JPH0262608A - アライメント装置 - Google Patents

アライメント装置

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JPH0262608A
JPH0262608A JP21446188A JP21446188A JPH0262608A JP H0262608 A JPH0262608 A JP H0262608A JP 21446188 A JP21446188 A JP 21446188A JP 21446188 A JP21446188 A JP 21446188A JP H0262608 A JPH0262608 A JP H0262608A
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JP
Japan
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rotation
supported
axis
linear
target object
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Pending
Application number
JP21446188A
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English (en)
Inventor
Toru Tanigawa
徹 谷川
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH0262608A publication Critical patent/JPH0262608A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、物体の位置及び姿勢を制御するアライメント
装置に関する。
〈従来の技術〉 従来、回転機構によって物体の位置及び姿勢を制御する
アライメント装置として、回転ステージやゴニオステー
ジ(例えば、中央精機型PS−θ−90、PS−G−1
20)等が用いられていた。
これらの回転ステージ及びゴニオステージは、いずれも
パルスモータを駆動源とし、ウオームギアやはすば歯車
などの伝達機構を介してテーブルを回転駆動する。回転
ステージは、アライメントの対象とする物体を保持する
テーブルの下側にウオームギアやはすば歯車等を含む駆
動機構が配置された構造である。ゴニオステージでは、
回転中心から対象物体の保持機構を支持するアームの取
付部の長さが固定された構造である。
〈発明が解決しようとする課題〉 上記回転ステージ及びゴニオステージにおいては、分解
能がパルスモータの制御分解能及び駆動伝達機構の減速
比等によって固定され、しかも、分解能そのものが0.
36程度と極めて低いという問題があった。
また、対象物体の回転中心が回転ステージまたはゴニオ
ステージの回転中心と一致しない場合、回転ステージま
たはゴニオステージの回転に応じて対象物体の位置補正
が必要となるが、この位置補正においては、回転ステー
ジあるいはゴニオステージを移動させるためのX−Yス
テージのX軸とY軸方向の各々の単位移動量以下の誤差
の累積を考慮した浮動小数点を用いた三角関数演算を必
要とする。このため、演算処理に時間がかかり、しかも
、単位移動量以下の誤差が生じるという欠点があった。
また、上記回転ステージにおいては、アライメント制御
される対象物体の回転中心をテーブルの回転中心に一致
させて使用する場合が多く、この場合、上述のようにテ
ーブルの下側を回転機構が占有しているので、アライメ
ント制御のための光学系や電気系をテーブルの上側また
は下側に配置するためのスペースが取りにくいという問
題があった。
さらに、上記ゴニオステージにおいては、回転中心から
対象物体の保持機構を支持するアームの取付部の長さが
固定された構造であるため、対象物体の周辺に支持アー
ム以上に大きな領域を必要とする場合、スペースが取り
にくいという問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目
的は、回転機構と直進運動機構とを組み合わせることに
より、高精度の位置及び姿勢制御を可能にしたアライメ
ント装置を提供することである。
〈課題を解決するための手段〉 上記目的を達成するために、本発明によるアライメント
装置においては、中間位置を支点として回転自在であり
一方の自由端に対象物体を保持する回転機構と、回転機
構の他方の自由端に作用する第1の直進運動手段と、回
転機構を回転自在に支持し第1の直進運動手段を移動自
在に支持する第2の直進運動手段と、第2の直進運動手
段を移動自在に支持し第2の直進運動手段の移動方向と
直交する方向へ移動自在である第3の直進運動手段とを
備える。
〈作用〉 本発明に係るアライメント装置は、回転機構の一方の自
由端の回転中心から一定距離の部位を第1の直進運動手
段の直進運動によって位置決めすることにより、回転機
構の他方の自由端に保持された対象物体の回転方向の姿
勢制御を行なう。さらに、第2及び第3の直進運動手段
の駆動により、対象物体の位置補正を行なう。姿勢制御
においては、回転機構の第1の直進運動手段による作用
点と回転中心との距離を大きくすることにより、制御分
解能を極めて高(することができる。また、回転機構の
回転中心と第1の直進運動手段による作用点及び対象物
体との相互位置を所定の関係が満足されるように定める
ことによって、姿勢制御の制御範囲が小さい場合には、
X軸、Y軸の各方向に単位移動量以下の誤差及びその累
積を極めて小さくできるとともに、三角関数演算を不要
とする。
〈実施例〉 第1図は本実施例のアライメント装置の基本的な構成を
示している。図において、1は対象物体、2は回転機構
、3は保持機構、4.8.9は直進機構、5はボール、
6はバネ、7は回転軸、10はモニタ部、11は操作部
、12は操作信号、13は制御部、14.14’、14
“は制御信号である。
対象物体1は、回転機構2の一方の自由端に取り付けら
れた保持機構3によって支持される。回転機構2は、そ
の中間位置の回転中心が回転軸7を介して直進機構8上
に回転自在に支持される。
この回転機構2は、対象物体1を保持するアーム2aと
回転力が作用するアーム2bとが回転軸7の両側に延在
し、アーム2a、2bは回転軸7を中心として互いに4
5度もしくは135度の角度をもつ。
直進機構4は、直進機構8上に図中上下方向に移動自在
に支持される。この直進機構4にはボール5が固設され
、このボール5は回転機構2のアーム2bと接触し、直
進機構4とアーム2bの端部とをつなぐバネ6によって
アーム2bがボール5と接触が外れないように付勢され
る。直進機構4が上方へ移動すると、回転機構2は反時
計廻り方向へ回転し、直進機構4が下方へ移動すると、
回転機構2は時計廻り方向へ回転する。直進機構8は、
Y軸方向に移動自在に直進機構9上に支持されている。
直進機構9は、X軸方向に移動自在に図示しない支持部
材に支持されている。
モニタ部10は、対象物体1の位置及び姿勢の情報を表
示する。操作部11は、操作者がモニタ部10を観察し
ながら位置及び姿勢制御のための各種の指令情報を入力
するためのものである。制御部13は、操作部11から
の操作信号12にしたがって、直進機構4,8.9を各
々制御する制御信号14.14’、1’4“を出力する
このアライメント装置は、直進機構4の移動によって回
転機構2を回転駆動し、直進機構8.9の移動によって
X軸、Y軸方向の位置補正を行なう。
以下、第2図を参照してこのアライメント装置の動作原
理を説明する。いま、3つの直進機構4゜8.9の制御
分割能をdとし、対象物体1の回転中心をA、回転機構
2の回転中心をB、点Bを通り直進機構4の移動方向に
垂直な線上に回転機構2とボール5との接点りから降ろ
した垂線の足をCとする。
点B、C間の距離をRとすると、対象物体1の姿勢制御
分解能すなわち回転機構2の制御分解能dθは、次式に
よって計算される。
dθ・R= d           (1)−例とし
て、回転機構2の距離Rが160龍、直進機構4として
制御分解能dが0.001mmである一般的なパルスス
テージを用いた場合、回転機構2の制御分解能dθは0
.00036(度)となる。これは、従来の回転ステー
ジやゴニオステージにおける姿勢制御分解能の1000
倍となる。この姿勢制御分解能dは、距離Rを太き(す
ることによって、さらに大きくすることができる。
回転機構2の反時計廻り方向を正の方向とすると、直進
機構4がnパルス分上方へ移動した場合、回転機構2の
回転角度θは、次式で与えられる。
R−tanθ= n −d         (2)さ
らに、点A、 B間の距離をL1点A、 Bを通る方向
とX軸とのなす角度をαとすると、対象物体1の回転中
心Aのx、  y方向の移動量mx、 myは次式で与
えられる。
m x = L −(cosα−cos(α+θ)) 
   +31m y = L・(sinα−5in(α
+θ))    (4)ここで、姿勢制御角度が十分率
さい場合、すなわちθが十分率さい場合、式(2)、(
3)、(4)は以下の式に近似できる。
R・θ=n−d 即ち θ= n −d / R(2)
 ’mx=L−sinα−θ          (3
)2m y = −L ・costX−θ      
   (4)2式(31’ 、(41’は弐(2)′に
より次式のようになる。
mx=L−sinα−n−d/R(3)“my=−L、
−cosct−n−d/R(4)“ここで、 L/ R= 、/T             (5)
α=±45(度)、±135(度)(6)とすると、 L−sinα/R=±1 L−cosα/R=±1 であるので、mx、myは常に直進機構の制御分解能d
の整数倍となる。したがって、弐(5)、(6)を満足
するような回転機構2を用いることによって、x、y方
向の各々の単位移動量以下の誤差の累積を考慮する必要
がなく、加減算のみの簡単な計算により姿勢制御が可能
となる。
いま、α=45(度)、x、  y、  θの各軸方向
にそれぞれ距離nx−d、、ny−d、n t−dθの
相対的な移動量制御を行なう場合、X軸すなわち直進機
構9にnx−ntパルス、X軸すなわち直進機構8にn
y+ntパルス、θ軸すなわち直進機構4にntパルス
の制御パルスをそれぞれ入力すればよい。
本実施例のアライメント装置においては、弐(5)を満
足するように回転機構2のアーム2a、  2bの長さ
を設定する限り、点A、B間の距離すなわち対象物体1
の回転中心と回転機構2の回転中心との間の距離を任意
に長く設定することができる。
〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明においては、回転機構の距
離Rを大きくすることによって、位置及び姿勢制御のた
めの極めて高い制御分解能を容易に得ることができる。
また、回転機構の距離R1L及び角度αを所定の関係を
満足するように設定することにより、単位移動量以下の
誤差及びその累積を極めて小さくでき、さらに、演算に
時間のかかる三角関数演算を不要とし、処理の高速化が
達成できる。さらに、対象物体の回転中心と回転機構の
回転中心との間の距離を長くとることにより、アライメ
ント制御のための光学系や電気系を対象物体に近接した
位置に配設するためのスペースが容易に確保できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の基本構成を示す図、第2図は本
発明実施例の動作原理を説明する図である。 1・・・対象物体 2・・・回転機構 3・・・保持機構 4.8.9・・・直進機構 5・・・ポール 6・・・バネ 7・・・回転軸

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 中間位置を支点として回転自在であり一方の自由端に対
    象物体を保持する回転機構と、上記回転機構の他方の自
    由端に作用する第1の直進運動手段と、上記回転機構を
    回転自在に支持し上記第1の直進運動手段を移動自在に
    支持する第2の直進運動手段と、上記第2の直進運動手
    段を移動自在に支持し第2の直進運動手段の移動方向と
    直交する方向へ移動自在である第3の直進運動手段とを
    備えたことを特徴とするアライメント装置。
JP21446188A 1988-08-29 1988-08-29 アライメント装置 Pending JPH0262608A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21446188A JPH0262608A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 アライメント装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21446188A JPH0262608A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 アライメント装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0262608A true JPH0262608A (ja) 1990-03-02

Family

ID=16656121

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21446188A Pending JPH0262608A (ja) 1988-08-29 1988-08-29 アライメント装置

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JP (1) JPH0262608A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002098624A (ja) * 2000-09-22 2002-04-05 Horiba Ltd 散乱式粒子径分布測定装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2002098624A (ja) * 2000-09-22 2002-04-05 Horiba Ltd 散乱式粒子径分布測定装置

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