JPH0270068A - 鉄・リン電気めっき浴 - Google Patents
鉄・リン電気めっき浴Info
- Publication number
- JPH0270068A JPH0270068A JP11963789A JP11963789A JPH0270068A JP H0270068 A JPH0270068 A JP H0270068A JP 11963789 A JP11963789 A JP 11963789A JP 11963789 A JP11963789 A JP 11963789A JP H0270068 A JPH0270068 A JP H0270068A
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- Japan
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- iron
- bath
- plating
- phosphorus
- ions
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、クラックの生じない鉄・リンめっき被膜を得
ることができる鉄・リン電気めっき浴に関する。
ることができる鉄・リン電気めっき浴に関する。
鉄・リンめっき被膜は、鉄めっき被膜に比べて硬度が大
きく、このためピストンのスカート部などの摺動部材に
鉄・リンめっき被膜を形成することにより、耐摩耗性、
耐焼付性などを向上させることが期待できるものである
。
きく、このためピストンのスカート部などの摺動部材に
鉄・リンめっき被膜を形成することにより、耐摩耗性、
耐焼付性などを向上させることが期待できるものである
。
従来、かかる鉄・リンめっき被膜を形成するための鉄・
リン電気めっき浴としては、２価の鉄イオンと次亜リン
酸又はその塩とを含み、更にホウ酸や塩化アンモニウム
等を含むものが知られている。
リン電気めっき浴としては、２価の鉄イオンと次亜リン
酸又はその塩とを含み、更にホウ酸や塩化アンモニウム
等を含むものが知られている。
しかし、本発明者らの検討によると、この種のめっき浴
を用いて鉄・リン電気めっきを行った場合、得られる鉄
・リンめっき被膜の断面に多数のクラックが生じ、この
クラックが特に機械的性能を要求する応用面では大きな
障害となることを知見した。即ち、クラックの発生した
鉄・リンめっき被膜はそれ自体のしん性が著しく低い上
、クサビ（ノツチ）効果によりめっきが施された素材そ
のもののしん性を低下させるものであった。
を用いて鉄・リン電気めっきを行った場合、得られる鉄
・リンめっき被膜の断面に多数のクラックが生じ、この
クラックが特に機械的性能を要求する応用面では大きな
障害となることを知見した。即ち、クラックの発生した
鉄・リンめっき被膜はそれ自体のしん性が著しく低い上
、クサビ（ノツチ）効果によりめっきが施された素材そ
のもののしん性を低下させるものであった。
このため、かかるクラックのない鉄・リンめ、つき被膜
を得ることができる鉄・リン電気めちき浴が望まれる。
を得ることができる鉄・リン電気めちき浴が望まれる。
を するための手 び
本発明者らは、上記要望に応えるため検討を進めた結果
、２価の鉄イオンと亜リン酸及び／又は亜リン酸塩とを
主成分とし、更に水溶性アルミニウム化合物を添加した
めっき浴を用いた場合、得られる鉄・リンめっき被膜は
クラックがなく、機械的特性に優れており、このため摺
動部材などに鉄・リンめっき被膜を形成させるためのめ
つき浴として非常に有効であることを知見した。
、２価の鉄イオンと亜リン酸及び／又は亜リン酸塩とを
主成分とし、更に水溶性アルミニウム化合物を添加した
めっき浴を用いた場合、得られる鉄・リンめっき被膜は
クラックがなく、機械的特性に優れており、このため摺
動部材などに鉄・リンめっき被膜を形成させるためのめ
つき浴として非常に有効であることを知見した。
即ち、従来は上述したようにリン供給源として次亜リン
酸や次亜リン酸塩を用いためつき浴を使用しており、こ
の種のめっき浴は光沢のあるめっき被膜が得られるもの
であるが、その断面を観察するとクラックが多数発生し
ているものであった。
酸や次亜リン酸塩を用いためつき浴を使用しており、こ
の種のめっき浴は光沢のあるめっき被膜が得られるもの
であるが、その断面を観察するとクラックが多数発生し
ているものであった。
しかし、リン供給源として亜リン酸や亜リン酸塩を使用
し、更にアルミニウム化合物を添加した場合、断面にク
ラックのない鉄・リンめっき被膜を確実に形成し得るこ
とを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
し、更にアルミニウム化合物を添加した場合、断面にク
ラックのない鉄・リンめっき被膜を確実に形成し得るこ
とを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明に係る鉄・リン電気めっき浴は、２価の鉄イオン
と、亜リン酸及び／又は亜リン酸塩を主成分としてなる
ものである。
と、亜リン酸及び／又は亜リン酸塩を主成分としてなる
ものである。
ここで、２価の鉄イオンの供給源は特に制限されないが
、例示すると硫酸第１鉄、塩化第１鉄、スルファミン酸
第１鉄、ホウフッ化第１鉄などを挙げることができ、こ
れらの１種を単独で又は２種以上を併用して使用するこ
とができる。また、２価の鉄イオンの含有量も必ずしも
限定されないが、めっき浴１ｌ当り２０〜８０ｇとする
ことが好ましい。
、例示すると硫酸第１鉄、塩化第１鉄、スルファミン酸
第１鉄、ホウフッ化第１鉄などを挙げることができ、こ
れらの１種を単独で又は２種以上を併用して使用するこ
とができる。また、２価の鉄イオンの含有量も必ずしも
限定されないが、めっき浴１ｌ当り２０〜８０ｇとする
ことが好ましい。
本発明においては、鉄・リンめっき被膜に対するリンの
供給源として亜リン酸及び／又は亜リン酸塩を使用する
もので、これにより上述したようにクラックのない鉄・
リンめっき被膜を得ることができるものである。この場
合、亜リン酸や亜すン酸塩の含有量は、要求する鉄・リ
ンめっき被膜のリン含量等により相違し、また亜リン酸
や亜リン酸塩のめっき浴に対する溶解度によって制限さ
れるが、通常めっき浴１ｌ当りＮａＨ２ＰＯ３・２Ｈ２
０として０．０１〜２０ｇ、特に０．１〜１０ｇとする
ことが好ましい。本発明浴によれば、亜リン酸や亜リン
酸塩の含有量を変えることにより、通常０．０５〜１０
％のリン含量を有する鉄・リンめっき被膜を得ることが
できる。なお、亜リン酸塩としては、亜リン酸ナトリウ
ム等が使用し得る。
供給源として亜リン酸及び／又は亜リン酸塩を使用する
もので、これにより上述したようにクラックのない鉄・
リンめっき被膜を得ることができるものである。この場
合、亜リン酸や亜すン酸塩の含有量は、要求する鉄・リ
ンめっき被膜のリン含量等により相違し、また亜リン酸
や亜リン酸塩のめっき浴に対する溶解度によって制限さ
れるが、通常めっき浴１ｌ当りＮａＨ２ＰＯ３・２Ｈ２
０として０．０１〜２０ｇ、特に０．１〜１０ｇとする
ことが好ましい。本発明浴によれば、亜リン酸や亜リン
酸塩の含有量を変えることにより、通常０．０５〜１０
％のリン含量を有する鉄・リンめっき被膜を得ることが
できる。なお、亜リン酸塩としては、亜リン酸ナトリウ
ム等が使用し得る。
本発明に係るめっき浴には、上述した成分に加え、更に
硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム等のアルミニウム
化合物を添加するもので、めつき浴中にアルミニウムイ
オ〉・を含有させることにより、クラックの発生を更に
確実に防止することができる。アルミニウム化合物の添
加量は、アルミニウムイオンとしてめっき液１ｌ当り好
ましくは０．０５〜５ｇ、特に０．１〜２ｇを添加する
ことができる。
硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム等のアルミニウム
化合物を添加するもので、めつき浴中にアルミニウムイ
オ〉・を含有させることにより、クラックの発生を更に
確実に防止することができる。アルミニウム化合物の添
加量は、アルミニウムイオンとしてめっき液１ｌ当り好
ましくは０．０５〜５ｇ、特に０．１〜２ｇを添加する
ことができる。
なお、めっき浴には、必□要によっては電導置場として
硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム等を０〜２００ｇ
／Ｉｌ、特に２０〜１５０ｇ／Ｑ、ｐ Ｈ緩衝剤として
ホウ酸等をＯ〜６０ ｇ ／ ｆｌ、特に２０〜５０
ｇ ／ Ｑ、３価の鉄イオンの錯化剤として酸性フッ化
アンモニウム等をＯ〜２０ ｇ ／ Ｑ、特に１〜１０
ｇ ／ Ｑ添加することができる。また、本発明めっ
き浴のｐＨは０．５〜３．５とすることが好ましい。
硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム等を０〜２００ｇ
／Ｉｌ、特に２０〜１５０ｇ／Ｑ、ｐ Ｈ緩衝剤として
ホウ酸等をＯ〜６０ ｇ ／ ｆｌ、特に２０〜５０
ｇ ／ Ｑ、３価の鉄イオンの錯化剤として酸性フッ化
アンモニウム等をＯ〜２０ ｇ ／ Ｑ、特に１〜１０
ｇ ／ Ｑ添加することができる。また、本発明めっ
き浴のｐＨは０．５〜３．５とすることが好ましい。
上述した鉄・リン電気めっき浴を用いて所望の被めっき
物をめっきする場合、浴温は室温〜８０℃、特に３０〜
７０″Ｃとすることができ、また陰極電流密度は０．５
〜３０Ａ／ｄｍ、特に２〜２０ Ａ ／ ｄ ｍとする
ことができる。更に、撹拌は必ずしも必要としないが、
カソードロッカー、スターターによる浴撹拌を採用する
こともできる。
物をめっきする場合、浴温は室温〜８０℃、特に３０〜
７０″Ｃとすることができ、また陰極電流密度は０．５
〜３０Ａ／ｄｍ、特に２〜２０ Ａ ／ ｄ ｍとする
ことができる。更に、撹拌は必ずしも必要としないが、
カソードロッカー、スターターによる浴撹拌を採用する
こともできる。
なお、陽極には一般に鉄板が用いられる。
本発明の鉄・リン電気めっき浴を使用して得られる鉄・
リンめっき被膜の外観は、一般に半光沢一 の均一な面であり、また得られためっき被膜はクラック
がなく、機械的特性に優れたものであるので、例えばピ
ストンのスカート部などの摺動部材その他のめっきに好
適に用いられる。
リンめっき被膜の外観は、一般に半光沢一 の均一な面であり、また得られためっき被膜はクラック
がなく、機械的特性に優れたものであるので、例えばピ
ストンのスカート部などの摺動部材その他のめっきに好
適に用いられる。
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない
。
るが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない
。
Ｆ ｅ ＣＬ ・４ Ｈｚ ０ ２２０
ｇ ／ ＱＮＨ４Ｆ−ＨＦ １０
ＩＩＡＱ２（Ｓ０４）３・１４−１８Ｈ２０５ｎＨ
３Ｐ○３ １．５ ｌｌｐＨ１，２ 次に、上記めっき浴を使用し、浴温６０℃。
ｇ ／ ＱＮＨ４Ｆ−ＨＦ １０
ＩＩＡＱ２（Ｓ０４）３・１４−１８Ｈ２０５ｎＨ
３Ｐ○３ １．５ ｌｌｐＨ１，２ 次に、上記めっき浴を使用し、浴温６０℃。
Ｄｋ ４Ａ／ｄｒｒＦの条件において公知の方法によ
り前処理したＡＣ８Ａ−Ｔ６のアルミニウム合金に２０
μの鉄・リン電気めっきを施した。
り前処理したＡＣ８Ａ−Ｔ６のアルミニウム合金に２０
μの鉄・リン電気めっきを施した。
また比較のため、下記比較例のめっき浴を使用し、浴温
５５℃、 Ｄｋ １０Ａ／ｄボの条件でＡＣ８Ａ−Ｔ
６のアルミニウム合金に２０μの鉄・リン電気めっきを
施した。
５５℃、 Ｄｋ １０Ａ／ｄボの条件でＡＣ８Ａ−Ｔ
６のアルミニウム合金に２０μの鉄・リン電気めっきを
施した。
ＦｅＣｆ１．・４Ｈ２０８０ｇ ／ ｎＦｅＳＯ４・７
Ｈ２０１００〃 ＮａＨ２ＰＯ２’Ｈ２０１０ＩＩ ｐＨ１，４ 得られた鉄・リンめっき被膜の外観、硬度、リン含量を
第１表に示す。
Ｈ２０１００〃 ＮａＨ２ＰＯ２’Ｈ２０１０ＩＩ ｐＨ１，４ 得られた鉄・リンめっき被膜の外観、硬度、リン含量を
第１表に示す。
また、めっき被膜を切断し、その切断面を５％ナイター
ルにて２秒間エツチングした後、金属顕微鏡（倍率４０
０倍）にてクラックの有無を調べた。結果を第１表に併
記する。
ルにて２秒間エツチングした後、金属顕微鏡（倍率４０
０倍）にてクラックの有無を調べた。結果を第１表に併
記する。
第 １ 表
更に、上記めっき浴を用いて公知の方法により前処理し
た素材（ＡＣ８Ａ−Ｔ６のアルミニウム合金）に２０μ
の鉄・リン電気めっき浴を施したものを試料として使用
し、ＪＩＳ Ｚ ２２７４に基いて金属材料の回転
曲げ疲れ試験を行った。その結果を第２表に示す。
た素材（ＡＣ８Ａ−Ｔ６のアルミニウム合金）に２０μ
の鉄・リン電気めっき浴を施したものを試料として使用
し、ＪＩＳ Ｚ ２２７４に基いて金属材料の回転
曲げ疲れ試験を行った。その結果を第２表に示す。
第 ２ 表
第２表の結果より、本発明浴から得られた鉄・リンめっ
き被膜が良好な機械的特性を有していることが認められ
る。
き被膜が良好な機械的特性を有していることが認められ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、２価の鉄イオンと、亜リン酸及び／又は亜リン酸塩
とを主成分とし、かつアルミニウム化合物を添加してな
ることを特徴とする鉄・リン電気めっき浴。 ２、亜リン酸及び／又は亜リン酸塩の含有量がめっき浴
１ｌ当りＮａＨ＿２ＰＯ＿３・２Ｈ＿２Ｏとして０．０
１〜２０ｇであり、アルミニウム化合物の含有量がアル
ミニウムイオンとしてめっき液１ｌ当り０．０５〜５ｇ
である特許請求の範囲第１項記載のめっき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11963789A JPH0248635B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Tetsu*rindenkimetsukyoku |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11963789A JPH0248635B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Tetsu*rindenkimetsukyoku |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24168183A Division JPS60131994A (ja) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | 鉄・リン電気めつき浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0270068A true JPH0270068A (ja) | 1990-03-08 |
| JPH0248635B2 JPH0248635B2 (ja) | 1990-10-25 |
Family
ID=14766381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11963789A Expired - Lifetime JPH0248635B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Tetsu*rindenkimetsukyoku |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248635B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5089857A (en) * | 1990-10-15 | 1992-02-18 | Eastman Kodak Company | Electrostatographic apparatus having sheet cooling and turnover devices |
| US5725750A (en) * | 1996-04-19 | 1998-03-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for producing porous iron metal body |
| DE10013298A1 (de) * | 2000-03-09 | 2001-09-20 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer Metallschicht auf Leichtmetalloberflächen, Anwendung des Verfahrens sowie nanokristalline Eisen/Phosphor-Schicht |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP11963789A patent/JPH0248635B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5089857A (en) * | 1990-10-15 | 1992-02-18 | Eastman Kodak Company | Electrostatographic apparatus having sheet cooling and turnover devices |
| US5725750A (en) * | 1996-04-19 | 1998-03-10 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Process for producing porous iron metal body |
| DE10013298A1 (de) * | 2000-03-09 | 2001-09-20 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer Metallschicht auf Leichtmetalloberflächen, Anwendung des Verfahrens sowie nanokristalline Eisen/Phosphor-Schicht |
| DE10013298C2 (de) * | 2000-03-09 | 2003-10-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer Metallschicht auf Leichtmetalloberflächen und Anwendung des Verfahrens |
| US7138043B2 (en) | 2000-03-09 | 2006-11-21 | Atotech Deutschland Gmbh | Method for applying a metal layer to a light metal surface |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0248635B2 (ja) | 1990-10-25 |
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