JPH0225567A - 長尺基板均一加熱装置 - Google Patents
長尺基板均一加熱装置Info
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- JPH0225567A JPH0225567A JP17499888A JP17499888A JPH0225567A JP H0225567 A JPH0225567 A JP H0225567A JP 17499888 A JP17499888 A JP 17499888A JP 17499888 A JP17499888 A JP 17499888A JP H0225567 A JPH0225567 A JP H0225567A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、長尺基板均一加熱装置、特に電子ビーム銃を
用いた長尺基板均一加熱装置に関するものである。
用いた長尺基板均一加熱装置に関するものである。
この種の加熱装置は、例えば鋼板巻取蒸着装置における
前処理、後処理等に用いられて、蒸着前の説ガス予熱、
蒸着膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイ
クロメルト等を行うものである。
前処理、後処理等に用いられて、蒸着前の説ガス予熱、
蒸着膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイ
クロメルト等を行うものである。
［従来の技術］
電子ビーム銃（Ｅ／Ｂガン）等を用いな長尺基板加熱装
置は、従来第２図に示すように、この電子ビームをビー
ム揺動点を中心として長尺基板の幅方向に揺動させて、
平坦な基板に電子ビームを照射するものであった。
置は、従来第２図に示すように、この電子ビームをビー
ム揺動点を中心として長尺基板の幅方向に揺動させて、
平坦な基板に電子ビームを照射するものであった。
［発明が解決しようとする課題］
ところが、基板が平坦であるので、第２図に示すように
入射角θがＸ軸上の各点において異なり３、基板上のス
ポット形状、ビーム反射率がそれぞれ異なるため、基板
を均一に加熱することができないものであった。
入射角θがＸ軸上の各点において異なり３、基板上のス
ポット形状、ビーム反射率がそれぞれ異なるため、基板
を均一に加熱することができないものであった。
また、ビーム揺動揺動点から基板までの距離（ワークデ
イスタンス）が基板Ｘ軸上の各揺動点において異なり、
ビームスポットの寸法がＸ軸上で同一にならないなめに
、基板を均一に加熱することができないという問題点が
あった。
イスタンス）が基板Ｘ軸上の各揺動点において異なり、
ビームスポットの寸法がＸ軸上で同一にならないなめに
、基板を均一に加熱することができないという問題点が
あった。
本発明は、このような問題点を克服し、基板を均一に加
熱することのできる装置を提供せんとするものである。
熱することのできる装置を提供せんとするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、このような課題を解決するために、基板をビ
ーム揺動点を中心とした円弧状に撓ませ、ビーム揺動点
から基板までの距離、及び入射角を基板上のどの点にお
いても等しくして、基板を均一に加熱するように構成し
たものである。
ーム揺動点を中心とした円弧状に撓ませ、ビーム揺動点
から基板までの距離、及び入射角を基板上のどの点にお
いても等しくして、基板を均一に加熱するように構成し
たものである。
こうして本発明によれば、基板をビーム揺動点から基板
までの距離を半径とする曲率を有する湾曲ローラー上に
走行させて基板を幅方向に撓ませ、ビーム揺動点から基
板までの距離が、基板の横軸上のどの点でも等しくなる
ようにしたことを特徴とする長尺基板均一加熱装置が提
供される。
までの距離を半径とする曲率を有する湾曲ローラー上に
走行させて基板を幅方向に撓ませ、ビーム揺動点から基
板までの距離が、基板の横軸上のどの点でも等しくなる
ようにしたことを特徴とする長尺基板均一加熱装置が提
供される。
［作用］
本発明の装置は、長尺基板をビーム揺動点から基板まで
の距離を半径とする曲率を有する湾曲ローラー上に走行
させて基板を幅方向に撓ませ、ビーム揺動点から基板ま
での距離が、基板の横軸上のどの点をとっても等しくな
るようにした。
の距離を半径とする曲率を有する湾曲ローラー上に走行
させて基板を幅方向に撓ませ、ビーム揺動点から基板ま
での距離が、基板の横軸上のどの点をとっても等しくな
るようにした。
このために、ビームの入射角が基板の横軸上のどの点で
も垂直となり、従ってビームスポットの寸法、スポット
形状及びビーム反射率が基板の横軸上で等しくなり、基
板を均一に加熱することができる。
も垂直となり、従ってビームスポットの寸法、スポット
形状及びビーム反射率が基板の横軸上で等しくなり、基
板を均一に加熱することができる。
［実施例］
本発明の１実施例を、以下図面に基き詳細に説明する。
第１図に示すように、長尺基板１の上部には、基板加熱
用電子ビームＭ２が配置される。この長尺基板１は、例
えば鋼板巻取蒸着装置においては鋼板ストリップであり
、このほか銅板、鉄合金板。
用電子ビームＭ２が配置される。この長尺基板１は、例
えば鋼板巻取蒸着装置においては鋼板ストリップであり
、このほか銅板、鉄合金板。
ステンレス板等の金属ストリップであり得る。また蒸着
膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイクロ
メルト等を行う場合にも適用できる。
膜のアモルファス化並びに基板、蒸着膜表層のマイクロ
メルト等を行う場合にも適用できる。
この長尺基板１は、例えば幅を２００〜１５００ｍ１、
厚さを０．０５〜２．５ｎｍとし、搬送速度を１〜５０
ｎ／ｍｉｎとするのが望ましい。
厚さを０．０５〜２．５ｎｍとし、搬送速度を１〜５０
ｎ／ｍｉｎとするのが望ましい。
電子ビーム銃２は、ビーム揺動点Ｏを中心として円弧状
に揺動する。この場合、例えばビーム電圧を１０〜１０
０に■、ビーム電流を１０〜２００ｍＡ 、ビーム径を
０．１〜１００１１ｍとし、また揺動周波数をＯ〜１０
０１１ｚとしてビームを円弧状に揺動するのが望ましい
、電子ビームは一定の揺動周波数で基板上に照射される
。
に揺動する。この場合、例えばビーム電圧を１０〜１０
０に■、ビーム電流を１０〜２００ｍＡ 、ビーム径を
０．１〜１００１１ｍとし、また揺動周波数をＯ〜１０
０１１ｚとしてビームを円弧状に揺動するのが望ましい
、電子ビームは一定の揺動周波数で基板上に照射される
。
長尺基板１は、第３図に示すように、ビーム点０から基
板までの距離ＷＤを半径とする曲率を有する凹形の湾曲
ローラー３上を、一定の搬送速度で走行される。このよ
うにして、基板は湾曲ローラー３と同一の曲率で幅方向
に撓み、従って、■ビーム点０から基板までの距離ＷＤ
は、基板の横軸上のどの点をとっても等しくなり、まな
■ビームの入射角が、基板の横軸上のどの点をとっても
垂直となる。
板までの距離ＷＤを半径とする曲率を有する凹形の湾曲
ローラー３上を、一定の搬送速度で走行される。このよ
うにして、基板は湾曲ローラー３と同一の曲率で幅方向
に撓み、従って、■ビーム点０から基板までの距離ＷＤ
は、基板の横軸上のどの点をとっても等しくなり、まな
■ビームの入射角が、基板の横軸上のどの点をとっても
垂直となる。
従って、上記■、■によりビームスポットの寸法、スポ
ット形状及びビーム反射率が基板の横軸上で常に等しく
なり、基板を均一に加熱することができる。
ット形状及びビーム反射率が基板の横軸上で常に等しく
なり、基板を均一に加熱することができる。
長尺基板１の厚さが大きい場合、第４図に示すように、
基板を凹形の湾曲ローラー３と凸形の湾曲ローラー４と
の間に挟持して撓ませ、走行させるのが望ましい。
基板を凹形の湾曲ローラー３と凸形の湾曲ローラー４と
の間に挟持して撓ませ、走行させるのが望ましい。
［発明の効果］
本発明は、長尺基板を、ビーム揺動点から基板までの距
離を半径とする曲率を有する凹形の湾曲ローラー上を走
行させるので、基板は湾曲ローラーと同一の曲率で幅方
向に撓み、従って、ビーム揺動点から基板までの距離が
、基板の横軸上のどの点をとっても等しくなり、またビ
ームの入射角が、基板の横軸上のどの点をとっても垂直
となって、基板を均一に加熱することができる０本発明
はこのようにして、極めて簡単な！Ｒ遣で、しかも低い
コストで効率良く基板を均一に加熱することができるも
のである。
離を半径とする曲率を有する凹形の湾曲ローラー上を走
行させるので、基板は湾曲ローラーと同一の曲率で幅方
向に撓み、従って、ビーム揺動点から基板までの距離が
、基板の横軸上のどの点をとっても等しくなり、またビ
ームの入射角が、基板の横軸上のどの点をとっても垂直
となって、基板を均一に加熱することができる０本発明
はこのようにして、極めて簡単な！Ｒ遣で、しかも低い
コストで効率良く基板を均一に加熱することができるも
のである。
第１図は本発明の装置の概略的な図式図、第２図は従来
の装置の概略的な図式図、第３図は第１図に示す装置の
正面図、及び第４図は本発明の別の実施例による第３図
と同様な図である。 図中、 １・・・長尺基板、 ・・基板加熱用電子ビー ム銃、 ３・・・凹形の湾曲ローラー、 ４・・・凸形の湾曲 ローラー 第１図 第２図
の装置の概略的な図式図、第３図は第１図に示す装置の
正面図、及び第４図は本発明の別の実施例による第３図
と同様な図である。 図中、 １・・・長尺基板、 ・・基板加熱用電子ビー ム銃、 ３・・・凹形の湾曲ローラー、 ４・・・凸形の湾曲 ローラー 第１図 第２図
Claims (1)
- 長尺基板の上部に基板加熱用電子ビーム銃を配置して、
該電子ビーム銃を基板の幅方向に揺動させて、該基板に
電子ビームを照射するようにした長尺基板の均一加熱装
置において、該基板をビーム揺動点から基板までの距離
を半径とする曲率を有する湾曲ローラー上に走行させて
基板を幅方向に撓ませ、ビーム点から基板までの距離が
、基板の横軸上のどの点でも等しくなるようにしたこと
を特徴とする長尺基板均一加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17499888A JPH0621358B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 長尺基板均一加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17499888A JPH0621358B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 長尺基板均一加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0225567A true JPH0225567A (ja) | 1990-01-29 |
| JPH0621358B2 JPH0621358B2 (ja) | 1994-03-23 |
Family
ID=15988429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17499888A Expired - Lifetime JPH0621358B2 (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 長尺基板均一加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0621358B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05507965A (ja) * | 1990-06-21 | 1993-11-11 | ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュアルフト―ウント ラウムファールト エー．ファウ | 基材材料を被覆するための方法及び装置 |
| KR100269936B1 (ko) * | 1995-12-22 | 2000-10-16 | 미다라이 후지오 | 퇴적막형성방법및장치 |
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
| WO2018180505A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | ウエブ送給方法およびそれに用いるウエブ送給装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5871128B2 (ja) * | 2012-02-06 | 2016-03-01 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 磁区細分化処理方法および磁区細分化処理装置 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP17499888A patent/JPH0621358B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05507965A (ja) * | 1990-06-21 | 1993-11-11 | ドイチェ フォルシュングスアンシュタルト フュアルフト―ウント ラウムファールト エー．ファウ | 基材材料を被覆するための方法及び装置 |
| KR100269936B1 (ko) * | 1995-12-22 | 2000-10-16 | 미다라이 후지오 | 퇴적막형성방법및장치 |
| US6350489B1 (en) | 1995-12-22 | 2002-02-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Deposited-film forming process and deposited-film forming apparatus |
| EP0782176B1 (en) * | 1995-12-22 | 2008-09-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Deposited-film forming process and deposited-film forming apparatus |
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
| WO2018180505A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 日東電工株式会社 | ウエブ送給方法およびそれに用いるウエブ送給装置 |
| CN110325466A (zh) * | 2017-03-31 | 2019-10-11 | 日东电工株式会社 | 片材供给方法和该片材供给方法所使用的片材供给装置 |
| KR20190132352A (ko) * | 2017-03-31 | 2019-11-27 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 웨브 송급 방법 및 그것에 이용되는 웨브 송급 장치 |
| CN110325466B (zh) * | 2017-03-31 | 2021-06-25 | 日东电工株式会社 | 片材供给方法和该片材供给方法所使用的片材供给装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0621358B2 (ja) | 1994-03-23 |
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