JPH0275367A - スプレー容器 - Google Patents
スプレー容器Info
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- JPH0275367A JPH0275367A JP22653288A JP22653288A JPH0275367A JP H0275367 A JPH0275367 A JP H0275367A JP 22653288 A JP22653288 A JP 22653288A JP 22653288 A JP22653288 A JP 22653288A JP H0275367 A JPH0275367 A JP H0275367A
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- Japan
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- gas
- phase part
- liquid phase
- container
- solid agent
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- Pending
Links
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Landscapes
- Nozzles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はスプレー容器に関し、詳しくは従来の如く高圧
ボンベ又はガス発生装置よりガスを圧入するのではなく
、単に気体発生用固形剤を密閉容器内の水を媒体とする
液相部に投入して気体を発生させ、容器上部の気相の内
部圧力を高めることにより液相部を噴出させるスプレー
容器に関するものである。
ボンベ又はガス発生装置よりガスを圧入するのではなく
、単に気体発生用固形剤を密閉容器内の水を媒体とする
液相部に投入して気体を発生させ、容器上部の気相の内
部圧力を高めることにより液相部を噴出させるスプレー
容器に関するものである。
(従来技術)
従来、スプレー容器に於いてはガスを注入する場合、高
圧ボンベあるいはガス発生装置によりガスを圧入する方
法を採用しているため、高圧ガス取扱にともなう作業に
於ける危険が常に伴い、さらに製造加工工程が繁雑であ
る。
圧ボンベあるいはガス発生装置によりガスを圧入する方
法を採用しているため、高圧ガス取扱にともなう作業に
於ける危険が常に伴い、さらに製造加工工程が繁雑であ
る。
(発明の目的)
本発明は上記の如き欠点を排除したスプレー容器を提供
することを目的とするものであり、その要旨とするとこ
ろは、スプレー用ノズルを上部に設けた密閉容器内に水
を媒体とする液相部を設け且つ容器頂部の一定体積部を
気相部とし、容器内液相部に気体発生用固形剤を投入す
ることにより該固形剤より気体を発生させ、該発生気体
により気相部の内部圧力を高めることにより、ノズルよ
り液相部を外部に噴射せしめるスプレー容器に存する。
することを目的とするものであり、その要旨とするとこ
ろは、スプレー用ノズルを上部に設けた密閉容器内に水
を媒体とする液相部を設け且つ容器頂部の一定体積部を
気相部とし、容器内液相部に気体発生用固形剤を投入す
ることにより該固形剤より気体を発生させ、該発生気体
により気相部の内部圧力を高めることにより、ノズルよ
り液相部を外部に噴射せしめるスプレー容器に存する。
(発明の構成)
添付図面に示す如く、本発明によるスプレー容器は密閉
容器(1)の頂部にバルブ(2)及びノズル(3)をを
する噴射部が設けられ、該バルブ(2)には容器(1)
の底部に到達する液相部(4)を排出するパイプ(5)
が装着されている。
容器(1)の頂部にバルブ(2)及びノズル(3)をを
する噴射部が設けられ、該バルブ(2)には容器(1)
の底部に到達する液相部(4)を排出するパイプ(5)
が装着されている。
容器(1)の上部には一定容量の気相部(6)が設けら
れており、かかる構造のスプレー容器に気体発生用固形
剤(7)を投入すると、媒体である水の作用により該固
形剤より目的とする気体(8)が泡状に発生し、発生し
た泡状の気体(8)が液相部(4)を上昇して気相部(
6)に達し、次第に気相部(6)の内圧が高められる。
れており、かかる構造のスプレー容器に気体発生用固形
剤(7)を投入すると、媒体である水の作用により該固
形剤より目的とする気体(8)が泡状に発生し、発生し
た泡状の気体(8)が液相部(4)を上昇して気相部(
6)に達し、次第に気相部(6)の内圧が高められる。
気相部(6)の内圧が充分に高められた後、噴射部のノ
ズル(3)を下方に押し下げてバルブ(2)を開放すれ
ば、液相部(4)の液相がノズル(3)を通過しつつ外
部に噴射される。
ズル(3)を下方に押し下げてバルブ(2)を開放すれ
ば、液相部(4)の液相がノズル(3)を通過しつつ外
部に噴射される。
常温に於いて気体で存在する元素としては水素、酸素、
窒素、弗素、塩素等があり、不活性ガスとしてはHe
+Na l^r、Xe、Kr等があげられ、化合物とし
てとしてはフロン系、炭化水素系のガスあるいはCO□
、NH3等が一般的であり、その外にも多く存在する。
窒素、弗素、塩素等があり、不活性ガスとしてはHe
+Na l^r、Xe、Kr等があげられ、化合物とし
てとしてはフロン系、炭化水素系のガスあるいはCO□
、NH3等が一般的であり、その外にも多く存在する。
スプレー用のガスとしてはフロンガスが多く使用されて
いるが、フロンガスは含まれている塩素が環境汚染その
他の面より問題が多く、使用禁止の方向にある。
いるが、フロンガスは含まれている塩素が環境汚染その
他の面より問題が多く、使用禁止の方向にある。
本発明によるスプレー容器用噴射ガスとしては多くのガ
スがそれぞれの目的に応じて使用されるが、気体発生用
固形剤を使用する観点からして02及びCO,ガスが好
ましく使用される。
スがそれぞれの目的に応じて使用されるが、気体発生用
固形剤を使用する観点からして02及びCO,ガスが好
ましく使用される。
本発明によるスプレー容器はデオドラント、あぜとり剤
、ひげそり用クリーム、ローシロン、養毛剤、パーマネ
ント処理剤、噴霧用;家具、調理用具の汚れとり剤噴霧
用;農薬、養液栽培用薬剤噴霧用等容方面に於ける利用
がきわめて大なものである。
、ひげそり用クリーム、ローシロン、養毛剤、パーマネ
ント処理剤、噴霧用;家具、調理用具の汚れとり剤噴霧
用;農薬、養液栽培用薬剤噴霧用等容方面に於ける利用
がきわめて大なものである。
添付図面は本発明によるスプレー容器の縦断面□略示図
である。 なお、図示された主要部と符号との対応関係は以下の通
りである。 1・・・密閉容器 2・・・バルブ3・・・ノ
ズル 4・・・液相部5・・・パイプ
6・・・気相部7・・・気体発生用固形剤、8・
・・泡状の気体代理人弁理士 1)代 蒸 治
である。 なお、図示された主要部と符号との対応関係は以下の通
りである。 1・・・密閉容器 2・・・バルブ3・・・ノ
ズル 4・・・液相部5・・・パイプ
6・・・気相部7・・・気体発生用固形剤、8・
・・泡状の気体代理人弁理士 1)代 蒸 治
Claims (2)
- (1)スプレー用ノズルを上部に設けた密閉容器内に水
を媒体とする液相部を設け且つ容器頂部の一定体積部を
気相部とし、容器内液相部に気体発生用固形剤を投入す
ることにより該固形剤より気体を発生させ、該発生気体
により気相部の内部圧力を高めることにより、ノズルよ
り液相部を外部に噴射せしめることを特徴とするスプレ
ー容器。 - (2)請求項(1)記載の容器に於いて、気体発生用固
形剤より発生するる気体が酸素あるいは二酸化炭素であ
るスプレー容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22653288A JPH0275367A (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | スプレー容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22653288A JPH0275367A (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | スプレー容器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0275367A true JPH0275367A (ja) | 1990-03-15 |
Family
ID=16846613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22653288A Pending JPH0275367A (ja) | 1988-09-12 | 1988-09-12 | スプレー容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0275367A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4946877A (en) * | 1988-02-10 | 1990-08-07 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for producing bisphenol A |
-
1988
- 1988-09-12 JP JP22653288A patent/JPH0275367A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4946877A (en) * | 1988-02-10 | 1990-08-07 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Process for producing bisphenol A |
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