JPH0272181A - 中間体の製造法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗生物質の製造における中間体として有用なエ
キソエチレン化合物を製造する方法に関する。
キソエチレン化合物を製造する方法に関する。
セファロスポリン核のエキソメチレン誘汚体は抗生物質
製品の合成に使用される。例えば、チョーベ・7テ(C
hauvette )は米国特許筒3、925.372
号中に3−エキソメチレンセファムを3−ヒドロキシ−
3−セファムにオゾン分解シ、次いでハロゲン化するこ
とによる、セファクロル(cefaclor)として知
られる3−クロロ−セファム抗生物質の製造を記載して
いる。他の抗生物質は適当な3−エキソメチレン1−オ
キシドおよび1.1−ジオキシドセファムから製造する
ことができる。
製品の合成に使用される。例えば、チョーベ・7テ(C
hauvette )は米国特許筒3、925.372
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とによる、セファクロル(cefaclor)として知
られる3−クロロ−セファム抗生物質の製造を記載して
いる。他の抗生物質は適当な3−エキソメチレン1−オ
キシドおよび1.1−ジオキシドセファムから製造する
ことができる。
本発明は式、
(式中、
R1はアミノ基、保護されたアミン基、アシルアミノ基
またはジアシルアミノ基であり、R2は水素、01〜4
アルコキシまたは01〜。
またはジアシルアミノ基であり、R2は水素、01〜4
アルコキシまたは01〜。
アルキルチオであり、
R3は水素、塩イオンまたはエステル形成基であり、
R4は水素またはC5〜3アルキルである)の化合物を
製造する方法であって、式、(式中、Yは式、 の橋かけ基であり、Zはクロロ、ブロモまたはヨードで
あり、R1、R2、R:lおよびR4は前記の値を有す
る) の化合物をコバルトI提供試薬と還元条件下に反応させ
ることを含む方法を提供する。
製造する方法であって、式、(式中、Yは式、 の橋かけ基であり、Zはクロロ、ブロモまたはヨードで
あり、R1、R2、R:lおよびR4は前記の値を有す
る) の化合物をコバルトI提供試薬と還元条件下に反応させ
ることを含む方法を提供する。
本発明の方法は容易かつ便宜に実施され、所望生成物の
良好な収量を与える。
良好な収量を与える。
本発明の方法は核上にハロ原子および隣接アルキル基の
みを含むので、前記式中の特定R1gは方法に対し臨界
的ではない。R1がアシルアミノ基であるときに、アシ
ル残基はセファロスポリンおよびペニシリン技術におい
て知られた多種のアシル残基から選ぶことができる。好
ましくはアシル残基は容易に還元されず残基の変化が反
応中に生じないものである。殊にR1がアシルアミノ基
であるときに、それは: 式、R5C0NH−(式中、R5は水素あるいは、場合
によりハロゲン、シアンまたはヒドロキシにより置換さ
れているごとができるC+ 〜4アルキルである)のア
シルアミノ基; 式、 RS −CH−C−N H− X 〔式中、 R5はチエニル、ヘンゾチェニル、フリル、ヘンゾフリ
ル、チアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、イ
ソチアゾリル、ピラゾリル、チアジアゾリル、オキサジ
アゾリル、ピリジル、あるいは01〜4アルキル、アミ
ノ、保護されたアミンまたはヒドロキシにより置換され
たこれらの複素環;シクロへキサジェニル、ナフチル、
フェニル、または式、 (式中、aおよびbは独立に、水素、ハロゲン、ヒドロ
キシ、C1〜4アルキル、C1〜、アルコキシ、アミノ
、アミノメチル、メチルスルホニルアミノ、ヒドロキシ
メチル、トリフルオロメチル、カルボキシ、保護された
カルボキシ、カルボキシメチル、または保護されたカル
ボキシメチルである) により示される置換フェニル基であり、Xは水素、ヒド
ロキシ、C、’%’4 アルカノイルオキシ、カルボキ
シ、保護されたカルボキシ、スルホ(−3Ch H)
、アミノ、保護されたアミノであり、または Xは式、 〔式中、R6はフリル、チエニル、フェニル、ハロフェ
ニル、ニトロフェニル、スチリル、ハロスチリル、ニト
ロスチリル、または式、−N−R’ (式中、R7は水素、C1〜4アルキル、ヘンシル、C
2〜5アルカノイルまたはC1〜3アルキルスルホニル
である) の基であり、Xおよびyば別々にとったときに水素また
は01〜4アルキルであり、−緒にしだときに式、 により示されるベンズアミド基;式、 (式中、R7は前記と同様の意味を有し、Cは2または
3である) により示される5員または6員環を形成する〕により示
される置換アミノ基であり;またはXは式、 (式中、aおよびbは前記と同様の意味を有し、ZはO
またはSであり、nはOまたは1である)のアシルアミ
ノ基;または式、 の置換アミノ基であり;あるいは Xは式、 (式中、dは1〜3の整数である) (式中、R3は前記のとおりであり、R8は水素、01
〜4アルキルである) のオキシミノ置換アシルアミノ基;あるいは式、(式中
、mは0〜3であり、eおよびfは別々にとったときに
、独立に水素またはC8〜3アルキルであり、それらが
結合している炭素原子と−緒にしたときに3〜G員炭素
環を形成し、R9は水素、C1〜4アルキル、またはカ
ルボキシ保護エステル形成基である)のカルボキシ置換
アルキルまたはシクロアルキル基である〕 のヘテロアリールアシルアミノまたはアリールアシルア
ミノ基であることができる。
みを含むので、前記式中の特定R1gは方法に対し臨界
的ではない。R1がアシルアミノ基であるときに、アシ
ル残基はセファロスポリンおよびペニシリン技術におい
て知られた多種のアシル残基から選ぶことができる。好
ましくはアシル残基は容易に還元されず残基の変化が反
応中に生じないものである。殊にR1がアシルアミノ基
であるときに、それは: 式、R5C0NH−(式中、R5は水素あるいは、場合
によりハロゲン、シアンまたはヒドロキシにより置換さ
れているごとができるC+ 〜4アルキルである)のア
シルアミノ基; 式、 RS −CH−C−N H− X 〔式中、 R5はチエニル、ヘンゾチェニル、フリル、ヘンゾフリ
ル、チアゾリル、オキサシリル、イソオキサシリル、イ
ソチアゾリル、ピラゾリル、チアジアゾリル、オキサジ
アゾリル、ピリジル、あるいは01〜4アルキル、アミ
ノ、保護されたアミンまたはヒドロキシにより置換され
たこれらの複素環;シクロへキサジェニル、ナフチル、
フェニル、または式、 (式中、aおよびbは独立に、水素、ハロゲン、ヒドロ
キシ、C1〜4アルキル、C1〜、アルコキシ、アミノ
、アミノメチル、メチルスルホニルアミノ、ヒドロキシ
メチル、トリフルオロメチル、カルボキシ、保護された
カルボキシ、カルボキシメチル、または保護されたカル
ボキシメチルである) により示される置換フェニル基であり、Xは水素、ヒド
ロキシ、C、’%’4 アルカノイルオキシ、カルボキ
シ、保護されたカルボキシ、スルホ(−3Ch H)
、アミノ、保護されたアミノであり、または Xは式、 〔式中、R6はフリル、チエニル、フェニル、ハロフェ
ニル、ニトロフェニル、スチリル、ハロスチリル、ニト
ロスチリル、または式、−N−R’ (式中、R7は水素、C1〜4アルキル、ヘンシル、C
2〜5アルカノイルまたはC1〜3アルキルスルホニル
である) の基であり、Xおよびyば別々にとったときに水素また
は01〜4アルキルであり、−緒にしだときに式、 により示されるベンズアミド基;式、 (式中、R7は前記と同様の意味を有し、Cは2または
3である) により示される5員または6員環を形成する〕により示
される置換アミノ基であり;またはXは式、 (式中、aおよびbは前記と同様の意味を有し、ZはO
またはSであり、nはOまたは1である)のアシルアミ
ノ基;または式、 の置換アミノ基であり;あるいは Xは式、 (式中、dは1〜3の整数である) (式中、R3は前記のとおりであり、R8は水素、01
〜4アルキルである) のオキシミノ置換アシルアミノ基;あるいは式、(式中
、mは0〜3であり、eおよびfは別々にとったときに
、独立に水素またはC8〜3アルキルであり、それらが
結合している炭素原子と−緒にしたときに3〜G員炭素
環を形成し、R9は水素、C1〜4アルキル、またはカ
ルボキシ保護エステル形成基である)のカルボキシ置換
アルキルまたはシクロアルキル基である〕 のヘテロアリールアシルアミノまたはアリールアシルア
ミノ基であることができる。
R1がアシルアミノであるときにR1の好ましい値は式
、 (I R11〜Z −CHC−N H IO (式中、Zは酸素または直接結合である)のものであり
、典型的な例は、R”が水素、アミノまたは保護された
アミノであり、R11がフェニルまたは前記のような置
換フェニルであるものである。
、 (I R11〜Z −CHC−N H IO (式中、Zは酸素または直接結合である)のものであり
、典型的な例は、R”が水素、アミノまたは保護された
アミノであり、R11がフェニルまたは前記のような置
換フェニルであるものである。
式(1)中のR′がジアシルアミノ基であるときに、そ
れは例えば式、 (式中、Y′はC1〜3アルキレンまたはOフェニレン
である) の基であることができる。上記式により示されるジアシ
ルアミノ基の例はフタル、イミド、スクシンイミドおよ
びマレイミドである。
れは例えば式、 (式中、Y′はC1〜3アルキレンまたはOフェニレン
である) の基であることができる。上記式により示されるジアシ
ルアミノ基の例はフタル、イミド、スクシンイミドおよ
びマレイミドである。
式(I)中のR1が保護されたアミノ基であるとき、R
1はアミノ基の一時的な保護に対する技術に使用される
普通のアミノ保護基により置換されたアミノ基である。
1はアミノ基の一時的な保護に対する技術に使用される
普通のアミノ保護基により置換されたアミノ基である。
式、
R”−QC
(式中、RI2は01〜6アルキル、02〜6アルケニ
ル、02〜.アルキニル、C3〜、シクロアルキル、ベ
ンジルまたは置換ベンジルである)のものであることが
できる。そのような普通の保護基の例はアルコキシカル
ボニル、置換されたアルコキシカルボニル、シクロアル
コキシカルボニル、二環式アルコキシカルボニル、アル
ケニルオキシカルボニルおよびアリールアルコキシカル
ボニル基である。これらの保護基の例はエトキシカルボ
ニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロへキシ
ルオキシカルボニル、2,2.2−)リクロロエトキシ
カルボニル、アリルオキシカルボニル、1−7ダマンチ
ルオキシカルホニル、t−プチルオキシカルボニル、t
−アミルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
(Cb Z ”)、p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、p−メトキシベンジルオキシカルボニルまたはジフ
ェニルメトキシカルボニルである。他の保護基はトリア
ルキルシリル保護基例えばトリメチルシリル、およびビ
ス−トリアルキルシリル保護基例えばN、N−ビス−ト
リメチルシリルである。他の便利なアミノ保護基はフタ
ロイル基およびホルミル基である。そのようなアミノ保
護基はアミン基の一時的保護に対する保護基として役立
ち、プロセスの後または3−エキソメチレン生成物の一
層の変換後でも除去し、生成物をアシル化して所望最終
生成物を与えることができる。
ル、02〜.アルキニル、C3〜、シクロアルキル、ベ
ンジルまたは置換ベンジルである)のものであることが
できる。そのような普通の保護基の例はアルコキシカル
ボニル、置換されたアルコキシカルボニル、シクロアル
コキシカルボニル、二環式アルコキシカルボニル、アル
ケニルオキシカルボニルおよびアリールアルコキシカル
ボニル基である。これらの保護基の例はエトキシカルボ
ニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロへキシ
ルオキシカルボニル、2,2.2−)リクロロエトキシ
カルボニル、アリルオキシカルボニル、1−7ダマンチ
ルオキシカルホニル、t−プチルオキシカルボニル、t
−アミルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
(Cb Z ”)、p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、p−メトキシベンジルオキシカルボニルまたはジフ
ェニルメトキシカルボニルである。他の保護基はトリア
ルキルシリル保護基例えばトリメチルシリル、およびビ
ス−トリアルキルシリル保護基例えばN、N−ビス−ト
リメチルシリルである。他の便利なアミノ保護基はフタ
ロイル基およびホルミル基である。そのようなアミノ保
護基はアミン基の一時的保護に対する保護基として役立
ち、プロセスの後または3−エキソメチレン生成物の一
層の変換後でも除去し、生成物をアシル化して所望最終
生成物を与えることができる。
前記式(1)中、R2は01〜4アルコキシ殊にメトキ
シおよびエトキシ、並びにC1〜4アルキルチオ殊にメ
チルチオ、エチルチオまたはnブチルチオであることが
できる。好ましくはR2は水素である。
シおよびエトキシ、並びにC1〜4アルキルチオ殊にメ
チルチオ、エチルチオまたはnブチルチオであることが
できる。好ましくはR2は水素である。
前記のように、R3は「エステル形成基」であることが
できる。この語はカルボン酸エステル形成基例えばよく
知られた方法により除去できる普通のカルボン酸保護基
を意味する。そのような基は技術的に知られ、容易に還
元されず反応中に基の変化が避けられる基を選ぶことが
好ましい。例にはジフェニルメチル、ベンズヒドリル、
シリル、ベンジル、p−メトキシベンジル、フェナシル
、トリメチルシリルオキシおよびテトラヒドロピラニル
が含まれる。米国特許筒4,052,387号には除去
できるエステル形成基の他の例が記載されている。
できる。この語はカルボン酸エステル形成基例えばよく
知られた方法により除去できる普通のカルボン酸保護基
を意味する。そのような基は技術的に知られ、容易に還
元されず反応中に基の変化が避けられる基を選ぶことが
好ましい。例にはジフェニルメチル、ベンズヒドリル、
シリル、ベンジル、p−メトキシベンジル、フェナシル
、トリメチルシリルオキシおよびテトラヒドロピラニル
が含まれる。米国特許筒4,052,387号には除去
できるエステル形成基の他の例が記載されている。
基R4は好ましくは水素であり、Zは最も好ましくはヨ
ードである。
ードである。
本発明の方法にはコバル)Iを含む試薬の使用が含まれ
る。そのようなコバルト試薬はよく知られ、コバルトを
その■酸化状態で与える化合物または錯体が含まれる。
る。そのようなコバルト試薬はよく知られ、コバルトを
その■酸化状態で与える化合物または錯体が含まれる。
試薬の好ましい範晴はコバルトが適当な配位子で錯化さ
れたものである。例にはシアノコバルト錯体、コバルト
フタロシアニン、コバロキシム例えば、 およびビタミンBexsが含まれ、後者が最も好ましい
。反応における使用に適する他のコバルト試薬はシェフ
オルト(R,5cheffold ) 、モダン・シン
セチック・メソーズ(Modern Synthett
cMethods ) 、1983、p、355および
次、により開示されている。
れたものである。例にはシアノコバルト錯体、コバルト
フタロシアニン、コバロキシム例えば、 およびビタミンBexsが含まれ、後者が最も好ましい
。反応における使用に適する他のコバルト試薬はシェフ
オルト(R,5cheffold ) 、モダン・シン
セチック・メソーズ(Modern Synthett
cMethods ) 、1983、p、355および
次、により開示されている。
好ましくは、試薬は式(n)の反応物の分子当り1〜1
.4当量に相当する量で使用される。
.4当量に相当する量で使用される。
反応は還元条件下に行なわれ、好ましくは少くとも1当
量、例えば3〜5当量の還元剤が反応物の分子当りに使
用される。適当な還元剤には例えば水素化ホウ素ナトリ
ウムおよび亜鉛が含まれる。
量、例えば3〜5当量の還元剤が反応物の分子当りに使
用される。適当な還元剤には例えば水素化ホウ素ナトリ
ウムおよび亜鉛が含まれる。
水素化ホウ素ナトリウムは好ましい還元剤であり、過剰
は反応の終りに氷酢酸の添加により除去することができ
る。あるいは還元条件を電気化学的に与えることができ
、その場合にカソードが還元剤として作用する。
は反応の終りに氷酢酸の添加により除去することができ
る。あるいは還元条件を電気化学的に与えることができ
、その場合にカソードが還元剤として作用する。
好ましくは反応は、反応物および還元剤が可溶性である
水性有機溶媒例えばメタノール中で行なわれる。非常に
便利な反応系は水性メタノールおよび水素化ホウ素ナト
リウムを含む。これらの条件において反応を不活性雰囲
気例えば窒素またはアルゴン中で行なうことが好ましく
、反応は好ましくは10〜30℃の温度、例えば室温、
で行なわれる。
水性有機溶媒例えばメタノール中で行なわれる。非常に
便利な反応系は水性メタノールおよび水素化ホウ素ナト
リウムを含む。これらの条件において反応を不活性雰囲
気例えば窒素またはアルゴン中で行なうことが好ましく
、反応は好ましくは10〜30℃の温度、例えば室温、
で行なわれる。
次の構造、
の式(II)の反応物は知られた化合物であるかまたは
技術的によく知られた方法により合成できる。
技術的によく知られた方法により合成できる。
この型の化合物の製造は、例えばカミャ(T、 Kam
iya)ほか、テトラヘドロン・レターズ(Tetra
hedron Letters)、1973.3001
により、およびミセティチ(RoGoMicetich
)ほか、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahed
ron Letters)、1976.979により開
示され、それらの製造に対する便利な経路は次の反応図
式により要約される。
iya)ほか、テトラヘドロン・レターズ(Tetra
hedron Letters)、1973.3001
により、およびミセティチ(RoGoMicetich
)ほか、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahed
ron Letters)、1976.979により開
示され、それらの製造に対する便利な経路は次の反応図
式により要約される。
二
〇〇□Me
所望のエキソメチレン生成物の収率は反応物が前記式(
II[)のものであるときに非常に良好であり、本発明
の好ましい方法はYが値、 をとるものである。しかし反応はまた式、R2 0OR3 の反応物で良好な収率を与える。
II[)のものであるときに非常に良好であり、本発明
の好ましい方法はYが値、 をとるものである。しかし反応はまた式、R2 0OR3 の反応物で良好な収率を与える。
式(IV)の化合物は知られているか、または技術的に
よく知られた方法により合成できる。例えばそのような
化合物はミセティチ(R,G。
よく知られた方法により合成できる。例えばそのような
化合物はミセティチ(R,G。
Micetich )ほか、テトラヘドロン・レターズ
(Tetrahedron Letters)、197
6.979中に開示されている。
(Tetrahedron Letters)、197
6.979中に開示されている。
本発明は以下の実施例により例示される。
実施例 1
(1)3β−ヨード−7β−フェノキシアセトアミドセ
ファム−4α−メチルカルボキシラードの製造 カミャ(Kamiya)のジスルフィド〔ペニシリンV
メチルエステルスルホキシドからB:f:J導された〔
テトラヘドロン・レターズ(TetrahedronL
etters ) 、1973.3001)) (5
00mg、0.94ミリモル〕のクロロホルム(100
mf)中のか(はん溶液にヨウ素〔120■、1.0当
量〕を加え、混合物を窒素下に24時間還流した。溶媒
を減圧で除去し、残留物をカラムクロマトグラフィー〔
フラッシュシリカゲル40g、ン容離斉り酢酸エチル−
ベンゼン、1:1〕により精製すると表題化合物(33
5mg)が無色発泡体として得られた。TLC(酢酸エ
チル−ベンゼン1 : 1) ;R,0,6゜エーテル
−ヘキサンから結晶化した、融点118〜120° 〔
文献、融点118〜1200、テトラヘドロン・レクー
ズ(Tetrahedron Letters )
、1976.979参照〕。
ファム−4α−メチルカルボキシラードの製造 カミャ(Kamiya)のジスルフィド〔ペニシリンV
メチルエステルスルホキシドからB:f:J導された〔
テトラヘドロン・レターズ(TetrahedronL
etters ) 、1973.3001)) (5
00mg、0.94ミリモル〕のクロロホルム(100
mf)中のか(はん溶液にヨウ素〔120■、1.0当
量〕を加え、混合物を窒素下に24時間還流した。溶媒
を減圧で除去し、残留物をカラムクロマトグラフィー〔
フラッシュシリカゲル40g、ン容離斉り酢酸エチル−
ベンゼン、1:1〕により精製すると表題化合物(33
5mg)が無色発泡体として得られた。TLC(酢酸エ
チル−ベンゼン1 : 1) ;R,0,6゜エーテル
−ヘキサンから結晶化した、融点118〜120° 〔
文献、融点118〜1200、テトラヘドロン・レクー
ズ(Tetrahedron Letters )
、1976.979参照〕。
ν、、X (CIICl:+) ; 1775. 1
740. 1690. 1520cm−’nmr。
740. 1690. 1520cm−’nmr。
δH[300MHz、 CDCl!3 )2.22
(2H,s、 Me )。
(2H,s、 Me )。
2.98 (2H,ABq、J 15Hz CHz
−5)。
−5)。
3.85 (3H,s、 COOMe )。
4.70 (2H,s、 CHz OPh )。
4.95 (18,s、 CH−COJe )。
5.42 (LH,d、 J 4Hz、 tlN
−Ctl−C1l−3)。
−Ctl−C1l−3)。
5.83 (IH,dd、J9および4H,llN−C
l1−CIl−5)。
l1−CIl−5)。
6.92−7.85 (6)1. m ArHおよび
NH)ppm。
NH)ppm。
m/ z (El) ;
491(M+ 30)、300(80)、192(60
)、168(100)。
)、168(100)。
(2)3−エキソメチレン−7β−フェノキシアセトア
ミドセファム−4α−メチルカルボキシラードの製造 帯幅青色ビタミンB+z−(コバル) (1)種〕を、
赤色ビタミンB+z(290■、0.21ミリモル〕か
ら脱気メタノール(15Inり中でアルゴン下に室温で
30分間水素化ホウ素ナトリウム(18nv、3.0当
量〕で処理することにより直接発生させた。生じた帯幅
青色溶液に脱気メタノール(10d)中の3β−ヨード
−7β−フェノキシアセトアミドセファム−4α−メチ
ルカルボキシラードを加え、混合物を30分間かくはん
した。
ミドセファム−4α−メチルカルボキシラードの製造 帯幅青色ビタミンB+z−(コバル) (1)種〕を、
赤色ビタミンB+z(290■、0.21ミリモル〕か
ら脱気メタノール(15Inり中でアルゴン下に室温で
30分間水素化ホウ素ナトリウム(18nv、3.0当
量〕で処理することにより直接発生させた。生じた帯幅
青色溶液に脱気メタノール(10d)中の3β−ヨード
−7β−フェノキシアセトアミドセファム−4α−メチ
ルカルボキシラードを加え、混合物を30分間かくはん
した。
この溶液に氷酢酸(2−)を加えた。メタノールおよび
酢酸を蒸発させ、次いで水(15ml)とジクロロメタ
ン(I QmfX 2)との間に分配させた。
酢酸を蒸発させ、次いで水(15ml)とジクロロメタ
ン(I QmfX 2)との間に分配させた。
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、溶
媒を真空で蒸発させ、次いでさらに高真空下に乾燥する
と3−エキソメチレンセファム(54,5■〕が得られ
た。TLC(ジエチルエーテル];Rr0.5、融点1
45〜147℃(文献145〜147℃、テトラヘドロ
ン・レターズ(Tetrahedron Lette
rs) 、1962.3241)ν□−(KBr )
; 1765s (β−ラクタム)、 1740s (xステル)cm−’ δH(300Mllz 、 CDCji!:+ )
:3.17. 3.68 (2)1. 八Bq、
S−CH2−C)。
媒を真空で蒸発させ、次いでさらに高真空下に乾燥する
と3−エキソメチレンセファム(54,5■〕が得られ
た。TLC(ジエチルエーテル];Rr0.5、融点1
45〜147℃(文献145〜147℃、テトラヘドロ
ン・レターズ(Tetrahedron Lette
rs) 、1962.3241)ν□−(KBr )
; 1765s (β−ラクタム)、 1740s (xステル)cm−’ δH(300Mllz 、 CDCji!:+ )
:3.17. 3.68 (2)1. 八Bq、
S−CH2−C)。
3.82 (s、 38.−COOMe )。
4.68 (s、 2H,−CHz−OPh )。
5.10 (s、 LH,N−CHCOOMe )
。
。
5.21 (211,d、 J 6Hz、 −C
=CI(z )。
=CI(z )。
5.39 (IIL d、 J 411z、 )IN−
C1l−Ctl−5)。
C1l−Ctl−5)。
5.69 (lit、 d、 J4.911z、 tl
N−Ctl−CI−3)。
N−Ctl−CI−3)。
6.90−7.35 (m、 6H,Nilおよび八r
−1f )ppmδC(COCl、〕; 29.369(t、 −s−CI+□)。
−1f )ppmδC(COCl、〕; 29.369(t、 −s−CI+□)。
52.93 (q、 C00CI(3)。
56.36 (d、 IfN−CIl−CIl−5)5
8.67 (d、 llN−CH−Cl1−5 )
。
8.67 (d、 llN−CH−Cl1−5 )
。
67.23 (t、 CIl□0Ph)。
114.8. 122.3. 129.7 (d、
3 x ArC)+117.24 (t、
−C=C1h )133.5 (s、 5−C11z−
C−CIl2 )。
3 x ArC)+117.24 (t、
−C=C1h )133.5 (s、 5−C11z−
C−CIl2 )。
157.0 (s、 0−CAr )。
165.1 、 168.2 、 168.3 (3x
s、 3 x CO)ppm。
s、 3 x CO)ppm。
m/ z (001、NH3)
380 (100) 363(M + 11)(3
5)、 172 (95)。
5)、 172 (95)。
実施例 2
(1)2β−ヨードメチル−2α−メチル−7β−フエ
ノキシアセトアミドペナム−3α−メチルカルボキシラ
ードの製造 カミャ(Kamiya)のジスルフィド〔ペニシリンV
メチルエステルスルホキシドから誘導された〔テトラヘ
ドロン・レターズ(TetrahedronLette
rs ) 、1973.3001) ) (250β
w、0.47ミリモル〕のジクロロメタン(25d)中
の溶液にヨウ素(83ov、1.4当〒〕を加え、溶液
を室温で一夜かくはんした。溶媒を減圧で除去し、残留
物をカラムクロマトグラフィー〔フランシュシリカゲル
50g、)容餌【剤、ジエチルエーテル〕により精製す
るとヨード−ペナム(168mg’lが得られた。TL
C(ジエチルエーテル〕 ;RfO,7、融点;95〜
98’C。
ノキシアセトアミドペナム−3α−メチルカルボキシラ
ードの製造 カミャ(Kamiya)のジスルフィド〔ペニシリンV
メチルエステルスルホキシドから誘導された〔テトラヘ
ドロン・レターズ(TetrahedronLette
rs ) 、1973.3001) ) (250β
w、0.47ミリモル〕のジクロロメタン(25d)中
の溶液にヨウ素(83ov、1.4当〒〕を加え、溶液
を室温で一夜かくはんした。溶媒を減圧で除去し、残留
物をカラムクロマトグラフィー〔フランシュシリカゲル
50g、)容餌【剤、ジエチルエーテル〕により精製す
るとヨード−ペナム(168mg’lが得られた。TL
C(ジエチルエーテル〕 ;RfO,7、融点;95〜
98’C。
ν□X (cocz、 ] ;
1785s (β−ラクタム) 、 1745s (
エステル)1625s、 1500. 1250 c
+++−’δIt (300Mtlz 、 CDC
l5) ;1.65 (3H,s、 Me )。
エステル)1625s、 1500. 1250 c
+++−’δIt (300Mtlz 、 CDC
l5) ;1.65 (3H,s、 Me )。
3.42 (211,s、 C11zl )。
3.82 (38,s、 COOMe )。
4.60 (21+、 ABq、 CHz−OP
h )5.01 (III、 s、 IIN−CH
−Ctl−5)+5.76 (lfl、 dd、 J4
.911z、 IIN−Ctl−C1l−5)。
h )5.01 (III、 s、 IIN−CH
−Ctl−5)+5.76 (lfl、 dd、 J4
.911z、 IIN−Ctl−C1l−5)。
6.95−7.38 (6H,m、 ArtlおよびN
H)ppmm/z CD(J 、 N1(3)49
1 (M+)、 (20)、 168 (1
00)。
H)ppmm/z CD(J 、 N1(3)49
1 (M+)、 (20)、 168 (1
00)。
(2)2β−ヨードメチル−2α−メチル−7β−フエ
ノキシアセトアミドペナム−3α−メチルカルボキシラ
ードから3−エキソメチレン−7β−フェノキシアセト
アミドセファム−4αメチルカルボキシラードの製造 脱気メタノール(20+d)中のビタミンBIZ〔26
2■、0.19ミリモル〕のか(はん懸濁液に水素化ホ
ウ素ナトリウム(7,4mg、2.5当量〕を加え、混
合物をアルゴン下で30分間かくはんした。この褐青色
溶液にメタノール(20d)中のヨードメチルペナム〔
95■、0.19ミリモル〕を加え、混合物を20分間
かくはんした。反応混合物を氷酢酸(3−)の添加によ
りクエンチし、溶媒を減圧で除去した。残留物をジクロ
ロメタン(20d)と水(20d)との間に分配させ、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、蒸
発させた。カラムクロマトグラフィー〔フラッシュシリ
カゲル2.5g、溶離剤;ジエチルエーテル〕により精
製すると3−エキソメチレンセファムが固体〔21■〕
として得られた。TLC(ジエチルエーテル〕 ; Rr’0.5、融点145〜147℃。
ノキシアセトアミドペナム−3α−メチルカルボキシラ
ードから3−エキソメチレン−7β−フェノキシアセト
アミドセファム−4αメチルカルボキシラードの製造 脱気メタノール(20+d)中のビタミンBIZ〔26
2■、0.19ミリモル〕のか(はん懸濁液に水素化ホ
ウ素ナトリウム(7,4mg、2.5当量〕を加え、混
合物をアルゴン下で30分間かくはんした。この褐青色
溶液にメタノール(20d)中のヨードメチルペナム〔
95■、0.19ミリモル〕を加え、混合物を20分間
かくはんした。反応混合物を氷酢酸(3−)の添加によ
りクエンチし、溶媒を減圧で除去した。残留物をジクロ
ロメタン(20d)と水(20d)との間に分配させ、
有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、蒸
発させた。カラムクロマトグラフィー〔フラッシュシリ
カゲル2.5g、溶離剤;ジエチルエーテル〕により精
製すると3−エキソメチレンセファムが固体〔21■〕
として得られた。TLC(ジエチルエーテル〕 ; Rr’0.5、融点145〜147℃。
ν□X (KBr ) ;
1765s (β−ラクタム)。
L740s (エステル)cm−’
δH(300Mllz 、 CDC1,) ;3.1
7 、3.68 (2+1.^Bq、 5−CIl□−
〇)。
7 、3.68 (2+1.^Bq、 5−CIl□−
〇)。
3.82 (s、 311.−COOMe )。
4.68 (s、 2H−C11z −0Ph )。
5.10 (s、 lllN−Cl −COOMe )
。
。
5.20,5.21 (2x III、 2 x s、
C=CHz )。
C=CHz )。
5.39 (ill、 d、 J4Hz、 HN−CH
−C11−S )。
−C11−S )。
5.69 (IIl、 d、 J4.9Hz、 HN−
CH−CH−5)。
CH−CH−5)。
6.90−7.35 (m、 6H,NHおよび八r−
H) ppm−δC(CDCj!s ) ; 29.36 (t、−5−CI+□)。
H) ppm−δC(CDCj!s ) ; 29.36 (t、−5−CI+□)。
52.93 (q、 C00CIh )。
56.36 (d、 )IN−C1l−CI−3)。
58.67 (d、 llN−CH−CH−5)。
67.23 (t、 −CH20Ph )。
114.8 、 122.3 、 129.7 (d
、 3xArC)。
、 3xArC)。
117.24 (t、 −c=co□)。
133.5 (s、 S−CH2−C=CIIz
)。
)。
157.0 (s、 O−CAr )。
165.1 、 168.2 、 168.3 (3
xs、 3xCO)ppm。
xs、 3xCO)ppm。
m / z (DCI + NH3) ;34
7(削1÷、 80)、 289 (48)、 172
(100)。
7(削1÷、 80)、 289 (48)、 172
(100)。
手続補正書(方式)
■、事件の表示
2、発明の名称
3、補正をする者
事件との関係
氏
名
4、代
理
人
平成1年特許願第178891号
中間体の製造法
出
願人
ジャック
ニドワード
ボルドウィン
5、補正命令の日付
自
発
Claims (5)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、 R^1はアミノ基、保護されたアミノ基、アシルアミノ
基またはジアシルアミノ基であり、R^2は水素、C_
1_〜_4アルコキシまたはC_1_〜_4アルキルチ
オであり、R^3は水素、塩イオンまたはエステル形成
基であり、 R^4は水素またはC_1_〜_3アルキルである)の
化合物を製造する方法であって、式、 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Yは式、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または ▲数式、化学式、表等があります▼ の橋かけ基であり、Zはクロロ、ブロモまたはヨードで
あり、R^1、R^2、R^3およびR^4は前記の意
味を有する) の化合物をコバルト I 提供試薬と還元条件下に反応さ
せることを含む方法。 - (2)Yが ▲数式、化学式、表等があります▼ であり、ZおよびR^4が請求項(1)に記載の値を有
する化合物を製造する、請求項(1)記載の方法。 - (3)R^4が水素であり、Zがヨードである、請求項
(1)および(2)のいずれか一項に記載の方法。 - (4)R^2が水素である、請求項(1)〜(3)のい
ずれか一項に記載の方法。 - (5)R^1が ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Zは酸素または直接結合であり、 R^1^0は水素、アミノまたは保護されたアミノであ
り、R^1^1はフェニルまたは置換フェニルである) である、請求項(1)〜(4)のいずれか一項に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8816546.9 | 1988-07-12 | ||
| GB888816546A GB8816546D0 (en) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | Process for preparing intermediates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0272181A true JPH0272181A (ja) | 1990-03-12 |
| JP2735297B2 JP2735297B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=10640294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1178891A Expired - Lifetime JP2735297B2 (ja) | 1988-07-12 | 1989-07-11 | 中間体の製造法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5066797A (ja) |
| EP (1) | EP0351121A3 (ja) |
| JP (1) | JP2735297B2 (ja) |
| CA (1) | CA1338710C (ja) |
| GB (1) | GB8816546D0 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5604222A (en) | 1993-12-27 | 1997-02-18 | Lupin Laboratories, Ltd. | Method for the preparation of 2-chloro sulfinyl azetidinones |
| US5578721A (en) | 1994-07-11 | 1996-11-26 | Lupin Laboratories Limited | Process for preparation of 3-exomethylene cepham sulfoxide esters |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3925372A (en) | 1973-02-23 | 1975-12-09 | Lilly Co Eli | Alpha-aminoacyl-3-halo cephalosporins |
| US4052387A (en) | 1974-12-24 | 1977-10-04 | Eli Lilly And Company | Method of preparation of 3-methylenecephams |
| GB2013673B (en) * | 1977-12-24 | 1982-06-03 | Lilly Industries Ltd | Cephalosporin syntheis |
| US4558123A (en) * | 1983-07-22 | 1985-12-10 | Eli Lilly And Company | 3-Exomethylene cephalosporins |
| JP2750355B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1998-05-13 | 大塚化学株式会社 | 3−エキソメチレンセファム誘導体の製造法 |
-
1988
- 1988-07-12 GB GB888816546A patent/GB8816546D0/en active Pending
-
1989
- 1989-07-04 EP EP19890306760 patent/EP0351121A3/en not_active Withdrawn
- 1989-07-07 CA CA000605016A patent/CA1338710C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-10 US US07/377,371 patent/US5066797A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-11 JP JP1178891A patent/JP2735297B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5066797A (en) | 1991-11-19 |
| GB8816546D0 (en) | 1988-08-17 |
| EP0351121A3 (en) | 1991-09-18 |
| EP0351121A2 (en) | 1990-01-17 |
| CA1338710C (en) | 1996-11-12 |
| JP2735297B2 (ja) | 1998-04-02 |
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