JPH0259814B2 - - Google Patents

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JPH0259814B2
JPH0259814B2 JP58114037A JP11403783A JPH0259814B2 JP H0259814 B2 JPH0259814 B2 JP H0259814B2 JP 58114037 A JP58114037 A JP 58114037A JP 11403783 A JP11403783 A JP 11403783A JP H0259814 B2 JPH0259814 B2 JP H0259814B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
solvent
recovery
boiling point
adsorption
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58114037A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS606626A (ja
Inventor
Takahiro Satake
Kenji Seki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toho Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Original Assignee
Toho Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toho Chemical Engineering and Construction Co Ltd filed Critical Toho Chemical Engineering and Construction Co Ltd
Priority to JP58114037A priority Critical patent/JPS606626A/ja
Publication of JPS606626A publication Critical patent/JPS606626A/ja
Publication of JPH0259814B2 publication Critical patent/JPH0259814B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、繊維状活性炭(以下ACFと記す)
を用いてハロゲン化炭化水素溶剤を回収する方法
に関するものである。 更に詳しくは、アクリロニトリル系ACF(以下
PAN系ACFと記す)を用いてメチレンクロライ
ド(以下MECと記す)又は、1.1.2−トリクロル
−1.2.2−トリフルオロエタン(以下FETと記す)
を含むガス(原ガスという)からこれらの溶剤を
回収する方法に関するものである。 従来、有機溶剤を含むガスから活性炭を用い
て、これらの有機溶剤を回収することは広く行な
われている。この活性炭への有機溶剤の吸着は、
周知のように一般的には原ガスを低温にして行う
のが効果的である。 一方、MEC又はFETなどのハロゲン化炭化水
素系溶剤は洗浄、溶解剤として広く用いられてお
り、これらの溶剤を含むガスから活性炭を用いて
回収することも行なわれている。 更に活性炭の一種としてPAN系ACFは吸着速
度が早く低濃度ガスの吸着能に優れていることも
周知である。 しかしながら、PAN系ACF吸着材にMEC又は
FETを吸着させ次いで水蒸気脱着してこれらハ
ロゲン化炭化水素系溶剤を回収し吸着材を繰返し
使用する場合、これら溶剤の回収効率が充分高く
なるという問題がある。 本発明者等は、このような問題について種々検
討の結果、原ガスを加熱することによつて吸着効
率を極度に高め得ることを見出した。すなわち、
本発明はMEC(沸点40.4℃)又はFET(沸点47.6
℃)を含む原ガスからPAN系ACF吸着材に吸着
させる際に、これら溶剤の沸点から沸点より30℃
高い温度範囲で原ガスを吸着材層に供給すること
を特徴とするMEC又はFETの回収方法である。 このように、PAN系ACF吸着材に供給する前
の原ガスを予め所定の高い温度にすることによ
り、きわめて優れた吸着効果を得ることができ、
従つて吸着材を通過したガスの出口側のガス濃度
を極度に低濃度にすることが可能となつた。 本発明で使用されるPAN系ACFは、アクリロ
ニトリル系繊維を原料として公知の方法で誘導さ
れるもので比表面積約500〜2000m2/gのもので
ある。 本発明をフローシートにより説明する。 第1図において、1のMEC又はFETの溶剤を
含むガスは、2のエヤーフイルターで不純物を取
除き、3の加熱器で溶剤の沸点から沸点より30℃
高い範囲の温度に加熱されながら4のブロアーで
5−A又は5−Bの吸着罐を通つて7へ排気され
る。 5−A,5−Bの吸着罐内にはPAN系ACF吸
着材が内蔵されており、ガスはその層を通過する
ようになつている。この際に原ガスに含まれた溶
剤は吸着除去され7の排気は清浄となる。 本発明によると、このときの清浄ガスに含まれ
るMEC又はEFTの濃度は2ppm以下にすること
ができる。 一方5−A、又は5−B内の吸着材に吸着され
た溶剤は8の蒸気を吸着材を通過させることによ
り脱着が行われる。脱着された溶剤を含む水蒸気
は9のコンデンサーで凝縮され液化し、10のデ
カンターで11の回収溶剤と12の水に分離され
る。 なお、吸着罐5−Aと5−Bは吸着と脱着を交
互に繰返し原ガス中の溶剤の吸着除去操作と吸着
された溶剤の脱着回収操作は連続的に行われる。 以下、本発明を実施例により説明する。 実施例 1 メチレンクロライド(MEC、沸点40.4℃)の
回収原ガス中に約1000〜2500ppmの濃度範囲で変
動するMEC含有ガスを600Nm3/hrで第1図に示
す回収装置に供給し、原ガスを加熱しMECの回
収を実施した。加熱条件として原ガスを25℃と50
℃の2通りで回収し、その時の回収装置の出口側
のガス濃度を測定した結果、下記第1表に示す通
りである。
【表】 (注) *:比較例
第1表によれば、原ガスを本発明の所定温度に
加熱することにより出口ガス平均濃度が1.6ppm
と極度に低下して溶剤ガス捕集率が向上してお
り、溶剤回収率が高まつていることがわかる。 実施例 2 1.1.2−トリクロル−1.2.2−トリフルオロエタ
ン(FET、沸点47.6℃)の回収原ガス中に約2000
〜5000ppmの濃度範囲で変動するFET含有ガス
600Nm3/hrで第1図に示す回収装置に供給し原
ガスを加熱しFETの回収を実施した。加熱条件
として原ガスを25℃、50℃、70℃の3通りの温度
で回収し、その時の回収装置の出口側のガス濃度
を測定した結果、下記第2表に示す通りである。
【表】 (注) *:比較例
第2表によれば、原ガスを本発明の所定温度に
加熱することにより出口ガス平均濃度が低下して
溶剤ガス捕集率が向上しており、溶剤回収率が高
まつていることがわかる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の回収方法を行うための装置例
のフローシートである。 記号の説明、1:原ガス、2:エアフイルタ、
3:加熱器、4:ブロワー、5:吸着罐A,B、
6:繊維状活性炭層、7:清浄空気、8:蒸気、
9:コンデンサー、10:デタンター、11:回
収溶剤、12:分離水。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 メチレンクロライド又は1.1.2−トリクロル
    −1.2.2−トリフルオロエタンを含むガスから、
    これらをアクリロニトリル系繊維状活性炭吸着材
    に吸着させ、次いで水蒸気にて脱着回収する吸着
    −脱着の交互切替工程において、該ガスをそのガ
    スに含まれるメチレンクロライド又は1.1.2−ト
    リクロル−1.2.2−トリフルオロエタンの沸点か
    ら沸点より30℃高い範囲の温度に加熱して、前記
    吸着材の層に供給することを特徴とするメチレン
    クロライド又は1.1.2−トリクロル−1.2.2−トリ
    フルオロエタンの回収方法。
JP58114037A 1983-06-24 1983-06-24 低沸点溶剤の回収方法 Granted JPS606626A (ja)

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JPH0622654B2 (ja) * 1985-12-06 1994-03-30 東洋紡績株式会社 ハロゲン化炭化水素系ガスの吸着除去方法
JPH0576618A (ja) * 1991-09-13 1993-03-30 Japan Organo Co Ltd 有機溶剤汚染土壌の浄化処理方法および浄化処理装置
JP2001137607A (ja) * 1999-11-11 2001-05-22 Olympus Optical Co Ltd 分散剤の再生方法
US11192842B2 (en) * 2019-11-18 2021-12-07 The Chemours Company Fc, Llc Compositions and methods for the purification of CFC-113 by adsorption

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