JPH025785Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH025785Y2 JPH025785Y2 JP1986162656U JP16265686U JPH025785Y2 JP H025785 Y2 JPH025785 Y2 JP H025785Y2 JP 1986162656 U JP1986162656 U JP 1986162656U JP 16265686 U JP16265686 U JP 16265686U JP H025785 Y2 JPH025785 Y2 JP H025785Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- bathtub
- tank
- pump
- activated stone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Domestic Hot-Water Supply Systems And Details Of Heating Systems (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
- Devices For Medical Bathing And Washing (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、旅館、家庭等において温泉気分を味
わうことのできる人工温泉装置に係り、使用状態
が急激に変化する場合にも浴槽湯の状態を均一に
保持できる装置を提供するものである。
わうことのできる人工温泉装置に係り、使用状態
が急激に変化する場合にも浴槽湯の状態を均一に
保持できる装置を提供するものである。
（考案の技術的背景）
濾過槽と加熱部及び循環用ポンプ更にオゾン発
生器を付設した装置は公知（例えば実公昭45−
2154）であり、更に活性石槽を設けてイオン化し
た微量元素成分を混入して長期にわたつて浴水を
取り換える必要のない人工温泉装置（実願昭60−
187689）も公知である。しかしながら、この装置
は、使用条件がほぼ一定している場合はよいが旅
館などの如く使用条件が激しく変化する場合には
浴湯の状態が追随せず所期の目的が達せられない
欠点がある。
生器を付設した装置は公知（例えば実公昭45−
2154）であり、更に活性石槽を設けてイオン化し
た微量元素成分を混入して長期にわたつて浴水を
取り換える必要のない人工温泉装置（実願昭60−
187689）も公知である。しかしながら、この装置
は、使用条件がほぼ一定している場合はよいが旅
館などの如く使用条件が激しく変化する場合には
浴湯の状態が追随せず所期の目的が達せられない
欠点がある。
（考案の目的）
本考案は上記要望に応える新規な人工温泉装置
を提供するもので浴槽温度及び浴槽水位を自動的
に一定に保持する他、浴槽への給水をガス加熱部
と活性槽を経由して供給するようにして浴槽湯の
状態を常時均一に維持できるようにすることであ
る。
を提供するもので浴槽温度及び浴槽水位を自動的
に一定に保持する他、浴槽への給水をガス加熱部
と活性槽を経由して供給するようにして浴槽湯の
状態を常時均一に維持できるようにすることであ
る。
（考案の概要）
本案の構成は、浴槽に対して、濾過槽とポンプ
及び活性石槽が夫々直列に接続され活性石槽の二
次側管路にオゾン供給管が接続されてなる浄化装
置において、ポンプと活性石槽との間バイパス管
路を接続すると共に該バイパス管路に温度センサ
ー出力によつて作動する副ポンプとガス加熱部を
介装させ、更に前記活性石槽にはガス加熱部と該
ガス加熱部を制御する水流センサーと浴槽水位セ
ンサー出力によつて開閉する弁を設けた給水管が
接続されてなるものである。
及び活性石槽が夫々直列に接続され活性石槽の二
次側管路にオゾン供給管が接続されてなる浄化装
置において、ポンプと活性石槽との間バイパス管
路を接続すると共に該バイパス管路に温度センサ
ー出力によつて作動する副ポンプとガス加熱部を
介装させ、更に前記活性石槽にはガス加熱部と該
ガス加熱部を制御する水流センサーと浴槽水位セ
ンサー出力によつて開閉する弁を設けた給水管が
接続されてなるものである。
（実施例）
１は浴槽、２は浴槽レベル、３は主循環管路
で、該管路両端を浴槽側壁１ａの下部及び上部に
開口させて吸引口４及び噴出ノズル５としてい
る。なお該噴出ノズルは常時水面下に位置して噴
流水２′を噴出する。６は濾過槽、７は主ポンプ、
８は活性石槽である。活性石槽８内には、天然温
泉の成分を豊富に含有する多孔性の火成岩（天然
鉱石）が活性石として収容され、該活性石は、そ
の吸着作用により浴水中の汚染物質を分子レベル
で吸着除去する濾過材としての効果もある。９は
コロナ放電によりオゾンを発生させるオゾン発生
器で、オゾン供給管１０を介して噴出ノズル５の
直前に接続される。１１はバイパス管路で、該管
路両端は夫々主ポンプ７と活性石槽８間に接続さ
れる。副ポンプ１２は、浴水温度が規定以下にな
ると作動する温度センサー１３の検知信号により
作動され、浴水温度が規定以上になると該温度セ
ンサーの検知信号により停止される。なお、該温
度センサーは、主循環管路又は浴槽中の浴水温度
を検知するようにしてもよい。
で、該管路両端を浴槽側壁１ａの下部及び上部に
開口させて吸引口４及び噴出ノズル５としてい
る。なお該噴出ノズルは常時水面下に位置して噴
流水２′を噴出する。６は濾過槽、７は主ポンプ、
８は活性石槽である。活性石槽８内には、天然温
泉の成分を豊富に含有する多孔性の火成岩（天然
鉱石）が活性石として収容され、該活性石は、そ
の吸着作用により浴水中の汚染物質を分子レベル
で吸着除去する濾過材としての効果もある。９は
コロナ放電によりオゾンを発生させるオゾン発生
器で、オゾン供給管１０を介して噴出ノズル５の
直前に接続される。１１はバイパス管路で、該管
路両端は夫々主ポンプ７と活性石槽８間に接続さ
れる。副ポンプ１２は、浴水温度が規定以下にな
ると作動する温度センサー１３の検知信号により
作動され、浴水温度が規定以上になると該温度セ
ンサーの検知信号により停止される。なお、該温
度センサーは、主循環管路又は浴槽中の浴水温度
を検知するようにしてもよい。
１４は、副循環管路の加熱部１１ａを循環する
浴水を加熱するガス燃焼式追焚き加熱器で、副ポ
ンプ１２の運転に連動して公知の適宜自動点火消
火装置１５を作動させて点火され、該副ポンプが
停止されると消火される。１６は給水管であつ
て、開閉弁１７と給水加熱部１６ａが接続されて
一端は水道給水管１８に接続され、他端は活性石
槽８に接続されている。なお、この活性石槽に代
えて活性石槽と主ポンプ７間の主循環管路に浴水
補給管路を接続してもよい。該水位センサー１９
は、水位変化をフロート或は電極で検知する他、
水圧等を検知するもので実施できると共に、その
取付位置も任意である。２０は、ガス燃焼式給水
加熱器で、浴水補給管路に給水流が生じると作動
する水流センサー２１の検知信号により公知の適
宜自動点火消火装置２２を作動されて点火され、
給水流が停止すると該自動点火消火装置により消
火される。２３は、補給弁１７と給水加熱部１６
ａ間の給水管１６より分岐された給湯分岐管路
で、シヤワー２４その他の給湯機器２５に接続さ
れる。２６ａ，２６ｂは、自動点火消火装置１
５，２２を介して都市ガスその他の燃料ガスを供
給するガス供給管である。
浴水を加熱するガス燃焼式追焚き加熱器で、副ポ
ンプ１２の運転に連動して公知の適宜自動点火消
火装置１５を作動させて点火され、該副ポンプが
停止されると消火される。１６は給水管であつ
て、開閉弁１７と給水加熱部１６ａが接続されて
一端は水道給水管１８に接続され、他端は活性石
槽８に接続されている。なお、この活性石槽に代
えて活性石槽と主ポンプ７間の主循環管路に浴水
補給管路を接続してもよい。該水位センサー１９
は、水位変化をフロート或は電極で検知する他、
水圧等を検知するもので実施できると共に、その
取付位置も任意である。２０は、ガス燃焼式給水
加熱器で、浴水補給管路に給水流が生じると作動
する水流センサー２１の検知信号により公知の適
宜自動点火消火装置２２を作動されて点火され、
給水流が停止すると該自動点火消火装置により消
火される。２３は、補給弁１７と給水加熱部１６
ａ間の給水管１６より分岐された給湯分岐管路
で、シヤワー２４その他の給湯機器２５に接続さ
れる。２６ａ，２６ｂは、自動点火消火装置１
５，２２を介して都市ガスその他の燃料ガスを供
給するガス供給管である。
而して、主ポンプ７の運転により浴槽内の浴水
は、吸引口４より主循環管路３に流入し、濾過槽
６、主ポンプ７、活性石槽８及び噴出ノズル５通
つて循環され、この循環過程で、浴水中の各種ゴ
ミ類や湯垢湯が濾過槽６で除去されると共にオゾ
ン発生器９から浴槽１への噴流水２′中に混入さ
れるオゾンの殺菌作用により常に浴水を清潔に保
ち、浴水は数カ月乃至１年以上にわたつて取り換
える必要がない。この間、活性石槽内の活性石に
含有するミネラル群やイオン化した微量元素成分
が浴水中に溶出して人体に有効な浴水を作り出
し、天然温泉に劣らない湯治効果を期待できる。
は、吸引口４より主循環管路３に流入し、濾過槽
６、主ポンプ７、活性石槽８及び噴出ノズル５通
つて循環され、この循環過程で、浴水中の各種ゴ
ミ類や湯垢湯が濾過槽６で除去されると共にオゾ
ン発生器９から浴槽１への噴流水２′中に混入さ
れるオゾンの殺菌作用により常に浴水を清潔に保
ち、浴水は数カ月乃至１年以上にわたつて取り換
える必要がない。この間、活性石槽内の活性石に
含有するミネラル群やイオン化した微量元素成分
が浴水中に溶出して人体に有効な浴水を作り出
し、天然温泉に劣らない湯治効果を期待できる。
浴槽内の浴水温度が規定以下に下がると温度セ
ンサー１３が副ポンプ１２を起動運転させ、バイ
パス管路１１に浴水が循環導入され、追焚き加熱
器１４が点火されて浴水を加熱し、浴水温度を適
温に保つ。
ンサー１３が副ポンプ１２を起動運転させ、バイ
パス管路１１に浴水が循環導入され、追焚き加熱
器１４が点火されて浴水を加熱し、浴水温度を適
温に保つ。
浴水レベルが規定以下になると水位センサー１
９により開閉弁１７が開かれ給水路１６に給水流
が生じるとこれを水流センサー２１が検知して給
水加熱器２０が点火され、給水流を加熱する。こ
の加熱された湯水は活性石槽８を通つて浴槽に補
給され浴槽内のレベルを一定に保つ。なお、この
浴水補給時、浴槽内の浴水温度が規定以下である
と、副ポンプ１２が運転され、追焚き加熱器１４
による加熱が並行して行われる。さらに、上記浴
槽以外の給湯機器を使用することによつても給水
路１６に給水流が生じるので給水加熱器２０が点
火されて、水道給水を加熱して給湯分岐管路２３
よりシヤワー２４又はその他の給湯機器２５に給
湯される。
９により開閉弁１７が開かれ給水路１６に給水流
が生じるとこれを水流センサー２１が検知して給
水加熱器２０が点火され、給水流を加熱する。こ
の加熱された湯水は活性石槽８を通つて浴槽に補
給され浴槽内のレベルを一定に保つ。なお、この
浴水補給時、浴槽内の浴水温度が規定以下である
と、副ポンプ１２が運転され、追焚き加熱器１４
による加熱が並行して行われる。さらに、上記浴
槽以外の給湯機器を使用することによつても給水
路１６に給水流が生じるので給水加熱器２０が点
火されて、水道給水を加熱して給湯分岐管路２３
よりシヤワー２４又はその他の給湯機器２５に給
湯される。
（考案の効果）
本案装置は、循環湯及び給水を常時活性石槽を
経由して浴槽に供給するから浴槽の水質は一定に
保持される上、この供給過程でガス加熱されるの
で従来装置の如く遅れを生ぜす直ちに設定温度が
得られるので利用時間及び利用者数が激しく変動
する大家族は勿論旅館などでも充分快適に使用で
きる効果がある。
経由して浴槽に供給するから浴槽の水質は一定に
保持される上、この供給過程でガス加熱されるの
で従来装置の如く遅れを生ぜす直ちに設定温度が
得られるので利用時間及び利用者数が激しく変動
する大家族は勿論旅館などでも充分快適に使用で
きる効果がある。
図面は本考案の一実施例を示す配管系統図であ
る。 ３……主循環管路、６……濾過槽、７……主ポ
ンプ、８……活性石槽、９……オゾン発生器、１
１……バイパス管路、１２……副ポンプ、１４…
…追焚き加熱器、１６……浴水給水路、１７……
開閉弁、２０……給水加熱器、２３……給湯分岐
管路。
る。 ３……主循環管路、６……濾過槽、７……主ポ
ンプ、８……活性石槽、９……オゾン発生器、１
１……バイパス管路、１２……副ポンプ、１４…
…追焚き加熱器、１６……浴水給水路、１７……
開閉弁、２０……給水加熱器、２３……給湯分岐
管路。
Claims (1)
- 浴槽に対して、濾過槽とポンプ及び活性石槽が
夫々直列に接続され活性石槽の二次側管路にオゾ
ン供給管が接続されてなる浄化装置において、ポ
ンプと活性石槽との間バイパス管路を接続すると
共に該バイパス管路に温度センサー出力によつて
作動する副ポンプとガス加熱部を介装させ、更に
前記活性石槽にはガス加熱部と該ガス加熱部を制
御する水流センサーと浴槽水位センサー出力によ
つて開閉する弁を設けた給水管が接続されてなる
人工温泉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986162656U JPH025785Y2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986162656U JPH025785Y2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6368342U JPS6368342U (ja) | 1988-05-09 |
| JPH025785Y2 true JPH025785Y2 (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=31090128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986162656U Expired JPH025785Y2 (ja) | 1986-10-23 | 1986-10-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH025785Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0833232B2 (ja) * | 1990-11-15 | 1996-03-29 | 創市 小川 | 浴槽湯の保温・浄化装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS452154Y1 (ja) * | 1966-12-14 | 1970-01-29 | ||
| JPS4814849U (ja) * | 1971-06-25 | 1973-02-19 | ||
| JPS5666642A (en) * | 1979-11-01 | 1981-06-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Controlling device for forced circulation circuit |
| JPS57108546A (en) * | 1980-12-26 | 1982-07-06 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Facility for bath |
| JPS59133942U (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-07 | 株式会社ノーリツ | 自動給湯風呂装置 |
| JPH0331376Y2 (ja) * | 1984-12-24 | 1991-07-03 |
-
1986
- 1986-10-23 JP JP1986162656U patent/JPH025785Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6368342U (ja) | 1988-05-09 |
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