JPH0267716A - マスク保持装置 - Google Patents
マスク保持装置Info
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- JPH0267716A JPH0267716A JP63218525A JP21852588A JPH0267716A JP H0267716 A JPH0267716 A JP H0267716A JP 63218525 A JP63218525 A JP 63218525A JP 21852588 A JP21852588 A JP 21852588A JP H0267716 A JPH0267716 A JP H0267716A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、高集積半導体回路素子の製造のためのりソゲ
ラフイエ程のうち転写工程で用いるマスク保持装置に関
するものであり、特にＸ線露光装置に用いて好適なマス
ク保持装置に関するものである。
ラフイエ程のうち転写工程で用いるマスク保持装置に関
するものであり、特にＸ線露光装置に用いて好適なマス
ク保持装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、露光装置におけるマスク保持装置には真空吸着方
式によるものと、磁力による吸着方式のものとが用いら
れている。磁力による吸着方式のマスク保持装置には、
電磁石を使ったものと、永久磁石と電磁石を使ったもの
がある。
式によるものと、磁力による吸着方式のものとが用いら
れている。磁力による吸着方式のマスク保持装置には、
電磁石を使ったものと、永久磁石と電磁石を使ったもの
がある。
第４図は、電磁力を用いたマスク保持装置の断面を示す
。この種の装置は、例えば特開昭６０−７７４２４号公
報等に開示されているようなものである。
。この種の装置は、例えば特開昭６０−７７４２４号公
報等に開示されているようなものである。
同図において、１は少なくとも一部が磁性材料で構成さ
れるマスクフレーム、２はメンブレン、３は吸収体、６
は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、４は磁路
を形成するためのヨーク（マスフホルダ）、７はソレノ
イドコイルに通電するためのリード線、１１はソレノイ
ドコイル６からの発熱を外部に取り去るための冷却水用
配管である。
れるマスクフレーム、２はメンブレン、３は吸収体、６
は磁力線を発生するためのソレノイドコイル、４は磁路
を形成するためのヨーク（マスフホルダ）、７はソレノ
イドコイルに通電するためのリード線、１１はソレノイ
ドコイル６からの発熱を外部に取り去るための冷却水用
配管である。
同図の状態で、マスクフレーム１をマスクホルダ４に接
しながら、ソレノイドコイル６に通電すると、マスクホ
ルダ４が励磁され、マスクフレーム１はマスクホルダ４
に磁気的に吸着保持される。次に、通電をやめると、マ
スクフレーム１はマスクホルダ４から外れる。
しながら、ソレノイドコイル６に通電すると、マスクホ
ルダ４が励磁され、マスクフレーム１はマスクホルダ４
に磁気的に吸着保持される。次に、通電をやめると、マ
スクフレーム１はマスクホルダ４から外れる。
また、第３図は、永久磁石の磁気力を用いたマスク保持
装置の断面を示す。この種の装置は例えば特開昭６２−
２１８２２７号公報等に開示されている。
装置の断面を示す。この種の装置は例えば特開昭６２−
２１８２２７号公報等に開示されている。
同図において、１はマスクフレーム、５はリング状の永
久磁石、６ａ、６ｂはリング状に巻いであるソレノイド
コイル、４は磁路を形成するためのマスクホルダ、７は
ソレノイドコイル６ａ’５ｂに通電するためのリード線
である。同図の構成において、永久磁石５から出ている
磁束はマスクフレーム１を通り、マスクホルダ４を介し
て永久６ｎ石５の下面へと循環し、これによりマスクフ
レーム１が吸着保持される。次に、永久磁石５の磁束に
対して一時的に相殺する磁束をソレノイドコイル６ａ、
６ｂによって生じさせるとマスクホルダ４とマスクフレ
ーム１との間の吸着力はなくなりマスクフレーム１が外
れる。
久磁石、６ａ、６ｂはリング状に巻いであるソレノイド
コイル、４は磁路を形成するためのマスクホルダ、７は
ソレノイドコイル６ａ’５ｂに通電するためのリード線
である。同図の構成において、永久磁石５から出ている
磁束はマスクフレーム１を通り、マスクホルダ４を介し
て永久６ｎ石５の下面へと循環し、これによりマスクフ
レーム１が吸着保持される。次に、永久磁石５の磁束に
対して一時的に相殺する磁束をソレノイドコイル６ａ、
６ｂによって生じさせるとマスクホルダ４とマスクフレ
ーム１との間の吸着力はなくなりマスクフレーム１が外
れる。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記従来例ではいずれの場合においても
電磁石を使っていることから、ソレノイドコイルの短絡
および断線並びにソレノイドコイルに電流を供給する電
源の異常、およびソレノイドコイルのＯＮ１０ Ｆ Ｆ
信号を与えるＣＰＵの異常等に対して何ら対策が施され
てないかった。
電磁石を使っていることから、ソレノイドコイルの短絡
および断線並びにソレノイドコイルに電流を供給する電
源の異常、およびソレノイドコイルのＯＮ１０ Ｆ Ｆ
信号を与えるＣＰＵの異常等に対して何ら対策が施され
てないかった。
従って、マスク交換時に、マスクをマスク保持装置に吸
着保持する際、ソレノイドコイルに電流が供給状態とな
っていて、吸着しなかったり、逆にマスク保持装置から
外す際にソレノイドコイルへ電流が供給できない状態と
なっていて離脱できないといった問題を生じていた。
着保持する際、ソレノイドコイルに電流が供給状態とな
っていて、吸着しなかったり、逆にマスク保持装置から
外す際にソレノイドコイルへ電流が供給できない状態と
なっていて離脱できないといった問題を生じていた。
また、Ｘ線源にＳＯＲ光（シンクロトン放射光）のよう
な照射エネルギーを用い、地平線に対して水平方向にマ
スクを照射する場合には、マスクを垂直に立てて保持し
なければならない。そのため、上記トラブルが発生した
場合、マスクが落下したり、マスク保持装置上で吸着状
態を維持して、マスク交換ができなくなるといった問題
を生じることになる。
な照射エネルギーを用い、地平線に対して水平方向にマ
スクを照射する場合には、マスクを垂直に立てて保持し
なければならない。そのため、上記トラブルが発生した
場合、マスクが落下したり、マスク保持装置上で吸着状
態を維持して、マスク交換ができなくなるといった問題
を生じることになる。
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、極めて微細で高
精度な転写マスクの保持が要求されるＸ線露光装置にお
いて露光雰囲気が減圧ヘリウムガス、窒素ガスや真空状
態といった特殊な環境の中であっても、極めて高い信頼
性のもとでマスクの保持および離脱の動作が行なえるマ
スク保持装置を提供することを目的とする。
精度な転写マスクの保持が要求されるＸ線露光装置にお
いて露光雰囲気が減圧ヘリウムガス、窒素ガスや真空状
態といった特殊な環境の中であっても、極めて高い信頼
性のもとでマスクの保持および離脱の動作が行なえるマ
スク保持装置を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段および作用］上記の目的を
達成するため、本発明に係るマスク保持装置は、少なく
とも一部が磁性材料で構成されるマスクまたはマスクフ
レームと、その磁性材料を吸着保持する永久磁石と、永
久磁石が形成する磁束を一時的に打ち消す複数系統の電
磁石のソレノイドコイルと、ソレノイドコイルに励磁電
流を供給する複数の電源とを備えたことを特徴としてい
る。
達成するため、本発明に係るマスク保持装置は、少なく
とも一部が磁性材料で構成されるマスクまたはマスクフ
レームと、その磁性材料を吸着保持する永久磁石と、永
久磁石が形成する磁束を一時的に打ち消す複数系統の電
磁石のソレノイドコイルと、ソレノイドコイルに励磁電
流を供給する複数の電源とを備えたことを特徴としてい
る。
これにより、永久磁石が形成する磁束に対して逆の磁束
を発生させるソレノイドコイルに係る装置に冗長性を持
たせることとなり、安定したマスクの吸着離脱動作を実
現することができる。
を発生させるソレノイドコイルに係る装置に冗長性を持
たせることとなり、安定したマスクの吸着離脱動作を実
現することができる。
［実施例］
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の第１゛の実施例に係るマスク保持装
置の断面図を示す。同図において、１は磁性材料から成
るマスクフレーム、２はこのマスクフレーム１上に回路
パターンを形成するためのメンブレン、３は照射エネル
ギーを吸収する吸収体、４は磁気回路を構成するための
マスクホルダ、５は円環状の永久磁石（鉛直方向に分８
ｉ着６２２）、６ａ、６ｂは永久磁石５の内側および外
側のまわりに巻かれたソレノイドコイル、７ａ。
置の断面図を示す。同図において、１は磁性材料から成
るマスクフレーム、２はこのマスクフレーム１上に回路
パターンを形成するためのメンブレン、３は照射エネル
ギーを吸収する吸収体、４は磁気回路を構成するための
マスクホルダ、５は円環状の永久磁石（鉛直方向に分８
ｉ着６２２）、６ａ、６ｂは永久磁石５の内側および外
側のまわりに巻かれたソレノイドコイル、７ａ。
７ｂはソレノイドコイル６ａ、６ｂに電流を供給するた
めのリード線、８ａ、８ｂはソレノイドコイル６ａ、６
ｂに電流を供給するための電源、９はソレノイドコイル
６ａ、６ｂにＯＮ１０ Ｆ Ｆ信号を与えるＣＰＵであ
る。
めのリード線、８ａ、８ｂはソレノイドコイル６ａ、６
ｂに電流を供給するための電源、９はソレノイドコイル
６ａ、６ｂにＯＮ１０ Ｆ Ｆ信号を与えるＣＰＵであ
る。
永久磁石５の上面から出た磁束は、マスクホルダ４を通
って永久磁石５の下面へと循環している。また、永久磁
石５の吸着力に対し、ソレノイドコイル６ａ、６ｂ単体
での電磁石（ただし、永久磁石の吸着力に対して逆方向
）の吸着力を適当な割合に設定すれば、一方のソレノイ
ドコイルの異常時に対応できる。例えば、永久磁石５の
吸着力を１００とし、ソレノイドコイル６ａ、６ｂの吸
着力をそれぞれ６５．６５とすれば、通常の離脱力は３
０（両ソレノイドコイル６ａ、６ｂを合わせた吸着力１
３０と永久磁石５の吸着力１００との差）となり、また
故障時の離脱力は３５（ソレノイドコイル６ａ、６ｂの
一方の吸着力６５と永久磁石５の吸着力１００との差）
となる。従って、ソレノイドコイル６ａ、６ｂの一方の
系統に何らかの異常があっても、マスクの保持および離
脱の動作を安定して行なうことができる。
って永久磁石５の下面へと循環している。また、永久磁
石５の吸着力に対し、ソレノイドコイル６ａ、６ｂ単体
での電磁石（ただし、永久磁石の吸着力に対して逆方向
）の吸着力を適当な割合に設定すれば、一方のソレノイ
ドコイルの異常時に対応できる。例えば、永久磁石５の
吸着力を１００とし、ソレノイドコイル６ａ、６ｂの吸
着力をそれぞれ６５．６５とすれば、通常の離脱力は３
０（両ソレノイドコイル６ａ、６ｂを合わせた吸着力１
３０と永久磁石５の吸着力１００との差）となり、また
故障時の離脱力は３５（ソレノイドコイル６ａ、６ｂの
一方の吸着力６５と永久磁石５の吸着力１００との差）
となる。従って、ソレノイドコイル６ａ、６ｂの一方の
系統に何らかの異常があっても、マスクの保持および離
脱の動作を安定して行なうことができる。
上記構成においてマスクフレーム１をマスクホルダ４に
近付けると永久磁石５、マスクホルダ４およびマスクフ
レーム１により磁気回路が形成され、マスクフレーム１
は永久磁石５およびマスクホルダ４に吸引され吸着する
。離脱する際は永久磁石５の磁束に対して逆の磁束が発
生するように、ソレノイド６ａ、８ｂに電源８ａ、８ｂ
よりリード線７ａ、７ｂを介して通電し、−時的に磁力
を相殺して離脱動作を行なう。この場合、電源に不図示
の自己診断機能があって誤動作なく電流が供給できるな
らば、上述のコイルの吸着力があれば通常時、故障時、
いずれの場合においても安定した動作をＣＰＵ９から指
令することができる。なお、ソレノイドコイルは２つ以
上であれば良くまた、電源については２つ以上あること
が望ましい。
近付けると永久磁石５、マスクホルダ４およびマスクフ
レーム１により磁気回路が形成され、マスクフレーム１
は永久磁石５およびマスクホルダ４に吸引され吸着する
。離脱する際は永久磁石５の磁束に対して逆の磁束が発
生するように、ソレノイド６ａ、８ｂに電源８ａ、８ｂ
よりリード線７ａ、７ｂを介して通電し、−時的に磁力
を相殺して離脱動作を行なう。この場合、電源に不図示
の自己診断機能があって誤動作なく電流が供給できるな
らば、上述のコイルの吸着力があれば通常時、故障時、
いずれの場合においても安定した動作をＣＰＵ９から指
令することができる。なお、ソレノイドコイルは２つ以
上であれば良くまた、電源については２つ以上あること
が望ましい。
第２図は、本発明の第２の実施例に係るマスク保持装置
の構成を示す。
の構成を示す。
この第２の実施例では第１図と同様にソレノイドコイル
６ａ、６ｂを２つの電源８ａ、８ｂ″ｒ：駆動している
が、その他にソレノイドコイル６ａ６ｂの断線ならびに
短絡を検知するソレノイドコイル異常検出部１０ａ、１
０ｂ、およびソレノイドコイル６ａ、６ｂに対応してＣ
Ｐｏｌｌａ。
６ａ、６ｂを２つの電源８ａ、８ｂ″ｒ：駆動している
が、その他にソレノイドコイル６ａ６ｂの断線ならびに
短絡を検知するソレノイドコイル異常検出部１０ａ、１
０ｂ、およびソレノイドコイル６ａ、６ｂに対応してＣ
Ｐｏｌｌａ。
１１ｂを配置しである。さらに、これら２つのＣＰＵを
コントロールするＣＰＵ９を置いている。
コントロールするＣＰＵ９を置いている。
上記構成において、通常、離脱動作を行なう場合には、
ソレノイドコイル６ａ、６ｂのそれぞれに対し、その吸
着力が永久磁石５の吸着力の半分となるように励磁電流
を供給する。これにより離脱力はほぼゼロとなる。
ソレノイドコイル６ａ、６ｂのそれぞれに対し、その吸
着力が永久磁石５の吸着力の半分となるように励磁電流
を供給する。これにより離脱力はほぼゼロとなる。
また、例えばソレノイドコイル６ａが短絡または断線し
た場合には、先ずソレノイドコイル異常検出部１０ａが
これを検知する。この異常はＣＰＵ１ｌａを通じてＣＰ
Ｕ９に伝わる。ＣＰＵ９はこの信号を受け、これ以後ソ
レノイドコイル６ｂのみによって離脱動作ができるよう
に励磁電流を制御する。すなわち離脱動作の際には、Ｃ
ＰＵ１１ｂを通じてソレノイドコイル６ｂｋ：＠脱動作
ができるような電流を供給するようにするのである。
た場合には、先ずソレノイドコイル異常検出部１０ａが
これを検知する。この異常はＣＰＵ１ｌａを通じてＣＰ
Ｕ９に伝わる。ＣＰＵ９はこの信号を受け、これ以後ソ
レノイドコイル６ｂのみによって離脱動作ができるよう
に励磁電流を制御する。すなわち離脱動作の際には、Ｃ
ＰＵ１１ｂを通じてソレノイドコイル６ｂｋ：＠脱動作
ができるような電流を供給するようにするのである。
なお、同図において不図示ではあるがそれぞれのＣＰＵ
および電源は自己診断機能を有している。
および電源は自己診断機能を有している。
永久磁石の種類および数、ソレノイドコイルの種類およ
び数、ＣＰＵや電源の数等については、様々なバリエー
ションが考えられるが、ここでは代表的な２つの実施例
についてだけ述べた。
び数、ＣＰＵや電源の数等については、様々なバリエー
ションが考えられるが、ここでは代表的な２つの実施例
についてだけ述べた。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、ソレノイドコイ
ルの吸着力を永久磁石の吸着力に対しである一定の割合
で設定することにより、ソレノイドコイル故障時におい
ても安定した動作を行なうことができる。
ルの吸着力を永久磁石の吸着力に対しである一定の割合
で設定することにより、ソレノイドコイル故障時におい
ても安定した動作を行なうことができる。
また、それぞれのソレノイドコイルに対して異常検出部
、ＣＰＵ、電源を配置すれば、通常時ならびに故障時で
も安定した動作ができるばかりでなく、離脱に要する力
もゼロから可変な値で設定することができる。
、ＣＰＵ、電源を配置すれば、通常時ならびに故障時で
も安定した動作ができるばかりでなく、離脱に要する力
もゼロから可変な値で設定することができる。
第１図は、本発明の第１の実施例に係るマスク保持装置
の断面図、 第２図は、本発明の第２の実施例に係に係るマスク保持
装置の断面図、 第３図、第４図は従来の磁力によるマスク保持装置の断
面図である。 １２：冷却用水管。
の断面図、 第２図は、本発明の第２の実施例に係に係るマスク保持
装置の断面図、 第３図、第４図は従来の磁力によるマスク保持装置の断
面図である。 １２：冷却用水管。
Claims (2)
- （１）マスクに形成されたパターンをウェハ上に転写す
る露光装置における該マスクの保持装置であって、 少なくとも一部が磁性材料で構成されるマスクまたはマ
スクフレームと、該磁性材料を吸着保持する永久磁石を
含む吸着手段と、該永久磁石が形成する磁束を一時的に
打ち消す複数系統の電磁石のソレノイドコイルと、該ソ
レノイドコイルに励磁電流を供給する複数の電源とを備
えたことを特徴とするマスク保持装置。 - （２）前記複数のソレノイドコイルの各々についての異
常を検知し、該異常検知情報に基づいて各ソレノイドコ
イルに供給する励磁電流を制御する制御手段を備える特
許請求の範囲第１項に記載のマスク保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63218525A JP2649556B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | マスク保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63218525A JP2649556B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | マスク保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267716A true JPH0267716A (ja) | 1990-03-07 |
| JP2649556B2 JP2649556B2 (ja) | 1997-09-03 |
Family
ID=16721296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63218525A Expired - Fee Related JP2649556B2 (ja) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | マスク保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2649556B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019096712A (ja) * | 2017-11-22 | 2019-06-20 | 大日本印刷株式会社 | 基板保持装置及びパターン形成装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58140609U (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | 株式会社白金製作所 | 磁力駆動装置 |
| JPS59159505A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-10 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 永電磁石 |
| JPS60251621A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-12 | Hitachi Ltd | Ｘ線マスク及びこれを用いたｘ線露光装置 |
-
1988
- 1988-09-02 JP JP63218525A patent/JP2649556B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58140609U (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | 株式会社白金製作所 | 磁力駆動装置 |
| JPS59159505A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-10 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 永電磁石 |
| JPS60251621A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-12 | Hitachi Ltd | Ｘ線マスク及びこれを用いたｘ線露光装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019096712A (ja) * | 2017-11-22 | 2019-06-20 | 大日本印刷株式会社 | 基板保持装置及びパターン形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2649556B2 (ja) | 1997-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |