JPH0265089A - 長尺基板均一加熱装置 - Google Patents
長尺基板均一加熱装置Info
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- JPH0265089A JPH0265089A JP21378188A JP21378188A JPH0265089A JP H0265089 A JPH0265089 A JP H0265089A JP 21378188 A JP21378188 A JP 21378188A JP 21378188 A JP21378188 A JP 21378188A JP H0265089 A JPH0265089 A JP H0265089A
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- shielding plate
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Landscapes
- Discharge Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、長尺基板均一加熱装置、特に電子ビーム銃を
用いた長尺基板均一加熱装置に関するものである。
用いた長尺基板均一加熱装置に関するものである。
この種の加熱装置は、例えば鋼板巻取蒸着装置における
前処理、後処理等に用いられて、蒸着前の脱ガス予熱、
蒸＠膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイ
クロメルト等を行うものである。
前処理、後処理等に用いられて、蒸着前の脱ガス予熱、
蒸＠膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイ
クロメルト等を行うものである。
［従来の技術］
電子ビーム銃（［／Ｂガン）等を用いた長尺基板加熱装
置は、従来第２図に示すように、この電子ビームをビー
ム揺動点を中心として長尺基板の幅方向にスキャンさせ
て、平坦な基板に電子ビームを照射するものである。そ
して通常電子ビームは、基板の蛇行式を見るため、ある
いはビーム折返し点を基板ストリップ上から外す等のた
めに、オーバースキャンさせて使用している。このオー
バースキャンビームから真空槽壁を保護するなめ、水冷
式の冷却板によって電子ビームを遮蔽している。
置は、従来第２図に示すように、この電子ビームをビー
ム揺動点を中心として長尺基板の幅方向にスキャンさせ
て、平坦な基板に電子ビームを照射するものである。そ
して通常電子ビームは、基板の蛇行式を見るため、ある
いはビーム折返し点を基板ストリップ上から外す等のた
めに、オーバースキャンさせて使用している。このオー
バースキャンビームから真空槽壁を保護するなめ、水冷
式の冷却板によって電子ビームを遮蔽している。
［発明が解決しようとする課！！！］
ところが、以上の構成の装置を用いて、１軸揺動させ基
板を加熱すると、次の理由により基板の幅方向に温度む
らが生じてしまい、基板を均一に加熱することができな
いものであった。
板を加熱すると、次の理由により基板の幅方向に温度む
らが生じてしまい、基板を均一に加熱することができな
いものであった。
■基板中心と、両側部では電子ビームの入射角が異なり
、ビームパワー効率か基板上で同一にならない。
、ビームパワー効率か基板上で同一にならない。
■基板中心と、両側部では輻射熱の形態係数が異なり、
放熱量が異なる。
放熱量が異なる。
本発明は、このような問題点を克服し、基板を均一に加
熱することのできる装置を提供せんとするものである。
熱することのできる装置を提供せんとするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、このような課題を解決するために、基板の下
方に基板の幅よりも大きな遮蔽板を配置して、電子ビー
ムのオーバースキャンにより遮蔽板を加熱し、また昇温
した遮蔽板によって基板両側部を加熱して基板の温度む
らをなくそうとするものである。
方に基板の幅よりも大きな遮蔽板を配置して、電子ビー
ムのオーバースキャンにより遮蔽板を加熱し、また昇温
した遮蔽板によって基板両側部を加熱して基板の温度む
らをなくそうとするものである。
こうして本発明によれば、長尺基板の上部に基板加熱用
電子ビーム銃を配置して、電子ビームを基板の幅方向に
揺動させて、該基板に電子ビームを盟射するようにした
長尺基板の均一加熱装置において、基板下方に熱遮蔽板
を配置し、電子ビームをオーバースキャンさせて該遮蔽
板を加熱し、昇温した遮蔽板によって基板両側部を加熱
し、温度むらをなくすことを特徴とする装置が提供され
る。
電子ビーム銃を配置して、電子ビームを基板の幅方向に
揺動させて、該基板に電子ビームを盟射するようにした
長尺基板の均一加熱装置において、基板下方に熱遮蔽板
を配置し、電子ビームをオーバースキャンさせて該遮蔽
板を加熱し、昇温した遮蔽板によって基板両側部を加熱
し、温度むらをなくすことを特徴とする装置が提供され
る。
また本発明に用いる熱遮蔽板は、グラファイトや高融点
金属等で作られ、水冷板によって冷却してもよい。
金属等で作られ、水冷板によって冷却してもよい。
［作用］
本発明の装置は、電子ビームを基板の幅方向にオーバー
スキャンさせて、オーバースキャンビームによって遮蔽
板を加熱し、昇温した遮蔽板によって基板両側部を加熱
するため、基板の温度がその横軸上のどの点をとっても
等しくなり、従って基板を均一に加熱することができる
。
スキャンさせて、オーバースキャンビームによって遮蔽
板を加熱し、昇温した遮蔽板によって基板両側部を加熱
するため、基板の温度がその横軸上のどの点をとっても
等しくなり、従って基板を均一に加熱することができる
。
［実施例］
本発明の１実施例を、以下図面に基き詳細に説明する。
第１図に示すように、長尺基板１の上部には、基板加熱
用電子ビーム銃２が配置される。この長尺基板１は、例
えば鋼板巻取蒸着装置においては鋼板ストリップであり
、このほか鉄板、ステンレス板等の金属ストリップであ
り得る。この長尺基板１は、例えば幅を５００〜１００
０ｎｌ、厚さを０．１〜０．５１とし、搬送速度を２〜
２０１／ｉ ｉ ｎとするのが望ましい。
用電子ビーム銃２が配置される。この長尺基板１は、例
えば鋼板巻取蒸着装置においては鋼板ストリップであり
、このほか鉄板、ステンレス板等の金属ストリップであ
り得る。この長尺基板１は、例えば幅を５００〜１００
０ｎｌ、厚さを０．１〜０．５１とし、搬送速度を２〜
２０１／ｉ ｉ ｎとするのが望ましい。
電子ビーム銃２は、ビーム揺動点Ｏを中心として円弧状
に揺動する。この場合、例えばビーム電圧を１０〜１５
０にＶ、ビーム電流を０〜３Ａ、ビーム径を０．１〜１
００ｎ＋ｎとし、まな揺動周波数を５０〜２００１１ｚ
としてビームを円弧状に揺動するのが望ましい、を子ビ
ームは一定の揺動周波数で基板上に照射される。
に揺動する。この場合、例えばビーム電圧を１０〜１５
０にＶ、ビーム電流を０〜３Ａ、ビーム径を０．１〜１
００ｎ＋ｎとし、まな揺動周波数を５０〜２００１１ｚ
としてビームを円弧状に揺動するのが望ましい、を子ビ
ームは一定の揺動周波数で基板上に照射される。
長尺基板１の下方には、グラファイトや高融点金属等か
ら成る熱遮蔽板３が配置される。この遮蔽板３は、基板
の幅よりも大きな幅を有し、水冷板４によって水冷して
もよい。
ら成る熱遮蔽板３が配置される。この遮蔽板３は、基板
の幅よりも大きな幅を有し、水冷板４によって水冷して
もよい。
電子ビームは基板の幅方向にオーバースキャンされ、基
板の幅より外れたオーバースキャンビームによって遮蔽
板を加熱する。こうして昇温した遮蔽板によって基板両
側部が加熱され、従って基板中心部と両側部との間の温
度むらがなくなる。
板の幅より外れたオーバースキャンビームによって遮蔽
板を加熱する。こうして昇温した遮蔽板によって基板両
側部が加熱され、従って基板中心部と両側部との間の温
度むらがなくなる。
このため、基板の温度がその横軸上のどの点をとっても
等しくなり、従って基板を均一に加熱することができる
。
等しくなり、従って基板を均一に加熱することができる
。
［発明の効果］
本発明は、電子ビームを基板の幅方向にオーバースキャ
ンして、オーバースキャンビームによって遮蔽板を加熱
するため、加熱された遮蔽板によって基板両側部が加熱
され、従って基板の温度むらが簡単に防止される。
ンして、オーバースキャンビームによって遮蔽板を加熱
するため、加熱された遮蔽板によって基板両側部が加熱
され、従って基板の温度むらが簡単に防止される。
本発明はこのようにして、極めて簡単な構造で、しかも
低いコストで効率良く基板を均一に加熱することができ
るものである。
低いコストで効率良く基板を均一に加熱することができ
るものである。
第１図は本発明の装置の概略的な図式図、および第２図
は従来の装置の概略的な図式図をそれぞれ示す。
は従来の装置の概略的な図式図をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、長尺基板の上部に基板加熱用電子ビーム銃を配置し
て、電子ビームを基板の幅方向に揺動させて、該基板に
電子ビームを照射するようにした長尺基板の均一加熱装
置において、基板下方に熱遮蔽板を配置し、電子ビーム
をオーバースキャンさせて該遮蔽板を加熱し、昇温した
遮蔽板によって基板両側部を加熱し、温度むらをなくす
ことを特徴とする装置。 ２、該熱遮蔽板を水冷板によって冷却することを特徴と
する請求項１に記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21378188A JPH07105270B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 長尺基板均一加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21378188A JPH07105270B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 長尺基板均一加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0265089A true JPH0265089A (ja) | 1990-03-05 |
| JPH07105270B2 JPH07105270B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=16644934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21378188A Expired - Lifetime JPH07105270B2 (ja) | 1988-08-30 | 1988-08-30 | 長尺基板均一加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105270B2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-30 JP JP21378188A patent/JPH07105270B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07105270B2 (ja) | 1995-11-13 |
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Legal Events
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