JPH0269318A - Ba↓2YCu↓3O↓7−δ超電導薄膜の製造方法 - Google Patents
Ba↓2YCu↓3O↓7−δ超電導薄膜の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の属する技術分野]
本発明は、基体上に金属酸化物超電導薄膜を形成する方
法に関する。
法に関する。
[従来の技術]
従来、電気抵抗がOになる超電導転移温度Tcの高い超
電導材料としては、Nb 3 Sn 、 Nb sGe
などの合金系のものが知られている。しかしこれらはせ
いぜいTcが23Kまでであり、広く実用化されるには
ほど遠いものであった。
電導材料としては、Nb 3 Sn 、 Nb sGe
などの合金系のものが知られている。しかしこれらはせ
いぜいTcが23Kまでであり、広く実用化されるには
ほど遠いものであった。
最近J、G、Bednolz等によりBa−La−CU
−0系酸化物混合相の焼結体が13に以下で抵抗率が減
少すること、また直流磁化率が3Oにより反磁性に転す
ることを示し、高温超電導の可能性を示唆して以来、各
国で高温超電導体の研究が活発に行われている。 19
87年に入って、C,W、P、Chu等により YBa
2 COs 0?−δ系で、液体窒素温度77Kを上
回る90に程度のTCを示すことが発表され、続いてY
を他の希土類元素で置換した、組成式LnBa 2 C
u s 0s−y (Lnは希土類元素)で表わされる
セラミック材料が、いずれも同程度の高いTcを有する
超電導体であることがわかってきており、現在実用化を
目指して線材化、薄膜化の研究がなされている。
−0系酸化物混合相の焼結体が13に以下で抵抗率が減
少すること、また直流磁化率が3Oにより反磁性に転す
ることを示し、高温超電導の可能性を示唆して以来、各
国で高温超電導体の研究が活発に行われている。 19
87年に入って、C,W、P、Chu等により YBa
2 COs 0?−δ系で、液体窒素温度77Kを上
回る90に程度のTCを示すことが発表され、続いてY
を他の希土類元素で置換した、組成式LnBa 2 C
u s 0s−y (Lnは希土類元素)で表わされる
セラミック材料が、いずれも同程度の高いTcを有する
超電導体であることがわかってきており、現在実用化を
目指して線材化、薄膜化の研究がなされている。
なかでも薄膜化技術は、超電導材料をエレクトロニクス
デバイスに利用するためには不可欠の技術であり、真空
蒸着法、スパッタリング法、CVD法、電子ビーム蒸着
法、分子線エピタキシー法、有機金属熱分解法等種々の
方法が検討されている。
デバイスに利用するためには不可欠の技術であり、真空
蒸着法、スパッタリング法、CVD法、電子ビーム蒸着
法、分子線エピタキシー法、有機金属熱分解法等種々の
方法が検討されている。
これらの方法のうち有機金属熱分解法を除く真空蒸着法
、スパッタリング法、CVD法などは一般にプロセスが
複雑であり、装置も複雑かつ大型なので、膨大な設備投
資が必要となる他、蒸発速度等の相違に基づいて組成に
ずれが生じ易く、4■成の厳密な調整が困難である。ま
た原料の有効利用率が低いため無駄が多く、更に原料の
分解物による装置の汚染の問題もある。
、スパッタリング法、CVD法などは一般にプロセスが
複雑であり、装置も複雑かつ大型なので、膨大な設備投
資が必要となる他、蒸発速度等の相違に基づいて組成に
ずれが生じ易く、4■成の厳密な調整が困難である。ま
た原料の有効利用率が低いため無駄が多く、更に原料の
分解物による装置の汚染の問題もある。
尚CVD法では蒸気圧の大きいバリウム化合物が得られ
ていないため、超電導体薄膜は合成されていない。
ていないため、超電導体薄膜は合成されていない。
これらの方法に対して有機金属熱分解法は、有機金属化
合物の有機溶媒溶液を浸漬法、引き上げ法、スピンナー
法、スクリーン印刷法等の方法で基体に塗布し、該化合
物の熱分解温度以上の温度で焼成することによって有m
物を分解除去し、金属又は金属酸化物薄膜を形成する方
法であり、陶磁器、ガラス等の装飾分野やエレクトロニ
クス分野において金属や金属酸化物の被膜を形成する方
法として応用されているものであるが、大型で高価な設
備を必要とせず、非常に薄い薄膜を極めて容易に形成で
きるのみならず、原料を溶液の状態で混合するなめ極め
て均一に混合され、しかも熱分解時に成分元素が活性な
原子状態で反応して複合化するため、組成的に非常に均
一な薄膜か得られ、かつ原料化合物の混合比率を変化さ
せることによって容易に組成の制御ができる利点がある
。
合物の有機溶媒溶液を浸漬法、引き上げ法、スピンナー
法、スクリーン印刷法等の方法で基体に塗布し、該化合
物の熱分解温度以上の温度で焼成することによって有m
物を分解除去し、金属又は金属酸化物薄膜を形成する方
法であり、陶磁器、ガラス等の装飾分野やエレクトロニ
クス分野において金属や金属酸化物の被膜を形成する方
法として応用されているものであるが、大型で高価な設
備を必要とせず、非常に薄い薄膜を極めて容易に形成で
きるのみならず、原料を溶液の状態で混合するなめ極め
て均一に混合され、しかも熱分解時に成分元素が活性な
原子状態で反応して複合化するため、組成的に非常に均
一な薄膜か得られ、かつ原料化合物の混合比率を変化さ
せることによって容易に組成の制御ができる利点がある
。
更に複雑な形状の基体上にも容易に成膜することができ
る。
る。
[発明か解決しようとする課題]
この有機金属熱分解法による超電導体薄膜の製造に使用
される有機金属化合物としては、脂肪酸金属塩や金属レ
ジネート、金属アルコキシドなどが報告されている。こ
のうちナフテン酸塩等の脂肪酸塩を出発原料とする場合
は、有機溶媒に対する選択性があり、又特に複数の金属
の混合系では熱分解過程に問題があったり、保存安定性
に欠けるなどの性質を有するため、超電導を示す複合金
属酸化物の製造が極めて難しく、又、金属のメトキシド
、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等の従来一般
に用いられる低級アルキルアルコールのアルコキシドの
場合は、金属含有率が高く、又合成も簡単であり、はと
んどの金属で化合物を作ることができるので、薄膜原料
として期待されているが、保存安定性に欠ける欠点があ
る。即ちこれらの金属アルコキシドは加水分解し易く、
又有機溶媒に対する安定性が悪いので、化合物そのもの
の取扱いが誼しい上、溶液の状態で長時間保存すると一
部分解してしまう結果、均一な膜厚が得られにくくなる
ため薄膜の形成には必ずし#J適していなかった。更に
金属アルコキシドは有機溶媒に対する選択性があり、ご
く限られた有機溶媒にしか溶解しないので、原材料とし
て使用する上で大きな問題がある。
される有機金属化合物としては、脂肪酸金属塩や金属レ
ジネート、金属アルコキシドなどが報告されている。こ
のうちナフテン酸塩等の脂肪酸塩を出発原料とする場合
は、有機溶媒に対する選択性があり、又特に複数の金属
の混合系では熱分解過程に問題があったり、保存安定性
に欠けるなどの性質を有するため、超電導を示す複合金
属酸化物の製造が極めて難しく、又、金属のメトキシド
、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド等の従来一般
に用いられる低級アルキルアルコールのアルコキシドの
場合は、金属含有率が高く、又合成も簡単であり、はと
んどの金属で化合物を作ることができるので、薄膜原料
として期待されているが、保存安定性に欠ける欠点があ
る。即ちこれらの金属アルコキシドは加水分解し易く、
又有機溶媒に対する安定性が悪いので、化合物そのもの
の取扱いが誼しい上、溶液の状態で長時間保存すると一
部分解してしまう結果、均一な膜厚が得られにくくなる
ため薄膜の形成には必ずし#J適していなかった。更に
金属アルコキシドは有機溶媒に対する選択性があり、ご
く限られた有機溶媒にしか溶解しないので、原材料とし
て使用する上で大きな問題がある。
本発明の目的は、従来用いられていた金属アルコキシド
より安定な、新規な薄膜形成原料を用いて、熱分解法に
より均一な超電導体薄膜を容易に形成することにある。
より安定な、新規な薄膜形成原料を用いて、熱分解法に
より均一な超電導体薄膜を容易に形成することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、バリウムセスキテルペンアルコキシド、イツ
トリウムセスキテルペンアルコキシド、銅セスキテルペ
ンアルコキシドをBa:Y:Cu=2:1:3の原子比
になるように有機溶剤に添加混合した組成物を、支持体
上に塗布した後、熱分解し、次いで酸素雰囲気中で焼成
することを特徴とするBa2YCu3O?−δ(0<δ
<1)超電導薄膜の製造方法である。
トリウムセスキテルペンアルコキシド、銅セスキテルペ
ンアルコキシドをBa:Y:Cu=2:1:3の原子比
になるように有機溶剤に添加混合した組成物を、支持体
上に塗布した後、熱分解し、次いで酸素雰囲気中で焼成
することを特徴とするBa2YCu3O?−δ(0<δ
<1)超電導薄膜の製造方法である。
本発明でいう金属セスキテルペンアルコキシドは、−数
式 %式%B a 、Y、Cuから選ばれる金属元素、Rはアルキル基
、Aはセスキテルペニル基、2は金属の原子価、Xは1
≦X≦2の整数) で示され、主として金属とセスキテルペンアルコールか
ら誘導される新規な化合物である。セスキテルペンアル
コールは組成式C+5HxO(x=18〜26)、代表
的にはC+s H240で表わされるアルコールで、実
用上ベチベノール、ネロリドール、ファルネソール、サ
ンタロールなどが好ましい。
式 %式%B a 、Y、Cuから選ばれる金属元素、Rはアルキル基
、Aはセスキテルペニル基、2は金属の原子価、Xは1
≦X≦2の整数) で示され、主として金属とセスキテルペンアルコールか
ら誘導される新規な化合物である。セスキテルペンアル
コールは組成式C+5HxO(x=18〜26)、代表
的にはC+s H240で表わされるアルコールで、実
用上ベチベノール、ネロリドール、ファルネソール、サ
ンタロールなどが好ましい。
又上記一般式においてORで表わされるアルコキシ基は
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、ブチルアルコール等の低級アルコールから誘導
される。
、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアル
コール、ブチルアルコール等の低級アルコールから誘導
される。
バリウム、イツトリウム及び銅のセスキテルペンアルコ
キシドは、下記のような方法で製造される。
キシドは、下記のような方法で製造される。
■ 各金属の低級アルキルアルコキシドM (OR)2
とセスキテルペンアルコールとを反応させ、アルコキシ
基ORの1又は2以上をセスキテルペンアルコキシ基O
Aで置換する。
とセスキテルペンアルコールとを反応させ、アルコキシ
基ORの1又は2以上をセスキテルペンアルコキシ基O
Aで置換する。
■ 金属アセテートM (OCOCH3)zとセスキテ
ルペンアルコールとを反応させる。
ルペンアルコールとを反応させる。
■ 金属塩化物MC1z又は金属アセテートM(OCO
CH3)zと、ナトリウムセスキテルペンアルコキシド
Na OAとを反応させる。
CH3)zと、ナトリウムセスキテルペンアルコキシド
Na OAとを反応させる。
各製法において反応は、例えば両者を混合し、70〜2
00℃で1〜2時間還流することによって行われる0反
応生成物である金属セスキテルペンアルコキシドは、減
圧蒸溜や真空蒸溜等により反応系から容易に分離できる
。
00℃で1〜2時間還流することによって行われる0反
応生成物である金属セスキテルペンアルコキシドは、減
圧蒸溜や真空蒸溜等により反応系から容易に分離できる
。
超電導薄膜を形成するための組成物は、上記反応で得ら
れたバリウム、イツトリウム及び銅のセスキテルペンア
ルコキシドを金属原子比で2=に3の比率で混合し、有
機媒体に溶解させて調製する。有機媒体としては、組成
物を焼成する際分解除去されるもので、かつ該金属セス
キテルペンアルコキシドを溶解し得る有機溶媒を用いる
が、ガルポン酸、アミン、炭化水素、アルコール、ハロ
ゲン化炭化水素、アルデヒド、ゲトン、エーテル、エス
テルなど、通常用いられるほとんどの有機溶媒が使用で
きる。又、樹脂などの粘度調整剤や可塑剤を添加しても
よい。
れたバリウム、イツトリウム及び銅のセスキテルペンア
ルコキシドを金属原子比で2=に3の比率で混合し、有
機媒体に溶解させて調製する。有機媒体としては、組成
物を焼成する際分解除去されるもので、かつ該金属セス
キテルペンアルコキシドを溶解し得る有機溶媒を用いる
が、ガルポン酸、アミン、炭化水素、アルコール、ハロ
ゲン化炭化水素、アルデヒド、ゲトン、エーテル、エス
テルなど、通常用いられるほとんどの有機溶媒が使用で
きる。又、樹脂などの粘度調整剤や可塑剤を添加しても
よい。
この組成物を金属、セラミック、ガラスなど種々の支持
体上に、浸漬法、引き上げ法、スピンナー法、スクリー
ン印刷法などの公知の手法で塗布し、好ましくは乾燥工
程を経た後、該金属セスキテルペンアルコキシド及び有
機媒体の熱分解温度以上の温度で熱処理することにより
、有機媒体を分解除去し、金属セスキテルペンアルコキ
シドを分解して、基体上に金属酸化物の薄膜を析出させ
る。所望の膜厚とするには、塗布及び焼成工程を必要な
だけ繰返せばよい0次いで酸素気流中600〜1000
℃程度の高温で焼成することにより基体上にBa 2
YCu 3O7−δ(但し0<δ<1)超電導体の薄膜
が形成される。
体上に、浸漬法、引き上げ法、スピンナー法、スクリー
ン印刷法などの公知の手法で塗布し、好ましくは乾燥工
程を経た後、該金属セスキテルペンアルコキシド及び有
機媒体の熱分解温度以上の温度で熱処理することにより
、有機媒体を分解除去し、金属セスキテルペンアルコキ
シドを分解して、基体上に金属酸化物の薄膜を析出させ
る。所望の膜厚とするには、塗布及び焼成工程を必要な
だけ繰返せばよい0次いで酸素気流中600〜1000
℃程度の高温で焼成することにより基体上にBa 2
YCu 3O7−δ(但し0<δ<1)超電導体の薄膜
が形成される。
[作 用]
本発明の特徴は、有機金属化合物の熱分解による超電導
体薄膜の形成方法において、有機金属化合物として、新
規な金属セスキテルペンアルコキシドを使用することに
ある。
体薄膜の形成方法において、有機金属化合物として、新
規な金属セスキテルペンアルコキシドを使用することに
ある。
この金属セスキテルペンアルコキシドは、従来知られて
いる金属アルコキシドに比べて耐湿性、耐加水分解性が
極めて良好である上、取扱いが簡単で保存安定性に潰れ
ている。又アルコール、エーテル、エステル、脂肪族炭
化水素、芳香族炭化水素など多くの種類の有機溶媒に対
する溶解度が高く、これらの溶媒に対する安定性も良い
利点があり、かつW!液状態での長期保存が可能であり
、組成物調製後、長時間経過しても均一な薄膜が得られ
る。又溶媒に対しての選択性が少ないことは、特に複数
の金属成分を含む金属複合酸化物超電導体薄膜を形成す
るには、極めて有利である。従ってこの化合物を用いる
ことにより、ピンホールやクラックのない、均一なりa
2 YCu 3O7−δ超電導体薄膜を、簡単な工程
で形成することができる。
いる金属アルコキシドに比べて耐湿性、耐加水分解性が
極めて良好である上、取扱いが簡単で保存安定性に潰れ
ている。又アルコール、エーテル、エステル、脂肪族炭
化水素、芳香族炭化水素など多くの種類の有機溶媒に対
する溶解度が高く、これらの溶媒に対する安定性も良い
利点があり、かつW!液状態での長期保存が可能であり
、組成物調製後、長時間経過しても均一な薄膜が得られ
る。又溶媒に対しての選択性が少ないことは、特に複数
の金属成分を含む金属複合酸化物超電導体薄膜を形成す
るには、極めて有利である。従ってこの化合物を用いる
ことにより、ピンホールやクラックのない、均一なりa
2 YCu 3O7−δ超電導体薄膜を、簡単な工程
で形成することができる。
[実施例]
まず、本発明で使用する金属セスキテルペンアルコキシ
ドの製造を具体例を上げて説明しついで実施例を示す。
ドの製造を具体例を上げて説明しついで実施例を示す。
「金属セスキテルペンアルコキシドの製造例」A、[バ
リウムエトキシベチベノキシドの合成]バリウムエトキ
シド Ba (002Hs ) 20.1447 !;
l (0,0006l1ol)とベチベノールCI5H
2401,6593a (0,0075n+ol)と
を混合し、アルゴンを流し°ながら、70℃に保って2
時間加熱撹拌した。生成物は、バリウム含有率3,4重
量%の濃い茶色のバリウムエトキシベチベノキシド溶液
であった。
リウムエトキシベチベノキシドの合成]バリウムエトキ
シド Ba (002Hs ) 20.1447 !;
l (0,0006l1ol)とベチベノールCI5H
2401,6593a (0,0075n+ol)と
を混合し、アルゴンを流し°ながら、70℃に保って2
時間加熱撹拌した。生成物は、バリウム含有率3,4重
量%の濃い茶色のバリウムエトキシベチベノキシド溶液
であった。
B、[イットリウムベチベノキシドの合成]酢酸イツト
リウムY (OCOCH3) 31.86g(0,00
7nol )を純水に溶解し、さらに少量のエタノール
を加えて溶液を調製した。これと別にベチベノール10
.3278g(0,0468mol )とナトリウム0
.346g (0,015111o1 )を120℃の
油浴で20分間加熱反応させ、冷却後、エタノールを加
えて均一なエタノール溶液とする。
リウムY (OCOCH3) 31.86g(0,00
7nol )を純水に溶解し、さらに少量のエタノール
を加えて溶液を調製した。これと別にベチベノール10
.3278g(0,0468mol )とナトリウム0
.346g (0,015111o1 )を120℃の
油浴で20分間加熱反応させ、冷却後、エタノールを加
えて均一なエタノール溶液とする。
このエタノール溶液に、攪拌しながら上記の酢酸イツト
リウム溶液を滴下し、全量滴下後110℃の油浴で2時
間加熱を続は反応させた。
リウム溶液を滴下し、全量滴下後110℃の油浴で2時
間加熱を続は反応させた。
反応終了後冷却してから、クロロホルムを加え生成物を
クロロホルムに溶解抽出し、イツトリウム含有率2.1
%の茶褐色の透明粘稠なイットリウムベチベノキシド溶
液を得た。
クロロホルムに溶解抽出し、イツトリウム含有率2.1
%の茶褐色の透明粘稠なイットリウムベチベノキシド溶
液を得た。
C,[SFIベチベノキシドの合成]
Cu (OCOCH3) 22.0Q(0,011no
l)に、エタノールを1401加え50℃に加温した後
、N、Nジエチルアニリン8gとベチベノール24g(
0,11nof)を加え2時間撹拌還流させた。
l)に、エタノールを1401加え50℃に加温した後
、N、Nジエチルアニリン8gとベチベノール24g(
0,11nof)を加え2時間撹拌還流させた。
その後エタノールを完全に除き、クロロホルムを加え生
成物をクロロホルムに溶解させ、さらに水を加えて、生
成物とN、N−ジエチルアニリンとを分離する。
成物をクロロホルムに溶解させ、さらに水を加えて、生
成物とN、N−ジエチルアニリンとを分離する。
クロロホルム層と水層を分離した後減圧蒸溜でクロロホ
ルムを除き、銅含有率0.4重量%の粘稠で透明な緑色
の銅ベチベノキシド溶液を得た。
ルムを除き、銅含有率0.4重量%の粘稠で透明な緑色
の銅ベチベノキシド溶液を得た。
実施例1
上記の製造例A、B、Cで得た化合物を金属の原子比で
Ba :Y:Cu=2:1:3となるように混合し、ロ
ーズマリー油、α−ピネン、0−ヘキサンの混合溶媒に
溶解して金属含有率1重量%の溶液を調製した。この溶
液を浸漬法で部分安定化ジルコニア基板上に塗布し、大
気中600℃の温度で10分間熱処理した。この塗布、
熱処理の操作を40回繰返した後、3O0m1/分の流
量に調節された酸素気流中で770℃で4時間焼成を行
い、徐冷して膜厚1.I Imの、亀裂やピンホールの
ない平滑な黒色Fillを得た。焼成膜の組成は、x!
!回折分析によりBa 2 YCu 3O7−δである
ことが確認された。又臨界温度の測定を行ったところ、
得られた薄膜は40Kに臨界温度を有する超電導体であ
ることが確認された。
Ba :Y:Cu=2:1:3となるように混合し、ロ
ーズマリー油、α−ピネン、0−ヘキサンの混合溶媒に
溶解して金属含有率1重量%の溶液を調製した。この溶
液を浸漬法で部分安定化ジルコニア基板上に塗布し、大
気中600℃の温度で10分間熱処理した。この塗布、
熱処理の操作を40回繰返した後、3O0m1/分の流
量に調節された酸素気流中で770℃で4時間焼成を行
い、徐冷して膜厚1.I Imの、亀裂やピンホールの
ない平滑な黒色Fillを得た。焼成膜の組成は、x!
!回折分析によりBa 2 YCu 3O7−δである
ことが確認された。又臨界温度の測定を行ったところ、
得られた薄膜は40Kに臨界温度を有する超電導体であ
ることが確認された。
比較例1
ナフテン酸バリウム、ナフテン酸イツトリウム及びナフ
テン酸銅を金属原子比でBa:Y:CU=2:1:3と
なるように混合し、α−ピネンとトルエンの混合溶媒に
溶解して金属含有率1重量%の溶液を調製した。この溶
液を実施例1と同様にして部分安定化ジルコニア基板上
に塗布し、大気中600℃で10分間熱処理する操作を
40回繰返した後、酸素気流中770℃で4時間焼成し
、徐冷した。
テン酸銅を金属原子比でBa:Y:CU=2:1:3と
なるように混合し、α−ピネンとトルエンの混合溶媒に
溶解して金属含有率1重量%の溶液を調製した。この溶
液を実施例1と同様にして部分安定化ジルコニア基板上
に塗布し、大気中600℃で10分間熱処理する操作を
40回繰返した後、酸素気流中770℃で4時間焼成し
、徐冷した。
得られた膜の組成はX線回折によってBa 2 YCu
3O7−δであることが確認されたが、3Oに以下の低
温でも超電導は示さなかった。
3O7−δであることが確認されたが、3Oに以下の低
温でも超電導は示さなかった。
[発明の効果〕
本発明は、新規かつ安定な金属セスキテルペンアルコキ
シドを原料として使用し、これを熱分解することによっ
て均一性、平滑性、外観、電気的性能の極めて優れた金
属酸化物超電導体′fii膜を形成できるものであり、
産業上の利用価値が大きい。
シドを原料として使用し、これを熱分解することによっ
て均一性、平滑性、外観、電気的性能の極めて優れた金
属酸化物超電導体′fii膜を形成できるものであり、
産業上の利用価値が大きい。
Claims (1)
- 1、バリウムセスキテルペンアルコキシド、イットリウ
ムセスキテルペンアルコキシド、銅セスキテルペンアル
コキシドをBa:Y:Cu=2:1:3の原子比になる
ように有機溶剤に添加混合した組成物を、支持体上に塗
布した後、熱分解し、次いで酸素雰囲気中で焼成するこ
とを特徴とするBa_2YCu_3O_7_−_δ(0
<δ<1)超電導薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220348A JPH0761868B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ba▲下2▼YCu▲下3▼O▲下7▼−δ超電導薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63220348A JPH0761868B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ba▲下2▼YCu▲下3▼O▲下7▼−δ超電導薄膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0269318A true JPH0269318A (ja) | 1990-03-08 |
| JPH0761868B2 JPH0761868B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=16749727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63220348A Expired - Fee Related JPH0761868B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | Ba▲下2▼YCu▲下3▼O▲下7▼−δ超電導薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0761868B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005011008A1 (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-03 | Tohoku Seiki Industries Ltd. | 超電導回路作製方法 |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP63220348A patent/JPH0761868B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005011008A1 (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-03 | Tohoku Seiki Industries Ltd. | 超電導回路作製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0761868B2 (ja) | 1995-07-05 |
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