JPH026466A - 低級ジアルキルジスルフィドの製造方法 - Google Patents
低級ジアルキルジスルフィドの製造方法Info
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- JPH026466A JPH026466A JP1094291A JP9429189A JPH026466A JP H026466 A JPH026466 A JP H026466A JP 1094291 A JP1094291 A JP 1094291A JP 9429189 A JP9429189 A JP 9429189A JP H026466 A JPH026466 A JP H026466A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/22—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/24—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of hydropolysulfides or polysulfides by reactions involving the formation of sulfur-to-sulfur bonds
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- C07C321/14—Sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は有機ジスルフィドの分野に関し、より特定的に
は、本発明の主題は低級ジアルキルジスルフィドＲ−Ｓ
Ｓ−Ｒ ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基
を表す１の製造である。
は、本発明の主題は低級ジアルキルジスルフィドＲ−Ｓ
Ｓ−Ｒ ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基
を表す１の製造である。
これらのジスルフィドを１ｑる重要な経路は、反応式：
％式％
に従う触媒の存在下での硫黄によるアルキルメルカプタ
ンの酸化からなる。
ンの酸化からなる。
他の副次的反応、特に：
２ｒｌ−ＳＳ−Ｒ＋Ｈ Ｓ Ｒ−ＳＳＳ−Ｒ＋
２Ｒ−ＳＲ２ ← が起り（ｑるこの方法では、アルキルメルカプタンを過
剰にし、硫化水素を除去することによりジアルキルジス
ルフィドの形成が促進される。
２Ｒ−ＳＲ２ ← が起り（ｑるこの方法では、アルキルメルカプタンを過
剰にし、硫化水素を除去することによりジアルキルジス
ルフィドの形成が促進される。
触媒としては脂肪族アミン、特にｌ−リエチルアミンが
ちつともよく使用されている（米国特許第２ ２３７、
６２５号、仏画特許第１．３５８ ３９８号、米国特許
第３， ２９９． １４１３号及び仏画特許第２， １
３０， ９８５号明柵占）。１〜リエチルアミンは最終
のジスルフィド中に不純物として部分的に保持され、望
ましくない着色を生じるという欠点を有している。更に
、水蒸気分解触媒の前処理のために、窒素を含まない製
品を使用が好ましいジスルフィドの利用各もいる。
ちつともよく使用されている（米国特許第２ ２３７、
６２５号、仏画特許第１．３５８ ３９８号、米国特許
第３， ２９９． １４１３号及び仏画特許第２， １
３０， ９８５号明柵占）。１〜リエチルアミンは最終
のジスルフィド中に不純物として部分的に保持され、望
ましくない着色を生じるという欠点を有している。更に
、水蒸気分解触媒の前処理のために、窒素を含まない製
品を使用が好ましいジスルフィドの利用各もいる。
触媒として高級メルカプタンＲ’−Ｓｌ−４．！：酸化
アルキレンとアルカリ金属１基との組合せを使用するこ
とにより、Ｍ ｍプラントの生産量に影響することなく
、アミン不純物を有ざず、極くわずかに着色されるだけ
の優れた品質のジアルキルジスルフィドが得られること
が判明した。更に本発明の触媒の組合せは、ジアルキル
ジスルフィドの連続製造プラントにおいて、従来技術の
トリアルキルアミンと比べて、回収が可能であり、そし
て合成用反応器に再循環させ得るという別の利点も有し
ている。
アルキレンとアルカリ金属１基との組合せを使用するこ
とにより、Ｍ ｍプラントの生産量に影響することなく
、アミン不純物を有ざず、極くわずかに着色されるだけ
の優れた品質のジアルキルジスルフィドが得られること
が判明した。更に本発明の触媒の組合せは、ジアルキル
ジスルフィドの連続製造プラントにおいて、従来技術の
トリアルキルアミンと比べて、回収が可能であり、そし
て合成用反応器に再循環させ得るという別の利点も有し
ている。
従って、本発明の主題は、触媒の存在下で対応するアル
キルメルカプタンＲ−ＳＨ ［式中、Ｒは炭素原子数１
〜３個のアルキル基を表すＪを硫黄で酸化することによ
るＲ−８３−Ｒの型の低級ジアルキルジスルフィドの製
造方法であって、使用する触媒が酸化アルキレンＣｎＨ
２ｎ○及びアルカリ全屈塩基（ ａｌｋａｌ ＋ｎｅ
ｂａｓｅ）と高級アルキルメルカプタンＲ’−ＳＨとの
組合せであり、式：％式％ ［式中、Ｒ′は炭素原子数６〜１８個の直鎖又は分枝の
アルキル基であり、ｎは２〜４の数であり、Ｘは１〜２
０の数であり、ｙは０． ０１〜１の数であり、Ｍはア
ルカリ金属原子、好ましくはＮａ又はＫを表す］で表す
ことができることを特徴とする方法である。
キルメルカプタンＲ−ＳＨ ［式中、Ｒは炭素原子数１
〜３個のアルキル基を表すＪを硫黄で酸化することによ
るＲ−８３−Ｒの型の低級ジアルキルジスルフィドの製
造方法であって、使用する触媒が酸化アルキレンＣｎＨ
２ｎ○及びアルカリ全屈塩基（ ａｌｋａｌ ＋ｎｅ
ｂａｓｅ）と高級アルキルメルカプタンＲ’−ＳＨとの
組合せであり、式：％式％ ［式中、Ｒ′は炭素原子数６〜１８個の直鎖又は分枝の
アルキル基であり、ｎは２〜４の数であり、Ｘは１〜２
０の数であり、ｙは０． ０１〜１の数であり、Ｍはア
ルカリ金属原子、好ましくはＮａ又はＫを表す］で表す
ことができることを特徴とする方法である。
好適な組合せは、Ｒ′がＣ８〜Ｃ１６の第３アルキル基
（例えば第３ノニル又は第３ドデシル）であり、メルカ
プタンＲ’−ＳＨ１モル当りの酸化アＪし゛ヤレンのモ
ル故×が４〜１２であり，アルカリ性塩基の［ル数ｙが
０．１〜０．５であるものである。
（例えば第３ノニル又は第３ドデシル）であり、メルカ
プタンＲ’−ＳＨ１モル当りの酸化アＪし゛ヤレンのモ
ル故×が４〜１２であり，アルカリ性塩基の［ル数ｙが
０．１〜０．５であるものである。
酸化アルキレンどしては、より経済的な酸化ブチレンを
使用するのが好ましいが、所望に応じ、酸化プロピレン
又は酸化ブチレンに代えても又は混合してもよい。
使用するのが好ましいが、所望に応じ、酸化プロピレン
又は酸化ブチレンに代えても又は混合してもよい。
本発明の触媒の組合せを製造する１つの方法は、以下の
ようなものである。先ず、１モルのメルカプタンＲ’
ＳＨをαｙモル（α−１〜１．５）のアルカリ金属ＦＡ
基Ｍ ＯＨと混合し、好ましくは熱いうちにこの混合物
を均一にする。この操作は、特に５０〜１００℃で数時
間、特に７５〜８５℃で４〜６時間で実施することがで
きる。次に、この方法で得た液体に酸化アルキレンＣ１
）−１２ｏＯを注入して所望の割合Ｘだけ取込まゼる。
ようなものである。先ず、１モルのメルカプタンＲ’
ＳＨをαｙモル（α−１〜１．５）のアルカリ金属ＦＡ
基Ｍ ＯＨと混合し、好ましくは熱いうちにこの混合物
を均一にする。この操作は、特に５０〜１００℃で数時
間、特に７５〜８５℃で４〜６時間で実施することがで
きる。次に、この方法で得た液体に酸化アルキレンＣ１
）−１２ｏＯを注入して所望の割合Ｘだけ取込まゼる。
この注入は使用するメルカプタンＲ’５Ｉ−１の性質に
応じて８０〜１２０℃の温度、０．２〜４バールで実施
するのが好ましく、酸化アルキレンの取込みには通常１
〜１０時間を要する。これらの操作の侵、窒素のような
不活性ガスを使って反応混合物を脱気して過剰の酸化ア
ルキレンを除去し、ｉｑられた液体を濾過してから本発
明方法で触媒として使用することが推奨される。
応じて８０〜１２０℃の温度、０．２〜４バールで実施
するのが好ましく、酸化アルキレンの取込みには通常１
〜１０時間を要する。これらの操作の侵、窒素のような
不活性ガスを使って反応混合物を脱気して過剰の酸化ア
ルキレンを除去し、ｉｑられた液体を濾過してから本発
明方法で触媒として使用することが推奨される。
ジスルフィドＲ８５Ｒを製造する酸化反応に使用すべき
触媒の量は使用する硫黄型１の０．２〜５％、好ましく
は１，５〜４％とすることができる。
触媒の量は使用する硫黄型１の０．２〜５％、好ましく
は１，５〜４％とすることができる。
メルカプタンＲＳ ｌ−１／ 硫黄のモル比は、公知方
法のように少なくと６２でなければならず、好ましくは
３〜５の間である。
法のように少なくと６２でなければならず、好ましくは
３〜５の間である。
温度２５〜１２５℃、１〜５バール、好ましくは３〜４
バールの有効圧力下で酸化反応を実施することができる
。最適温度は使用するメルカプタンＲ３ｌ−１に依存し
、メチルメルカプタンでは５０〜６０℃、エチルメルカ
プタン プタン 本発明の触媒の組合せはジフルキルジスルフィドＲーＳ
ＳーＲ装造用の不連続工程に使用できるが、より特定的
には連続的工程で操作するプラントでのこれらのジアル
キルジスルフィドの製造に使用することを意図しＩｃも
のである。
バールの有効圧力下で酸化反応を実施することができる
。最適温度は使用するメルカプタンＲ３ｌ−１に依存し
、メチルメルカプタンでは５０〜６０℃、エチルメルカ
プタン プタン 本発明の触媒の組合せはジフルキルジスルフィドＲーＳ
ＳーＲ装造用の不連続工程に使用できるが、より特定的
には連続的工程で操作するプラントでのこれらのジアル
キルジスルフィドの製造に使用することを意図しＩｃも
のである。
添付の図面は、特に反応器１、脱気カラム２及び蒸留カ
ラム３からなるこの型のブランｌ〜の概略図である。
ラム３からなるこの型のブランｌ〜の概略図である。
反応物質：液体硫黄、メルカプタンＲＳＨ （液体又は
気体）及び触媒（又はカラム３の底からの再循環した堆
積物）を各々管４．５及び６を介して連続的に反応器１
に加える。反応器１は通常の温度、圧力及び潰の調整の
ための通常の装置並びに７１吊及び熱の移行を確実にし
うる外部の再循環ループ７を具備している。反応物質の
この反応器中の滞留時間は２０〜１８０分間とすること
ができる。
気体）及び触媒（又はカラム３の底からの再循環した堆
積物）を各々管４．５及び６を介して連続的に反応器１
に加える。反応器１は通常の温度、圧力及び潰の調整の
ための通常の装置並びに７１吊及び熱の移行を確実にし
うる外部の再循環ループ７を具備している。反応物質の
この反応器中の滞留時間は２０〜１８０分間とすること
ができる。
３０・−９０分が好ましく、約１時間であれば有利であ
る。気体流出物をバイブ８により反応器頂部からフレア
ラインに排出し、反応器の底から取り出した粗製反応液
をライン９を介して脱気カラム２に供給する。
る。気体流出物をバイブ８により反応器頂部からフレア
ラインに排出し、反応器の底から取り出した粗製反応液
をライン９を介して脱気カラム２に供給する。
熱湯の循環及びメタン又は窒素のような不活性ガスの入
口を具備するこの密閉カラムにより、同時に製造された
硫化水素の大部分と過剰のアルキルメルカプタンＲＳＨ
が分離される。続いて、後者はパイプ１０を介して熱交
換−凝縮器に供給され、そこで凝縮されてから直接或い
は貯蔵タンクを通って反応器１に再循環される。カラム
２の底部で、所望のジアルキルジスルフィドＲＳＳＲ，
対応のポリスルフィド（主としてジアルキルトリスルフ
ィド）、触媒及び少量のアルキルメルカプタンからなる
粗製生成物を回収する。
口を具備するこの密閉カラムにより、同時に製造された
硫化水素の大部分と過剰のアルキルメルカプタンＲＳＨ
が分離される。続いて、後者はパイプ１０を介して熱交
換−凝縮器に供給され、そこで凝縮されてから直接或い
は貯蔵タンクを通って反応器１に再循環される。カラム
２の底部で、所望のジアルキルジスルフィドＲＳＳＲ，
対応のポリスルフィド（主としてジアルキルトリスルフ
ィド）、触媒及び少量のアルキルメルカプタンからなる
粗製生成物を回収する。
この粗製生成物をライン１１を介してカラム３に供給し
、そこで減圧下に蒸留する。頂部からライン１２を介し
て所望のジアルキルジスルフィドを回収し、一方、主と
してジアルキルジスルフィド、ジアルキルｌ−リスシフ
イド及び触媒の混合物からなる堆積物はライン１３及び
６を介して反応器１に再循環さける。
、そこで減圧下に蒸留する。頂部からライン１２を介し
て所望のジアルキルジスルフィドを回収し、一方、主と
してジアルキルジスルフィド、ジアルキルｌ−リスシフ
イド及び触媒の混合物からなる堆積物はライン１３及び
６を介して反応器１に再循環さける。
次の実施例により、本発明を限定することなく説明する
。
。
実施例
ａ）触媒の製造
１５°１のステンレス鋼の反応器に、６８１（ｇ（３３
Ｇ、６［ル）の第三ドデシルメルカプタン を６．３Ｋｇ（１５７．５モル）の無水ＮａＯＨと共に
加え、８０℃で５時間加熱して混合物を充分に分散させ
、均一にする。次に、連続排出速度７に’ｌ／ｈで８時
間、酸化エチレンを反応器に注入する。反応器内の相対
圧力は最初の０．２バールから添加終了時には４バール
に変化する。次に、反応混合物を１００〜１１０℃で２
時間加熱した後、減圧し、窒素流により脱気して、溶解
している過ψりの酸化エチレンを全て除去する。次いで
得られた液体を濾過し′Ｃ５ＪＪＭより大きい固体粒子
を除去する。
Ｇ、６［ル）の第三ドデシルメルカプタン を６．３Ｋｇ（１５７．５モル）の無水ＮａＯＨと共に
加え、８０℃で５時間加熱して混合物を充分に分散させ
、均一にする。次に、連続排出速度７に’ｌ／ｈで８時
間、酸化エチレンを反応器に注入する。反応器内の相対
圧力は最初の０．２バールから添加終了時には４バール
に変化する。次に、反応混合物を１００〜１１０℃で２
時間加熱した後、減圧し、窒素流により脱気して、溶解
している過ψりの酸化エチレンを全て除去する。次いで
得られた液体を濾過し′Ｃ５ＪＪＭより大きい固体粒子
を除去する。
この方法で得た触媒の組合せは次のモル組成：ＣＩ２Ｈ
２５Ｓ Ｈ 、 ６（Ｃ Ｈ２ Ｃ
Ｈ２ ０ ）、０．３５Ｎ ａ Ｏ Ｈを
有しており、重をでは Ｃ１２１−１２５ＳＨ４２％ Ｃ Ｈ２ Ｃ ８２ ０ ５５％Ｎ ａ Ｏ
ｌ−１ ３％である。
２５Ｓ Ｈ 、 ６（Ｃ Ｈ２ Ｃ
Ｈ２ ０ ）、０．３５Ｎ ａ Ｏ Ｈを
有しており、重をでは Ｃ１２１−１２５ＳＨ４２％ Ｃ Ｈ２ Ｃ ８２ ０ ５５％Ｎ ａ Ｏ
ｌ−１ ３％である。
この触媒の曇点は約６２℃である。
ｂ）ジメチルジスルフィド（［１８０３）の連続合成竹
記のような型のプラントで操作を実流する。
記のような型のプラントで操作を実流する。
反応器１に、液体硫黄を１０Ｋｇ／ｈ、液体メチルメル
カプタンを５５Ｋｇ／１１及び（ａ）に記載のようにし
て得た触媒を０． ３５Ａ’グ／ｈで連続的に供給する
。
カプタンを５５Ｋｇ／１１及び（ａ）に記載のようにし
て得た触媒を０． ３５Ａ’グ／ｈで連続的に供給する
。
反応が平衡に達したとき（約１２時間後）に、触媒０、
３５Ｋｇ、Ｉ） Ｍ Ｄ Ｓ ３． ６４に９及びポリ
スルフィド、主としてジメチル１−ジスルフィド（ＤＭ
ＴＳ）３．（ＮＫＦＩを含む蒸留カラム３の底部からの
生成物を７Ｋｇ／ｈで再循環させて、触媒０．３５に９
７ｈの供給に代える。
３５Ｋｇ、Ｉ） Ｍ Ｄ Ｓ ３． ６４に９及びポリ
スルフィド、主としてジメチル１−ジスルフィド（ＤＭ
ＴＳ）３．（ＮＫＦＩを含む蒸留カラム３の底部からの
生成物を７Ｋｇ／ｈで再循環させて、触媒０．３５に９
７ｈの供給に代える。
５５〜５８℃、有効圧力
３、５バールで反応を実施し、
反応物質が反応器に存在する平均の時間は約１時間であ
る。反応器からの粗製反応液をカラム２に入れ、そこで
６Ｎ７ＬＩ／ｈの市販ガス（メタン）流を使い、６５〜
７０℃で脱気する。
る。反応器からの粗製反応液をカラム２に入れ、そこで
６Ｎ７ＬＩ／ｈの市販ガス（メタン）流を使い、６５〜
７０℃で脱気する。
カラム２の底から、Ｄ Ｍ Ｏ Ｓ ８５．７０重暦％
、ＤＭＴＳ １２．２３重偵％、メチルメルカプタン
重Ｍ％及び触媒０．９４重喝％を含有する液体３７．
２６Ｋｇ／ｈを回収する。この液体を蒸留カラム３に供
給し、そこで次の条件下で分画化する。
、ＤＭＴＳ １２．２３重偵％、メチルメルカプタン
重Ｍ％及び触媒０．９４重喝％を含有する液体３７．
２６Ｋｇ／ｈを回収する。この液体を蒸留カラム３に供
給し、そこで次の条件下で分画化する。
供 給 徂 ： 約３７Ｋｇ／ｈ蒸 留
覆 ： 約２８．１／（ｇ／ｈ底部排出吊 ： 約
８．！Ｊ９／ｈ 頂部の分圧 ： １３．３３ ｋＰａ頂部の温度 ＝
５６℃ 底部の温度 ：９０〜１００℃ カラムの頂部から純度９９％のＤＭＤＳが２８．１Ｋｇ
／ｈ得られ、これは使用した硫黄に対して９５％の収率
である。この方法で製造したＤＭＤＳはごくわずかに着
色されているだけで、アミン不純物、水酸化ナトリウム
及び′Ｍ素を含まず，残留ＣＳ２含吊は５００ ｐｐｍ
未満である。
覆 ： 約２８．１／（ｇ／ｈ底部排出吊 ： 約
８．！Ｊ９／ｈ 頂部の分圧 ： １３．３３ ｋＰａ頂部の温度 ＝
５６℃ 底部の温度 ：９０〜１００℃ カラムの頂部から純度９９％のＤＭＤＳが２８．１Ｋｇ
／ｈ得られ、これは使用した硫黄に対して９５％の収率
である。この方法で製造したＤＭＤＳはごくわずかに着
色されているだけで、アミン不純物、水酸化ナトリウム
及び′Ｍ素を含まず，残留ＣＳ２含吊は５００ ｐｐｍ
未満である。
カラムの底部からは、重量で約４３． ８５％のＤＭＤ
Ｓ、２９． ０５％のＤＭＴＳ、４．２％の触媒及び２
２、９％の高級ポリスルフィドを含有する混合物８、３
Ｋｇ／１１が回収される。濾過した後、触媒約５％、Ｄ
Ｍ Ｄ ８ ５２％及びＤＭＴ８３４．４％を含む生
成物が７／（ｇ／ｌ）で１ｑられる。反応が平衡に達し
たら、この生成物を新しい触媒の代りに導入する。
Ｓ、２９． ０５％のＤＭＴＳ、４．２％の触媒及び２
２、９％の高級ポリスルフィドを含有する混合物８、３
Ｋｇ／１１が回収される。濾過した後、触媒約５％、Ｄ
Ｍ Ｄ ８ ５２％及びＤＭＴ８３４．４％を含む生
成物が７／（ｇ／ｌ）で１ｑられる。反応が平衡に達し
たら、この生成物を新しい触媒の代りに導入する。
添付の図面は水光明方法で連続的にジアルキルジスルフ
ィドを製造するプラン１〜の概略図である。 １・・・・・・反応器、 ２・・・・・・脱気カ
ラム、３・・・・・・蒸留カラム。
ィドを製造するプラン１〜の概略図である。 １・・・・・・反応器、 ２・・・・・・脱気カ
ラム、３・・・・・・蒸留カラム。
Claims (7)
- （１）触媒の存在下で対応するアルキルメルカプタンＲ
ＳＨ［式中、Ｒは炭素原子数１〜３個のアルキル基を表
す］を硫黄で酸化することによるＲ−ＳＳ−Ｒの型の低
級ジアルキルジスルフィドの製造方法であって、使用す
る触媒が酸化アルキレンＣ＿ｎＨ＿２＿ｎＯ及びアルカ
リ金属塩基ＭＯＨと高級アルキルメルカプタンＲ′−Ｓ
Ｈとの組合せであり、式： Ｒ’−ＳＨ・ｘ（Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎＯ）・ｙＭＯＨ［式
中、Ｒ′は炭素原子数６〜１８個の直鎖又は分枝のアル
キル基であり、ｎは２〜４の数であり、ｘは１〜２０の
数であり、ｙは０．０１〜１の数であり、Ｍはアルカリ
金属原子を表す］で表すことができることを特徴とする
方法。 - （２）Ｒ′はＣ＿８〜Ｃ＿１＿６の第３アルキル基、好
ましくは第３ノニル又は第３ドデシルである請求項１記
載の方法。 - （３）ｎが２であり、ｘが４〜１２であり、ｙが０．１
〜０．５である請求項１又は２記載の方法。 - （４）添加する硫黄に対して０．２〜５重量％の触媒を
使用し、メルカプタンＲＳＨ／硫黄のモル比が少なくと
も２、好ましくは３〜５である請求項１から３のいずれ
かに記載の方法。 - （５）２５〜１２５℃、好ましくは５０〜８０℃の温度
及び１〜５バール、好ましくは３〜４バールの有効圧力
下で反応を実施する請求項１から４のいずれかに記載の
方法。 - （６）操作が連続的であり、反応器内での滞留時間が２
０〜１８０分、好ましくは３０〜９０分である請求項１
から５のいずれかに記載の方法。 - （７）アルキルメルカプタンＲＳＨがメチルメルカプタ
ンである請求項１から６のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR884964 | 1988-04-14 | ||
| FR8804964A FR2630105B1 (fr) | 1988-04-14 | 1988-04-14 | Procede de fabrication des dialkyldisulfures inferieurs |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH026466A true JPH026466A (ja) | 1990-01-10 |
| JPH0639459B2 JPH0639459B2 (ja) | 1994-05-25 |
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|---|---|---|---|
| JP1094291A Expired - Fee Related JPH0639459B2 (ja) | 1988-04-14 | 1989-04-13 | 低級ジアルキルジスルフィドの製造方法 |
Country Status (9)
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|---|---|
| US (1) | US5001269A (ja) |
| EP (1) | EP0337839B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0639459B2 (ja) |
| KR (1) | KR910009129B1 (ja) |
| CN (1) | CN1026233C (ja) |
| CA (1) | CA1322765C (ja) |
| DE (1) | DE68900010D1 (ja) |
| ES (1) | ES2018093B3 (ja) |
| FR (1) | FR2630105B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04211645A (ja) * | 1990-03-05 | 1992-08-03 | Soc Natl Elf Aquitaine <Snea> | 二硫化ジメチルの製造方法 |
| JP2007501260A (ja) * | 2003-05-23 | 2007-01-25 | シオプラスト ケミカルズ ゲーエムベーハー アンド シーオー． ケージー | メルカプトエタノールの酸化 |
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| US5218147A (en) * | 1992-02-10 | 1993-06-08 | Phillips Petroleum Company | Stable polysulfides and process therefor |
| US5232623A (en) * | 1992-08-17 | 1993-08-03 | Phillips Petroleum Company | Catalyst and process for producing organic polysulfide |
| US5464931A (en) * | 1994-08-15 | 1995-11-07 | Phillips Petroleum Company | Oxidation of dimercaptans to organic disulfide polymers |
| US5565517A (en) * | 1994-11-16 | 1996-10-15 | Phillips Petroleum Company | Synthesis of organic polysulfide polymers |
| EP1428819B1 (en) * | 2002-11-27 | 2010-01-27 | Chevron Phillips Chemical Company | Production of dithiodiglycol |
| CN101607929B (zh) * | 2009-07-01 | 2012-11-07 | 郑州大学 | 二甲亚砜络合的三氯一氧化钼催化合成二叔丁基二硫醚方法 |
| CN102816093B (zh) * | 2012-08-14 | 2014-05-28 | 张怀有 | 甲硫醇氧化法生产二甲基二硫的方法 |
| CN104610106A (zh) * | 2015-01-13 | 2015-05-13 | 湖北兴发化工集团股份有限公司 | 一种甲硫醇和硫磺汽化法生产二甲基二硫的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63274200A (ja) * | 1987-05-06 | 1988-11-11 | Sony Corp | 基板着脱装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2237625A (en) * | 1938-10-07 | 1941-04-08 | Sharples Solvents Corp | Sulphurization of sulphur-containing organic conpounds |
| FR1358398A (fr) * | 1962-11-20 | 1964-04-17 | Aquitaine Petrole | Fabrication de disulfures organiques |
| US3299146A (en) * | 1964-03-26 | 1967-01-17 | Pennsalt Chemicals Corp | Preparation of dimethyl disulfide |
| FR2130938A5 (ja) * | 1971-03-26 | 1972-11-10 | Gatti Francis | |
| DE2938156A1 (de) * | 1979-09-21 | 1981-04-09 | Rhein-Chemie Rheinau Gmbh, 6800 Mannheim | Verfahren zur herstellung von polysulfiden |
| FR2607496B1 (fr) * | 1986-11-28 | 1989-03-10 | Elf Aquitaine | Procede de production de polysulfures organiques et systeme catalytique pour sa realisation |
-
1988
- 1988-04-14 FR FR8804964A patent/FR2630105B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-03-24 DE DE8989400844T patent/DE68900010D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-24 EP EP89400844A patent/EP0337839B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-24 ES ES89400844T patent/ES2018093B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-03 US US07/331,760 patent/US5001269A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-04-12 KR KR1019890004852A patent/KR910009129B1/ko not_active Expired
- 1989-04-13 CA CA000596596A patent/CA1322765C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-13 JP JP1094291A patent/JPH0639459B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1989-04-14 CN CN89102270A patent/CN1026233C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| ES2018093B3 (es) | 1991-03-16 |
| JPH0639459B2 (ja) | 1994-05-25 |
| CN1037331A (zh) | 1989-11-22 |
| KR890016004A (ko) | 1989-11-27 |
| FR2630105A1 (fr) | 1989-10-20 |
| CN1026233C (zh) | 1994-10-19 |
| CA1322765C (fr) | 1993-10-05 |
| DE68900010D1 (de) | 1990-10-25 |
| KR910009129B1 (ko) | 1991-10-31 |
| FR2630105B1 (fr) | 1990-07-13 |
| EP0337839A1 (fr) | 1989-10-18 |
| US5001269A (en) | 1991-03-19 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |