JPH0275A - マトリツクス内部にパターンを付けられた金属中間層 - Google Patents
マトリツクス内部にパターンを付けられた金属中間層Info
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- JPH0275A JPH0275A JP63119445A JP11944588A JPH0275A JP H0275 A JPH0275 A JP H0275A JP 63119445 A JP63119445 A JP 63119445A JP 11944588 A JP11944588 A JP 11944588A JP H0275 A JPH0275 A JP H0275A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はマトリックスの中にパターンのついた中間層と
して金属を沈着させる方法に関する。
して金属を沈着させる方法に関する。
現在当業界においては原子価０の金属を重合体フィルム
上に導入または配置させる多くの異った化学的または物
理的技術が提案されている。これらの技術の中でいくつ
かの方法では、例えば金属蒸着法または無電極鍍金法に
よって重合体の表面上に薄い連続的なフィルムをつくる
ことができる。
上に導入または配置させる多くの異った化学的または物
理的技術が提案されている。これらの技術の中でいくつ
かの方法では、例えば金属蒸着法または無電極鍍金法に
よって重合体の表面上に薄い連続的なフィルムをつくる
ことができる。
他の方法においては後で詳細に説明するようなハロゲン
化銀による写真法及び或種の化学的沈着法によって重合
体フィルムの中に埋込まれた金属粒子をつくることがで
きる。これらの粒子は一般に、連続的な金属層の特徴的
な電気的または光学的性質を欠いている程度に分散して
いる。
化銀による写真法及び或種の化学的沈着法によって重合
体フィルムの中に埋込まれた金属粒子をつくることがで
きる。これらの粒子は一般に、連続的な金属層の特徴的
な電気的または光学的性質を欠いている程度に分散して
いる。
現存の技術において金属を予め形成された固体の重合体
フィルムの中に導入するには二つの方法がある。最も普
通の例は写真技術である［例えばロンドン及びニューヨ
ーク、す・フォーカル・プレス（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ
Ｐｒｅｓｓ）社１９７２年発行、ニー・ロフ（Ａ、 Ｒ
ｏｆｆ）及びイー・ウェイト（Ｅ、 Ｗｅｙｄｅ）著、
「フォトグラフィック・シルヴア−・ハライド・デイフ
ュージョン・プロセス（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ ５
ｉｌｖｅｒ Ｈａｌｉｄｅ Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ Ｐｒ
ｏｃｅｓｓ）Ｊ １３〜３１頁参照］。
フィルムの中に導入するには二つの方法がある。最も普
通の例は写真技術である［例えばロンドン及びニューヨ
ーク、す・フォーカル・プレス（Ｔｈｅ Ｆｏｃａｌ
Ｐｒｅｓｓ）社１９７２年発行、ニー・ロフ（Ａ、 Ｒ
ｏｆｆ）及びイー・ウェイト（Ｅ、 Ｗｅｙｄｅ）著、
「フォトグラフィック・シルヴア−・ハライド・デイフ
ュージョン・プロセス（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ ５
ｉｌｖｅｒ Ｈａｌｉｄｅ Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ Ｐｒ
ｏｃｅｓｓ）Ｊ １３〜３１頁参照］。
通常の写真法によれば重合体フィルムの内部に分散した
金属粒子をつくることができるが、この場合その主な目
的は光を吸収することである。これらの粒子は一般に連
続相をつくらない程度に分散しており、従って通常表面
をメタライズされた構造物に付随した電気伝導性及び光
学的反射性のような巨視的性質をもっていない。
金属粒子をつくることができるが、この場合その主な目
的は光を吸収することである。これらの粒子は一般に連
続相をつくらない程度に分散しており、従って通常表面
をメタライズされた構造物に付随した電気伝導性及び光
学的反射性のような巨視的性質をもっていない。
予めつくられた固体の重合体フィルムの中に金属を導入
する第二の方法は金属中間層沈着法（ＭＩＤ）に関する
米国特許第４，５１２．８５５号の方法である。
する第二の方法は金属中間層沈着法（ＭＩＤ）に関する
米国特許第４，５１２．８５５号の方法である。
この方法には重合体の酸化還元反応により供給される電
子によって金属イオンを還元し、これを重合体フィルム
の一つの表面から拡散させ、電子はフィルムの反対側の
表面から供給される方法が含まれる。ＭＩＤ法の独特で
望ましい特徴の中には、電気伝導性を与えるのに十分な
密度と、光学的反射性を与えるのに十分な平滑で明確に
規定された表面とをもつ金属中間層をつくることができ
るという事実がある。
子によって金属イオンを還元し、これを重合体フィルム
の一つの表面から拡散させ、電子はフィルムの反対側の
表面から供給される方法が含まれる。ＭＩＤ法の独特で
望ましい特徴の中には、電気伝導性を与えるのに十分な
密度と、光学的反射性を与えるのに十分な平滑で明確に
規定された表面とをもつ金属中間層をつくることができ
るという事実がある。
予めつくられたフィルムの中に金属中間層を導入する他
の方法は米国特許第４，６５７．８３３号及び同一出願
人による１９８６年１月２１日出願、１９８７年４月２
３日受理の米国特許願第８２０，２３４号、及び１９８
６年８月２９日出願、同年１２月１８日受理の同第９０
１，７７０号に記載されている。米国特許第４．５１２
，８５５号、第４，６５７，８３３号および前述の特許
出願をここに参照のため編入する。これらの方法におい
てはこれら発明の実施に下記に詳細に説明する方法を使
用している。
の方法は米国特許第４，６５７．８３３号及び同一出願
人による１９８６年１月２１日出願、１９８７年４月２
３日受理の米国特許願第８２０，２３４号、及び１９８
６年８月２９日出願、同年１２月１８日受理の同第９０
１，７７０号に記載されている。米国特許第４．５１２
，８５５号、第４，６５７，８３３号および前述の特許
出願をここに参照のため編入する。これらの方法におい
てはこれら発明の実施に下記に詳細に説明する方法を使
用している。
上記に記載した方法は金属イオン（Ｍ・つがフィルムの
片側の面からその中に拡散することに依存している。こ
れらの方法のいくつかは還元剤の溶液がフィルムの反対
側の面からフィルムを通して拡散することに依存してい
る。米国特許第４．５１２゜８５５号及び同第４．６５
７，８３３号の方法は他の方法とは著しく異った方法で
ある。即ち金属イオン（Ｍ”つはフィルムの片側の面か
ら拡散するが、溶液中においてフィルムを通して拡散す
るのではなくフィルム自身を通して輸送される電子によ
って金属イオンが原子価０の金属に還元される。これら
の特許のフィルムは可逆的に酸化還元される活性重合体
、即ち競合的に不可逆的化学反応を行うことなく迅速に
電子を受容及び供与する重合体から成っている。重合体
を通る還元剤溶液の拡散は、電子が可逆的酸化還元活性
重合体を通る輸送現象とは機構的に異っており、また溶
液中における還元剤による金属イオンの還元と、重合体
マトリックス中における電子による金属の還元とはその
性質が異っているが、本発明は以下に詳細に説明するよ
うに両方の系、即ち金属イオンが溶液中の還元剤によっ
て或いは重合体マトリックス中の電子によって還元され
るいずれの場合にも適用できる。この理由により「向流
拡散」という言葉は本明細書においてはその包括的な意
味において使用され、電気化学的金属中間層及び化学的
金属中間層の生成技術の両方を含むものとする。さらに
本明細書において「還元剤」（Ｒ）という言葉は、可逆
的酸化還元活性重合体中で輸送される電子及び溶液中で
輸送される化学的還元剤の両方を意味する。上記方法に
よって形成された金属中間層は電気伝導性をもつことが
でき、従って電気伝導性シートの製造に有用である。さ
らにパターンがつけられた金属中間層はフレキシブル回
路として有用であり、また部分的に透明な電子遮蔽を含
む他の回路の用途に用いることができる。これらのバ外
−ンをもった金属中間層は、フィルムの表面に沿ってＭ
″＋またはＲが成る領域に到達するのを制御することに
より上記に述べた方法によってつくることができる。Ｍ
″＋またはＲがフィルム表面に到達するのを制御する一
般的方法は三つある。
片側の面からその中に拡散することに依存している。こ
れらの方法のいくつかは還元剤の溶液がフィルムの反対
側の面からフィルムを通して拡散することに依存してい
る。米国特許第４．５１２゜８５５号及び同第４．６５
７，８３３号の方法は他の方法とは著しく異った方法で
ある。即ち金属イオン（Ｍ”つはフィルムの片側の面か
ら拡散するが、溶液中においてフィルムを通して拡散す
るのではなくフィルム自身を通して輸送される電子によ
って金属イオンが原子価０の金属に還元される。これら
の特許のフィルムは可逆的に酸化還元される活性重合体
、即ち競合的に不可逆的化学反応を行うことなく迅速に
電子を受容及び供与する重合体から成っている。重合体
を通る還元剤溶液の拡散は、電子が可逆的酸化還元活性
重合体を通る輸送現象とは機構的に異っており、また溶
液中における還元剤による金属イオンの還元と、重合体
マトリックス中における電子による金属の還元とはその
性質が異っているが、本発明は以下に詳細に説明するよ
うに両方の系、即ち金属イオンが溶液中の還元剤によっ
て或いは重合体マトリックス中の電子によって還元され
るいずれの場合にも適用できる。この理由により「向流
拡散」という言葉は本明細書においてはその包括的な意
味において使用され、電気化学的金属中間層及び化学的
金属中間層の生成技術の両方を含むものとする。さらに
本明細書において「還元剤」（Ｒ）という言葉は、可逆
的酸化還元活性重合体中で輸送される電子及び溶液中で
輸送される化学的還元剤の両方を意味する。上記方法に
よって形成された金属中間層は電気伝導性をもつことが
でき、従って電気伝導性シートの製造に有用である。さ
らにパターンがつけられた金属中間層はフレキシブル回
路として有用であり、また部分的に透明な電子遮蔽を含
む他の回路の用途に用いることができる。これらのバ外
−ンをもった金属中間層は、フィルムの表面に沿ってＭ
″＋またはＲが成る領域に到達するのを制御することに
より上記に述べた方法によってつくることができる。Ｍ
″＋またはＲがフィルム表面に到達するのを制御する一
般的方法は三つある。
（１）反応物質を遮蔽するマスクをフィルムの表面に置
き、反応物質がフィルム中に拡散する区域を限定する。
き、反応物質がフィルム中に拡散する区域を限定する。
（２）パターンをもった陽極によって電子がフィルムの
表面に到達する区域を規定する。
表面に到達する区域を規定する。
（３）陽極から出る電子を感光性の層により二次元制御
法を用いてフィルムに到達させる。
法を用いてフィルムに到達させる。
第１の方法は上記のすべての向流拡散法と共に使用する
ことができる。反応物質を遮蔽するマスクは反応物質の
一つに対して不透過性の任意の材料であることができる
。第２の方法は反応物質の少なくとも１種がフィルムの
表面において電極から供給される向流拡散法に８いての
み使用することができる。反応物質がフィルムの表面に
到達するのを限定するすべてのパターン作成方法では、
反応物質が表面遮蔽を通過した後マトリックス中で横方
向に拡散することに由来する固有の解像度の損失がある
。
ことができる。反応物質を遮蔽するマスクは反応物質の
一つに対して不透過性の任意の材料であることができる
。第２の方法は反応物質の少なくとも１種がフィルムの
表面において電極から供給される向流拡散法に８いての
み使用することができる。反応物質がフィルムの表面に
到達するのを限定するすべてのパターン作成方法では、
反応物質が表面遮蔽を通過した後マトリックス中で横方
向に拡散することに由来する固有の解像度の損失がある
。
種々の基板の上に電気伝導性の像を作成する多くの方法
が開発されている。像を作成するこれらの方法の大部分
は、工程中所望の区域を物理的に保護するマスクを基板
につける方法に左右される。
が開発されている。像を作成するこれらの方法の大部分
は、工程中所望の区域を物理的に保護するマスクを基板
につける方法に左右される。
低解像度の用途の場合には、スクリーン印刷法における
ように、メタライズ工程中においてマスクを基板に押し
付ける。高解像度の用途に対しては、電磁波放射に対し
感光するレジスト材料を基板に被覆し、適当なマスクを
通して像を焼付けるが、或いは電磁波放射の較正光源に
よって像を描く［アール・シー・デイリー（Ｒ，Ｃ，Ｄ
ａｌｙ）及びジェー・エル・アール・ウィリアムズ（Ｊ
、 Ｌ、 Ｒ，Ｗｉｌｌｉａｍｓ） 、ポリマー・ニュ
ース（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｗｓ）誌１１巻１６４頁、
１９８６年］。最近、厚さの異った重合体フィルムを通
して電流密度を空間的に変調することにより三次元の金
属表面の特徴をもった像を生成する電気メツキ法が開発
された［ジェー・シー・アンガス（Ｊ、 Ｃ，Ａｎｇｕ
ｓ） 、−Ｌ −・ランダウ（Ｕ、 Ｌａｎｄａｕ）
、ニス・エイチ・リアオ（Ｓ、 Ｈ，Ｌｉａｏ）及びエ
ム・シー・ヤング（Ｍ、 Ｃ，Ｙｏｕｎｇ） 、ジャー
ナル・オヴ・エレクトロケミカル・ソサイアティ（Ｊ。
ように、メタライズ工程中においてマスクを基板に押し
付ける。高解像度の用途に対しては、電磁波放射に対し
感光するレジスト材料を基板に被覆し、適当なマスクを
通して像を焼付けるが、或いは電磁波放射の較正光源に
よって像を描く［アール・シー・デイリー（Ｒ，Ｃ，Ｄ
ａｌｙ）及びジェー・エル・アール・ウィリアムズ（Ｊ
、 Ｌ、 Ｒ，Ｗｉｌｌｉａｍｓ） 、ポリマー・ニュ
ース（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｎｅｗｓ）誌１１巻１６４頁、
１９８６年］。最近、厚さの異った重合体フィルムを通
して電流密度を空間的に変調することにより三次元の金
属表面の特徴をもった像を生成する電気メツキ法が開発
された［ジェー・シー・アンガス（Ｊ、 Ｃ，Ａｎｇｕ
ｓ） 、−Ｌ −・ランダウ（Ｕ、 Ｌａｎｄａｕ）
、ニス・エイチ・リアオ（Ｓ、 Ｈ，Ｌｉａｏ）及びエ
ム・シー・ヤング（Ｍ、 Ｃ，Ｙｏｕｎｇ） 、ジャー
ナル・オヴ・エレクトロケミカル・ソサイアティ（Ｊ。
Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、）誌１３３巻、１
１５２頁（１９８６）年；クーンツ（Ｋｏｏｎｔｚ）等
の米国特許第４．０ＯＬ、０９３号：アンガス等の米国
特許第４．３６１．６４１号］。この方法においては所
望の基板に被覆されるゲル・フィルムの厚さはマスクを
通してゲル・フィルムを光化学的に交叉結合させること
により調節される。
１５２頁（１９８６）年；クーンツ（Ｋｏｏｎｔｚ）等
の米国特許第４．０ＯＬ、０９３号：アンガス等の米国
特許第４．３６１．６４１号］。この方法においては所
望の基板に被覆されるゲル・フィルムの厚さはマスクを
通してゲル・フィルムを光化学的に交叉結合させること
により調節される。
従来ポリアミン酸の中に光で像を作成した相互侵入型重
合体網状構造（ＪＰＮ）をつくる方法はポリアミン酸の
溶解度を調節し、それによってポリイミドの７オトレジ
スト・パターンをつくるのに使用された［エル・ミンネ
マ（Ｌ、 Ｍｉｎｎｅｍａ）及Ｕ ’；ニー・エム・フ
ァン・デル・ザンテ（Ｊ、 Ｍ、 ｖａｎ ｄｅｒＺａ
ｎｄｅ） 、第３０回ＩＵＰＡｃ国際高分子シンポジウ
ム・アブストラクツ、２２４頁（１９８５）］。この方
法には、透過性を調節するために、光によって像を作成
した重合体網状構造物を使用することについては記載ま
たは示唆されていない。
合体網状構造（ＪＰＮ）をつくる方法はポリアミン酸の
溶解度を調節し、それによってポリイミドの７オトレジ
スト・パターンをつくるのに使用された［エル・ミンネ
マ（Ｌ、 Ｍｉｎｎｅｍａ）及Ｕ ’；ニー・エム・フ
ァン・デル・ザンテ（Ｊ、 Ｍ、 ｖａｎ ｄｅｒＺａ
ｎｄｅ） 、第３０回ＩＵＰＡｃ国際高分子シンポジウ
ム・アブストラクツ、２２４頁（１９８５）］。この方
法には、透過性を調節するために、光によって像を作成
した重合体網状構造物を使用することについては記載ま
たは示唆されていない。
米国特許環３．７１８．４７３号及び同第３，８７９．
２０４号には、グラヴイア印刷版のレジストをつくる方
法が記載されており、この方法では、光に露出すると、
光重合可能な層に水性エツチング液の拡散に対する抵抗
性が与えられる。露光した層を次に金属シートの上に置
き、これをエツチング溶液にさらして印刷に適した連続
調のグラヴイアをつくる。
２０４号には、グラヴイア印刷版のレジストをつくる方
法が記載されており、この方法では、光に露出すると、
光重合可能な層に水性エツチング液の拡散に対する抵抗
性が与えられる。露光した層を次に金属シートの上に置
き、これをエツチング溶液にさらして印刷に適した連続
調のグラヴイアをつくる。
この特許の方法は本発明の方法とは異って単量体の二相
分散を行い、つくられる表面のレジストは最終製品では
なく、最終製品、即ち印刷物をつくるのに使用される。
分散を行い、つくられる表面のレジストは最終製品では
なく、最終製品、即ち印刷物をつくるのに使用される。
さらにこの特許には透過性に影響を及ぼす膨潤の程度を
調節し得る方法についての記載または示唆がない。
調節し得る方法についての記載または示唆がない。
多くの因子が膨潤したマトリックス中における反応物質
の拡散輸送に影響し、反応物質の大きさ及びマトリック
スの膨潤の程度が含まれる。これらの因子の理論的解析
法は多く提案されており、例えばエヌ・ジェー・ペラパ
ス（Ｎ、 Ｊ 、 Ｐｅｐｐａｓ）及びエイチ・ジェー
・モイニハン（１，Ｊ、 １ｏｙｎｉｈａｎ）のジャー
ナル・オヴ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊ、
ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎ
ｃｅ）誌３０巻、２５８９頁（１９８５）を参照された
い。重要なことは、マトリックスの膨潤度が減少するに
つれて反応物質の透過度が減少することである。
の拡散輸送に影響し、反応物質の大きさ及びマトリック
スの膨潤の程度が含まれる。これらの因子の理論的解析
法は多く提案されており、例えばエヌ・ジェー・ペラパ
ス（Ｎ、 Ｊ 、 Ｐｅｐｐａｓ）及びエイチ・ジェー
・モイニハン（１，Ｊ、 １ｏｙｎｉｈａｎ）のジャー
ナル・オヴ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊ、
ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ ５ｃｉｅｎ
ｃｅ）誌３０巻、２５８９頁（１９８５）を参照された
い。重要なことは、マトリックスの膨潤度が減少するに
つれて反応物質の透過度が減少することである。
本発明の目的は拡散を制御した金属沈着法を使用し、マ
トリックス、例えばフィルム、例えば重合体フィルム、
例えば有機重合体フィルムの内部に原子価０の金属を沈
着させ、シャープな二次元のパターンをつくることがで
きる方法を提供することである。本発明の他の目的には
、 （ａ）マトリックス内部に原子価Ｏの金属を沈着させ得
る方法、 （ｂ）マトリックス表面の境界の内部に、必要に応じ、
金属を中間層として沈着させ得る方法、（ｃ）マトリッ
クスの表面の下方の任意の有限の距離に関し、マトリッ
クス中の中間層の位置を体系的に制御し得る方法、 （ｄ）単一のマトリックスの内部に体系的に制御された
方法で多重中間層を沈着させ得る方法、（ｅ）金属イオ
ンと還元剤（Ｒ）の間の化学反応速度を変化させて、得
られた中間層の幅を制御する方法、 （Ｄ巨視的な金属相または表面被膜の特徴である電気伝
導性及び光学的反射性を示すのに十分な密度、連続性及
び表面規則性をもった金属中間層を、必要に応じ、つく
る方法、及び （ｇ）電気的に活性をもった重合体マトリックスを必要
とせず、種々の幾何学的配置をもった自立したマトリッ
クスに対し単一工程で実施することができ、且つ両面に
おいて反射性の大きいマトリックスをつくるだめの明確
な境界をもった中間層を製造するのに使用できる方法を
提供することが含まれる。さらに他の目的については以
下の説明から明らかになろう。
トリックス、例えばフィルム、例えば重合体フィルム、
例えば有機重合体フィルムの内部に原子価０の金属を沈
着させ、シャープな二次元のパターンをつくることがで
きる方法を提供することである。本発明の他の目的には
、 （ａ）マトリックス内部に原子価Ｏの金属を沈着させ得
る方法、 （ｂ）マトリックス表面の境界の内部に、必要に応じ、
金属を中間層として沈着させ得る方法、（ｃ）マトリッ
クスの表面の下方の任意の有限の距離に関し、マトリッ
クス中の中間層の位置を体系的に制御し得る方法、 （ｄ）単一のマトリックスの内部に体系的に制御された
方法で多重中間層を沈着させ得る方法、（ｅ）金属イオ
ンと還元剤（Ｒ）の間の化学反応速度を変化させて、得
られた中間層の幅を制御する方法、 （Ｄ巨視的な金属相または表面被膜の特徴である電気伝
導性及び光学的反射性を示すのに十分な密度、連続性及
び表面規則性をもった金属中間層を、必要に応じ、つく
る方法、及び （ｇ）電気的に活性をもった重合体マトリックスを必要
とせず、種々の幾何学的配置をもった自立したマトリッ
クスに対し単一工程で実施することができ、且つ両面に
おいて反射性の大きいマトリックスをつくるだめの明確
な境界をもった中間層を製造するのに使用できる方法を
提供することが含まれる。さらに他の目的については以
下の説明から明らかになろう。
本発明において向流拡散法によってつくられるマトリッ
クス中の金属中間層の制御は、マトリックスの透過度を
二次元的に制御することにより達成される。透過度はマ
トリックスの膨潤度を制御することにより制御すること
が好ましい。有機重合体マトリックスの膨潤を制御する
二つの好適な具体化例の例には、 ｌ）マトリックスを選択的に熱処理する方法。
クス中の金属中間層の制御は、マトリックスの透過度を
二次元的に制御することにより達成される。透過度はマ
トリックスの膨潤度を制御することにより制御すること
が好ましい。有機重合体マトリックスの膨潤を制御する
二つの好適な具体化例の例には、 ｌ）マトリックスを選択的に熱処理する方法。
２）相互侵入型網状構造を光化学的に生成する方法があ
る。重合可能な添加物はマトリックスの膨潤度を実質的
に減少させる任意のものであることができる。多官能性
の単量体が好適であり、下記に例示されている。
る。重合可能な添加物はマトリックスの膨潤度を実質的
に減少させる任意のものであることができる。多官能性
の単量体が好適であり、下記に例示されている。
さらに詳細には本発明はマトリックスの片側の表面に接
触している金属イオン、及びマトリックスの他の表面に
接触している還元剤の向流拡散により、少なくとも二つ
の表面をもった予め形成形されたマトリックス内部の予
め定められた位置に金属を沈着させる方法であって、金
属イオンまたは還元剤のいずれか或いは両方に対し異っ
た透過度を有する少なくとも二つの隣接した容積要素を
もったマトリックスを用いて上記方法を実施する改善さ
れた金属中間層沈着法（ＭＩＤ）に関する。
触している金属イオン、及びマトリックスの他の表面に
接触している還元剤の向流拡散により、少なくとも二つ
の表面をもった予め形成形されたマトリックス内部の予
め定められた位置に金属を沈着させる方法であって、金
属イオンまたは還元剤のいずれか或いは両方に対し異っ
た透過度を有する少なくとも二つの隣接した容積要素を
もったマトリックスを用いて上記方法を実施する改善さ
れた金属中間層沈着法（ＭＩＤ）に関する。
本発明は、向流拡散法によって金属中間層を形成する公
知の方法を、異った透過性をもつ少なくとも二つの隣接
した容積要素をもつマトリックスと組み合わせ、拡散を
制御する種々の透過度をもつ予め形成されたパターンに
対応するパターンをマトリックス中に形成するようにす
る。マトリックスの透過度は前記米国特許環４．５１２
．８５５号において重要な因子として挙げられている。
知の方法を、異った透過性をもつ少なくとも二つの隣接
した容積要素をもつマトリックスと組み合わせ、拡散を
制御する種々の透過度をもつ予め形成されたパターンに
対応するパターンをマトリックス中に形成するようにす
る。マトリックスの透過度は前記米国特許環４．５１２
．８５５号において重要な因子として挙げられている。
本発明の一具体化例においては、向流拡散条件下におい
て一種または両方の反応物質を輸送するのに用いられる
溶媒中におけるマトリックスの膨潤度を制御することに
よりマトリックスの透過度を調節する。本発明は向流拡
散法による他の像形成法、例えば上記の表面遮蔽法に比
べ、表面遮蔽を通過した後の反応物質の横方向の拡散に
基づく固有の解像度の低下を避は得るという点で利点を
もっている。即ち中間層の形成速度は反応物質のマトリ
ックスに対する透過度に依存している。反応物質の透過
度が低いマトリックス中においては、金属中間層の沈着
速度は、反応物質の透過度の高いマトリックス中におけ
るより遅い。従って、マトリックスの膨潤度を二次元的
に調節すると、膨潤度の低いマトリックスの区域は向流
拡散法による金属の沈着が少ない。
て一種または両方の反応物質を輸送するのに用いられる
溶媒中におけるマトリックスの膨潤度を制御することに
よりマトリックスの透過度を調節する。本発明は向流拡
散法による他の像形成法、例えば上記の表面遮蔽法に比
べ、表面遮蔽を通過した後の反応物質の横方向の拡散に
基づく固有の解像度の低下を避は得るという点で利点を
もっている。即ち中間層の形成速度は反応物質のマトリ
ックスに対する透過度に依存している。反応物質の透過
度が低いマトリックス中においては、金属中間層の沈着
速度は、反応物質の透過度の高いマトリックス中におけ
るより遅い。従って、マトリックスの膨潤度を二次元的
に調節すると、膨潤度の低いマトリックスの区域は向流
拡散法による金属の沈着が少ない。
架橋の程度及び重合体の結晶化度を含めて、重合体マト
リックス、例えば有機重合体マトリックスの成る与えら
れた溶媒中における膨潤度に影響を与える多くの方法が
知られている。本発明によれば二次元的方法で重合体マ
トリックスの膨潤度を調節する方法が提供され、類推に
より同様に良好な動作をする他の方法も示唆される。
リックス、例えば有機重合体マトリックスの成る与えら
れた溶媒中における膨潤度に影響を与える多くの方法が
知られている。本発明によれば二次元的方法で重合体マ
トリックスの膨潤度を調節する方法が提供され、類推に
より同様に良好な動作をする他の方法も示唆される。
重合体混合物の膨潤度を二次元的に調節する第一の方法
は、所望のパターンをもった加熱した焼印を捺すための
アイロン掛は部材（焼印）またはレーザー・ビームを使
用して、問題とする重合体マトリックスの透過可能な形
状を選択的に加熱することにより達成される。向流拡散
法に使用し得る重合体マトリックスは透過可能でなけれ
ばならない。この要求は重合体の化学的構成、例えば分
子構造及び分子量によって規定されるばかりではなく、
その物理的状態、例えば配向度、可塑剤の存在、結晶化
度及び架橋の程度によって著しい影響を受ける。重合体
を熱処理すると、結晶化度が増加するか及び／又は可塑
剤が浸出する。いずれの場合でも加熱区域においてマト
リックスの膨潤度は減少する。向流拡散法により金属中
間層が形成された後、加熱区域においては加熱されてい
ない区域よりも金属の存在量が少ない。特に好適な具体
化例においては、熱処理により反応物質の透過度は１０
０倍以上変化する。熱処理像形成法の解像度は、膨潤度
の減少をもたらす変化を起すのに必要な時間、その変化
の温度に対する感度及びマトリックスの熱伝導性に依存
する。本発明によればｌＯμｍ程度の形状を、レーザー
・ビームで重合体混合物を加熱した後中間層を形成させ
ることによりつくることができる。
は、所望のパターンをもった加熱した焼印を捺すための
アイロン掛は部材（焼印）またはレーザー・ビームを使
用して、問題とする重合体マトリックスの透過可能な形
状を選択的に加熱することにより達成される。向流拡散
法に使用し得る重合体マトリックスは透過可能でなけれ
ばならない。この要求は重合体の化学的構成、例えば分
子構造及び分子量によって規定されるばかりではなく、
その物理的状態、例えば配向度、可塑剤の存在、結晶化
度及び架橋の程度によって著しい影響を受ける。重合体
を熱処理すると、結晶化度が増加するか及び／又は可塑
剤が浸出する。いずれの場合でも加熱区域においてマト
リックスの膨潤度は減少する。向流拡散法により金属中
間層が形成された後、加熱区域においては加熱されてい
ない区域よりも金属の存在量が少ない。特に好適な具体
化例においては、熱処理により反応物質の透過度は１０
０倍以上変化する。熱処理像形成法の解像度は、膨潤度
の減少をもたらす変化を起すのに必要な時間、その変化
の温度に対する感度及びマトリックスの熱伝導性に依存
する。本発明によればｌＯμｍ程度の形状を、レーザー
・ビームで重合体混合物を加熱した後中間層を形成させ
ることによりつくることができる。
重合体マトリックスの膨潤度を二次元的に調節する第二
の方法は、マトリックスの内部に相互侵入型の網状構造
（ＪＰＮ）を光化学的に誘起させて形成する方法に依存
している。このＩＰＮは膨潤に対する物理的な拘束力と
して作用する。即ち例えば多官能性の単量体（例えばＮ
、Ｎ−メチレンビスアクリルアミドまたはテトラエチレ
ングリコールジアクリレート等）及び光化学反応開始剤
をＯＤＡ ／ＰＭＤＡ（４，４’−オキシジアニリン／
ピロメリト酸二無水物）ポリアミン酸溶液にマトリック
ス形成の前に加える。フィルムを例えばスピンキャスト
法でつくった後、ポリアミン酸マトリックスに標準的な
光重合法を用いて像を転写する。マトリックスの光で分
解した部分と分解しなかった部分との間のコントラスト
は光分解時間に依存する。即ち、結果として得られたマ
トリックスの透過度は光分解の量に依存する。架橋した
ＩＰＮをマトリックスの膨潤度を減少させるために形成
することは多くの重合体マトリックス、例えばフィルム
、溶液からのキャストに適用できる。
の方法は、マトリックスの内部に相互侵入型の網状構造
（ＪＰＮ）を光化学的に誘起させて形成する方法に依存
している。このＩＰＮは膨潤に対する物理的な拘束力と
して作用する。即ち例えば多官能性の単量体（例えばＮ
、Ｎ−メチレンビスアクリルアミドまたはテトラエチレ
ングリコールジアクリレート等）及び光化学反応開始剤
をＯＤＡ ／ＰＭＤＡ（４，４’−オキシジアニリン／
ピロメリト酸二無水物）ポリアミン酸溶液にマトリック
ス形成の前に加える。フィルムを例えばスピンキャスト
法でつくった後、ポリアミン酸マトリックスに標準的な
光重合法を用いて像を転写する。マトリックスの光で分
解した部分と分解しなかった部分との間のコントラスト
は光分解時間に依存する。即ち、結果として得られたマ
トリックスの透過度は光分解の量に依存する。架橋した
ＩＰＮをマトリックスの膨潤度を減少させるために形成
することは多くの重合体マトリックス、例えばフィルム
、溶液からのキャストに適用できる。
上記方法でつくったポリアミン酸マトリックスを次に化
学的にポリイミドに変化させるが、この間未重合の多官
能性単量体は拡散し去り、光反応の起った区域にはＩＰ
Ｎが残る。２０重量％の多官能性単量体を加えた場合に
は、ＩＰＮが残存したマトリックスの区域は光反応の起
らなかった区域よりも約２５％厚くなる。マトリックス
に溶媒を加えると、マトリックスの架橋していない区域
は架橋した区域に比べかなり膨潤する。例えばＯＤＡ
／ＰＩＪＤＡポリイミド・フィルムの架橋していない区
域はアセトニトリル中で５０％膨潤する。これに対して
、架橋した区域は、架橋の程度に従って３〜５０％膨潤
する。
学的にポリイミドに変化させるが、この間未重合の多官
能性単量体は拡散し去り、光反応の起った区域にはＩＰ
Ｎが残る。２０重量％の多官能性単量体を加えた場合に
は、ＩＰＮが残存したマトリックスの区域は光反応の起
らなかった区域よりも約２５％厚くなる。マトリックス
に溶媒を加えると、マトリックスの架橋していない区域
は架橋した区域に比べかなり膨潤する。例えばＯＤＡ
／ＰＩＪＤＡポリイミド・フィルムの架橋していない区
域はアセトニトリル中で５０％膨潤する。これに対して
、架橋した区域は、架橋の程度に従って３〜５０％膨潤
する。
ＪＰＨのパターンを有するマトリックスを向流拡散法に
よって現像すると、光で像がつくられｔ；パターンがマ
トリックス内部の金属中間層として再現される。本発明
によれば光透過度の変化した灰色のパターンが得られる
。解像度が５μｍの金属像がこの方法により得られた。
よって現像すると、光で像がつくられｔ；パターンがマ
トリックス内部の金属中間層として再現される。本発明
によれば光透過度の変化した灰色のパターンが得られる
。解像度が５μｍの金属像がこの方法により得られた。
他の方法でも重合体マトリックスの膨潤度に影響を与え
ることができる。例えば重合体が光で架橋し得る側鎖を
もっている場合には、光反応によって架橋密度が増加し
、従って膨潤度が減少する。
ることができる。例えば重合体が光で架橋し得る側鎖を
もっている場合には、光反応によって架橋密度が増加し
、従って膨潤度が減少する。
重合体を高エネルギーの放射線、（Ｘ線、γ線、電子ビ
ーム）に露出すると、架橋が生じ膨潤度が減少すること
も知られている。照射を行う方法はすべて容易に像形成
に使用でき、従って上述のように向流拡散法でパターン
をつくるのに用いることができる。
ーム）に露出すると、架橋が生じ膨潤度が減少すること
も知られている。照射を行う方法はすべて容易に像形成
に使用でき、従って上述のように向流拡散法でパターン
をつくるのに用いることができる。
本発明を実施する最良の具体化例を実施例１〜５に例示
する。下記のすべての実施例においては温度は°Ｃ単位
である。これらの実施例は単に例示のためのものであり
、本発明を限定するものではない。
する。下記のすべての実施例においては温度は°Ｃ単位
である。これらの実施例は単に例示のためのものであり
、本発明を限定するものではない。
実施例１
（Ａ） ４．４’−オキシジアニリン（ＯＤＡ）及びピ
ロメリト酸二無水物（ＰＭＤＡ）からポリアミン酸をつ
くった。乾ｉＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ
）中に１２重量％のポリアミン酸を含む溶液をミリポア
（Ｍｌｌｌ １ｐｏｒｅ）■（孔の大きさＩＯ，０μｍ
）濾過器で濾過する。ヘッドウェイ・リサーチ（Ｈｅａ
ｄｗａｙ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）社製ＥＣｌ０ＩＤ型フオ
トレジスト・スピンナー（Ｐｈ。
ロメリト酸二無水物（ＰＭＤＡ）からポリアミン酸をつ
くった。乾ｉＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ
）中に１２重量％のポリアミン酸を含む溶液をミリポア
（Ｍｌｌｌ １ｐｏｒｅ）■（孔の大きさＩＯ，０μｍ
）濾過器で濾過する。ヘッドウェイ・リサーチ（Ｈｅａ
ｄｗａｙ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）社製ＥＣｌ０ＩＤ型フオ
トレジスト・スピンナー（Ｐｈ。
ｔｏｒｅｓｉｓｔ ５ｐｉｎｅｒ）を使用し、８６０ｒ
ｐｍできれいなガラス板（直径１０．３ ｃ ｍ）にポ
リアミン酸をスピンコードする。ガラス板を８０°Ｃの
熱板の上に１０分間載せ、重合体が無色透明なフィルム
になるまで加熱する。ガラス板を酢酸無水物とピリジン
の混合物（等容混合物）中に室温で２時間浸漬してフィ
ルムをポリイミド構造に変える。ポリイミドに変化する
際フィルムはＯＤＡ ／ＰＭＤＡポリイミドの典型的な
色である黄色になる。フィルムをメタノールで洗浄し空
気乾燥する。透過型電子顕微鏡で決定したフィルムの厚
さは１２μｍであった。ポリイミドとガラスとの境界の
間に髪剃りの刃を滑らせ、手でフィルムを持上げること
によりフィルムは容易に無傷の状態でガラス板から除去
された。使用直前までフィルムはガラス板の上で貯蔵し
た。
ｐｍできれいなガラス板（直径１０．３ ｃ ｍ）にポ
リアミン酸をスピンコードする。ガラス板を８０°Ｃの
熱板の上に１０分間載せ、重合体が無色透明なフィルム
になるまで加熱する。ガラス板を酢酸無水物とピリジン
の混合物（等容混合物）中に室温で２時間浸漬してフィ
ルムをポリイミド構造に変える。ポリイミドに変化する
際フィルムはＯＤＡ ／ＰＭＤＡポリイミドの典型的な
色である黄色になる。フィルムをメタノールで洗浄し空
気乾燥する。透過型電子顕微鏡で決定したフィルムの厚
さは１２μｍであった。ポリイミドとガラスとの境界の
間に髪剃りの刃を滑らせ、手でフィルムを持上げること
によりフィルムは容易に無傷の状態でガラス板から除去
された。使用直前までフィルムはガラス板の上で貯蔵し
た。
（Ｂ）フィルムの表面に加熱した焼印を押し付けて熱に
よる像をポリイミド・フィルムに転写する。
よる像をポリイミド・フィルムに転写する。
焼印は２．５４０ｍのアルミニウムの棒であり、棒の本
体に対し所望の像が突板としてつけられている。
体に対し所望の像が突板としてつけられている。
第１図参照。第１図の焼印は使用した焼印の実際の大き
さの約２．６３倍である。この焼印をその中に埋込まれ
た２個の抵抗加熱器で加熱する。温度はエレクトロニッ
ク・コントロール・システム（Ｅｌｓｃｔｒｏｎｉｃ
Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｓｙｓｔｅｍ）社製８００−２６２型
温度調節器でそのブロックの中に取り付けられた熱電対
を介して調節する。焼印を３００°Ｃに加熱し、約１秒
間フィルムに押し付ける。熱による捺印を用いて像を形
成する工程中ＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合体フィルムを柔ら
かい支持物（熱的に安定な重合体のバ・ノド）の上に置
く。上記と同様な熱処理を行った後、アセトニトリル中
に入れたとき、フィルムはもとの厚さの僅か１．２倍し
か膨潤しなかった。つくられたままのＯＤＡ ／ＰＭＤ
Ａ重合体フィルムはアセトニトリル中に入れると最初の
厚さの１．５倍に膨潤する。
さの約２．６３倍である。この焼印をその中に埋込まれ
た２個の抵抗加熱器で加熱する。温度はエレクトロニッ
ク・コントロール・システム（Ｅｌｓｃｔｒｏｎｉｃ
Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｓｙｓｔｅｍ）社製８００−２６２型
温度調節器でそのブロックの中に取り付けられた熱電対
を介して調節する。焼印を３００°Ｃに加熱し、約１秒
間フィルムに押し付ける。熱による捺印を用いて像を形
成する工程中ＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合体フィルムを柔ら
かい支持物（熱的に安定な重合体のバ・ノド）の上に置
く。上記と同様な熱処理を行った後、アセトニトリル中
に入れたとき、フィルムはもとの厚さの僅か１．２倍し
か膨潤しなかった。つくられたままのＯＤＡ ／ＰＭＤ
Ａ重合体フィルムはアセトニトリル中に入れると最初の
厚さの１．５倍に膨潤する。
（ｃ）Ｕ字管のセルの中で銀の中間層を沈着させる。Ｕ
字管の半分がフィルムにより他の半分から分離されるよ
うにフィルムをＵ字管の中にクランプする。電解槽は２
個のパイレックス０製の半槽から成り、２個のテフロン
０のワッシャーと２個の０−リングにより重合体フィル
ムをその間の適切な位置に固定する。溶液に露出したフ
ィルムの面積はテフロン・ワッシャーの内径によって決
定される。沈着実験中各半槽中の溶液をその底に配置し
たマグネティック・スターラーの棒で撹拌する。アセト
ニトリル中に０．０ＩＮのＡｇＮＯ３溶液を生検の片方
に、またアセトニトリル中にＯ，ＯＩＮのＮａＢＨ，を
含む溶液を他の生検に同時に加えることにより実験を開
始する。実験中溶液を連続的に撹拌する。この溶液に対
し２０分間向流拡散を行わせる。
字管の半分がフィルムにより他の半分から分離されるよ
うにフィルムをＵ字管の中にクランプする。電解槽は２
個のパイレックス０製の半槽から成り、２個のテフロン
０のワッシャーと２個の０−リングにより重合体フィル
ムをその間の適切な位置に固定する。溶液に露出したフ
ィルムの面積はテフロン・ワッシャーの内径によって決
定される。沈着実験中各半槽中の溶液をその底に配置し
たマグネティック・スターラーの棒で撹拌する。アセト
ニトリル中に０．０ＩＮのＡｇＮＯ３溶液を生検の片方
に、またアセトニトリル中にＯ，ＯＩＮのＮａＢＨ，を
含む溶液を他の生検に同時に加えることにより実験を開
始する。実験中溶液を連続的に撹拌する。この溶液に対
し２０分間向流拡散を行わせる。
露出を行った後両方の生検を迅速に空け、過剰のアセト
ニトリルで洗浄する。焼印と接触しなかったフィルムの
区域には銀の中間層が存在していたが、焼印と接触した
フィルムの区域には銀の中間層は存在しなかった。第２
図参照。第２図に示す像はつくられた像の実際の大きさ
の約２．６３倍である。
ニトリルで洗浄する。焼印と接触しなかったフィルムの
区域には銀の中間層が存在していたが、焼印と接触した
フィルムの区域には銀の中間層は存在しなかった。第２
図参照。第２図に示す像はつくられた像の実際の大きさ
の約２．６３倍である。
実施ｆｌＩ２
つくられたばかりのＯＤＡ ／ＰＭＤＡポリイミド・フ
ィルムは黄色であり、厚さ１０μｍのフィルムはアルゴ
ン・イオン・レーザーの４８８ｎｍの線を約５０％吸収
する。この性質のためにＯＤＡ ／ＰＭＤＡフィルムは
アルゴン・イオン・レーザーによって加熱することがで
きる。実施例１と同様に加熱された区域は加熱されない
区域に比べ透過性が少ない。
ィルムは黄色であり、厚さ１０μｍのフィルムはアルゴ
ン・イオン・レーザーの４８８ｎｍの線を約５０％吸収
する。この性質のためにＯＤＡ ／ＰＭＤＡフィルムは
アルゴン・イオン・レーザーによって加熱することがで
きる。実施例１と同様に加熱された区域は加熱されない
区域に比べ透過性が少ない。
実施例１と同様につくられたＯＤＡ ／ＰＭＤＡフィル
ム（ガラス板から剥がす前）を帆８ｐｍのスポットに焦
点を合わせた４８８ｎｍのパルス・レーザー・ビームに
露出する。レーザー・パルスに同期したモーター付きの
台を用い試料を（レーザー・パルスの間に）動かすこと
によりフィルムにパターンを描くことができる。この方
法で、レーザー・パルスの間でレーザー・スポットの幅
より短い距離台を亙り動かすことにより連続した加熱線
を描いた。同様に、レーザー・パルスの間でレーザー・
スポットの幅より遥かに大きい距離台を動かすことによ
り、個々のレーザー・パルスの効果を決定した。この方
法により第３図に示すパターンが得られた。第３図は一
連の出力とパルス幅をもったレーザーに露出した後のＯ
ＤＡ ／ＰＭＤＡ７ （ルム（ガラス板から剥がす前）
の表面の光学的顕微鏡（反射法）の像である。レーザー
・ビームが当ったフィルムの区域は、レーザー・ビーム
により重合体表面が損傷を受けているために、光学的に
見ることができる。第３図を左から右に７個の部分に分
ける（異ったレーザー露出に基づくもの）。部分ｌは間
隔２０μｍの２本の平行線なから成り、各々は台を１パ
ルス当り帆２μｍ動かして一連のレーザー・パルス（２
５ｍＷ、長さ１００μ秒）によってつくられたものであ
る。部分２〜７は一定のパルス持続時間においてレーザ
ー出力を変化させて加熱されたスポットのｌ０ＸＩＯの
配列から成っている。ｌＯ×１０の配列の各々は持続時
間１００μ秒、出力２５ｍＷのパルスでつくられた１２
Ｘ １２個の縁により取囲まれている。各配列の１０個
の縦の列は左から右にかけてレーザーの出力を５ｍＷ
（列ｌ及び２） 、１０ｍＷ（列３及び４） 、１５
ｍＷ （列５及び６） 、２０ｍＷ （列７及び８）及
び２５ｍＷ （列９及び１０）と増加させて露出した。
ム（ガラス板から剥がす前）を帆８ｐｍのスポットに焦
点を合わせた４８８ｎｍのパルス・レーザー・ビームに
露出する。レーザー・パルスに同期したモーター付きの
台を用い試料を（レーザー・パルスの間に）動かすこと
によりフィルムにパターンを描くことができる。この方
法で、レーザー・パルスの間でレーザー・スポットの幅
より短い距離台を亙り動かすことにより連続した加熱線
を描いた。同様に、レーザー・パルスの間でレーザー・
スポットの幅より遥かに大きい距離台を動かすことによ
り、個々のレーザー・パルスの効果を決定した。この方
法により第３図に示すパターンが得られた。第３図は一
連の出力とパルス幅をもったレーザーに露出した後のＯ
ＤＡ ／ＰＭＤＡ７ （ルム（ガラス板から剥がす前）
の表面の光学的顕微鏡（反射法）の像である。レーザー
・ビームが当ったフィルムの区域は、レーザー・ビーム
により重合体表面が損傷を受けているために、光学的に
見ることができる。第３図を左から右に７個の部分に分
ける（異ったレーザー露出に基づくもの）。部分ｌは間
隔２０μｍの２本の平行線なから成り、各々は台を１パ
ルス当り帆２μｍ動かして一連のレーザー・パルス（２
５ｍＷ、長さ１００μ秒）によってつくられたものであ
る。部分２〜７は一定のパルス持続時間においてレーザ
ー出力を変化させて加熱されたスポットのｌ０ＸＩＯの
配列から成っている。ｌＯ×１０の配列の各々は持続時
間１００μ秒、出力２５ｍＷのパルスでつくられた１２
Ｘ １２個の縁により取囲まれている。各配列の１０個
の縦の列は左から右にかけてレーザーの出力を５ｍＷ
（列ｌ及び２） 、１０ｍＷ（列３及び４） 、１５
ｍＷ （列５及び６） 、２０ｍＷ （列７及び８）及
び２５ｍＷ （列９及び１０）と増加させて露出した。
個々の配列のパルス幅は部分２−０゜５μ秒、部分３＝
１．０μ秒、部分４−５．０μ秒、部分５＝ｌＯμ秒、
部分６＝５０μ秒、部分７＝ＩＯμ秒である。
１．０μ秒、部分４−５．０μ秒、部分５＝ｌＯμ秒、
部分６＝５０μ秒、部分７＝ＩＯμ秒である。
レーザーに露出した後、ポリイミドフィルムをガラス板
から剥がし、０．０１ＮのＡｇＮ０．及び０．０１Ｎの
ＮａＢＨ４のアセトニトリル溶液中で１５分間向流拡散
を行わせることにより銀の中間層をつくった。
から剥がし、０．０１ＮのＡｇＮ０．及び０．０１Ｎの
ＮａＢＨ４のアセトニトリル溶液中で１５分間向流拡散
を行わせることにより銀の中間層をつくった。
第４図は銀の中間層をつくった後のポリイミド・フィル
ムの光学顕微鏡写真（透過法）である。部分ｌ におい
てレーザーにより加熱された区域である平行線には銀の
沈着はなかった。縁のスポット以外の部分においては、
部分６（パルス持続時間５０μｍ）の出力２０及び２５
ｍＷの列が、中間層の形成が著しく減少している唯一の
部分である。この組は上記条件下において必要とされる
パルスの持続時間／出力に対する下限を与える。また０
、８μｍの直径のパルスはほぼ直径ｌＯμｍのスポット
をつくることは明らかである。
ムの光学顕微鏡写真（透過法）である。部分ｌ におい
てレーザーにより加熱された区域である平行線には銀の
沈着はなかった。縁のスポット以外の部分においては、
部分６（パルス持続時間５０μｍ）の出力２０及び２５
ｍＷの列が、中間層の形成が著しく減少している唯一の
部分である。この組は上記条件下において必要とされる
パルスの持続時間／出力に対する下限を与える。また０
、８μｍの直径のパルスはほぼ直径ｌＯμｍのスポット
をつくることは明らかである。
実施例 ３
ジメチル７オルムアミド
リデンフルオライド） （ＰＶＦ２）を２０％含む溶液
をガラス板上にスピンコードしてＰＶＦ ２フイルムを
つくった。厚さ２８μｍのフィルムに約１秒間焼印（実
施例１記載のもの、１６０℃に加熱）を押し付ける。熱
により像を転写した後、アセトニトリルを坦体溶液とし
て使用し０．０２ＮのＡｇＮ０．及び０．０２ＮのＮａ
ＢＨ，を１０分間向流拡散させ金属中間層を成長させる
。向流拡散での沈着の最初の５分間でこの試料は非常に
高いコントラストをもつに至った。
をガラス板上にスピンコードしてＰＶＦ ２フイルムを
つくった。厚さ２８μｍのフィルムに約１秒間焼印（実
施例１記載のもの、１６０℃に加熱）を押し付ける。熱
により像を転写した後、アセトニトリルを坦体溶液とし
て使用し０．０２ＮのＡｇＮ０．及び０．０２ＮのＮａ
ＢＨ，を１０分間向流拡散させ金属中間層を成長させる
。向流拡散での沈着の最初の５分間でこの試料は非常に
高いコントラストをもつに至った。
向流拡散による沈着を１０分間行った後には、フィルム
の加熱しなかった区域には光学的に緻密な銀の中間層が
沈着したが、加熱した区域には銀はほとんど沈着してい
なかった。１４０°Ｃで焼印を押した同様なフィルムは
同様な条件で向流拡散を行った後回等コントラストを示
さなかった。従って１４０′Ｃではフィルムに不透過性
を与えるには不十分である。
の加熱しなかった区域には光学的に緻密な銀の中間層が
沈着したが、加熱した区域には銀はほとんど沈着してい
なかった。１４０°Ｃで焼印を押した同様なフィルムは
同様な条件で向流拡散を行った後回等コントラストを示
さなかった。従って１４０′Ｃではフィルムに不透過性
を与えるには不十分である。
実施例４
フィルム内部での相互侵入型重合体網状構造の光化学的
形成によって重合体フィルムの透過性を調節する方法 架橋可能な多官能性単量体の相互侵入型重合体網状構造
（ＩＰＮ）を、ポリアミン酸フィルムをポリイミドに化
学的に変化させる前にポリアミン酸フィルムの中に光化
学的につくった。フィルムがポリイミドに変化すると、
ＩＰＮが存在する場合フィルムの膨潤度が減少し、従っ
てフィルムの透過性が減少する。標準的な７オトレジス
トの技術を使って空間的に制御された方法でＪＰＮをつ
くると、向流拡散法によってつくられた金属中間層に光
によって生じたパターンが転写される。
形成によって重合体フィルムの透過性を調節する方法 架橋可能な多官能性単量体の相互侵入型重合体網状構造
（ＩＰＮ）を、ポリアミン酸フィルムをポリイミドに化
学的に変化させる前にポリアミン酸フィルムの中に光化
学的につくった。フィルムがポリイミドに変化すると、
ＩＰＮが存在する場合フィルムの膨潤度が減少し、従っ
てフィルムの透過性が減少する。標準的な７オトレジス
トの技術を使って空間的に制御された方法でＪＰＮをつ
くると、向流拡散法によってつくられた金属中間層に光
によって生じたパターンが転写される。
ＤＭＡｃ中に１１．５％のポリアミン酸を含む溶液４６
ｇに、２．１２ｇのテトラエチレングリコールジアクリ
レート（ＴＴＥＦＤＡ）、０．５０ｇのビス（２−０−
クロロフェニル−４，５−ジフェニルイミダゾリル）
（ＨＡＢＩ）、０゜０５ｇの２−メルカプトベンズオキ
サゾール（２−ＭＢＯ−）及び２５ｍｇの２−（４’−
ジエチルアミノー２−メチルベンジリデン）−１−イン
ダノン（ＤＢＩ）を加える。同様な試薬の組み合わせは
効果的な光重合可能な組成物として記載されている（同
一出願人による米国特許第４，１６２，１６２号）。こ
れらの成分を十分に混合した後、（実施例１記載の方法
により） １０．３ｃｍのガラス板の上にスピンコード
する。次にこの組成物を熱板の上で８０°Ｃにおいて９
分間乾燥し、厚さ約２５μｍのフィルムにする。第５図
記載のオプトライン（ｏｐｔｏ ｌ １ｎｅ）光マスク
をフィルムの上に載せ、これに２００Ｗの高圧Ｈｇ／Ｘ
ｅアーク・ランプ［フォトン・テクノロジー（Ｐｈｏｔ
ｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）社製ＬＰＳ型２００ｘ電
源］で照射し、光を石英の濾光器を通して赤外光を除去
する。試料に当る光は約２５ｍＷ／ｃｍ”であり、その
大部分は３６５ｎｍであって増感剤にではなくポリアミ
ン酸によって吸収される。試料を５分間照射する。照射
後実施例１記載の方法で試料を化学的にポリイミドに変
える。このようにしてつくられたフィルムは光分解され
た区域の方が（ＩＰＮが存在するために）光から保護さ
れていた方に比べ厚くなる。何故ならばＴＴＥＧＤＡ、
ＨＡＢＪ、２−ＭＢＯ及びＤＢＩは化学的変化の過程
で光分解されない区域から拡散し去るからである。完全
に光分解した区域でフィルムの厚さは１２μｍであり、
光分解されない区域では９．４μｍであった。
ｇに、２．１２ｇのテトラエチレングリコールジアクリ
レート（ＴＴＥＦＤＡ）、０．５０ｇのビス（２−０−
クロロフェニル−４，５−ジフェニルイミダゾリル）
（ＨＡＢＩ）、０゜０５ｇの２−メルカプトベンズオキ
サゾール（２−ＭＢＯ−）及び２５ｍｇの２−（４’−
ジエチルアミノー２−メチルベンジリデン）−１−イン
ダノン（ＤＢＩ）を加える。同様な試薬の組み合わせは
効果的な光重合可能な組成物として記載されている（同
一出願人による米国特許第４，１６２，１６２号）。こ
れらの成分を十分に混合した後、（実施例１記載の方法
により） １０．３ｃｍのガラス板の上にスピンコード
する。次にこの組成物を熱板の上で８０°Ｃにおいて９
分間乾燥し、厚さ約２５μｍのフィルムにする。第５図
記載のオプトライン（ｏｐｔｏ ｌ １ｎｅ）光マスク
をフィルムの上に載せ、これに２００Ｗの高圧Ｈｇ／Ｘ
ｅアーク・ランプ［フォトン・テクノロジー（Ｐｈｏｔ
ｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）社製ＬＰＳ型２００ｘ電
源］で照射し、光を石英の濾光器を通して赤外光を除去
する。試料に当る光は約２５ｍＷ／ｃｍ”であり、その
大部分は３６５ｎｍであって増感剤にではなくポリアミ
ン酸によって吸収される。試料を５分間照射する。照射
後実施例１記載の方法で試料を化学的にポリイミドに変
える。このようにしてつくられたフィルムは光分解され
た区域の方が（ＩＰＮが存在するために）光から保護さ
れていた方に比べ厚くなる。何故ならばＴＴＥＧＤＡ、
ＨＡＢＪ、２−ＭＢＯ及びＤＢＩは化学的変化の過程
で光分解されない区域から拡散し去るからである。完全
に光分解した区域でフィルムの厚さは１２μｍであり、
光分解されない区域では９．４μｍであった。
ポリイミドに化学的に変化させた後、ポリイミドフィル
ムをガラス板から剥がし、アセトニトリル中の０．０２
ＮのＡｇＮＯｓ及び０．０２ＮのＮａＢＨ，の溶液中で
１０分間向流拡散を行わせることによりフィルムの中に
銀の中間層をつくった。第６図は銀の中間層をつくった
後のポリイミド・フィルムの光学顕微鏡写真（透過法）
である。この方法によれば次色のスケールを含めて第５
図のパターンを再現することができるが、このことは観
測されるコントラストが光分解反応の程度に依存してい
ることを示している。
ムをガラス板から剥がし、アセトニトリル中の０．０２
ＮのＡｇＮＯｓ及び０．０２ＮのＮａＢＨ，の溶液中で
１０分間向流拡散を行わせることによりフィルムの中に
銀の中間層をつくった。第６図は銀の中間層をつくった
後のポリイミド・フィルムの光学顕微鏡写真（透過法）
である。この方法によれば次色のスケールを含めて第５
図のパターンを再現することができるが、このことは観
測されるコントラストが光分解反応の程度に依存してい
ることを示している。
第５図及び第６図の両方井水された寸法は本実施例記載
の光マスク及びフィルムの実際の寸法の約２．１７倍で
ある。
の光マスク及びフィルムの実際の寸法の約２．１７倍で
ある。
実施例５
実施例４と同様に、架橋可能な多官能性単量体の相互侵
入型重合体網状構造（ＪＰＮ）は、ポリアミン酸フィル
ムをポリイミドに化学的に変化させる前にポリアミン酸
フィルムの中に光化学的につられ ｌこ 。
入型重合体網状構造（ＪＰＮ）は、ポリアミン酸フィル
ムをポリイミドに化学的に変化させる前にポリアミン酸
フィルムの中に光化学的につられ ｌこ 。
ＤＭＡｃ中に１１．５％のポリアミン酸を含む溶液４６
ｇに、０．５ｇのビス（２−ｏ−クロロフェニル−４，
５−ジフエニルイミダゾリル） （ＨＡＢＩ）、０．０
５ｇの２−メルカプトベンズオキサゾール（２−ＭＢＯ
）及びＯ，１，Ｏｇの２−（４゛−ジエチルアミノ−２
−メチルベンジリデン）−１−インダノン（ＤＢＩ）を
加える。この溶液１１．５ｇに０．２６５ｇのテトラエ
チレングリコールジアクリレート（ＴＴＥＦＤＡ）を加
えた。成分を十分に混合した後、１０５ｃｍ２のＳｎＯ
２被覆ガラス板の上に（実施例Ｉと同様にした）スピン
コードする。この組成物を２０分間８５°Ｃの炉に入れ
、約２５μｍの厚さのフィルムにする。フィルムの上に
光マスクを置いた後、これに２００Ｗの高圧Ｈｇ／Ｘｅ
アーク・ランプ［７オトン・テクノロジー（Ｐｈｏｔｏ
ｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）社製ＬＰＳ型２００Ｘ電源
１で照射し、光を石英の濾光器を通して赤外光を除去す
る。試料に当る光は約１０ｍＷ／ ｃｍ”であつた。試
料を１０分間照射する。照射を行った後、ピリジン：酢
酸無水物ニアセトニトリル（１： １ ：５）中におい
て１時間ソーキングして試料を化学的に変化させてポリ
イミドにする。このようにしてつくられたフィルムは光
分解された区域の方が（ＩＰＮが存在するために）光か
ら保護されていた方に比べ厚くなる。何故ならばＴＴＥ
ＧＤＡ、 ＨＡＢＩ、２−ＭＢＯ及びＤＢＩは化学的変
化の過程で光分解されない区域から拡散し去るからであ
る。光分解しない区域でのフィルムの厚さは１４．８μ
ｍであった。アセトニトリルに露出すると光分解しなか
った区域は４３％膨潤したが、光分解した区域では２４
％であった。
ｇに、０．５ｇのビス（２−ｏ−クロロフェニル−４，
５−ジフエニルイミダゾリル） （ＨＡＢＩ）、０．０
５ｇの２−メルカプトベンズオキサゾール（２−ＭＢＯ
）及びＯ，１，Ｏｇの２−（４゛−ジエチルアミノ−２
−メチルベンジリデン）−１−インダノン（ＤＢＩ）を
加える。この溶液１１．５ｇに０．２６５ｇのテトラエ
チレングリコールジアクリレート（ＴＴＥＦＤＡ）を加
えた。成分を十分に混合した後、１０５ｃｍ２のＳｎＯ
２被覆ガラス板の上に（実施例Ｉと同様にした）スピン
コードする。この組成物を２０分間８５°Ｃの炉に入れ
、約２５μｍの厚さのフィルムにする。フィルムの上に
光マスクを置いた後、これに２００Ｗの高圧Ｈｇ／Ｘｅ
アーク・ランプ［７オトン・テクノロジー（Ｐｈｏｔｏ
ｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）社製ＬＰＳ型２００Ｘ電源
１で照射し、光を石英の濾光器を通して赤外光を除去す
る。試料に当る光は約１０ｍＷ／ ｃｍ”であつた。試
料を１０分間照射する。照射を行った後、ピリジン：酢
酸無水物ニアセトニトリル（１： １ ：５）中におい
て１時間ソーキングして試料を化学的に変化させてポリ
イミドにする。このようにしてつくられたフィルムは光
分解された区域の方が（ＩＰＮが存在するために）光か
ら保護されていた方に比べ厚くなる。何故ならばＴＴＥ
ＧＤＡ、 ＨＡＢＩ、２−ＭＢＯ及びＤＢＩは化学的変
化の過程で光分解されない区域から拡散し去るからであ
る。光分解しない区域でのフィルムの厚さは１４．８μ
ｍであった。アセトニトリルに露出すると光分解しなか
った区域は４３％膨潤したが、光分解した区域では２４
％であった。
化学的に変化させてポリイミドにした後、上記米国特許
願第９０１，７７０号記載の方法により電気化学的に銀
をフィルムに沈着させた。パターンは光分解しなかった
区域において幅ｌＯＯμｍの銀の線が中間層として沈着
し、光分解した区域では銀の沈着は観測されないような
パターンであった。銀の線は電気伝導性をもち（３３０
°Ｃで１０分間焼結した後の抵抗−２０〜４０オ一ム／
ｃｍ）、且つ反射性をもっていた。
願第９０１，７７０号記載の方法により電気化学的に銀
をフィルムに沈着させた。パターンは光分解しなかった
区域において幅ｌＯＯμｍの銀の線が中間層として沈着
し、光分解した区域では銀の沈着は観測されないような
パターンであった。銀の線は電気伝導性をもち（３３０
°Ｃで１０分間焼結した後の抵抗−２０〜４０オ一ム／
ｃｍ）、且つ反射性をもっていた。
上記説明は原則として有機重合体に基づくマトリックス
を使用する方法について行ったが、本発明の原理は向流
拡散法により金属中間層を沈着させることができ、金属
イオン及び／又は還元剤の透過性を変化させ得る任意の
マトリックスに対し、有機または無機、重合体または非
重合体を問わず広く適用することができる。
を使用する方法について行ったが、本発明の原理は向流
拡散法により金属中間層を沈着させることができ、金属
イオン及び／又は還元剤の透過性を変化させ得る任意の
マトリックスに対し、有機または無機、重合体または非
重合体を問わず広く適用することができる。
本発明の主な特徴及び態様は次の通りである。
１．マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の自流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、金属イオン
または還元剤のいずれか或いは両方に対し異った透過度
を有する少なくとも二つの隣接した容濱要素をもったマ
トリックスを用いて上記方法を実施する、改善された金
属中間層沈積法（ＭＩＤ）。
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の自流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、金属イオン
または還元剤のいずれか或いは両方に対し異った透過度
を有する少なくとも二つの隣接した容濱要素をもったマ
トリックスを用いて上記方法を実施する、改善された金
属中間層沈積法（ＭＩＤ）。
２、マトリックスが重合体マトリックスである上記第１
項記載の方法。
項記載の方法。
３、マトリックスが有機重合体マトリックスである上記
第２項記載の方法。
第２項記載の方法。
４、マトリックスがポリイミドから成る上記第３項記載
の方法。
の方法。
５、中間層の金属が銀である上記第３項記載の方法。
６、中間層の金属が金である上記第３項記載の方法。
７、マトリックスがフィルムの形である上記第１項記載
の方法。
の方法。
８、マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスの処理された部分及び処理されてい
ない部分において金属及び／又は還元剤の透過度が異る
に至るのに少なくとも十分な時間マトリックスの選ばれ
た部分を処理し、 （ｂ）向流拡散法により、工程（ａ）で処理したマトリ
ックスの部分の方が工程（ａ）で処理しなかったマトリ
ックスの部分に比べ金属の存在量が少ない金属中間層を
マトリックス内部につくる、改善された金属中間層沈着
法（ＭＩＤ）。
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスの処理された部分及び処理されてい
ない部分において金属及び／又は還元剤の透過度が異る
に至るのに少なくとも十分な時間マトリックスの選ばれ
た部分を処理し、 （ｂ）向流拡散法により、工程（ａ）で処理したマトリ
ックスの部分の方が工程（ａ）で処理しなかったマトリ
ックスの部分に比べ金属の存在量が少ない金属中間層を
マトリックス内部につくる、改善された金属中間層沈着
法（ＭＩＤ）。
９、マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスの加熱された部分及び加熱されてい
ない部分において金属及び／又は還元剤の透過度が異る
に至るのに少なくとも十分な時間マトリックスの選ばれ
た部分を加熱し、 （ｂ）向流拡散法により、工程（ａ）で加熱したマトリ
ックスの部分の方が工程（ａ）で加熱しなかったマトリ
ックスの部分に比べ金属の存在量が少ない金属中間層を
マトリックス内部につくる、改善された金属中間層沈着
法（ＭＩＤ）。
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスの加熱された部分及び加熱されてい
ない部分において金属及び／又は還元剤の透過度が異る
に至るのに少なくとも十分な時間マトリックスの選ばれ
た部分を加熱し、 （ｂ）向流拡散法により、工程（ａ）で加熱したマトリ
ックスの部分の方が工程（ａ）で加熱しなかったマトリ
ックスの部分に比べ金属の存在量が少ない金属中間層を
マトリックス内部につくる、改善された金属中間層沈着
法（ＭＩＤ）。
１０、マトリックスの加熱された部分と加熱されなかっ
た部分との間の透過度の差は１００倍より大きい上記第
９項記載の方法。
た部分との間の透過度の差は１００倍より大きい上記第
９項記載の方法。
１１、マトリックスの選ばれた部分の加熱はレーザー・
ヒームにより行われる上記第９項記載の方法。
ヒームにより行われる上記第９項記載の方法。
１２、マトリックスの片側の表面に接触している金属イ
オン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元
剤の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予
め形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に
金属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスをつくる間またはつくった後のいず
れかにおいて光重合可能な組成物をマトリックス中に導
入し、 （ｂ）マトリックス中の光重合可能な組成物の選ばれた
部分を光重合させて、マトリックス中にパターンがつけ
られた相互侵入型の重合体網状構造をつくり、 （ｃ）マトリックス中にマトリックスを膨潤させる溶媒
を導入して膨潤したマトリックスをつくり、パターンが
つけられた相互侵入型の重合体網状構造から成る区域の
膨潤度が低くなるようにし、（ｄ）向流拡散法により、
パターンがつけられた相互侵入型の重合体網状構造の部
分の金属存在量が少ない金属中間層をマトリックス内部
につくる、改善された金属中間層沈着法。
オン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元
剤の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予
め形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に
金属を沈積させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスをつくる間またはつくった後のいず
れかにおいて光重合可能な組成物をマトリックス中に導
入し、 （ｂ）マトリックス中の光重合可能な組成物の選ばれた
部分を光重合させて、マトリックス中にパターンがつけ
られた相互侵入型の重合体網状構造をつくり、 （ｃ）マトリックス中にマトリックスを膨潤させる溶媒
を導入して膨潤したマトリックスをつくり、パターンが
つけられた相互侵入型の重合体網状構造から成る区域の
膨潤度が低くなるようにし、（ｄ）向流拡散法により、
パターンがつけられた相互侵入型の重合体網状構造の部
分の金属存在量が少ない金属中間層をマトリックス内部
につくる、改善された金属中間層沈着法。
１３、上記第１項記載の方法でつくられた内部に金属の
中間層が沈着したマトリックス。
中間層が沈着したマトリックス。
１４、フィルムから成る上記第１３項記載のマトリック
ス。
ス。
１５、重合体から成る上記第１３項記載のマトリックス
。
。
１６、有機重合体から成る上記第１５項記載のマトリッ
クス。
クス。
１７、ポリイミドから成る上記第１６項記載のマトリッ
クス。
クス。
１８、中間層の金属が銀である上記第１６項記載のマト
リックス。
リックス。
１９、中間層の金属が金である上記第１６項記載のマト
リックス。
リックス。
第１図は重合体フィルムに層を熱的に転写する「焼印」
を示し、第２図は第１図で示した「焼印」でフィルムに
像を熱的に転写した後の銀の中間層がつくられたＯＤＡ
／ＰＭＤＡ重合体フィルムであり、第３図はレーザー
による加熱で像を熱的に転写した後のＯＤＡ ／Ｐ！１
ｌＤＡ重合体フィルムの光学顕微鏡写真であり、第４図
はレーザーによる加熱で像を熱的に転写し、向流拡散法
により銀の中間層を沈着させたＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合
体フィルムの光学顕微鏡写真であり、第５図は相互侵入
型重合体網状構造を光化学的につくる際の重合体フィル
ムの上に載せた光マスクを示し、第６図は相互侵入型重
合体網状構造を光化学的につくった後の銀の中間層がつ
くられたＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合体フィルムである。 Ｆ ＆ Ｇ。
を示し、第２図は第１図で示した「焼印」でフィルムに
像を熱的に転写した後の銀の中間層がつくられたＯＤＡ
／ＰＭＤＡ重合体フィルムであり、第３図はレーザー
による加熱で像を熱的に転写した後のＯＤＡ ／Ｐ！１
ｌＤＡ重合体フィルムの光学顕微鏡写真であり、第４図
はレーザーによる加熱で像を熱的に転写し、向流拡散法
により銀の中間層を沈着させたＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合
体フィルムの光学顕微鏡写真であり、第５図は相互侵入
型重合体網状構造を光化学的につくる際の重合体フィル
ムの上に載せた光マスクを示し、第６図は相互侵入型重
合体網状構造を光化学的につくった後の銀の中間層がつ
くられたＯＤＡ ／ＰＭＤＡ重合体フィルムである。 Ｆ ＆ Ｇ。
Claims (3)
- １．マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈着させる金属中間層沈積法であって、金属イオン
または還元剤のいずれか或いは両方に対し異った透過度
を有する少なくとも二つの隣接した容積要素をもったマ
トリックスを用いて上記方法を実施することを特徴とす
る改善された金属中間層沈着法。 - ２．マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈着させる金属中間層沈積法であって、 （ａ）マトリックスの処理された部分及び処理されてい
ない部分において金属及び／又は還元剤の透過度が異る
に至るのに少なくとも十分な時間マトリックスの選ばれ
た部分を処理し、 （ｂ）向流拡散法により、工程（ａ）で処理したマトリ
ックスの部分の方が工程（ａ）で処理しなかったマトリ
ックスの部分に比べ金属の存在量が少ない金属中間層を
マトリックス内部につくることを特徴とする改善された
金属中間層沈着法。 - ３．マトリックスの片側の表面に接触している金属イオ
ン、及びマトリックスの他の表面に接触している還元剤
の向流拡散により、少なくとも二つの表面をもった予め
形成されたマトリックス内部の予め定められた位置に金
属を沈着させる金属中間層沈着法であって、 （ａ）マトリックスをつくる間またはつくった後のいず
れかにおいて光重合可能な組成物をマトリックス中に導
入し、 （ｂ）マトリックス中の光重合可能な組成物の選ばれた
部分を光重合させて、マトリックス中にパターンが付け
られた相互侵入型の重合体網状構造をつくり、 （ｃ）マトリックス中にマトリックスを膨潤させる溶媒
を導入して膨潤したマトリックスをつくり、パターンが
付けられた相互侵入型の重合体網状構造から成る区域の
膨潤度が低くなくなるようにし、（ｄ）向流拡散法によ
り、パターンが付けられた相互侵入型の重合体網状構造
の部分の金属存在量が少ない金属中間層をマトリックス
内部につくることを特徴とする改善された金属中間層沈
着法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/051,859 US4774157A (en) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | Patterned metal interlayer in a matrix |
| US051859 | 1987-05-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0275A true JPH0275A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=21973796
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63119445A Pending JPH0275A (ja) | 1987-05-19 | 1988-05-18 | マトリツクス内部にパターンを付けられた金属中間層 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4774157A (ja) |
| EP (1) | EP0291977A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0275A (ja) |
| KR (1) | KR880013682A (ja) |
| AU (1) | AU604318B2 (ja) |
| BR (1) | BR8802427A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5242713A (en) * | 1988-12-23 | 1993-09-07 | International Business Machines Corporation | Method for conditioning an organic polymeric material |
| JP2550756B2 (ja) * | 1990-06-27 | 1996-11-06 | 日立化成工業株式会社 | 非線形光学材料および非線形光学素子 |
| JP2768390B2 (ja) * | 1990-12-11 | 1998-06-25 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 無電解金属付着のために基体をコンディショニングする方法 |
| WO2019200128A1 (en) * | 2018-04-11 | 2019-10-17 | BVH, Inc. | Modular hydropower unit |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6130698A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-12 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 有機重合体フイルム内中間層としての金属の析出 |
| JPS6332556A (ja) * | 1986-02-11 | 1988-02-12 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 有機重合体フイルム中の金属構造の沈積に関する感光性カソ−ドの利用 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3351487A (en) * | 1963-11-06 | 1967-11-07 | Dow Chemical Co | Process for plating permeable membrane |
| US3718473A (en) * | 1971-01-27 | 1973-02-27 | Du Pont | Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists |
| US3879204A (en) * | 1971-02-02 | 1975-04-22 | Du Pont | Two-layer photopolymerizable gravure resist film |
| US4001093A (en) * | 1975-08-06 | 1977-01-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method of electroplating precious metals in localized areas |
| US4361641A (en) * | 1981-11-10 | 1982-11-30 | University Patents, Inc. | Electrolytic surface modulation |
| DE3585715D1 (de) * | 1984-10-02 | 1992-04-30 | Du Pont | Sintern von metallischen zwischenschichten in organischen polymerfilmen. |
| US4692360A (en) * | 1986-01-21 | 1987-09-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Metal interlayers in films by counter-current diffusion |
| US4668354A (en) * | 1986-08-29 | 1987-05-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electrocatalytic deposition of metals in solid polymeric matrices |
-
1987
- 1987-05-19 US US07/051,859 patent/US4774157A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-05-18 JP JP63119445A patent/JPH0275A/ja active Pending
- 1988-05-18 AU AU16395/88A patent/AU604318B2/en not_active Ceased
- 1988-05-18 BR BR8802427A patent/BR8802427A/pt unknown
- 1988-05-18 KR KR1019880005883A patent/KR880013682A/ko not_active Withdrawn
- 1988-05-19 EP EP88108035A patent/EP0291977A3/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6130698A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-12 | イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー | 有機重合体フイルム内中間層としての金属の析出 |
| JPS6332556A (ja) * | 1986-02-11 | 1988-02-12 | イ−・アイ・デユポン・ドウ・ヌム−ル・アンド・カンパニ− | 有機重合体フイルム中の金属構造の沈積に関する感光性カソ−ドの利用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR8802427A (pt) | 1988-12-13 |
| KR880013682A (ko) | 1988-12-21 |
| EP0291977A3 (en) | 1989-07-05 |
| AU604318B2 (en) | 1990-12-13 |
| US4774157A (en) | 1988-09-27 |
| AU1639588A (en) | 1988-11-24 |
| EP0291977A2 (en) | 1988-11-23 |
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