JPH0273541A - 光ディスク製造方法 - Google Patents
光ディスク製造方法Info
- Publication number
- JPH0273541A JPH0273541A JP63225014A JP22501488A JPH0273541A JP H0273541 A JPH0273541 A JP H0273541A JP 63225014 A JP63225014 A JP 63225014A JP 22501488 A JP22501488 A JP 22501488A JP H0273541 A JPH0273541 A JP H0273541A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- disk
- control
- focus
- groove
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- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光ディスクの製造方法に関する。
従来の技術
第2図は従来ディスクのレプリカの一部を表す図である
。平面上に信号ピットが形成され、1はディスク基材、
2は信号ピット、3はレーザー入射方向である。これは
NT!EC方式のビデオディスクとして市販されている
。第3図でこのディスクの製造方法を説明する。ガラス
盤4の表面を研磨しく第3図a)、フォトレジスト6を
塗布する(第3図b)。レーザー6を強度変調して信号
を記録しく第3図C)、現像すればマスター盤ができる
(第3図d)。このマスター盤からヌタンパを作り、複
製でビデオディスクのレプリカを大量に作れる。しかし
、将来の用途を考えれば、光ディスクはより高密度化が
望まれ、■溝を用いた高密度方式が提案されている(特
開昭67−105828号公報)。それは、従来ディス
クのトラックピッチと同程度の間隔でV溝を形成し、そ
の各斜面に信号を記録することで、記録密度を倍増する
ものである。
。平面上に信号ピットが形成され、1はディスク基材、
2は信号ピット、3はレーザー入射方向である。これは
NT!EC方式のビデオディスクとして市販されている
。第3図でこのディスクの製造方法を説明する。ガラス
盤4の表面を研磨しく第3図a)、フォトレジスト6を
塗布する(第3図b)。レーザー6を強度変調して信号
を記録しく第3図C)、現像すればマスター盤ができる
(第3図d)。このマスター盤からヌタンパを作り、複
製でビデオディスクのレプリカを大量に作れる。しかし
、将来の用途を考えれば、光ディスクはより高密度化が
望まれ、■溝を用いた高密度方式が提案されている(特
開昭67−105828号公報)。それは、従来ディス
クのトラックピッチと同程度の間隔でV溝を形成し、そ
の各斜面に信号を記録することで、記録密度を倍増する
ものである。
第4図にV溝ディスクのレプリカの一部を示す。
この図で7はV溝斜面である。このディスクの製造法を
説明する(第5図)。銅盤8をダイヤモンド針9でカブ
ティングして(第5図a)V溝を形成する。尖端が16
2度位のダイヤモンド針を銅盤に2〜3μm切り込んで
、銅盤を回転させる。
説明する(第5図)。銅盤8をダイヤモンド針9でカブ
ティングして(第5図a)V溝を形成する。尖端が16
2度位のダイヤモンド針を銅盤に2〜3μm切り込んで
、銅盤を回転させる。
その1回転する間にダイアモンド針を約1.6μmずつ
銅盤の半径方向に移動させる。こうして、ピンチが約1
.6μmで斜面の成す角度が162度のV溝が形成され
る。このV溝上にフォトレジスト6を塗布する(第5図
b)。フォトレジスト表面はV溝形状に沿わずほぼ平坦
になる。レーザー6を強度変調して斜面7上に信号を記
録する(第6図C)。現像すれば第5図dのようになる
が、これをマスター盤にしてスタンパを化9複製しても
第4図のようなディスクは得られず、クロストクが大き
く品質の良い信号を再生できない。第6図aのようにイ
オンビーム10を照射して、■溝表面に平行な底面を持
つ信号ピットを形成する。
銅盤の半径方向に移動させる。こうして、ピンチが約1
.6μmで斜面の成す角度が162度のV溝が形成され
る。このV溝上にフォトレジスト6を塗布する(第5図
b)。フォトレジスト表面はV溝形状に沿わずほぼ平坦
になる。レーザー6を強度変調して斜面7上に信号を記
録する(第6図C)。現像すれば第5図dのようになる
が、これをマスター盤にしてスタンパを化9複製しても
第4図のようなディスクは得られず、クロストクが大き
く品質の良い信号を再生できない。第6図aのようにイ
オンビーム10を照射して、■溝表面に平行な底面を持
つ信号ピットを形成する。
残ったフォトレジストを除けば、第6図すのようなマス
ター盤ができ、信号品質の良い高密度ビデオディスクが
作れる。
ター盤ができ、信号品質の良い高密度ビデオディスクが
作れる。
第3図cのレーザー記録に用いる光マスタリング装置に
ついて第7図を用いて説明する。11はAr レーザー
やHeCdレーザーなどの短波長レーザーで、1、フォ
トレジストを感光させることができる。変調器12で信
号に合わせてレーザー強度を変調し、レンズ系13でビ
ーム径を拡大してミラー14で対物レンズ16に導き、
原盤16上に絞る。17はスピンドルで原盤16を回転
し、スライダ18で原盤をその半径方向に移動させる。
ついて第7図を用いて説明する。11はAr レーザー
やHeCdレーザーなどの短波長レーザーで、1、フォ
トレジストを感光させることができる。変調器12で信
号に合わせてレーザー強度を変調し、レンズ系13でビ
ーム径を拡大してミラー14で対物レンズ16に導き、
原盤16上に絞る。17はスピンドルで原盤16を回転
し、スライダ18で原盤をその半径方向に移動させる。
また、21は制御用の長波長レーザーであり、フォトレ
ジストは感度を持たない。22はビームスプリッタであ
り、23は短波長レーザーを透過させ長波長レーザーを
反射させbフィルターである。
ジストは感度を持たない。22はビームスプリッタであ
り、23は短波長レーザーを透過させ長波長レーザーを
反射させbフィルターである。
例えば、短波長とは490 nm以下で長波長とは53
0nm以上ある。短波長レーザーにはArレーザーやH
e Cdレーザーなどの青色レーザーが用いられ、長波
長レーザーには緑や赤のHe N eレザーが用いられ
る。長波長レーザーも短波長レザーと同様に原盤上に導
き、その反射光はフィルり23およびビームスプリッタ
22で制御光学系24に導かれる。
0nm以上ある。短波長レーザーにはArレーザーやH
e Cdレーザーなどの青色レーザーが用いられ、長波
長レーザーには緑や赤のHe N eレザーが用いられ
る。長波長レーザーも短波長レザーと同様に原盤上に導
き、その反射光はフィルり23およびビームスプリッタ
22で制御光学系24に導かれる。
第2図の従来のディスクの製造では長波長レーザーは焦
点制御だけに用いられ、スピンド/l/17とスライダ
18を精密に駆動させ一定のトラックピッチで記録すれ
ばよかった。しかし、第4図のV溝ディスクを製造する
には、第5図CのようにV溝斜面に短波長レーザーをト
ラッキングさせなければならない。そのためには、制御
用の長波長レーザーをトラッキング制御にも用いればよ
い。
点制御だけに用いられ、スピンド/l/17とスライダ
18を精密に駆動させ一定のトラックピッチで記録すれ
ばよかった。しかし、第4図のV溝ディスクを製造する
には、第5図CのようにV溝斜面に短波長レーザーをト
ラッキングさせなければならない。そのためには、制御
用の長波長レーザーをトラッキング制御にも用いればよ
い。
長波長レーザースポットと短波長レーザースポットを原
盤上で一定間隔(ディスク半径方向にV溝ピッチの4分
の1)で配置し、長波長レーザースポットをvRの底ま
たは山にスラッキングすれば、短波長レーザーは自動的
にV溝斜面にトラッキングできる。
盤上で一定間隔(ディスク半径方向にV溝ピッチの4分
の1)で配置し、長波長レーザースポットをvRの底ま
たは山にスラッキングすれば、短波長レーザーは自動的
にV溝斜面にトラッキングできる。
発明が解決しようとする課題
従来の光マヌタリング用の制御光学系は焦点制御機能し
か持たなかった。また、ビデオディスクの再生光ピック
アップでは焦点制御とトラッキング制御は同じレーザー
スポットを用いていた。原盤16上にレーザービームを
絞る対物レンズには、一般に色収差がある。その対物レ
ンズに入射する短波長レーザーと長波長レーザーの各ビ
ームの平行度を調節して、できるだけ同一平面に絞るよ
うにする。しかし、完全に同一平面に絞ることは困難で
ある。従って、長波長レーザースポットで焦点制御する
場合、長波長レーザーの最もよく絞られた位置から故意
に少しずらして焦点位置を調節することで、短波長レー
ザーの最もよく絞られた部分がV溝斜面上に照射させる
必要がある。しかし、光マスタリング装置の対物レンズ
はNAが高くて各レーザースポットの焦点深度が小さい
ので、その目的を達成するのは困難である。
か持たなかった。また、ビデオディスクの再生光ピック
アップでは焦点制御とトラッキング制御は同じレーザー
スポットを用いていた。原盤16上にレーザービームを
絞る対物レンズには、一般に色収差がある。その対物レ
ンズに入射する短波長レーザーと長波長レーザーの各ビ
ームの平行度を調節して、できるだけ同一平面に絞るよ
うにする。しかし、完全に同一平面に絞ることは困難で
ある。従って、長波長レーザースポットで焦点制御する
場合、長波長レーザーの最もよく絞られた位置から故意
に少しずらして焦点位置を調節することで、短波長レー
ザーの最もよく絞られた部分がV溝斜面上に照射させる
必要がある。しかし、光マスタリング装置の対物レンズ
はNAが高くて各レーザースポットの焦点深度が小さい
ので、その目的を達成するのは困難である。
課題を解決するための手段
トラッキング制御と焦点制御のレーザービームを各々分
離して用いる。
離して用いる。
作 用
トラッキング制御用レーザービームはディスク上ででき
るだけ絞るが、焦点制御にはレーザービームをディスク
上で絞らなくてもよい方式を用いることかできる。焦点
制御にはディスク上でレーザービームを絞らないので、
対物レンズの焦点深度の小さい事が影響しなく、焦点位
置の調整可動範囲を広くすることができ、短波長レーザ
ースポットを■溝斜面上に絞るようにできる。
るだけ絞るが、焦点制御にはレーザービームをディスク
上で絞らなくてもよい方式を用いることかできる。焦点
制御にはディスク上でレーザービームを絞らないので、
対物レンズの焦点深度の小さい事が影響しなく、焦点位
置の調整可動範囲を広くすることができ、短波長レーザ
ースポットを■溝斜面上に絞るようにできる。
実施例
高品位TVのMUSE信号を、隣合うV溝斜面に2ch
に分けて記録する場合を考える(特開昭6021283
6号公報)。1 ah当たり、FM信号のデビエーシヨ
ンを6〜8 MHz 、帯域4MHzを必要とする。半
径56ffから146ffの記録領域で線速度約10m
/secのCLVで回転させれば、片面1時間のハイビ
ジョン・ビデオディスクを実現できる。
に分けて記録する場合を考える(特開昭6021283
6号公報)。1 ah当たり、FM信号のデビエーシヨ
ンを6〜8 MHz 、帯域4MHzを必要とする。半
径56ffから146ffの記録領域で線速度約10m
/secのCLVで回転させれば、片面1時間のハイビ
ジョン・ビデオディスクを実現できる。
第5図の銅盤としてアルミ盤に銅メツキしたものを用い
る。尖端が約162度のダイアモンド針で、その銅盤の
表面から2〜3μm切り込んでV溝を形成してゆく。銅
盤を回転させて1回転のダイア針の送りを1.67μm
とする。■溝のピッチは同じように1.67μmになシ
、深さは0.13μmとなる。フォトレジストをシンナ
ーで薄めて銅盤上に塗布する。フォトレジストは■溝表
面に沿わず、表面張力などで第5図すのようにほぼ平面
となる。
る。尖端が約162度のダイアモンド針で、その銅盤の
表面から2〜3μm切り込んでV溝を形成してゆく。銅
盤を回転させて1回転のダイア針の送りを1.67μm
とする。■溝のピッチは同じように1.67μmになシ
、深さは0.13μmとなる。フォトレジストをシンナ
ーで薄めて銅盤上に塗布する。フォトレジストは■溝表
面に沿わず、表面張力などで第5図すのようにほぼ平面
となる。
次に、短波長レーザーでV溝斜面上に信号を記録するが
、そのための光マスタリング装置を第1図を用いて説明
する。構成要素11〜18は第7図と同じである。21
は第7図と同様の長波長レーザー(例えば、波長633
nmのHeNeレーザー)であるが、第7図と異なり
、焦点制御だけではなくトラッキング制御にも用いる。
、そのための光マスタリング装置を第1図を用いて説明
する。構成要素11〜18は第7図と同じである。21
は第7図と同様の長波長レーザー(例えば、波長633
nmのHeNeレーザー)であるが、第7図と異なり
、焦点制御だけではなくトラッキング制御にも用いる。
26はハーフミラ−で長波長レーザーを2分割する。ハ
ーフミラ−26で反射したビームはミラー27を経てデ
ィスク原盤に導かれる。その反射光はビームスプリッタ
26で反射されてレンズ28で絞られて2分割の光検出
器29に照射される。この光検出器からの信号で焦点制
御を行う。また、ハーフミラ−26を透過したビームは
拡大光学系30でビーム径が拡大される。ビームスプリ
ッタ31を経てフィルタ32でAr レーザーの光路に
合成されが る。、、32は短波長光は透過すΔ長波長光は反射する
。同様にデイヌク原盤上に絞られて、その反射光はビー
ムスプリッタ31で入射光路から分離されてレンズ33
で絞られて光検出器34に照射される。この34からの
@号でトラッキング制御が行われる。トラッキング制御
用のビーム径は拡大されているので、原盤上ではよく絞
られている。
ーフミラ−26で反射したビームはミラー27を経てデ
ィスク原盤に導かれる。その反射光はビームスプリッタ
26で反射されてレンズ28で絞られて2分割の光検出
器29に照射される。この光検出器からの信号で焦点制
御を行う。また、ハーフミラ−26を透過したビームは
拡大光学系30でビーム径が拡大される。ビームスプリ
ッタ31を経てフィルタ32でAr レーザーの光路に
合成されが る。、、32は短波長光は透過すΔ長波長光は反射する
。同様にデイヌク原盤上に絞られて、その反射光はビー
ムスプリッタ31で入射光路から分離されてレンズ33
で絞られて光検出器34に照射される。この34からの
@号でトラッキング制御が行われる。トラッキング制御
用のビーム径は拡大されているので、原盤上ではよく絞
られている。
ビーム拡大系3oでビームの平行度を調整してArレー
ザーのスポットと同じほぼ平面に絞れるようにする。長
波長レーザーのスポット部はAr レーザーのスポット
部とは完全に同一面に絞る事は極めて困難であるが、少
し位ずれてもトラッキング信号は十分検出できる。一方
、焦点制御用のビームは拡大されず、原盤上ではそれ程
絞られていない。従って、焦点制御の可動範囲は広く、
Ar レーザーのスポット部をV溝斜面の上に照射する
ように調整できる。例えば、焦点制御にビーム横ずらし
法(米国特許第3,876.841号)を用すればよい
。
ザーのスポットと同じほぼ平面に絞れるようにする。長
波長レーザーのスポット部はAr レーザーのスポット
部とは完全に同一面に絞る事は極めて困難であるが、少
し位ずれてもトラッキング信号は十分検出できる。一方
、焦点制御用のビームは拡大されず、原盤上ではそれ程
絞られていない。従って、焦点制御の可動範囲は広く、
Ar レーザーのスポット部をV溝斜面の上に照射する
ように調整できる。例えば、焦点制御にビーム横ずらし
法(米国特許第3,876.841号)を用すればよい
。
発明の効果
本発明によれば、焦点制御用のビームはディスク原盤上
にはそれ程絞らないで用いることができるので、焦点制
御できる範囲が広く、Arレーザーのスポットを信号面
上に絞るように調勢できるようになる。
にはそれ程絞らないで用いることができるので、焦点制
御できる範囲が広く、Arレーザーのスポットを信号面
上に絞るように調勢できるようになる。
第1図は本発明の一実施例における光ディスク製造方法
を実施するための光学系を示す構成図、第2図は従来の
光ディスクを示す斜視図、第3図は従来の光ディスクの
製法の説明図、第4図はV溝ディスクを示す斜視図、第
6図、第6図はV溝ディスクの製法を説明する断面図、
第7図は従来の光ディスクの製造装置の構成を示す図で
ある。 11・・・・・・青色レーザー、12・・・・・・EO
変調器、1e・・・・・・ディスク原盤、18・・・・
・・スライダ、21・・・・・・制御用レーザー、26
・・・・・・ハーフミーIF−126゜31・・・・・
・ビームスプリッタ、29.34・・・・・・光検出器
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第 図 第 図 こ 4〜−一力゛ラス盟 5−−−フ1トJ/ヅスト 6−AI−レープ゛− 第 図 / 第 図 /−デAヌク五寸 第 図 5−−フマトνシスト 第 図 5−フォトンヅスト 10− イオンビ一ム
を実施するための光学系を示す構成図、第2図は従来の
光ディスクを示す斜視図、第3図は従来の光ディスクの
製法の説明図、第4図はV溝ディスクを示す斜視図、第
6図、第6図はV溝ディスクの製法を説明する断面図、
第7図は従来の光ディスクの製造装置の構成を示す図で
ある。 11・・・・・・青色レーザー、12・・・・・・EO
変調器、1e・・・・・・ディスク原盤、18・・・・
・・スライダ、21・・・・・・制御用レーザー、26
・・・・・・ハーフミーIF−126゜31・・・・・
・ビームスプリッタ、29.34・・・・・・光検出器
。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第 図 第 図 こ 4〜−一力゛ラス盟 5−−−フ1トJ/ヅスト 6−AI−レープ゛− 第 図 / 第 図 /−デAヌク五寸 第 図 5−−フマトνシスト 第 図 5−フォトンヅスト 10− イオンビ一ム
Claims (2)
- (1)光ディスク原盤の製造方法であって、信号記録用
レーザーと制御用レーザーを設置し、前記制御用レーザ
ーは焦点制御用とトラッキング制御用の2つのビームか
らなることを特徴とする光ディスク製造方法。 - (2)焦点制御用のビームは回折限界までは絞らないこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク
製造方法。 (2)信号記録用レーザーの波長は490nm以下で、
制御用レーザーの波長は530nm以上であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の光ディスク製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63225014A JPH0273541A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 光ディスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63225014A JPH0273541A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 光ディスク製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273541A true JPH0273541A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16822720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63225014A Pending JPH0273541A (ja) | 1988-09-08 | 1988-09-08 | 光ディスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273541A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1067536A2 (en) * | 1999-07-07 | 2001-01-10 | Sony Corporation | Exposure apparatus and method, optical disc drive, and recording and/or reproducing method |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5263614A (en) * | 1975-11-20 | 1977-05-26 | Sony Corp | Information detector |
| JPS54107708A (en) * | 1978-02-13 | 1979-08-23 | Toshiba Corp | Optical information recorder |
| JPS59185037A (ja) * | 1983-04-05 | 1984-10-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高密度情報記録再生装置 |
-
1988
- 1988-09-08 JP JP63225014A patent/JPH0273541A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5263614A (en) * | 1975-11-20 | 1977-05-26 | Sony Corp | Information detector |
| JPS54107708A (en) * | 1978-02-13 | 1979-08-23 | Toshiba Corp | Optical information recorder |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1067536A2 (en) * | 1999-07-07 | 2001-01-10 | Sony Corporation | Exposure apparatus and method, optical disc drive, and recording and/or reproducing method |
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