JPH0256443U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0256443U JPH0256443U JP13511388U JP13511388U JPH0256443U JP H0256443 U JPH0256443 U JP H0256443U JP 13511388 U JP13511388 U JP 13511388U JP 13511388 U JP13511388 U JP 13511388U JP H0256443 U JPH0256443 U JP H0256443U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- ceramic layers
- resistive film
- base material
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims 4
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Description
第１図は本考案の第１実施例に係る静電チヤツ
クの縦断面図、第２図は第１図Ａ方向矢視図、第
３図は発熱抵抗膜のパタンを示す図、第４図は本
考案の第２実施例に係る静電チヤツクの縦断面図
、第５図はトランスデユーサ用抵抗膜のパタンを
示す図、第６図は第４図Ｂ方向矢視図、第７図は
本考案の第３実施例に係る静電チヤツクを示す縦
断面図、第８図は第７図Ｃ方向矢視図、第９図は
トランスデユーサ用抵抗膜のパタンを示す図であ
る。 尚、図面中１は基材、２は電極膜、３は誘電体
膜、６は半導体ウエハー、７は発熱抵抗膜、１０
はトランスデユーサ用抵抗膜である。
クの縦断面図、第２図は第１図Ａ方向矢視図、第
３図は発熱抵抗膜のパタンを示す図、第４図は本
考案の第２実施例に係る静電チヤツクの縦断面図
、第５図はトランスデユーサ用抵抗膜のパタンを
示す図、第６図は第４図Ｂ方向矢視図、第７図は
本考案の第３実施例に係る静電チヤツクを示す縦
断面図、第８図は第７図Ｃ方向矢視図、第９図は
トランスデユーサ用抵抗膜のパタンを示す図であ
る。 尚、図面中１は基材、２は電極膜、３は誘電体
膜、６は半導体ウエハー、７は発熱抵抗膜、１０
はトランスデユーサ用抵抗膜である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基材上に電極膜と誘電体膜とを積層してな
る静電チヤツクにおいて、前記基材はグリーンシ
ート積層法による複数のセラミツクス層から構成
され、これらセラミツクス層の間には発熱抵抗膜
が形成されていることを特徴とする静電チヤツク
。 (2) 前記基材を構成するセラミツクス層間には
温度を抵抗に変換するトランスデユーサ用抵抗膜
が発熱抵抗膜とは別に形成されていることを特徴
とする請求項１に記載の静電チヤツク。 (3) 前記トランスデユーサ用抵抗膜と発熱抵抗
とは異なるセラミツクス層間に形成されているこ
とを特徴とする請求項２に記載の静電チヤツク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13511388U JPH0256443U (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13511388U JPH0256443U (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256443U true JPH0256443U (ja) | 1990-04-24 |
Family
ID=31394457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13511388U Pending JPH0256443U (ja) | 1988-10-17 | 1988-10-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0256443U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04133443U (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-11 | 京セラ株式会社 | セラミツク製静電チヤツク |
| JPH058140A (ja) * | 1990-12-28 | 1993-01-19 | Ngk Insulators Ltd | 静電チヤツク |
| JPH0513558A (ja) * | 1990-12-25 | 1993-01-22 | Ngk Insulators Ltd | ウエハー加熱装置及びその製造方法 |
| JP2009218242A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置の製造方法 |
| JP2020077651A (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-21 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
-
1988
- 1988-10-17 JP JP13511388U patent/JPH0256443U/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513558A (ja) * | 1990-12-25 | 1993-01-22 | Ngk Insulators Ltd | ウエハー加熱装置及びその製造方法 |
| JPH058140A (ja) * | 1990-12-28 | 1993-01-19 | Ngk Insulators Ltd | 静電チヤツク |
| JPH04133443U (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-11 | 京セラ株式会社 | セラミツク製静電チヤツク |
| JP2009218242A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | プラズマ処理装置の製造方法 |
| JP2020077651A (ja) * | 2018-11-05 | 2020-05-21 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |