JPH0270428U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0270428U JPH0270428U JP15003888U JP15003888U JPH0270428U JP H0270428 U JPH0270428 U JP H0270428U JP 15003888 U JP15003888 U JP 15003888U JP 15003888 U JP15003888 U JP 15003888U JP H0270428 U JPH0270428 U JP H0270428U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- wafers
- rotating
- gear
- rotation stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例１を示す縦断面図、第
２図は第１図のＡ―Ａ′線横断面図、第３図は本
考案の実施例２を示す横断面図、第４図は従来例
を示す縦断面図、第５図は第４図のＢ―Ｂ′線断
面図である。 １……ウエーハ、２……下部電極、３……自転
ステージ、４……上部電極、５……ガス導入口、
６……ガスの流れ、７……排気口、８……ヒータ
、９……回転シヤフト、１０……回転シヤフト駆
動部、１１……回転シヤフトギア、１２……自転
ステージ支持シヤフト、１３……自転ステージギ
ア、１４……内周自転ステージギア、１５……内
周自転ステージ支持シヤフト、１６……連結ギア
、１７……外周自転ステージギア、１８……連結
ギア及び外周自転ステージ支持シヤフト。
２図は第１図のＡ―Ａ′線横断面図、第３図は本
考案の実施例２を示す横断面図、第４図は従来例
を示す縦断面図、第５図は第４図のＢ―Ｂ′線断
面図である。 １……ウエーハ、２……下部電極、３……自転
ステージ、４……上部電極、５……ガス導入口、
６……ガスの流れ、７……排気口、８……ヒータ
、９……回転シヤフト、１０……回転シヤフト駆
動部、１１……回転シヤフトギア、１２……自転
ステージ支持シヤフト、１３……自転ステージギ
ア、１４……内周自転ステージギア、１５……内
周自転ステージ支持シヤフト、１６……連結ギア
、１７……外周自転ステージギア、１８……連結
ギア及び外周自転ステージ支持シヤフト。
Claims (1)
- 複数のウエーハが装填され、かつ回転される電
極を有するプラズマＣＶＤ又はドライエツチング
装置において、電極の回転に同期させて電極上の
ウエーハを個々に自転させる機構を装備したこと
を特徴とする半導体装置の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003888U JPH0270428U (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15003888U JPH0270428U (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0270428U true JPH0270428U (ja) | 1990-05-29 |
Family
ID=31422820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15003888U Pending JPH0270428U (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0270428U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022548958A (ja) * | 2019-09-20 | 2022-11-22 | チャンスー フェイヴァード ナノテクノロジー カンパニー リミテッド | コーティング装置及びその運動電極装置、可動スタンド装置並びに応用 |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP15003888U patent/JPH0270428U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022548958A (ja) * | 2019-09-20 | 2022-11-22 | チャンスー フェイヴァード ナノテクノロジー カンパニー リミテッド | コーティング装置及びその運動電極装置、可動スタンド装置並びに応用 |
| EP4033004A4 (en) * | 2019-09-20 | 2023-10-04 | Jiangsu Favored Nanotechnology Co., Ltd. | COATING APPARATUS, ITS DISPLACEMENT ELECTRODE DEVICE AND MOBILE SUPPORT DEVICE, AND USE THEREOF |