JPH0256730A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0256730A JPH0256730A JP20718188A JP20718188A JPH0256730A JP H0256730 A JPH0256730 A JP H0256730A JP 20718188 A JP20718188 A JP 20718188A JP 20718188 A JP20718188 A JP 20718188A JP H0256730 A JPH0256730 A JP H0256730A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は蒸着効率を高め得る磁気記録媒体の製造方法に
関するものである。
関するものである。
(従来の技術)
磁気記録媒体の製造においては、いかにして蒸着効率を
高めるかが大きな技術的課題とされており、このような
蒸着効率を高める一つの方法として蒸発源と被蒸着体と
の間に制御筒を配し、この制御筒内に蒸発源からの蒸気
流を通すことでこの蒸気流の指向性を高めて被蒸着体へ
の蒸着効率を高めるようにしたものが知られている(特
開昭57−134555号公報)。このように制御筒は
その内壁面によって蒸気流の拡散を防止するものである
が、反面蒸気流がこの内壁面に接触し、この蒸気流形成
金属がこの内壁面に付着、固化するおそれがある。金属
粒子が内壁面に付着、固化すると、意図していた蒸気流
分布とは異なった蒸気流分布となってしまい、また堆積
した付着金属の回収作業等のメンテナンスも必要とな・
る。そこで上記方法においては上記制御筒に加熱源を付
加し、この制御筒の内壁面を蒸気流構成金属の沸点以上
の温度とし、この制御筒内壁面に衝突してこの内壁面に
付着した金属粒子を再蒸発せしめて他の蒸気流と合流し
得るようにしている。
高めるかが大きな技術的課題とされており、このような
蒸着効率を高める一つの方法として蒸発源と被蒸着体と
の間に制御筒を配し、この制御筒内に蒸発源からの蒸気
流を通すことでこの蒸気流の指向性を高めて被蒸着体へ
の蒸着効率を高めるようにしたものが知られている(特
開昭57−134555号公報)。このように制御筒は
その内壁面によって蒸気流の拡散を防止するものである
が、反面蒸気流がこの内壁面に接触し、この蒸気流形成
金属がこの内壁面に付着、固化するおそれがある。金属
粒子が内壁面に付着、固化すると、意図していた蒸気流
分布とは異なった蒸気流分布となってしまい、また堆積
した付着金属の回収作業等のメンテナンスも必要とな・
る。そこで上記方法においては上記制御筒に加熱源を付
加し、この制御筒の内壁面を蒸気流構成金属の沸点以上
の温度とし、この制御筒内壁面に衝突してこの内壁面に
付着した金属粒子を再蒸発せしめて他の蒸気流と合流し
得るようにしている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記制御筒内壁面から再蒸発した金属粒
子の飛散方向はその他の蒸気流金属粒子の飛散方向と異
なるため当初意図していた蒸気流分布が得られず蒸着効
率の低下を招くおそれがあった。
子の飛散方向はその他の蒸気流金属粒子の飛散方向と異
なるため当初意図していた蒸気流分布が得られず蒸着効
率の低下を招くおそれがあった。
本発明はこのような問題を解決するためになされたもの
であり、蒸着効率を低下せしめることなく制御筒の内壁
面への蒸気流金属粒子の付着、固化を防止し得る磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
であり、蒸着効率を低下せしめることなく制御筒の内壁
面への蒸気流金属粒子の付着、固化を防止し得る磁気記
録媒体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
(課題を解決するための手段)
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、蒸気流の飛散方向
を制御する制御筒の内壁面の温度を蒸気流構成金属の融
点以上であって沸点よりも低い温度に調節することを特
徴とするものである。
を制御する制御筒の内壁面の温度を蒸気流構成金属の融
点以上であって沸点よりも低い温度に調節することを特
徴とするものである。
(作 用)
上記構成によれば、制御筒内壁面の温度を蒸気流構成金
属の融点以上であって沸点よりも低い温度に調節してい
るのでこの制御筒内壁面に付着した蒸気流金属粒子は再
蒸発せず液状となりこの内壁面をつたわって下降する。
属の融点以上であって沸点よりも低い温度に調節してい
るのでこの制御筒内壁面に付着した蒸気流金属粒子は再
蒸発せず液状となりこの内壁面をつたわって下降する。
これにより、制御筒上部開口からの蒸気流には制御筒内
壁面から再蒸発した金属粒子が含まれず、したがって蒸
気流分布は再蒸発金属の蒸気流により乱されることなく
高い蒸着効率を維持することが可能となる。
壁面から再蒸発した金属粒子が含まれず、したがって蒸
気流分布は再蒸発金属の蒸気流により乱されることなく
高い蒸着効率を維持することが可能となる。
また、制御筒内壁面に付着し、液状となってこの内壁面
をつたわり落ちる金属粒子はこの制御筒の下方に配設さ
れている蒸発源の容器(ルツボ)に回収することが可能
で、上記内壁面に付着した金属等を除去する作業が不要
となる。
をつたわり落ちる金属粒子はこの制御筒の下方に配設さ
れている蒸発源の容器(ルツボ)に回収することが可能
で、上記内壁面に付着した金属等を除去する作業が不要
となる。
(実 施 例)
以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第1図は本発明の方法を実施するための装置の一例を示
すものであり、チェンバ1内に、蒸発源2を溶融せしめ
る容器としてのルツボ3と、このルツボ3内の蒸発源2
を蒸気流とすべくこの蒸発源形成材料を加熱する高周波
誘導加熱手段4と、このルツボ3からの蒸気流が蒸着さ
れる被蒸着体5を支持する被蒸着体支持手段としての蒸
着ドラム6と、上記ルツボ3と上記被蒸着体5の間に配
され、内部にルツボ3からの蒸気流を通過させてこの蒸
気流の飛散方向を制御する制御筒7を備えてなる。
すものであり、チェンバ1内に、蒸発源2を溶融せしめ
る容器としてのルツボ3と、このルツボ3内の蒸発源2
を蒸気流とすべくこの蒸発源形成材料を加熱する高周波
誘導加熱手段4と、このルツボ3からの蒸気流が蒸着さ
れる被蒸着体5を支持する被蒸着体支持手段としての蒸
着ドラム6と、上記ルツボ3と上記被蒸着体5の間に配
され、内部にルツボ3からの蒸気流を通過させてこの蒸
気流の飛散方向を制御する制御筒7を備えてなる。
上記チェンバ1は適当な真空排気系12と接続されてお
り、内部圧力は10−2〜lO’T。7.程度に調節さ
れている。また、上記ルツボ3としては内径50調程度
の開放端面を有し、例えばマグネシア、あるいはW、T
a、C,Cu、MO,A、Q、203゜BN等の既知の
材料からなるものであり、このルツボ3の回りに配され
た高周波誘導加熱手段4には交流電源8から例えば周波
数200KHz、出力20KWの電力が供給される。ま
た上記蒸着ドラム6は内部に冷媒流路を形成され、図示
する位置に回転自在に支持された直径300m、表面温
度0℃のクーリングキャンであり、その下方外周面に、
送出しロール9から巻取りロール10に向けて走行する
長尺の被蒸着体5を湾曲状に支持するものである。また
、上記制御筒7はセラミック材料からなり、略円筒形状
に形成されている。セラミック材料により形成したのは
蒸気流を形成する金属材料として強磁性金属材料が用い
られる場合に、この強磁性金属材料による腐食を防止す
るためであるが、例えばW等の他の材料によっても形成
することが可能である。また、この制御筒7は例えば内
径50#、外径72m、高さ75mmに形成される。ま
た、この制御筒側壁の外周にはカーボン繊維からなる熱
伝導媒体13が配され、さらにこの熱伝導媒体13の外
周には制御筒7を冷却する冷却手段としての水冷却式シ
リンダ14が配されている。熱伝導媒体13としてはカ
ーボン繊維に限られるものではないが制御筒7と水冷却
式シリンダ14との間の熱伝導接触抵抗を低くし得る密
着性の良好な材料により形成することが望ましい。また
、水冷却式シリンダ14は例えば内径84mm5外径1
20rrM11肉厚3mの円筒状の銅製シリンダからな
り、この内部に水源からの水を流水路15を介して循環
せしめられるものである。これにより制御筒7の内壁面
の温度が蒸気流金属の融点と沸点の間の温度に設定され
るようになっており、制御筒内壁面に付着した蒸気流金
属粒子の再蒸発を防止することが可能となる。なお、制
御筒7の壁部に温度検出手段を配しておき、この検出手
段からの温度情報に応じて水冷却式シリンダ14に送出
する水の循環速度や水温を制御して制御筒7の内壁面を
所望の温度に調節することも可能である。なお、上記冷
却手段と共にもしくは冷却手段に代え、この制御筒7に
加熱手段を付加して制御筒7の内壁面を所望の温度に調
節することも可能である。
り、内部圧力は10−2〜lO’T。7.程度に調節さ
れている。また、上記ルツボ3としては内径50調程度
の開放端面を有し、例えばマグネシア、あるいはW、T
a、C,Cu、MO,A、Q、203゜BN等の既知の
材料からなるものであり、このルツボ3の回りに配され
た高周波誘導加熱手段4には交流電源8から例えば周波
数200KHz、出力20KWの電力が供給される。ま
た上記蒸着ドラム6は内部に冷媒流路を形成され、図示
する位置に回転自在に支持された直径300m、表面温
度0℃のクーリングキャンであり、その下方外周面に、
送出しロール9から巻取りロール10に向けて走行する
長尺の被蒸着体5を湾曲状に支持するものである。また
、上記制御筒7はセラミック材料からなり、略円筒形状
に形成されている。セラミック材料により形成したのは
蒸気流を形成する金属材料として強磁性金属材料が用い
られる場合に、この強磁性金属材料による腐食を防止す
るためであるが、例えばW等の他の材料によっても形成
することが可能である。また、この制御筒7は例えば内
径50#、外径72m、高さ75mmに形成される。ま
た、この制御筒側壁の外周にはカーボン繊維からなる熱
伝導媒体13が配され、さらにこの熱伝導媒体13の外
周には制御筒7を冷却する冷却手段としての水冷却式シ
リンダ14が配されている。熱伝導媒体13としてはカ
ーボン繊維に限られるものではないが制御筒7と水冷却
式シリンダ14との間の熱伝導接触抵抗を低くし得る密
着性の良好な材料により形成することが望ましい。また
、水冷却式シリンダ14は例えば内径84mm5外径1
20rrM11肉厚3mの円筒状の銅製シリンダからな
り、この内部に水源からの水を流水路15を介して循環
せしめられるものである。これにより制御筒7の内壁面
の温度が蒸気流金属の融点と沸点の間の温度に設定され
るようになっており、制御筒内壁面に付着した蒸気流金
属粒子の再蒸発を防止することが可能となる。なお、制
御筒7の壁部に温度検出手段を配しておき、この検出手
段からの温度情報に応じて水冷却式シリンダ14に送出
する水の循環速度や水温を制御して制御筒7の内壁面を
所望の温度に調節することも可能である。なお、上記冷
却手段と共にもしくは冷却手段に代え、この制御筒7に
加熱手段を付加して制御筒7の内壁面を所望の温度に調
節することも可能である。
さらに、被蒸着体5としてはPET (ポリエチレンテ
レフタレート)製の長尺フィルム(100arm幅、1
3μm厚)が使用され、蒸発源形成金属材料としてはF
e 、 Fe −Ni 、 Gd −Tb −Fe 。
レフタレート)製の長尺フィルム(100arm幅、1
3μm厚)が使用され、蒸発源形成金属材料としてはF
e 、 Fe −Ni 、 Gd −Tb −Fe 。
Cr等の磁性体金属が使用されているが、被蒸着体5お
よび上記金属材料としてはこれに限られるものではなく
用途に応じて適当な材料のものを選択すればよい。
よび上記金属材料としてはこれに限られるものではなく
用途に応じて適当な材料のものを選択すればよい。
上述したように構成された装置を作動するには、まず真
空排気系12を介して上記チェンバ1内を10−2〜1
0”tar+の範囲内の所望する圧力に保ちながら、高
周波誘導加熱手段4に通電してルツボ3内の蒸発源2を
連続的に加熱する。これにより蒸発源2はその蒸発面か
ら金属粒子の蒸気流となって次第に蒸発していく。なお
、その蒸発の際、前記金属粒子の極く一部はイオン化し
て他の金属粒子とともに所定の分布をもって発散、上昇
する。
空排気系12を介して上記チェンバ1内を10−2〜1
0”tar+の範囲内の所望する圧力に保ちながら、高
周波誘導加熱手段4に通電してルツボ3内の蒸発源2を
連続的に加熱する。これにより蒸発源2はその蒸発面か
ら金属粒子の蒸気流となって次第に蒸発していく。なお
、その蒸発の際、前記金属粒子の極く一部はイオン化し
て他の金属粒子とともに所定の分布をもって発散、上昇
する。
この蒸気流の全ては、その蒸発分布が比較的拡大化され
ていないルツボ3の開口端面近傍で、制御筒7の下方開
口からこの制御筒7の内部に進入していく。
ていないルツボ3の開口端面近傍で、制御筒7の下方開
口からこの制御筒7の内部に進入していく。
水冷却式シリンダ14には流水路15を通じて水源から
の水を流し制御筒7の内壁面の温度が蒸気流形成金属の
融点と沸点の間の温度となるように設定しておく。この
ように制御筒7の内壁面の温度が調節されているため、
この制御筒内壁面を通過する蒸気流金属粒子のうちこの
内壁面に衝突して付着するものは再蒸発もしくは固化す
ることがなく、液状態を維持し、この内壁面をつたわっ
て下降し、制御筒7の下部端面からルツボ3内に落下す
る。したがって、制御筒7の上方開口から射出される蒸
気流には制御筒内壁面から再蒸発する金属粒子は含まれ
ず、したがって高い蒸着効率を維持することが可能とな
る。
の水を流し制御筒7の内壁面の温度が蒸気流形成金属の
融点と沸点の間の温度となるように設定しておく。この
ように制御筒7の内壁面の温度が調節されているため、
この制御筒内壁面を通過する蒸気流金属粒子のうちこの
内壁面に衝突して付着するものは再蒸発もしくは固化す
ることがなく、液状態を維持し、この内壁面をつたわっ
て下降し、制御筒7の下部端面からルツボ3内に落下す
る。したがって、制御筒7の上方開口から射出される蒸
気流には制御筒内壁面から再蒸発する金属粒子は含まれ
ず、したがって高い蒸着効率を維持することが可能とな
る。
一方、被蒸着体5である長尺フィルムを蒸着ドラム6の
下方周面に沿わせ、送出しロール9から巻取りロールl
Oに向けて60m/1I11nの一定速度で走行させる
。なお、前述した制御筒7を断面楕円状に形成し、この
制御筒7の上部端面の長軸方向とこの被蒸着体5の幅方
向とが一致するように制御筒7を配しておき、制御筒7
の上方開口から射出される蒸気流が被蒸着体5の幅方向
に広く、長さ方向に狭い分布をなして、この被蒸着体5
の表面に衝突するように形成することも可能である。
下方周面に沿わせ、送出しロール9から巻取りロールl
Oに向けて60m/1I11nの一定速度で走行させる
。なお、前述した制御筒7を断面楕円状に形成し、この
制御筒7の上部端面の長軸方向とこの被蒸着体5の幅方
向とが一致するように制御筒7を配しておき、制御筒7
の上方開口から射出される蒸気流が被蒸着体5の幅方向
に広く、長さ方向に狭い分布をなして、この被蒸着体5
の表面に衝突するように形成することも可能である。
これにより、被蒸着体5の幅方向に−様な膜厚分布をな
す蒸着膜を形成し得るとともに、被蒸着体5の長さ方向
には、被蒸着体表面への金属粒子の入射角度を略−様の
値とすることで磁気異方性を高めることが可能となる。
す蒸着膜を形成し得るとともに、被蒸着体5の長さ方向
には、被蒸着体表面への金属粒子の入射角度を略−様の
値とすることで磁気異方性を高めることが可能となる。
なお、この被蒸着体5への蒸着膜の膜厚は例えば150
0人とする。なお、目的に応じて制御筒7と蒸着ドラム
6との間にマスク11、さらには蒸着金属加速電極等を
設けることも可能である。
0人とする。なお、目的に応じて制御筒7と蒸着ドラム
6との間にマスク11、さらには蒸着金属加速電極等を
設けることも可能である。
なお、上記実施例方法によりCoの蒸着膜を形成した場
合、制御筒7の内壁面に衝突した金属粒子の約70%が
溶解し、蒸着効率が27%という結果が得られた。一方
、上記装置において、水冷却式シリンダ14および熱伝
導媒体13を除去し、その他は上記と同様にして蒸着を
行なった場合には制御筒7の内壁面に衝突した金属粒子
の約10%が溶解し、蒸着効率は14%という結果であ
った。
合、制御筒7の内壁面に衝突した金属粒子の約70%が
溶解し、蒸着効率が27%という結果が得られた。一方
、上記装置において、水冷却式シリンダ14および熱伝
導媒体13を除去し、その他は上記と同様にして蒸着を
行なった場合には制御筒7の内壁面に衝突した金属粒子
の約10%が溶解し、蒸着効率は14%という結果であ
った。
なお、本発明の方法としては上述した実施例のものに限
られるものではなく、例えば蒸発源の加熱方法や制御筒
内壁面の温度調整方法としては目的に応じた最適な方法
を選択することが可能である。
られるものではなく、例えば蒸発源の加熱方法や制御筒
内壁面の温度調整方法としては目的に応じた最適な方法
を選択することが可能である。
(発明の効果)
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体の製造方法
によれば制御筒の内壁面の温度を蒸気流金属粒子の融点
と沸点との間に設定しているので、制御筒を通過する蒸
気流金属粒子のうちこの制御筒内壁面に衝突して付着す
るものは、再蒸発せず、液状のまま、この内壁面を伝わ
って下降する。これにより、蒸気流分布が制御筒内壁面
からの再蒸発金属粒子により乱されることがなく高い蒸
着効率を維持することが可能となる。
によれば制御筒の内壁面の温度を蒸気流金属粒子の融点
と沸点との間に設定しているので、制御筒を通過する蒸
気流金属粒子のうちこの制御筒内壁面に衝突して付着す
るものは、再蒸発せず、液状のまま、この内壁面を伝わ
って下降する。これにより、蒸気流分布が制御筒内壁面
からの再蒸発金属粒子により乱されることがなく高い蒸
着効率を維持することが可能となる。
また、内壁面を伝わって下降する金属粒子は、この制御
筒の下部端面から、この制御筒の直下に配したルツボ内
に落下せしめて、蒸着時に回収することが可能であり、
制御筒内壁に堆積した金属粒子の除去等の作業が不要と
なる。
筒の下部端面から、この制御筒の直下に配したルツボ内
に落下せしめて、蒸着時に回収することが可能であり、
制御筒内壁に堆積した金属粒子の除去等の作業が不要と
なる。
図面は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を実施する
ための装置の一例を示す概略図である。 2・・・蒸発源 3・・・ルツボ4・・・高周
波誘導加熱手段 5・・・被蒸着体 7・・・制御筒 6・・・蒸着ドラム 14・・・水冷却式シリンダ
ための装置の一例を示す概略図である。 2・・・蒸発源 3・・・ルツボ4・・・高周
波誘導加熱手段 5・・・被蒸着体 7・・・制御筒 6・・・蒸着ドラム 14・・・水冷却式シリンダ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空雰囲気中で蒸発源を加熱し、この加熱により得られ
た蒸気流がこの蒸発源と被蒸着体の間に配した制御筒内
を通過するようになしてこの蒸気流の飛散方向を制御し
、前記被蒸着体上に所望の蒸着膜を形成する磁気記録媒
体の製造方法において、 前記制御筒の内壁面の温度を前記蒸気流構成金属の融点
以上であって沸点よりも低い温度に調節することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63207181A JP2618695B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63207181A JP2618695B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256730A true JPH0256730A (ja) | 1990-02-26 |
| JP2618695B2 JP2618695B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=16535587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63207181A Expired - Fee Related JP2618695B2 (ja) | 1988-08-19 | 1988-08-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2618695B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105316627A (zh) * | 2015-11-20 | 2016-02-10 | 苏州赛森电子科技有限公司 | 半导体加工用蒸发台的自清洁装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155369A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | High vacuum ion plating method and apparatus |
| JPS5826733U (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-21 | ソニー株式会社 | 金属薄膜磁気記録媒体の製造装置 |
-
1988
- 1988-08-19 JP JP63207181A patent/JP2618695B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57155369A (en) * | 1981-03-20 | 1982-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | High vacuum ion plating method and apparatus |
| JPS5826733U (ja) * | 1981-08-12 | 1983-02-21 | ソニー株式会社 | 金属薄膜磁気記録媒体の製造装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2618695B2 (ja) | 1997-06-11 |
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