JPH0259945B2 - - Google Patents

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JPH0259945B2
JPH0259945B2 JP58004314A JP431483A JPH0259945B2 JP H0259945 B2 JPH0259945 B2 JP H0259945B2 JP 58004314 A JP58004314 A JP 58004314A JP 431483 A JP431483 A JP 431483A JP H0259945 B2 JPH0259945 B2 JP H0259945B2
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JP
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sample
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flame
mirror
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JP58004314A
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JPS58124930A (ja
Inventor
Jon Sutotsukudeiru Torebooru
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Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
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Publication date
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Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Publication of JPS58124930A publication Critical patent/JPS58124930A/ja
Publication of JPH0259945B2 publication Critical patent/JPH0259945B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/3103Atomic absorption analysis
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/20Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
    • G01J1/34Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker
    • G01J1/36Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker using electric radiation detectors

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  • Analytical Chemistry (AREA)
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  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、炎噴霧器と、元素に特有の共鳴線放
射線用のこの放射線の放射線源から検出器に至る
炎を含む試料通路と炎を迂回する基準通路とを交
互に設ける手段と、信号処理手段とを有し、この
信号処理手段は、指令信号がブランク試料の測定
を必要とすることを指示した時はベースラインを
設定するために試料通路からの検出器出力に或る
試料測定時間応答し、また、ベースラインを更新
するために基準通路からの検出器出力の反復およ
び比較測定に用いられ、また前記指令信号が分析
すべき試料の測定を必要とすることを指示した時
は更新されたベースラインに対して分析すべき試
料内にある前記元素を定量的に求めるために試料
通路からの検出器出力に或る試料測定時間応答す
るように、検出器の出力及び指令信号に応答する
原子吸光分光光度計に関するものである。
このような「ダブルビーム」を有する原子吸光
分光光度計装置は既知であつて、この既知の装置
は交互に試料通路と基準通路とを与える手段は、
チヨツパミラーと、このチヨツパミラーから夫々
炎を通り及び炎を迂回した通路を与える2つの対
称的に配設された固定鏡の組と、固定された再結
合ミラーとを具えている。チヨツパミラーは、前
記放射線源からの共鳴線放射線が、モータへの主
電源の周波数により決まる時間間隔(代表的には
20ミリ秒)で試料測定時間中を含めて規則的に且
つ交互に常に2個の通路に沿つて向けられるよう
に、或る速度でモータによつて連続的に回され
る。この既知の「ダブルビーム」装置は信号処理
手段がベースラインを更新し、主として放射線源
から放出された共鳴線放射線の強さが時間と共に
変動することと、検出器の応答が時間と共に変動
することによる機器のドリフトを補正する目的を
達成する。しかし、試料測定時間中の試料通路の
遮断が、試料測定時間中に検出器に到達する前記
放射線のエネルギーを減少し、試料測定のS/N
比に悪影響を及ぼし、従つて分析中の試料内の元
素の測定限界に悪影響を及ぼす。
本発明の目的は既知の装置の上述した欠点を克
服するにある。
本発明は、上記既知の「ダブルビーム」装置が
保持する特徴は柴外線/可視光比を記録する波長
走査分光光度計に使用される「ダブルビーム」装
置から導かれるものでこれに本質的なものであつ
て、炎を用いる原子吸光分光光度計での使用には
本質的なものではないということの認識に基づい
たものである。このような紫外線/可視光機器で
はブランク試料と分析すべき試料とが同時に且つ
連続して存在すると共に、チヨツパミラーが放射
線を交互に2個の対称的に配置された通路、即ち
ブランク試料を通る基準通路と、分析すべき試料
を通る試料通路とに向ける。そして、これらの2
個の試料を含む通路から検出器により受け取られ
た放射線の強さの比を繰り返し、チヨツパミラー
の速度で決まる速度で測定すると共に、放射線の
波長を走査する。対称的に2個の通路を配置する
ことと、2個の通路からの放射線を高い反復速度
で測定することとは走査形機器にとつて必要であ
る。炎原子吸光分光光度計ではベースラインを設
定することができるようにブランク試料は試料通
路内にある炎の中に存在しなければならず、この
資料は後で試料通路内の炎の中で同じ単一波長で
の放射線を有する分析すべき試料により置き換え
ねばならず、炎を迂回した基準通路は機器のドリ
フトを補正する目的で用いられる。ドリフトの補
正は試料通路からの放射線の測定が行われる時間
に近いすなわちその直前か直後でその時間内には
ない時間に行われる基準通路からの放射線の反復
および比較測定により満足ゆくように達成される
ことができ、更に2つの通路は対称的である必要
がないことがわかつた。
本発明によれば、冒頭に記載したような原子吸
光分光光度計において、試料通路と基準通路とを
与える期間を決める制御手段は、試料通路が前記
の各試料測定時間の全期間の間しや断されずに与
えられるように前記の指令信号に応答するように
したことを特徴とする。
ベースラインを設定する目的で行われるブラン
ク試料の測定は多数の試料測定の前または後に行
うことができる。ブランク試料の測定が試料測定
の前に行われる場合にはブランク試料の測定値だ
けが次の計算のために蓄えられ、ブランク試料の
測定が試料測定の後に行われる場合には、ブラン
ク試料の測定後に計算をするためにそれ迄のすべ
ての試料測定値が蓄えられねばならない。したが
つて、ブランク試料の測定の時期は前記の何れで
も可能であるが、ブランク試料の測定を初めに行
う方が試料測定後に行うよりも有利であろう。
制御手段は前記指令信号に応答して前記の各試
料測定時間に接近したすなわちその直前または直
後の期間に基準通路を与えることができる。これ
で十分満足のゆくドリフト補正を行うことができ
る。
前述した分光光度計では、基準通路を設ける各
期間を夫々の試料測定時間の前にすることがで
き、サンプリング手段は、前記指令信号に応答し
て、基準通路が与えられる各期間中において、
夫々の試料を炎噴霧器に吹込むことができる。試
料測定時間を開始することができる前に、吹込ま
れた試料が先ず炎に達し次いで炎の中で試料の噴
霧化が安定するのに、幾らかの時間(通常数秒)
が必要とされる。多くの場合基準通路からの放射
線の測定を行うのに必要な時間は短くて足り、安
定化を行う前の吹込時間中に完了させることがで
きる。従つて、ドリフト補正を行つても元素の1
個又は複数個の試料を分析するのにとられる全時
間には殆ど影響を及ぼさない。
前記の分光光度計では、試料通路内のブランク
試料の測定を必要とする指示を出す前記指令信号
に応答して、信号処理手段は、ベースラインを表
わす第1のデイジタル値と、基準通路よりの検出
器の出力を表わす第2のデイジタル値とを導き出
し、蓄えることができる。前記元素に対する1個
又は複数個の試料を分析する動作時に基準通路が
与えられる各もう一つの時間には信号処理手段は
基準通路よりの検出器の出力を表わす別のデイジ
タル値を導き、第1のデイジタル値を更新するた
めにこの別のデイジタル値を第2のデイジタル値
と比較する。1個又は複数個の試料を分析する動
作の持続時間中蓄えられている第2のデイジタル
値を保持することは有益な信号処理でベースライ
ンを更新することを可能にする。
本発明に係る分光光度計では、交互に試料通路
と基準通路とを与える手段が各々が前記制御手段
の制御の下に第1の位置と第2の位置との間で動
くことことができる2個の鏡を具え、第1の位置
では前記放射線が可動鏡に入射せず、従つて試料
通路が与えられ、第2の位置では夫々炎の前と後
にある試料通路と一線に並ぶ2個の可動鏡と間に
入る固定鏡とに入射し、従つて試料通路が与えら
れ、上記可動鏡と固定鏡とは基準通路にしかない
ため、試料通路と基準通路とは非対称的になる。
2個の可動鏡を含むこの光学装置は夫々試料通路
と基準通路を設ける期間を決める制御手段により
便利に且つ簡単に制御することができる。試料通
路と基準通路の非対称配置は、波長走査機器内で
は有するであろう欠点を有せず、更に、検出器に
到達する共鳴線放射線の光学的エネルギーの低損
失のための試料通路の配置を容易にする。
前記の分光光度計では放射線は試料通路内の炎
の位置で合焦されるが、可動鏡の第2の位置では
合焦されることはできない。1秒当たり数回共鳴
線放射線を交互に試料通路及び基準通路に沿つた
方に向けるために連続的に回るチヨツパミラーを
使用する、前述した既知の「ダブルビーム」装置
では、チヨツパミラーの位置で放射線を合焦さ
せ、交差ビームを小さくしてチヨツパミラーが迅
速に横切れるようにする必要がある。これに対
し、本発明に係る分光光度計では共鳴線が向けら
れる通路は数秒毎に1回換えられるだけでよく、
従つて可動鏡がゆつくりと大きな断面、即ち合焦
されていないビームを横切ることが許される。こ
れは試料通路の配置を更に簡単化し、検出器に到
達する共鳴線放射線の光学的エネルギーの損失を
小さくする。
図面につき本発明を詳細に説明する。
第1図につき説明する。放射線源1は検出し、
測定すべき元素に特有の共鳴線放射線
(resonace line radiation)を出す。このような
放射線源1は中空陰極灯(HCL)又は無電極放
電灯(EDL)の各々に或る量の元素を入れたも
のとすることができる。背景放射線源2は使用さ
れる通過帯域に亘つて波長の関数としてほぼ一定
である放射線を出す。代表的な背景放射線源2は
重水素を入れた中空陰極灯である。
レンズ3及び4は放射線源から出たビームをほ
ぼ平行なビームにし、このほぼ平行なビームが
「スペツクル」ビーム結合鏡5に入射する。この
鏡5は透明な基板を具え、この基板の上に全開口
面積が残りのマスクの部分の面積に等しいような
開口のアレーを有するマスクを介して金属鏡を蒸
着させてある。斯くして両方のビームの強さはい
ずれも1/2にされ、それらが重ね合わされる。そ
してレンズ6が両方の放射線源の像をバーナー8
上の炎の中心7に結ばせる。この炎は図面に垂直
に立ち上つている。
先ず試料通路を説明するが、説明のために可動
鏡9及び10が後述する機構により放射線通路の
外に出されているものとする。炎の中心7はオフ
アクシス球面鏡11により倍率1でモノクロメー
タ13の入口スリツト12に像を結ぶ。この入口
スリツト12まではビームは円錐状として示され
ているが、モノクロメータ内では図面を簡明なら
しめるためビームの主放射線だけが示されてい
る。入口スリツト12と出口スリツト14はデイ
スク15上に取り付けるが、このデイスク15は
モータ16により回転されて或る範囲のスリツト
幅をカバーするいくつかの径方向に対向するスリ
ツト対の任意の一対を動作位置にもつてくること
ができる。モノクロメータ13はエバート形のも
のであつて、スリツト板が球面鏡17の焦点面に
置かれている。斯くして、ビームは球面鏡17に
よりコリメートされ、反射形回折格子18の方に
反射され、そこで分散させられ、球面鏡17に向
けて反射され、戻つてくる。次にビームは出口ス
リツト14で再合焦され、この出口スリツト14
を通り抜けて検出器19に至る。この検出器19
は側壁に窓を有する光電子増倍管で、図には端面
で示されている。格子線は図の紙面に対し垂直に
なつている。回折格子18は紙面に垂直な軸線4
9を中心として回転させることができ、マイクロ
メータ21とサインバー22を介してステツピン
グモータ20により駆動させられ、所望の波長の
光を出口スリツトにもつてくる。
基準通路は可動鏡9及び10を第1図に示した
位置にある時得られる。この場合重ね合わされ且
つ収束されたビームが固定鏡23で合焦する。ビ
ームの直径がこの点では小さいので固定鏡23は
面積が比較的小さい。固定鏡23での反射点はこ
の場合炎の中心7に対応する。固定鏡23は炎を
通る主反射線に平行に、ビームの主放射線を反射
するようにセツトされる。炎の中心7と球面鏡1
1との間の距離と同じ距離だけ固定鏡23から離
れている点に、球面鏡11と同じ焦点距離のオフ
アクシス球面鏡24を球面鏡11と同じ方向に置
く。従つて2個の球面鏡の倍率とオフアクシス収
差は同じになる。この場合固定鏡25と可動鏡1
0とがビームを試料通路上にもどすので、ビーム
はやはり入口スリツト12で合焦する。
試料通路を用いた時炎とモノクロメータの入口
スリツトとの間に唯一つの光学要素、即ち球面鏡
11しかなく従つて鏡面での吸収による試料ビー
ムの強さの減少が最小限になるということがこの
光学装置の利点である。これに対し基準通路では
4個の余分な鏡面が存在するが炎雑音がなく、光
電子増倍管の利得を増大して、十分な基準信号を
与えることができるのでこの4個の鏡面の存在は
欠点にはならない。
第1図において、可動鏡9及び10は紙面に平
行な軸線27を中心として回動するアーム26に
取り付けられているものとして略図で示されてい
る。入力指令に応答してアーム26と鏡9または
10をビーム通路外に動かすクランク28が略図
で示されている。
実際には基準ビーム信号を一定に保つため、鏡
9及び10を軸線27を中心として2秒程度の弧
を反復して描くようにしてこれ等の鏡を位置合わ
せすることが必要である。第2図はこの所望の正
確さを鏡面運動に与える機構をビーム軸方向から
示したものである。第3図は鏡9又は10の下か
らのこの機構の図である。鏡の運動の軸線27は
軸31により与えられる。軸31は各々の端に、
リングストーン41と接する炭化タングステンの
球を有する。リングストーン41の一方は板ばね
32により軸31に弾性的に負荷されている。ア
ーム26は強固に取り付けられた部材33を具
え、この部材33はレツジ34を有する。四分円
の一端の近傍にペグ37を有する四分円カム36
が減速歯車箱35を介してモータ29により時計
方向に回転するように駆動される。ペグ37はレ
ツジ34の下側と係合する。鏡が下側位置にあつ
てビームと交わつている時マイクロスイツチ39
のローラ38が四分円カムのペグ37から遠い端
と接触する。この下側位置では、ペグ37はレツ
ジ34を離れ、鏡ガラスの底側縁が重力により調
整自在の止め40と接する。こうして、下側位置
では設定された鏡の位置が力学的に規定される。
この下側位置では、カム36がマイクロスイツチ
9を閉じ、該マイクロスイツチがモータに停止信
号を出す。鏡を持ち上げてビームからはずすこと
が必要な場合は、マイクロスイツチ39に外部制
御信号が働らいてモータを付勢する。この場合、
ペグ37がレツジ34と係合し、カムがマイクロ
スイツチ39を解放し、該マイクロスイツチが再
度モータの運転を止める迄アーム26を持ち上げ
る。鏡を下げてビーム内に入れることが必要な時
は、モータが再度外部からの制御信号により付勢
され、カムの時計方向の運動を再度行わせる。鏡
9が止め40に近付くにつれて、ペグ37の運動
方向は一層レツジ34に平行に近くなり、鏡の降
下速度をゆつくりとさせ、最後には鏡をおだやか
に止め40と係合させる。カムはマイクロスイツ
チ39と接する迄動き続け、ペグ37をレツジ3
4からはずし、鏡位置を力学的に確実に規定す
る。
放射線が炎を通らない基準通路が、試料測定時
間を通して一定速度で繰り返し与えられるのでは
なくて上述した光学系により自由にHCLランプ
にも重水素ランプにも与えられることができるよ
うにした分光光度計の利点を以下第4図について
説明する。
第4図は高度に略式化した形で光学系の元素放
射線源と背景放射線源とを示したものである。点
42は可動鏡制御入力を示し、この入力は、指令
により可動鏡9,10を動かして試料通路又は基
準通路を与える。モノクロメータ(MONO)及
び光電子増倍管検出器(DET)は略図で示して
ある。前置増幅器(PRE)は、光電子増倍管の
電流出力を、入力電圧の対数に比例する電圧出力
を出すユニツト(LOG)に給電するのに適した
低インピーダンス出力電圧源に変換する。分光光
度計で普通に行われるように、元素放射線源と背
景放射線源とは各々異なる時間に、例えば150Hz
で夫々繰り返し送られる。本例ではHCLランプ
を3.3ミリ秒駆動し、次に1.0ミリ秒重水素(D2
ランプを駆動し、次に2.0ミリ秒いずれのランプ
も消す。第4図でユニツト43は電源周波数を3
倍することによりマスタタイミングパルスを出力
する。これらのマスタタイミングパルスはランプ
電源装置44とデコーダ(DECODE)とに与え
られる。デコーダはこれらのマスタタイミングパ
ルスを用いてLOGパルスを2個の別々のチヤネ
ルに分ける。各チヤネルのLOGパルスはデコー
ダ内のサンプル・ホールド回路により夫々サンプ
ルチヤネルと背景チヤネル用の2個の直流信号
(S及びB)に変換される。減算器48でB信号
をS信号から減算することにより点45に背景を
補正された吸光度出力信号を得る。
元素を含む試料の吸光度を測定する前に行われ
るゼロ設定動作ではブランク試料が炎の中に吹込
まれる。試料通路を用いて、点45に現れるS−
B出力は入力端子46からの指令の下でユニツト
Zにより利得調整制御信号としてデコーダ内の背
景チヤネルにフイードバツクされ、S−B出力を
ゼロにサーボする。こうして得られる背景チヤネ
ルの利得は標準試料又は金属を含む未知の試料を
測定のため炎に入れる時も保たれる。それ故この
ゼロ設定動作は機器のベースラインを確立する。
このようにして背景を補正された吸光度値は機
器のドリフトのためなお補正する必要がある。即
ちトリフトを償うためベースラインを更新する必
要がある。このようなドリフトの2つの主たる原
因は光源HCL及びD2の出力の変動並びに光電子
増倍管検出器DETの利得の変動である。ドリフ
トの影響は、数時間に亘る動作期間を通じては値
と符合を変動させるが、数分以下の期間を亘つて
はほぼ一定であるような速度で、測定される吸光
度値に見かけの変化を与える。本発明の本質は、
数分またはそれ以下の時間間隔で試料通路を遮断
し、各遮断において数秒だけ見かけの吸光度変化
の測定を行うことを必要とすることである。出力
がドリフトしている放射線源からの放射線が炎を
迂回する基準通路を経て利得がドリフトしている
検出器に入ると、測定の間の時間で分割された順
次の基準測定間の吸光度信号45の変化は1秒当
たりの見かけの吸光度変化として表されるドリフ
ト速度を与え、これは長時間ドリフトを補正する
のに使用できる。
試料測定時(実際にはこれは数秒から100秒迄
変わり得る)、炎を通る試料通路は遮断されず、
炎内の共鳴線放射線の量が改善され、従つて検出
器でのS/N比が改良される。1つの試料から別
の試料に切り替わる時炎の通常の状態が安定する
のに典型的には6秒しかかわらないことを認識す
れば機器の効率も改良されていることもわかる。
この時間の間には有効な試料測定を行うことがで
きない。この時間の間にドリフト補正用の基準通
路測定を行うと便利である。自動化された分光光
度計ではブランク試料、元素の濃度が既知の標準
試料、及び未知の濃度の試料を順次に吹込み、吸
光度値を記録する。それ故基準通路測定は試料の
間で行うと便利である。
殊に自動化された分光光度計において本発明の
利点を十分に享受するには、機器内の多数の事象
を中央からの指令信号の下におき、またドリフト
計算並びに標準及び未知の吸光値から行われる濃
度計算を自動計算機で行うのが最も良いであろう
ことは明らかである。マイクロプロセツサMCP
はこれらの目的のいずれにも適した装置であり、
第4図に略図で示してある。このマイクロプロセ
ツサは中央プロセツサμP、指令と一定のデータ
とを蓄えておくための読み出し専用メモリ
ROM、データバスDBから入力データを受け取
り、データバスDBにデータを出力するランダム
アクセスメモリRAMを具える。点45での吸光
度値はアナログ−デイジタル変換器ADCでデイ
ジタル化され、それからデータバスDBを介して
RAMに入力される。計算の結果は表示装置又は
プリンタO/Pに出力される。
ROMには基準通路を確立するためのタイミン
グ命令が蓄えられており、試料通路及び基準通路
を与える期間を決める時にMCPから入力端子4
2を介して鏡モータ制御ユニツト47が指令を受
け取る。マイクロプロセツサMCPはブランク吹
込を開始する指令及び同時にゼロ設定即ちベース
ライン設定操作を開始するための指令を蓄えてお
り、これらの指令は入力端子46を介してユニツ
トZに与えられる。
基準通路を介してベースラインを更新し、ドリ
フトを補正する測定を行う時、放射線源として
HCLランプだけでもよいし、HCLランプと背景
ランプD2の両方を使用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る分光光度計の光学系の略
図、第2図及び第3図は使用する鏡を動かしてビ
ームを基準通路に曲げる機構の二方向から見た
図、第4図は第1図の分光光度計の制御系のブロ
ツク図である。 1……放射線源、2……背景放射線源、3,4
……レンズ、5……「スペツクル」ビーム結合
鏡、6……レンズ、7……炎に中心、8……バー
ナー、9,10……可動鏡、11……球面鏡、1
2……入口スリツト、13……モノクロメータ、
14……出口スリツト、15……デイスク、16
……モータ、17……球面鏡、18……反射形回
折格子、19……検出器、20……ステツピング
モータ、21……マイクロメータ、22……サイ
ンバー、23……固定鏡、24……球面鏡、25
……固定鏡、26……アーム、27……軸線、2
8……クランク、29……モータ、30……入力
指令、31……軸、32……板ばね、33……強
固に取り付けられた部材、34……レツジ、35
……減速歯車箱、36……四分円カム、37……
ペグ、38……ローラ、39……マイクロスイツ
チ、40……止め、41……リングストーン、4
2……可動制御入力端子、43……マスタタイミ
ングパルス生成器、44……ランプ電源装置、4
5……吸光度出力信号が与えられる点、46……
入力端子、47……鏡モータ制御ユニツト、48
……減算器、49……軸線。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 炎噴霧器と、元素に特有の共鳴線放射線源か
    ら検出器に至る炎を含む試料通路と炎を迂回する
    基準通路とを交互に設ける手段と、信号処理手段
    とを有し、この信号処理手段は、指令信号がブラ
    ンク試料の測定を必要とすることを指示した時は
    ベースラインを設定するために試料通路からの検
    出器出力に或る試料測定時間応答し、また、ベー
    スラインを更新するために基準通路からの検出器
    出力の反復および比較測定のために応答し、また
    前記指令信号が分析すべき試料の測定を必要とす
    ることを指示した時は更新されたベースラインに
    対して分析すべき試料内にある前記元素を定量的
    に求めるために試料通路からの検出器出力に或る
    試料測定時間応答するように、検出器の出力及び
    指令信号に応答する原子吸光分光光度計におい
    て、試料通路と基準通路とを与える期間を決める
    制御手段は、試料通路が前記の各試料測定時間の
    全期間の間しや断されずに与えられるように前記
    の指令信号に応答するようにしたことを特徴とす
    る原子吸光分光光度計。 2 制御手段は、前記の各試料測定時間の直前ま
    たは直後の期間に基準通路を与えるように指令信
    号に応答することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の原子吸光分光光度計。 3 基準通路を与える各期間は各試料測定時間の
    前にあり、サンプリング手段は、前記指令信号に
    応答して、基準通路が与えられる各期間中の間各
    試料を炎噴霧器に吹込むようにすることを特徴と
    する特許請求の範囲第2項記載の原子吸光分光光
    度計。 4 ブランク試料の測定を必要とすることを示す
    指令信号に応答して、信号処理手段は、ベースラ
    インを表わす第1のデイジタル値と、基準通路か
    らの検出器出力を表わす第2のデイジタル値とを
    導出して蓄え、前記元素の1個又は複数個の試料
    を分析する動作時に基準通路が与えられる各別の
    時間に、信号処理手段は基準通路からの検出器出
    力を表わす別のデイジタル値を導き出し、第1の
    デイジタル値を更新するためにこの別のデイジタ
    ル値を第2のデイジタル値と比較することを特徴
    とする特許請求の範囲第2項又は第3項に記載の
    原子吸光分光光度計。 5 交互に試料通路と基準通路とを与える手段が
    2個の鏡を具え、この2個の鏡の各々が前記制御
    手段の制御の下に第1の位置と第2の位置との間
    で動くことができ、第1の位置では前記放射線が
    これらの可動鏡に入射せず、従つて試料通路が与
    えられ、第2の位置では放射線がこれら2個の可
    動鏡に入射し、これらの可動鏡が試料通路と一線
    に並び炎の手前と後方にあり、また放射線が間に
    入る固定鏡に入射し、従つて基準通路が与えら
    れ、前記可動鏡と固定鏡とが基準通路だけに存在
    するため試料通路と基準通路とが非対称になるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4
    項のいずれか一項に記載の原子吸光分光光度計。 6 前記放射線が試料通路内の炎の位置では合焦
    するが、可動鏡が第2の基準通路位置にある時は
    可動鏡では合焦しないことを特徴とする特許請求
    の範囲第5項記載の原子吸光分光光度計。
JP58004314A 1982-01-19 1983-01-17 原子吸光分光光度計 Granted JPS58124930A (ja)

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