーボン粉末を配合し、この混合物
をアーク炉にて還元溶融することによりジルコニ
アを製造する方法である。この乾式法ではシリカ
の除去が困難である。なお、完全にシリカを除去
しようとする還元が過度に進行して炭化ジルコニ
ウムが生成するため、後で加熱酸化してジルコニ
アに戻さなければならない。更に、生成物が塊状
であるため、粉末状のジルコニアを得るためには
機械的に粉砕する工程を必要とし、その過程で不
純物が混入するから純度は低下せざるを得ない。 湿式法 ジルコンをアルカリ溶融することにより、シリ
カを水ガラスとして除去すると共に、ジルコニウ
ムはジルコン酸ソーダとして回収する。続いて、
回収したジルコン酸ソーダに鉱酸を加えてジルコ
ニル塩とした後、水酸化物を経由してジルコニア
とする。この湿式法によればシリカを除去するこ
とはできるが、ジルコンとアルカリとの反応性が
悪いために収率は低く、しかも多量の水ガラスが
発生する。その上、回収したジルコニル塩のNa+
除去度が不完全となるため、得られたジルコニア
の純度が低下し、また凝集し易くなる傾向があ
る。 ところで、ジルコニアを近年脚光を浴びている
ニユーセラミツクの用途、例えばエンジンのピス
トンヘツドやシリンダ内筒に用いようとする場
合、ジルコニアには高純度で且つ超微粒であるこ
とが要求される。就中、粒径はジルコニア焼結体
の物性、例えば靭性等に大きく影響することが知
られており、粒径が0.5μmを超えると焼結体の物
性に急激な経時変化を生じることが報告されてい
る(昭和58年6月25日 フアインセラミツクス協
会発行 F.C.REPORT Vol.1、No.6、pp8〜14)。
そして、上記従来の製造方法では、このような要
件を満たすジルコニアを得ることは極めて困難で
あつた。 そこで、高純度で且つ超微粒のジルコニアを製
造するために、種々の新しい製造方法が提案され
るに至つた。その中の代表的のものとして、次の
二つの製造方法が挙げられる。 第1の方法は、ジルコンサンドをプラズマ炉中
でジルコニアとシリカとに熱解離した後、これを
水酸化ナトリウムで処理し、ジルコニアを回収す
ると共にシリカを水ガラスとして除去するもので
ある。以下、この第1の方法を改良乾式法とい
う。 第2の方法は、ジルコンサンドにカーボン粉末
を配合し、この混合物を1000℃以上の高温で直接
塩素化してジルコン中に含まれるZr等の成分を
塩化物に転化してガス化した後、生成ガス中に含
まれる四塩化ジルコニウムを塩基性塩酸ジルコニ
ウム(ZrOCl2(OH)2)として他の成分から単離
し、これを焼成してジルコニアに転化するもので
ある。以下、この第2の方法を直接塩素化法とい
う。 これらの新しい方法によつて、従来の乾式法や
湿式法の場合に比較すればかなり高純度で且つ微
粒のジルコニアが得られるようになつた。然し乍
ら、これらの新しい製造方法によつても、ニユー
セラミツク材料として充分に満足できる高純度お
よび超微粒化は達成されておらず、しかも前記の
直接塩素化法では収率が低いという問題があつ
た。 上記事情に鑑み、本発明はニユーセラミツク材
料としての用途に要求される高純度および超微粒
の要件を満足するジルコニアを得ることを目的と
してなされたものである。 発明者は上記の目的を達成するために鋭意研究
を行なつた結果、上述の改良乾式法および直接塩
素化法を組み合わせ、ジルコンをジルコニアとシ
リカとに熱解離した後、これに塩素化法を適用す
ることによつて、従来達成されなかつた高純度で
且つ超微粒のジルコニアが高収率で得られること
を見出し、本発明に至つたものである。 即ち、本発明は、ジルコンを熱解離する工程
と、該熱解離されたジルコンにカーボン粉末を配
合した混合物を400〜600℃で塩素と反応させる工
程と、該反応工程から四塩化ジルコニウムを含む
気体生成物を抜き出して水中に導入することによ
り前記四塩化ジルコニウムを塩化ジルコニル
(ZrOCl2)に転化する工程と、該塩化ジルコニル
を含む水溶液から塩基性塩酸ジルコニウムを単離
する工程と、該塩基性塩酸ジルコニウムを焼成し
てジルコニアを得る工程とからなることを特徴と
するジルコニアの製造方法である。 以下に本発明の詳細を説明する。 本発明においては、まず原料に使用するジルコ
ンサンドを高温でジルコニアとシリカとに熱解離
する。その際の解離温度については研究者の報告
によつて区々であるが、1760℃でほとんど解離を
完了するとされている。この熱解離は電気炉など
で熱処理を行なつてもよいが、プラズマ炉中で行
なえば短時間で熱解離するため熱消費量が少なく
てすみ、また連続的に次の工程に移行させられる
点で優れている。 次に、上記の熱解離したジルコンにカーボン粉
末を配合して混合物とした後、これを400〜600℃
で塩素と反応させる。これによつて、混合物中に
含まれるジルコニアとシリカは下記の反応により
四塩化物となる。 ZrO2+C+2Cl2→ZrCl4+CO2 SiO2+C+2Cl2→SiCl4+CO2 ZrCl4(sub.p.300℃)、SiCl4(b.p.57℃)は、上記
の反応条件においてガス状の生成物となる。ま
た、原料中に不純物として含まれていたTi、Al、
Feも上記と同様に反応し、夫々ガス状生成物
TiCl4、AlCl3、FeCl2、FeCl3となる。なお、微
量不純物であるMgおよびCaも同様の反応によつ
て塩化物となるが、これらのb.p.は夫々1412℃、
1600℃と高いため、上記の反応温度においてはガ
ス状の生成物系には入つてこない。 上記のようにジルコンを熱解離した後、塩素化
を行なうのが本発明における最も重要な特徴であ
り、その作用は次の通りである。即ち、熱解離で
生成したジルコニアとシリカとでは熱膨張率がか
なり異なる。従つて、解離によりジルコンは増大
する歪応力によつて激しく崩壊して微粉化され
る。これが、本発明で超微粒のジルコンが得られ
る最大の理由と考えられる。また、こうして原料
のジルコンが微粉化されるため、その後の塩素化
工程での反応性が極めて良好となる。つまり、予
め熱解離を行なわない従来の直接塩素化法の場
合、充分な反応速度で塩素化を行なうためには
1000℃以上の高温を必要とし、且つ反応率も低い
のに対して、本発明の場合には400〜600℃という
低温で、しかも高い反応率で塩素化を行なうこと
ができる。この結果、既述のように微量不純物で
あるMg、Caはこの段階で排除される。 次に、上記の塩素化工程で得られたガス状生成
物からジルコニアを得る工程について説明する。
この工程は、従来の直接塩素化法の場合とほぼ同
じである。 まず、前記のガス状混合生成物を水中に導入す
る。これにより四塩化ジルコニウムおよび四塩化
珪素は次式により直ちに加水分解され、四塩化ジ
ルコニウムが塩化ジルコニルに転化されると共
に、四塩化珪素はシリカとして沈殿する。 ZrCl4+H2O→ZrOCl2+2HCl SiCl4+H2O→SiO2↓+4HCl 同時に、不純物として含まれる四塩化チタンも
加水分解され、チタン酸として沈殿する。 続いて、濾過により上記の沈殿物を除去した
後、濾液を塩酸酸性とする。これによつて、濾液
中の塩化ジルコニルは塩基性塩酸ジルコニウムと
して沈殿し、他方アルミニウム、鉄の塩化物は濾
液中に残留する。そこで、これを濾過することに
より塩基性塩酸ジルコニウムを単離する。 こうして得られた塩基性塩酸ジルコニウムを焼
成することにより、ジルコニアを得ることができ
る。この場合には塩素を完全に除去しにくいため
に純度が若干低下せざるを得ない。そこで、次に
述べるように、塩基性塩酸ジルコニウムを炭酸ア
ルカリ水溶液と反応させることにより、一旦塩基
性炭酸ジルコニウム(ZrCO3(OH)2)とし、これ
を1000℃以上の温度で焼成してジルコニアとする
のが望ましい。更に望ましくは、この塩基性塩酸
ジルコニウムに塩酸や硫酸等の鉱酸を加えて塩化
ジルコニルまたは硫酸ジルコニル(ZrOSO4)等
とした後、これにアンモニア水を添加して水酸化
ジルコニウムを析出沈殿させる。濾別後この沈殿
物を乾燥した後、1000℃以上で焼成することによ
り最も優れた結果、即ち、純度99.9%で、且つ最
大粒径0.08μmという超微粒のジルコニアを得る
ことが可能である。 以下に本発明の実施例を説明する。 実施例 1 後記第1表の組成を有するジルコンサンドを、
アークプラズマ炉(35kW、11000℃)中のフレ
ームに約0.2秒間接触させて熱解離を完了した。
こうして熱解離された粒径100メツシユ以下のジ
ルコン粉末100重量部に対して、カーボン粉末25
重量部を配合した。続いて、得られた混合物を石
英ボートに入れて30mmφの石英製反応管に収め
た。次いで、管状電気炉中に置かれた前記反応管
に200ml/minの塩素を通し、500℃で1時間反沖
を行なつた。この反応によるガス状生成物を水中
に誘導し、析出したシリカ、チタン酸を濾別した
後、濾液中に1N塩酸を添加して塩基性塩酸ジル
コニウムの沈殿物を得た。濾別後、塩基性塩酸ジ
ルコニウムの沈殿物を110℃で乾燥し、電気炉に
より1000℃で1時間焼成することによりジルコニ
アの粉末を得た。このときの収率と、純度および
最大粒径を後記第2表に示す。 実施例 2 実施例1と同様にして得た塩基性塩酸ジルコニ
ウム沈殿物を50%炭酸ソーダ水溶液中に投入し、
撹拌することにより、塩基性塩酸ジルコニウムの
沈殿物となし、濾別分離した。 その後、塩基性塩酸ジルコニウムの沈殿物を
110℃で乾燥し、1000℃で1時間焼成することに
より、ジルコニアの粉末を得た。このときの収率
と、純度および最大粒径を後記第2表に示す。 実施例 3 実施例2と同様にして得た塩基性炭酸ジルコニ
ウムを、30%塩酸溶液中に溶解して塩化ジルコニ
ル溶液とした。これに20%アルカル水を添加し、
PHを8に調整したところ、水酸化ジルコニウムの
沈殿が生成した。この沈殿を濾別し、110℃で乾
燥後、電気炉により1000℃で焼成してジルコニア
の粉末を得た。このときの収率と、純度および最
大粒径を後記第2表に示す。 比較例 第1表の組成を有するジルコンサンドを直接塩
素化法によつてジルコニア粉末を造つた。このと
きの収率と、純度および最大粒径を下記第2表に
示す。
【表】
【表】
第2表の結果から明らかなように、本発明の製
造方法によれば従来得られなかつた超微粒、高純
度のジルコニアを高い収率で得ることができる。
特に、得られるジルコニアの粒径が0.5μmよりも
小さいことは、エンジンのピストンヘツドやシリ
ンダ内筒等、ジルコニアの用途をニユーセラミツ
ク材料としての分野に拡大する上で極めて重要な
意義を有するものである。
造方法によれば従来得られなかつた超微粒、高純
度のジルコニアを高い収率で得ることができる。
特に、得られるジルコニアの粒径が0.5μmよりも
小さいことは、エンジンのピストンヘツドやシリ
ンダ内筒等、ジルコニアの用途をニユーセラミツ
ク材料としての分野に拡大する上で極めて重要な
意義を有するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ジルコンを熱解離する工程と、該熱解離され
たジルコンにカーボン粉末を配合した混合物を
400〜600℃で塩素と反応させる工程と、該反応工
程から四塩化ジルコニウムを含む気体生成物を抜
き出して水中に導入することにより前記四塩化ジ
ルコニウムを塩化ジルコニルに転化する工程と、
該塩化ジルコニルを含む水溶液から塩基性塩酸ジ
ルコニウムを単離する工程と、該塩基性塩酸ジル
コニウムを焼成してジルコニアを得る工程とから
なることを特徴とするジルコニアの製造方法。 2 前記単離された塩基性塩酸ジルコニウムを塩
基性炭酸ジルコニウムに転化した後、これを焼成
することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のジルコニアの製造方法。 3 前記単離された塩基性塩酸ジルコニウムを塩
基性炭酸ジルコニウムに転化し、更に水酸化ジル
コニウムに転化した後、これを焼成することを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のジルコニア
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58246419A JPS60141621A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | ジルコニアの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58246419A JPS60141621A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | ジルコニアの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60141621A JPS60141621A (ja) | 1985-07-26 |
| JPH0256288B2 true JPH0256288B2 (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=17148196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58246419A Granted JPS60141621A (ja) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | ジルコニアの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60141621A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8419596D0 (en) * | 1984-08-01 | 1984-09-05 | Cookson Group Plc | Extraction process |
| US4933154A (en) * | 1987-01-30 | 1990-06-12 | Westinghouse Electric Corp. | Production of ZrO2 powder of very fine particle size |
| CN104817110B (zh) * | 2015-03-04 | 2016-08-24 | 郭志斌 | 一种锆英砂沸腾氯化法生产高纯氧氯化锆及联产四氯化硅的方法 |
| CN107416842A (zh) * | 2017-05-22 | 2017-12-01 | 赤峰盛森硅业科技发展有限公司 | 一种综合利用反应副产物制备二氧化硅和氧氯化锆的方法 |
-
1983
- 1983-12-27 JP JP58246419A patent/JPS60141621A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60141621A (ja) | 1985-07-26 |
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