JPH0265333U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0265333U JPH0265333U JP14489288U JP14489288U JPH0265333U JP H0265333 U JPH0265333 U JP H0265333U JP 14489288 U JP14489288 U JP 14489288U JP 14489288 U JP14489288 U JP 14489288U JP H0265333 U JPH0265333 U JP H0265333U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- resist coating
- coating apparatus
- chuck
- rotating shaft
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第1図は本考案の実施例を示す図、第2図は本
考案の実施例の作用を説明するための図、第3図
は従来のレジスト塗布装置を示す図、第4図は従
来のレジスト塗布装置でウエハー上に塗布したレ
ジストの形状を示す図である。 図において、10はチヤツク、10aは吸着面
、11は真空吸引用の孔、12は回転軸、13は
段差部、14はウエハー、15はレジスト、16
はオリエンテーシヨンフラツトを示す。
考案の実施例の作用を説明するための図、第3図
は従来のレジスト塗布装置を示す図、第4図は従
来のレジスト塗布装置でウエハー上に塗布したレ
ジストの形状を示す図である。 図において、10はチヤツク、10aは吸着面
、11は真空吸引用の孔、12は回転軸、13は
段差部、14はウエハー、15はレジスト、16
はオリエンテーシヨンフラツトを示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 真空によりウエハー14を吸着保持し、その吸
着面に対し垂直に設けられた回転軸12により回
転するチヤツク10を少なくとも具備したレジス
ト塗布装置において、 上記チヤツク10にウエハー14のオリエンテ
ーシヨンフラツト16に当接し、且つウエハー1
4の厚さと等しい高さの段差部13を設けたこと
を特徴とするレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14489288U JPH0632673Y2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14489288U JPH0632673Y2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | レジスト塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0265333U true JPH0265333U (ja) | 1990-05-16 |
| JPH0632673Y2 JPH0632673Y2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=31413000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14489288U Expired - Lifetime JPH0632673Y2 (ja) | 1988-11-08 | 1988-11-08 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0632673Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05283511A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 真空吸着装置 |
-
1988
- 1988-11-08 JP JP14489288U patent/JPH0632673Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05283511A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 真空吸着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0632673Y2 (ja) | 1994-08-24 |