JPH0269931A - 半導体装置の製造装置 - Google Patents
半導体装置の製造装置Info
- Publication number
- JPH0269931A JPH0269931A JP22280888A JP22280888A JPH0269931A JP H0269931 A JPH0269931 A JP H0269931A JP 22280888 A JP22280888 A JP 22280888A JP 22280888 A JP22280888 A JP 22280888A JP H0269931 A JPH0269931 A JP H0269931A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- unit
- chamber
- gas
- filter
- valve
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- Pending
Links
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Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造装置の構造に関する。
半導体装置の製造装置は、反応室内に半導体ウェハーを
配設し、ガスボンベから配管を通して反応ガスを反応室
内に導入して反応させ半導体ウェハーに薄膜等を形成さ
せるものである。しかるに、従来の半導体装置の製造装
置の配管には、反応室内にゴミ等が入り込まないように
フィルタを挿入していた。
配設し、ガスボンベから配管を通して反応ガスを反応室
内に導入して反応させ半導体ウェハーに薄膜等を形成さ
せるものである。しかるに、従来の半導体装置の製造装
置の配管には、反応室内にゴミ等が入り込まないように
フィルタを挿入していた。
しかし、従来の装置ては、フィルタに留まらず反応室内
に侵入してしまうゴミ等がある。またフィルタは、必ず
目づまりを起こし、交換時期を誤まると大量のゴミ等で
反応室内を汚染してしまうことかある。その結果半導体
装置の製造歩留が低下するという問題がある。
に侵入してしまうゴミ等がある。またフィルタは、必ず
目づまりを起こし、交換時期を誤まると大量のゴミ等で
反応室内を汚染してしまうことかある。その結果半導体
装置の製造歩留が低下するという問題がある。
本発明は、反応室内にガスボンへから配管を通して反応
ガスを導入し反応させ半導体装置を製造する装置におい
て、配管に帯電 除電ユニットを有することを特徴とす
る。
ガスを導入し反応させ半導体装置を製造する装置におい
て、配管に帯電 除電ユニットを有することを特徴とす
る。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の第１の実施例の構成図である。
チャンバー６内に半導体ウェハー（図示せず）を配設し
、ガスポンへ８から反応ガスを配管３を通して導入して
反応させ半導体装置を製造する。本実施例では配管３の
内壁の帯電 除電を行なう帯電除電ユニット１をフィル
タ５とチャンバー６の間に配置している。チャンバー６
にガスポンへ８よりガスが供給されている時は制御部２
により帯電除電ユニット１は、帯電状態にされ排気系弁
４ａを閉し、吸気系弁４ｂを開とし、フィルタ５で取り
除けなかったゴミを帯電除電ユニット１に静電吸着さぜ
る。そして１バツチ毎に制御部２により帯電除電ユニッ
ト１を除電状態にし、排気系弁４ａを開、吸気系弁４１
〕を閉とし帯電除電ユニッ）〜１に吸着されていたゴミ
を排出させる。この一連の動作を繰り返しチャンバー６
内にゴミが入り込むことを防止する。
、ガスポンへ８から反応ガスを配管３を通して導入して
反応させ半導体装置を製造する。本実施例では配管３の
内壁の帯電 除電を行なう帯電除電ユニット１をフィル
タ５とチャンバー６の間に配置している。チャンバー６
にガスポンへ８よりガスが供給されている時は制御部２
により帯電除電ユニット１は、帯電状態にされ排気系弁
４ａを閉し、吸気系弁４ｂを開とし、フィルタ５で取り
除けなかったゴミを帯電除電ユニット１に静電吸着さぜ
る。そして１バツチ毎に制御部２により帯電除電ユニッ
ト１を除電状態にし、排気系弁４ａを開、吸気系弁４１
〕を閉とし帯電除電ユニッ）〜１に吸着されていたゴミ
を排出させる。この一連の動作を繰り返しチャンバー６
内にゴミが入り込むことを防止する。
第２図は、本発明の第２の実施例の構成図である。本実
施例の第１の実施例と異る点は、真空ポンプ７がチャン
バ−６に直接取付けられ、バイパス管９が設けられてい
るところである。帯電除電ユニッＩ〜１はチャンバー６
とフィルタ５の中間に設置されている。チャンバ−６に
ガスポ゛ンヘ８よリガスが供給されている間は、制御部
２により帯電除電ユニット１は帯電状態とされ、バイパ
ス弁４ｃは閉、吸気系弁４ｂは開となりフィルタ５で取
り除けなかったゴミを帯電除電ユニッｌ〜１で静電吸着
させる。そして］バッチ毎に、制御部２により帯電除電
ユニットｌを除電状態にし、バイパス弁４ｃは開、吸気
系弁４１〕は閉とし、帯電除電ユニット１に吸着されて
いたゴミをチャンバーを通さずにバイパス管９を通して
排出させる。
施例の第１の実施例と異る点は、真空ポンプ７がチャン
バ−６に直接取付けられ、バイパス管９が設けられてい
るところである。帯電除電ユニッＩ〜１はチャンバー６
とフィルタ５の中間に設置されている。チャンバ−６に
ガスポ゛ンヘ８よリガスが供給されている間は、制御部
２により帯電除電ユニット１は帯電状態とされ、バイパ
ス弁４ｃは閉、吸気系弁４ｂは開となりフィルタ５で取
り除けなかったゴミを帯電除電ユニッｌ〜１で静電吸着
させる。そして］バッチ毎に、制御部２により帯電除電
ユニットｌを除電状態にし、バイパス弁４ｃは開、吸気
系弁４１〕は閉とし、帯電除電ユニット１に吸着されて
いたゴミをチャンバーを通さずにバイパス管９を通して
排出させる。
以上説明したように本発明は、配管に帯電・除電ユニッ
）・を取付け、帯電と除電を繰り返すことによりフィル
タで除去できなかったゴミ等のチャンバー内侵入を防止
でき、その結果、半導体装置の製造歩留向上に効果があ
る。
）・を取付け、帯電と除電を繰り返すことによりフィル
タで除去できなかったゴミ等のチャンバー内侵入を防止
でき、その結果、半導体装置の製造歩留向上に効果があ
る。
第１図は、本発明の第］の実施例の構成図、第２図は本
発明の第２の実施例の構成図である。 １・帯電 除電ユニット、２・・制御部、３・・配管、
４ａ・・・排気系弁、４ｂ・・・吸気系弁、４Ｃ・・バ
イパス弁、５・・・フィルタ、６・・・チャンバー、７
真空ポンプ、８・・・ガスボンベ、９・・バイパス管。
発明の第２の実施例の構成図である。 １・帯電 除電ユニット、２・・制御部、３・・配管、
４ａ・・・排気系弁、４ｂ・・・吸気系弁、４Ｃ・・バ
イパス弁、５・・・フィルタ、６・・・チャンバー、７
真空ポンプ、８・・・ガスボンベ、９・・バイパス管。
Claims (1)
- 反応室内にガスボンベから配管を通して反応ガスを導
入し反応させ半導体装置を製造する装置において、配管
に帯電・除電ユニットを有することを特徴とする半導体
装置の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22280888A JPH0269931A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 半導体装置の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22280888A JPH0269931A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 半導体装置の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0269931A true JPH0269931A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16788223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22280888A Pending JPH0269931A (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 半導体装置の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0269931A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09320916A (ja) * | 1996-05-31 | 1997-12-12 | Seiko Instr Inc | 集塵機能を有す真空装置 |
| WO2019055126A1 (en) * | 2017-09-12 | 2019-03-21 | Applied Materials, Inc. | TUBULAR ELECTROSTATIC DEVICE |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP22280888A patent/JPH0269931A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09320916A (ja) * | 1996-05-31 | 1997-12-12 | Seiko Instr Inc | 集塵機能を有す真空装置 |
| WO2019055126A1 (en) * | 2017-09-12 | 2019-03-21 | Applied Materials, Inc. | TUBULAR ELECTROSTATIC DEVICE |
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