JPH0261485B2 - - Google Patents
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- JPH0261485B2 JPH0261485B2 JP55044768A JP4476880A JPH0261485B2 JP H0261485 B2 JPH0261485 B2 JP H0261485B2 JP 55044768 A JP55044768 A JP 55044768A JP 4476880 A JP4476880 A JP 4476880A JP H0261485 B2 JPH0261485 B2 JP H0261485B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- methyl methacrylate
- tetramethylpiperidine
- plates
- tps
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Description
本発明は紫外線及び熱害に対し高い安定性のメ
チルメタクリレートの重合体の製造に関する。メ
チルメタクリレートの重合体は確かに他の重合体
にくらべて前記作用に対する高い安定性により優
れているが、しかし長い作用においてある程度の
害がこの重合体にも現われる。こうして、例えば
ポリメチルメタクリレートを変形のために温度
160゜に加熱した場合約８〜10゜のビカー軟化温度
の減少が見られる。紫外線の透過性は長く風雨に
さらしたり、紫外線を長く作用させると、著しく
低下する。悪化した機械特性に導びく分子量の減
少を同時に確認することができる。 同様な害は他の重合体、例えばポリオレフイ
ン、ポリスチロール、ポリ塩化ビニル又はポリエ
ステルにおいても公知である。この害は、この重
合体の熱可塑性加工においていわゆる光安定剤を
加えることにより回避することができる。高い作
用を有する光安定剤は例えば２，２，６，６―テ
トラメチルピペリジンの誘導体である〔H.J.
Heller、H.R.Blattmann、Pure Appl・
Chem.1973年、第36（１〜２）巻、第141〜161頁
参照〕。これら化合物は、１方では紫外線と酸素
の作用により生じた過酸化物と反応し、他方では
ラジカルを捕獲することにより重合体のラジカル
分解を阻止する。これらは西ドイツ国特許出願公
開第2417535号公報によりポリスチロール中に、
特願昭50―58141号明細書によりポリオレフイン
又はPVC中にこれら重合体の熱可塑性状態で、
それぞれ紫外線吸収剤と組み合わせて加えられ
る。 ポリメタクリレートを基礎とする成形体に相応
する方法で２，２，６，６―テトラメチルピペリ
ジン化合物を加えることにより前記種類の有害な
影響から保護するという実験において、はじめか
ら紫外線の透過性において非常に低い値を有し、
紫外線照射において透過性が更に減少する。２種
の成形体にそれぞれジ―（２，２，６，６―テト
ラメチル―ピペリジン―４）―セバケート
（TPS）0.25重量％を押出機上で加え、この成形
体を加工して厚さ６mmのプレートとし、300nmの
紫外線透過性をUV―Ａ―照射器（300〜400nm）
及びUV―Ｂ―照射器（260〜320nm）を用いて
増加する照射時間後に測定した。これらの結果を
次の表に本発明により製造した成形体と比較して
記載する。
チルメタクリレートの重合体の製造に関する。メ
チルメタクリレートの重合体は確かに他の重合体
にくらべて前記作用に対する高い安定性により優
れているが、しかし長い作用においてある程度の
害がこの重合体にも現われる。こうして、例えば
ポリメチルメタクリレートを変形のために温度
160゜に加熱した場合約８〜10゜のビカー軟化温度
の減少が見られる。紫外線の透過性は長く風雨に
さらしたり、紫外線を長く作用させると、著しく
低下する。悪化した機械特性に導びく分子量の減
少を同時に確認することができる。 同様な害は他の重合体、例えばポリオレフイ
ン、ポリスチロール、ポリ塩化ビニル又はポリエ
ステルにおいても公知である。この害は、この重
合体の熱可塑性加工においていわゆる光安定剤を
加えることにより回避することができる。高い作
用を有する光安定剤は例えば２，２，６，６―テ
トラメチルピペリジンの誘導体である〔H.J.
Heller、H.R.Blattmann、Pure Appl・
Chem.1973年、第36（１〜２）巻、第141〜161頁
参照〕。これら化合物は、１方では紫外線と酸素
の作用により生じた過酸化物と反応し、他方では
ラジカルを捕獲することにより重合体のラジカル
分解を阻止する。これらは西ドイツ国特許出願公
開第2417535号公報によりポリスチロール中に、
特願昭50―58141号明細書によりポリオレフイン
又はPVC中にこれら重合体の熱可塑性状態で、
それぞれ紫外線吸収剤と組み合わせて加えられ
る。 ポリメタクリレートを基礎とする成形体に相応
する方法で２，２，６，６―テトラメチルピペリ
ジン化合物を加えることにより前記種類の有害な
影響から保護するという実験において、はじめか
ら紫外線の透過性において非常に低い値を有し、
紫外線照射において透過性が更に減少する。２種
の成形体にそれぞれジ―（２，２，６，６―テト
ラメチル―ピペリジン―４）―セバケート
（TPS）0.25重量％を押出機上で加え、この成形
体を加工して厚さ６mmのプレートとし、300nmの
紫外線透過性をUV―Ａ―照射器（300〜400nm）
及びUV―Ｂ―照射器（260〜320nm）を用いて
増加する照射時間後に測定した。これらの結果を
次の表に本発明により製造した成形体と比較して
記載する。
【表】
熱可塑性の状態で添加したTPSを有する成形
体において見い出された透過度はポリメチルメタ
クリレートを基礎とする重合体にとつてこの添加
が適していないことをあらわす。この同じ添加物
をラジカル重合による重合体の製造のすでに前又
は間に添加することは、より有望でないと思われ
た。それというのもこのような方法はTPSの光
安定作用をはつきりとあらわすような重合体の製
造においてまだ一度も公知となつていないし、更
にTPSのラジカル補獲特性のためにラジカル重
合を著しく阻害すると思われていたからである。 意想外にも、この効果はメチルメタクリレート
のラジカル重合の際に現われない。重合は前記化
合物の存在下に阻止期間の延長もなく、反応速度
の変化もなく行なわれ、高分子製品となる。光安
定剤を熱可塑性状態においてはじめて加えるので
はなく、すでに重合の際に加える時、初期透過性
も長期間の照射後の透過性もより高いということ
は意想外である。このことは前記表の最後の行か
ら明らかとなる。 予重合シロツプからのポリメチルメタクリレー
ト（PMMA―プレート）の製造の際にも熱安定
性を有する。メチルメタクリレートを最初の重合
過程で重合体含量約25％を有するいわゆるシロツ
プとする。このシロツプを二枚のガラス板から成
る扁平室中で重合させ板を製造すると、これは
119℃のビカー軟化温度（VET）を有する。160
℃に半時間加熱するとVETは111℃に低下する。
このシロツプに熱安定剤としてチオエーテル、例
えばチオジプロピオン酸ジラウリルエステルを加
えるとVETがわずか110℃の完全に重合したプレ
ートが得られ、確かに160℃に半時間加熱するこ
とによりわずかに108〜109℃にのみ低下する。こ
れに反し、本発明によりこのシロツプにジ―（テ
トラメチル―ピペリジル）―セバケート（TPS）
0.05重量％を加えると、VET119℃のPMMA―
プレートが得られ；160℃に半時間加熱すること
によりVETはほんのわずかに低下し、117℃とい
う他のどんな材料でも得られなかつた値を保持す
る。この製品の耐用年数の間紫外線の透過性がほ
とんど保持されるということは室温又は日光浴室
の建設におけるPMMA―プレートの利用によつ
てたいへんに重要である。純粋なPMMAはこの
点で完全に満足のいくものではない；300nmで最
大放射を有するUV―ランプで厚さ６mmのプレー
トを照射する際、この波長で透過性は1000時間以
内に、開始時の82％から約12％に低下する。それ
に反し相応するジ―（テトラメチル―ピペリジ
ル）―セバケート0.25％を含有する６mmの重合体
プレートを本発明により製造すると、透過性は
300nmで同じ時間においてわずか約63％に下がる
だけである。より有利な結果はメチルメタクリレ
ート88％及びメチルアクリレート12％からの混合
ポリマーにおいて見られる。TPSなしの場合、
開始値は透過度76％及び1000時間後は49％であ
る。TPS0.25％を用いて製造した場合、初期透過
度80％で、1000時間以内の照射では測定出来ない
程度だけ低下するプレートが生じる。TPSの添
加を光酸化害に対する他の公知安定剤と交換する
と、紫外線透過性の強い減少が見られる。こうし
て、1000時間後にジ―tert―ドデシル―ジスルフ
イド0.05％を含有する場合は約20％の透過性を有
し、チオジプロピオン酸―ジラウリルエステル
0.25％を含有する場合は透過性17％であり、ビス
―（２―メトキシカルボニルプロピル）―スルフ
イドを含有する場合はわずかに12％の透過性を有
した。 PMMA―プレートを戸外で風雨にさらす場合
ゆつくりとした分子量減成が起こり、還元粘度が
減少することにより判明する。ジ―（テトラメチ
ル―ピペリジル）―セバケート0.05％＋常用の紫
外線吸収剤、例えばベンズトリアゾール又はベン
ズトリアゾール誘導体0.05％の含有量の場合、は
じめにηsp／Ｃ＝1175ml／ｇの還元粘度は２年以
内にηsp／Ｃ＝1029ml／ｇとなる。本発明による
添加を行なわない場合はηsp／Ｃ＝545ml／ｇに
減少する。紫外線吸収性添加物、例えばベンズト
リアゾール又はベンズフエノン誘導体単独ではそ
の保護作用はプレートの内部のPMMA―分子に
のみ役立つが、本発明による添加物の作用はプレ
ート表面にまで及ぶ。従つて、表面腐食をも回避
する。 本発明において使用した添加物の効果はそこに
含有される立体障害を受けたアミンである２，
２，６，６―テトラメチルピペリジン誘導体の構
造によるものである。２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジンから導びかれる化合物、例えばビ
ス―（２，２，６，６−テトラメチル―ピペリジ
ル―４）又は炭素原子４〜12個の脂肪族ジカルボ
ン酸例えばセバシン酸の（２，２，６，６―テト
ラメチル―ピペリジル―４）―エステルが特に有
利である。立体障害を受けたアミンをそれぞれ重
合すべきモノマーの重量に対し、0.01〜１％、有
利に0.1〜0.5％使用する。 本発明によるメチルメタクリレートの重合を一
般に物質の形、すなわち多量の不活性溶剤又は分
散剤の不在下に実施する。二枚の平行なガラスプ
レートと、周囲をかこつたひも状のパツキン部材
とから成る扁平室中でその場で重合させるのが有
利であり、この際厚さ２〜20mmのPMMA―プレ
ートが製造される。 重合すべきモノマーの少なくとも80％をしめる
メチルメタクリレートの他に１種以上のコモノマ
ーを使用することもできる。例としてはアルキル
基中に少なくとも２個の炭素原子を有するアクリ
ル酸のアルキルエステル並びにメタクリル酸のア
ルキルエステルである。アルキル基中に炭素原子
１〜４個を有するアクリル酸のアルキルエステル
は有利なコモノマーであり、有利に全モノマー重
量の15％までの量で使用する。他のコモノマーと
してはスチロール、酢酸ビニル並びに少量の２個
以上の重合可能な二重結合を有するモノマー、例
えばジビニルベンゾール、トリアリルシアヌレー
ト、エチレングリコール―ジメチルアクリレート
又はアリルアクリレート又はアリルメタクリレー
トを挙げることができる。 モノマーのラジカル重合を常用のラジカル開始
剤の常量で惹起することができる。例えば過酸化
物、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジラウリ
ルペルオキシド、tert―ブチルペルピバレート又
はtert―ブチルペルカルボネート、又はアゾ開始
剤、例えばアゾ―ビス―イソブチロニトリル又は
アゾ―ビス―酪酸メチルエステルを使用する。使
用するラジカル形成開始剤の分解温度によりそれ
ぞれ重合を自体公知法で20〜120℃の間で実施し、
この際この範囲の最も低い温度はレドツクス開始
剤で実現する。有利な重合温度は40〜100℃の間
である。 本発明において使用したアミンが開始剤の分解
温度及び分解速度に全く影響を与えないというこ
とは意想外である。開始剤の常用量0.02〜0.1重
量％（モノマー重量に対し）を用いると分子量
500000以上のポリマーが得られる。特に有利な分
子量は１方では100〜200万であり、他方では500
万以上である。連鎖移動調節剤、特にメルカプタ
ンの存在下での重合により分子量を低い限界に保
持することができるが、分子量が150000を下まわ
らないことが有利である。 本発明方法により製造した重合体、特に
PMMA―プレートは持続する高い紫外線透過性
が重要である、すべての目的、例えば日光浴室に
特に好適である。これは平ら又はくぼんだ形の
PMMA―プレートから成る寝台面下に280nm以
上の範囲で高い速度を有する紫外線を放出する照
射管を包含する。その他の重要な使用範囲は
PMMA―プレートの変形により製造された成形
体、例えばランプのおおいであり、これは従来の
PMMA―プレートからのものに対し高い熱形状
安定性において優れている。 次に実施例につき本発明を詳細に説明するが、
ここで「部」とは「重量部」を表わす 例 １ メチルメタクリレート100部にジラウロイルペ
ルオキシド0.1部、ドデシルメルカプタン0.4部及
びジ―（２，２，６，６―テトラメチル―ピペリ
ジル―４）―セバケート（TPS）0.25部を加え閉
じたシート袋中で55℃で20時間かつ100℃で10時
間重合させる。生じた成形体はビカー軟化温度
109℃を有する。 この形成体から厚さ６mmのプレートを製造し、
300nmの紫外線の透過性をUV―Ａ―照射器及び
UV―Ｂ―照射器での作用の後で測定する。照射
の際、この試料を照射器に直接に置く。 透過度： 照 射 時 間 ０ 72 250 時 間 照射器の種類 Ａ：83 80 76 ％ Ｂ：83 81 72 ％ 例 ２ メチルメタクリレート100部にジラウロイルペ
ルオキシド0.1部、TPS0.05部及び２―ヒドロキ
シ―５―メチルフエニル―ベンズトリアゾール
（紫外線安定剤）0.05部を加え二枚のガラスプレ
ートとその間の周囲を包囲したひも状のパツキン
部材からなる扁平室中で45〜50℃で20時間及び
115℃で３時間以内で重合させ、透明で厚さ６mm
のアクリルガラスプレートとする。 比較のために同様なプレートをTPSの添加な
しに製造する。還元溶剤粘度を材料に対する種々
の負荷後測定する。
体において見い出された透過度はポリメチルメタ
クリレートを基礎とする重合体にとつてこの添加
が適していないことをあらわす。この同じ添加物
をラジカル重合による重合体の製造のすでに前又
は間に添加することは、より有望でないと思われ
た。それというのもこのような方法はTPSの光
安定作用をはつきりとあらわすような重合体の製
造においてまだ一度も公知となつていないし、更
にTPSのラジカル補獲特性のためにラジカル重
合を著しく阻害すると思われていたからである。 意想外にも、この効果はメチルメタクリレート
のラジカル重合の際に現われない。重合は前記化
合物の存在下に阻止期間の延長もなく、反応速度
の変化もなく行なわれ、高分子製品となる。光安
定剤を熱可塑性状態においてはじめて加えるので
はなく、すでに重合の際に加える時、初期透過性
も長期間の照射後の透過性もより高いということ
は意想外である。このことは前記表の最後の行か
ら明らかとなる。 予重合シロツプからのポリメチルメタクリレー
ト（PMMA―プレート）の製造の際にも熱安定
性を有する。メチルメタクリレートを最初の重合
過程で重合体含量約25％を有するいわゆるシロツ
プとする。このシロツプを二枚のガラス板から成
る扁平室中で重合させ板を製造すると、これは
119℃のビカー軟化温度（VET）を有する。160
℃に半時間加熱するとVETは111℃に低下する。
このシロツプに熱安定剤としてチオエーテル、例
えばチオジプロピオン酸ジラウリルエステルを加
えるとVETがわずか110℃の完全に重合したプレ
ートが得られ、確かに160℃に半時間加熱するこ
とによりわずかに108〜109℃にのみ低下する。こ
れに反し、本発明によりこのシロツプにジ―（テ
トラメチル―ピペリジル）―セバケート（TPS）
0.05重量％を加えると、VET119℃のPMMA―
プレートが得られ；160℃に半時間加熱すること
によりVETはほんのわずかに低下し、117℃とい
う他のどんな材料でも得られなかつた値を保持す
る。この製品の耐用年数の間紫外線の透過性がほ
とんど保持されるということは室温又は日光浴室
の建設におけるPMMA―プレートの利用によつ
てたいへんに重要である。純粋なPMMAはこの
点で完全に満足のいくものではない；300nmで最
大放射を有するUV―ランプで厚さ６mmのプレー
トを照射する際、この波長で透過性は1000時間以
内に、開始時の82％から約12％に低下する。それ
に反し相応するジ―（テトラメチル―ピペリジ
ル）―セバケート0.25％を含有する６mmの重合体
プレートを本発明により製造すると、透過性は
300nmで同じ時間においてわずか約63％に下がる
だけである。より有利な結果はメチルメタクリレ
ート88％及びメチルアクリレート12％からの混合
ポリマーにおいて見られる。TPSなしの場合、
開始値は透過度76％及び1000時間後は49％であ
る。TPS0.25％を用いて製造した場合、初期透過
度80％で、1000時間以内の照射では測定出来ない
程度だけ低下するプレートが生じる。TPSの添
加を光酸化害に対する他の公知安定剤と交換する
と、紫外線透過性の強い減少が見られる。こうし
て、1000時間後にジ―tert―ドデシル―ジスルフ
イド0.05％を含有する場合は約20％の透過性を有
し、チオジプロピオン酸―ジラウリルエステル
0.25％を含有する場合は透過性17％であり、ビス
―（２―メトキシカルボニルプロピル）―スルフ
イドを含有する場合はわずかに12％の透過性を有
した。 PMMA―プレートを戸外で風雨にさらす場合
ゆつくりとした分子量減成が起こり、還元粘度が
減少することにより判明する。ジ―（テトラメチ
ル―ピペリジル）―セバケート0.05％＋常用の紫
外線吸収剤、例えばベンズトリアゾール又はベン
ズトリアゾール誘導体0.05％の含有量の場合、は
じめにηsp／Ｃ＝1175ml／ｇの還元粘度は２年以
内にηsp／Ｃ＝1029ml／ｇとなる。本発明による
添加を行なわない場合はηsp／Ｃ＝545ml／ｇに
減少する。紫外線吸収性添加物、例えばベンズト
リアゾール又はベンズフエノン誘導体単独ではそ
の保護作用はプレートの内部のPMMA―分子に
のみ役立つが、本発明による添加物の作用はプレ
ート表面にまで及ぶ。従つて、表面腐食をも回避
する。 本発明において使用した添加物の効果はそこに
含有される立体障害を受けたアミンである２，
２，６，６―テトラメチルピペリジン誘導体の構
造によるものである。２，２，６，６―テトラメ
チルピペリジンから導びかれる化合物、例えばビ
ス―（２，２，６，６−テトラメチル―ピペリジ
ル―４）又は炭素原子４〜12個の脂肪族ジカルボ
ン酸例えばセバシン酸の（２，２，６，６―テト
ラメチル―ピペリジル―４）―エステルが特に有
利である。立体障害を受けたアミンをそれぞれ重
合すべきモノマーの重量に対し、0.01〜１％、有
利に0.1〜0.5％使用する。 本発明によるメチルメタクリレートの重合を一
般に物質の形、すなわち多量の不活性溶剤又は分
散剤の不在下に実施する。二枚の平行なガラスプ
レートと、周囲をかこつたひも状のパツキン部材
とから成る扁平室中でその場で重合させるのが有
利であり、この際厚さ２〜20mmのPMMA―プレ
ートが製造される。 重合すべきモノマーの少なくとも80％をしめる
メチルメタクリレートの他に１種以上のコモノマ
ーを使用することもできる。例としてはアルキル
基中に少なくとも２個の炭素原子を有するアクリ
ル酸のアルキルエステル並びにメタクリル酸のア
ルキルエステルである。アルキル基中に炭素原子
１〜４個を有するアクリル酸のアルキルエステル
は有利なコモノマーであり、有利に全モノマー重
量の15％までの量で使用する。他のコモノマーと
してはスチロール、酢酸ビニル並びに少量の２個
以上の重合可能な二重結合を有するモノマー、例
えばジビニルベンゾール、トリアリルシアヌレー
ト、エチレングリコール―ジメチルアクリレート
又はアリルアクリレート又はアリルメタクリレー
トを挙げることができる。 モノマーのラジカル重合を常用のラジカル開始
剤の常量で惹起することができる。例えば過酸化
物、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジラウリ
ルペルオキシド、tert―ブチルペルピバレート又
はtert―ブチルペルカルボネート、又はアゾ開始
剤、例えばアゾ―ビス―イソブチロニトリル又は
アゾ―ビス―酪酸メチルエステルを使用する。使
用するラジカル形成開始剤の分解温度によりそれ
ぞれ重合を自体公知法で20〜120℃の間で実施し、
この際この範囲の最も低い温度はレドツクス開始
剤で実現する。有利な重合温度は40〜100℃の間
である。 本発明において使用したアミンが開始剤の分解
温度及び分解速度に全く影響を与えないというこ
とは意想外である。開始剤の常用量0.02〜0.1重
量％（モノマー重量に対し）を用いると分子量
500000以上のポリマーが得られる。特に有利な分
子量は１方では100〜200万であり、他方では500
万以上である。連鎖移動調節剤、特にメルカプタ
ンの存在下での重合により分子量を低い限界に保
持することができるが、分子量が150000を下まわ
らないことが有利である。 本発明方法により製造した重合体、特に
PMMA―プレートは持続する高い紫外線透過性
が重要である、すべての目的、例えば日光浴室に
特に好適である。これは平ら又はくぼんだ形の
PMMA―プレートから成る寝台面下に280nm以
上の範囲で高い速度を有する紫外線を放出する照
射管を包含する。その他の重要な使用範囲は
PMMA―プレートの変形により製造された成形
体、例えばランプのおおいであり、これは従来の
PMMA―プレートからのものに対し高い熱形状
安定性において優れている。 次に実施例につき本発明を詳細に説明するが、
ここで「部」とは「重量部」を表わす 例 １ メチルメタクリレート100部にジラウロイルペ
ルオキシド0.1部、ドデシルメルカプタン0.4部及
びジ―（２，２，６，６―テトラメチル―ピペリ
ジル―４）―セバケート（TPS）0.25部を加え閉
じたシート袋中で55℃で20時間かつ100℃で10時
間重合させる。生じた成形体はビカー軟化温度
109℃を有する。 この形成体から厚さ６mmのプレートを製造し、
300nmの紫外線の透過性をUV―Ａ―照射器及び
UV―Ｂ―照射器での作用の後で測定する。照射
の際、この試料を照射器に直接に置く。 透過度： 照 射 時 間 ０ 72 250 時 間 照射器の種類 Ａ：83 80 76 ％ Ｂ：83 81 72 ％ 例 ２ メチルメタクリレート100部にジラウロイルペ
ルオキシド0.1部、TPS0.05部及び２―ヒドロキ
シ―５―メチルフエニル―ベンズトリアゾール
（紫外線安定剤）0.05部を加え二枚のガラスプレ
ートとその間の周囲を包囲したひも状のパツキン
部材からなる扁平室中で45〜50℃で20時間及び
115℃で３時間以内で重合させ、透明で厚さ６mm
のアクリルガラスプレートとする。 比較のために同様なプレートをTPSの添加な
しに製造する。還元溶剤粘度を材料に対する種々
の負荷後測定する。
【表】
し
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ラジカル形成性開始剤の存在下にメチルメタ
クリレート又は主としてこれから成るモノマー混
合物を重合する方法において、立体障害を受けた
アミンである２，２，６，６―テトラメチルピペ
リジンの誘導体の存在下に重合を行うことを特徴
とする紫外線及び熱害に対する高い安定性を有す
るメチルメタクリレートの重合体の製法。 ２ ２，２，６，６―テトラメチルピペリジンの
誘導体として一般式 K0003 ［式中、Ｂは―Ｏ―CO―（CH2）ｙ―CO―Ｏ―
（ここでｙは２〜10の間の整数である）を表わし、
ｘは０又は１を表わす］の化合物を使用する特許
請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 立体障害を受けたアミンをモノマーの重量に
対して0.01〜１％の量で使用する、特許請求の範
囲第１項又は第２項のいずれか１項に記載の方
法。 ４ アルキル基中に炭素原子１〜４個を有するア
クリル酸のアルキルエステル15重量％まで及び炭
素原子４〜12個を有する脂肪族ジカルボン酸のジ
―（２，２，６，６―テトラメチルピリジル―
４）―ジエステル0.1〜0.5重量％の含量を有する
モノマー混合物を使用する特許請求の範囲第１項
から第３項までのいずれか１項記載の方法。
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