JPH09321037A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 処理チャンバからのパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）の排出を低減するための装置であって、
内部チャンバを囲む電極壁を含む第１の電極であって、前記電極壁は、前記内部チャンバと連通する入口及び出口を画成している、第１の電極と、
前記内部チャンバの中に設けられた第２の電極であって、前記第１及び第２の電極は、互いに対向する表面を有し、該対向する表面の間に流体導管が画成されており、該流体導管は、前記入口を前記出口に連通させると共に、該入口と該出口との間に１以上の捕集チャンバを画成しており、該捕集チャンバは、前記流体導管を流通する粒状物質を捕集すると共に、該捕集チャンバから粒状物質が出て行くことを抑制するように構成され且つ配置されている、第２の電極と、
前記流体導管の前記入口に連結された流出ＰＦＣガスの発生源と、
前記流体導管内のＰＦＣ酸化剤と、
前記第１及び第２の電極に有効に接続され、前記第１及び第２の電極間に電圧を印加して、前記第１及び第２の電極の前記対向する表面に、帯電した粒状物質を捕集する手段と、
を含む装置。
【請求項２】 前記ＰＦＣ酸化剤が前記流体導管内に配置されたフィルタを含むものであり、前記フィルタがシリコン含有化合物を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】 前記シリコン含有化合物が固体多孔性酸化珪素含有材料を含むものである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】 前記導管チャンバに連通し、前記ＰＦＣ酸化剤を前記流体導管に供給するガス供給ラインを更に備える請求項１に記載の装置。
【請求項５】 処理チャンバからのパーフルオロ化合物（ＰＦＣ）の排出を低減するための装置であって、
入口と出口を有する流体導管を画成する導管チャンバと、
前記流体導管内に存在するＰＦＣガスをプラズマ状態に励起し得るプラズマ発生システムであって、互いに対向する表面を有する第１の電極及び第２の電極を含み、該対向する表面は、前記導管チャンバの一部を成し、且つ、前記流体導管及び前記流体導管内において前記入口と前記出口との間に位置する捕集チャンバの双方を画成し、該捕集チャンバは、前記流体導管を流通するシリコン含有残留物及び粒状物質を含むＰＦＣ酸化剤を重力を用いて捕集すると共に、前記捕集チャンバから前記シリコン残留物及び前記粒状物質が出て行くことを抑制するように構成され且つ配置されている、プラズマ発生システムと、
前記第１の電極及び前記第２の電極に有効に接続され、前記第１及び第２の電極間に電圧を印加して、前記第１及び第２の電極の前記対向する表面に、帯電したシリコン含有残留物及び粒状物質を捕集する手段と、
を備える装置。