JPH0258243A - 放熱板付半導体装置の製造方法 - Google Patents

放熱板付半導体装置の製造方法

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JPH0258243A
JPH0258243A JP20859188A JP20859188A JPH0258243A JP H0258243 A JPH0258243 A JP H0258243A JP 20859188 A JP20859188 A JP 20859188A JP 20859188 A JP20859188 A JP 20859188A JP H0258243 A JPH0258243 A JP H0258243A
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heat sink
resin
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JP20859188A
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Kikuo Takenouchi
竹之内 季久男
Isao Yabe
功 矢部
Katsuji Komatsu
小松 勝次
Shingo Ichikawa
新吾 市川
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、放熱板をインサートモールドした樹脂封止型
半導体装置の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
樹脂封止型半導体装置の一例としてピングリッドアレイ
(以下PGAと略記する)について説明する。
ICチップを搭載したPGAは近年それを交換して他の
機能に変換出来ることにより装置の応用範囲を広げるこ
とが行なわれてきており、この用途のためのPGAの回
路基板としてセラミックが用いられてきた。
このセラミック製の基板は、絶縁性に優れ、従って製品
としての信頼性が大きい反面、配線パターンを印刷、焼
付により行なうため収縮を伴ない、配線パターンを多く
したり細密パターン化することが困難であった。またパ
ターンの本数を多くすると可及的に大型化するとともに
、その単体での価格が高いという欠点があった。
このセラミック製の基板に代わるものとして近年、細密
パターン加工が可能で、かつ廉価な基板として樹脂基板
を用いたPGAの開発が提案されており、本出願人は特
開昭62−244139号公報にて下面側に複数のコン
タクトビンな有する樹脂基板のICチップを載置した上
面と樹脂基板周囲の破断面とを成形樹脂によって完全に
被覆したパンケージング構造を提案した。
しかし上記樹脂封止型のPGAは、セラミック基板を用
いたPGAに対し、細密パターン加工による小型化と廉
価とが可能であるにもかかわらず、未だに普及し得ない
理由として放熱特性の問題がある。
すなわち、PGAに実装されるICはチップサイズの大
きいLSIであるため動作電流による発熱が多く、この
発熱を素早くパッケージ外へ放熱してやらないと前記L
SIの温度が上昇することにより、その読出し速度が低
下したり、極端な場合はLSIが熱破壊されてしまう問
題が発生する。
上記問題を解決するものとして本出願人はすでに成形樹
脂の上面部に金属製の放熱部材をインサートモールドし
た樹脂封止型PGAの構造を特願昭63−25516号
及び特願昭63−72190号等により提案している。
〔発明が解決しようとする課題〕
第4図は放熱板8をインサートモールドした先願のPG
Aの成形状態を示す成形金型の要部断面図であり、上金
型90には位置決め凹部90aと真空穴90bとによっ
て構成される放熱板保持部が設けられており、前記放熱
板8が真空穴90bの吸着力によって位置決め保持され
ている。
又、下金型91には凹部91aとコンタクトビンの退入
91bとによって構成される基板保持部が設けられてお
り、凹部91aには下面側に複数のコンタクトビン20
を備え、又上面側にICチップ1を実装した樹脂基板2
が位置決め保持されている。
又、前記上金型90と下金型91とが密着するバーテン
グライン(PL)の位置には、前記下金型に形成された
凸部91dにより成形樹脂6を注入するための湯口91
cが設けられている。
従来この湯口91cをバーテングライン(P L)の位
置に設ける理由としては、成形金型の構造を出来るだけ
単純化して製作費を安くするとともに、耐久性を良くす
るためである。
すなわち、成形金型の一般的な構成としては、第4図の
ごとく下金型に彫り込み加工忙よって回路基板等を収納
するための複雑な凹部を形成し、上金型にはあまり複雑
な彫り込み加工は施さない構造となっており前記湯口9
1cは下金型91に彫り込み加工によって設けられた凸
部91dと上金型90の下面とによって構成されるサイ
ドゲート構成とするのが最も単純化された構造といえる
しかるに第4図に示す成形金型に於いて湯口91cより
成形樹脂6を注入した場合を考えると、前記特開昭62
−244139号公報のごとく放熱板8が存在しない場
合は成形樹脂6が樹脂基板2の上面側より注入すること
によって良好なインサートモールドが行われる。
しかし第4図に示すごとく放熱板8が存在する場合は、
注入される成形樹脂6の流入圧力が矢印Aで示すごとく
放熱板8の側面に加わることにより、前記放熱板8が位
置ずれを生じ、変位した状態でモールドされるという問
題が発生する。
上記放熱板8の位置ずれは、前記真空穴90bの吸着力
によって放熱板8に加えられる保持力よりも成形樹脂乙
の流入圧力の方が強(なることによって生ずるものであ
る。
従って前記放熱板8の位置ずれを防止する方法としては
、前記下金型91にノックビンを設け、このノックビン
により放熱板8を上金型90に対して強く保持すること
が考えられる。しかしこの7ソクビンを設ける方式は成
形金型の構造が複雑になるとともに、成形品に対してノ
ックビンの跡が残る結果となり、外観上及び信頼性上の
問題が残る。
本発明の目的は、成形金型の構造を複雑にすることなく
、かつ放熱板の位置ずれを生じない放熱板付半導体装置
の製造方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するための本発明の要旨は下記の通りで
ある。
複数のコンタクト端子を有する樹脂基板にICチップを
実装し、該ICチップを成形金型を用いて射出成形によ
り樹脂封止するとともに、前記射出成形によって形成さ
れた封止樹脂の上面部には、金属製の放熱板が、インサ
ートモールドによって一体化されている放熱板付半導体
装置の製造方法に於いて前記成形金型を構成する下金型
には前記樹脂基板を保持するための基板保持部を、又上
金型には前記放熱板を保持するための放熱板保持部を有
し、かつ前記上金型に保持された放熱板と、下金型に保
持された樹脂基板によって形成された空隙部に成形樹脂
を注入するための湯口を設けたことを特徴とする。
〔実施例〕
以下図面により本発明の実施例を詳述する。
(第1実施例) 第1図は本発明の第1実施例である放熱板をインサート
モールドしたPGAの成形金型を示す要部断面図、第3
図は本発明のPGAの斜視図である。
第1図に於いて第4図と異るところは前記下金型91の
凸部91dの高さを下げるとともに、この凸部91dに
対応して前記上金型90にも凸部90dを形成したこと
であ・る。
そして前記凸部90dと凸部91dとを各々適切な高さ
に設定することによって前記上金型90妊保持された放
熱板8と下金型91に保持された樹脂基板2とによって
形成された空隙部10の位置に湯口91cを設けたもの
である。
次に第1図に示す成形金型に於いて湯口91Cより成形
樹脂6を注入した場合を考えると、湯口91cより注入
された成形樹脂6の流入圧力は矢印Bで示すごとく放熱
板8の下面側に加わることにより放熱板8は上金型90
の放熱板保持部に対して、より強く保持される結果とな
り、位置ずれの心配がな(なる。
従って第3図に示すごとく放熱板8が正しくインサート
モールドされたPGAが完成し、そしてゲート残り6a
が成形樹脂乙の中間部に存在している。
(第2実施例) 第2図は本発明の第2実施例であるPGAの成形金型を
示す要部断面図である。第1図と異るところは前記上金
型90に放熱板8を収納するための凹部90cを形成す
ることによってバーテングライン(PL)の位置を下方
に移動させ、止金型90の下面と下金型91に設けられ
た凸部91dとによって湯口91cを形成したものであ
る。
上記構成に於いても第1実施例と同様湯口91cが空隙
部10の位置に設けられているため成形樹脂6の流入圧
力は矢印Bで示すごとく放熱板8を上金型90の放熱板
保持部に対して強く保持させる効果を有する。
〔発明の効果〕
上記のごとく本発明によれば、成形金をの湯口の位置を
放熱板と樹脂基板とにより形成される空隙部に設定する
ことによって放熱板の位置ずれを防止することが出来る
ため、上金型に対する放熱板の保持を真空吸着のごとく
、極めて簡単な方式にて行うことが可能となる。
この結果、成形金型の構造としては、ノックビンを必要
としない単純な構成とすることが出来、又、完成された
成形品にはノックビンの跡や、放熱板の変位等が発生し
ないため、外観品質及び信頼性の優れた放熱板付半導体
装置を提供する上で大なる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の放熱板をインサートモール
ドしたPGAの成形金型を示す要部断面図、第3図は本
発明PGAの外観斜視図、第4図は従来の放熱板をイン
サートモールドしたPGAの成形金型を示す要部断面図
である。 1・・・・・・ICチップ、  2・・・・・・樹脂基
板、6・・・・・・成形樹脂、   8・・・・・・放
熱板。 90・・・・・・上金型、   ?1・・・・・・下金
型。 第 図 第 図 U 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数のコンタクト端子を有する樹脂基板にICチップを
    実装し、該ICチップを成形金型を用いて射出成形によ
    り樹脂封止するとともに、前記射出成形によって形成さ
    れた封止樹脂の上面部には、金属製の放熱板が、インサ
    ートモールドによって一体化されている放熱板付半導体
    装置の製造方法に於いて前記成形金型を構成する下金型
    には前記樹脂基板を保持するための基板保持部を、又上
    金型には前記放熱板を保持するための放熱板保持部を有
    し、かつ前記上金型に保持された放熱板と、下金型に保
    持された樹脂基板によって形成された空隙部に成形樹脂
    を注入するための湯口を設けたことを特徴とする放熱板
    付半導体装置の製造方法。
JP63208591A 1988-08-23 1988-08-23 放熱板付半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP2585387B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5147821A (en) * 1990-09-28 1992-09-15 Motorola, Inc. Method for making a thermally enhanced semiconductor device by holding a leadframe against a heatsink through vacuum suction in a molding operation
WO1997031394A1 (fr) * 1996-02-22 1997-08-28 Nitto Denko Corporation Dispositif semi-conducteur et son procede de fabrication

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5147821A (en) * 1990-09-28 1992-09-15 Motorola, Inc. Method for making a thermally enhanced semiconductor device by holding a leadframe against a heatsink through vacuum suction in a molding operation
WO1997031394A1 (fr) * 1996-02-22 1997-08-28 Nitto Denko Corporation Dispositif semi-conducteur et son procede de fabrication
US6144108A (en) * 1996-02-22 2000-11-07 Nitto Denko Corporation Semiconductor device and method of fabricating the same

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