JPH02767A - 脂質誘導体 - Google Patents
脂質誘導体Info
- Publication number
- JPH02767A JPH02767A JP63319136A JP31913688A JPH02767A JP H02767 A JPH02767 A JP H02767A JP 63319136 A JP63319136 A JP 63319136A JP 31913688 A JP31913688 A JP 31913688A JP H02767 A JPH02767 A JP H02767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reference example
- reaction
- same manner
- compound
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
厳whoソ11立塁
本発明は、医薬品の分野でPAF(血小板活性化因子1
P1atalet Activating Facto
r)拮抗剤または抗腫瘍剤となりうる脂質誘導体に関す
る。
P1atalet Activating Facto
r)拮抗剤または抗腫瘍剤となりうる脂質誘導体に関す
る。
さらに詳しくは、本発明は下記式(I)で表わきれる化
合物に関する。
合物に関する。
[式中、R3はアルキルまたはアルキルカルバモイル;
R1は低級アルキルオキシ、低級アルキルカルバモイル
オキシ、イ氏級アルキルカルボニルアミノ、低級アルキ
ルオキシカルボニルアミノ、低級アルキルウレイド、低
級アルキルオキシメチル、低級アルキルカルボニルメチ
ル、シアノメチルまたはヘテロ環基またはヘテロサイク
リルオキシ;R1゛は水素を表わすかまたはR8と一緒
になって一〇(CHm)m−(式中、mは工ないし5の
整数を表わす)を形成する;Rs、RaおよびR1は互
いに独立して水素もしくは低級アルキルを表わすかまた
はR3、R4およびR1の2個または3個が隣接するN
と一緒になって環状アンモニオを形成する;R6は水素
または低級アルキルカルボニル;X−は対イオン;Yは
酸素または硫黄;およびnは1ないし10の整数をそれ
ぞれ表わす]良米五弦皇 PAFは、下記に示すような構造を有しており、各種刺
激に応じて、好塩基球、好中球、好酸球、マクロファー
ジ、マスト細胞、血小板、ヒト白血病細胞、血管内皮細
胞などが産生ずると考えられている。
R1は低級アルキルオキシ、低級アルキルカルバモイル
オキシ、イ氏級アルキルカルボニルアミノ、低級アルキ
ルオキシカルボニルアミノ、低級アルキルウレイド、低
級アルキルオキシメチル、低級アルキルカルボニルメチ
ル、シアノメチルまたはヘテロ環基またはヘテロサイク
リルオキシ;R1゛は水素を表わすかまたはR8と一緒
になって一〇(CHm)m−(式中、mは工ないし5の
整数を表わす)を形成する;Rs、RaおよびR1は互
いに独立して水素もしくは低級アルキルを表わすかまた
はR3、R4およびR1の2個または3個が隣接するN
と一緒になって環状アンモニオを形成する;R6は水素
または低級アルキルカルボニル;X−は対イオン;Yは
酸素または硫黄;およびnは1ないし10の整数をそれ
ぞれ表わす]良米五弦皇 PAFは、下記に示すような構造を有しており、各種刺
激に応じて、好塩基球、好中球、好酸球、マクロファー
ジ、マスト細胞、血小板、ヒト白血病細胞、血管内皮細
胞などが産生ずると考えられている。
[式中、mは16または18を示す、コPAFの示す生
物活性としては、血小板活性化のほか平滑筋の収縮、n
m流量低下、心機能抑制、血管透過性光道または降圧作
用などを持つことが知られている。PAFが関与すると
考えられている生理現象または疾患としては、炎症、喘
息、血栓症、アナフィラキシ−ショック、エンドトキシ
ンショック、アレルギー、降圧、虚血性心疾患、急性組
織移植片拒絶反応、腎炎または胃潰瘍などを挙げること
ができる。
物活性としては、血小板活性化のほか平滑筋の収縮、n
m流量低下、心機能抑制、血管透過性光道または降圧作
用などを持つことが知られている。PAFが関与すると
考えられている生理現象または疾患としては、炎症、喘
息、血栓症、アナフィラキシ−ショック、エンドトキシ
ンショック、アレルギー、降圧、虚血性心疾患、急性組
織移植片拒絶反応、腎炎または胃潰瘍などを挙げること
ができる。
PAFはこのように種々の生理現象または疾患の媒体と
なっていると考えられており、その治療のために、PA
F拮抗剤が開発されつつある[ピー・ブラケット(P、
Braquet)ら、77−7 フ’Oジカル・レビ
ュー、第39巻、9B−145頁、1987年]、また
PAF構造類似体のPAF拮抗剤は、例えば、特開昭5
7−65489、特開昭60−243047または特開
昭62−228088などに開示されている。
なっていると考えられており、その治療のために、PA
F拮抗剤が開発されつつある[ピー・ブラケット(P、
Braquet)ら、77−7 フ’Oジカル・レビ
ュー、第39巻、9B−145頁、1987年]、また
PAF構造類似体のPAF拮抗剤は、例えば、特開昭5
7−65489、特開昭60−243047または特開
昭62−228088などに開示されている。
明の しようとする
これまでに種々のPAF拮抗剤が開発されてきているが
、これらの化合物はPAF受容体に対して特異的に作用
しないこと、PAF拮抗作用を有するのと同時にそれ自
身で副作用となりうるPAF様作用を有することまたは
、すぐに代謝されることなどいくつかの問題点を有して
おり、これらの問題点を解決することが望まれている。
、これらの化合物はPAF受容体に対して特異的に作用
しないこと、PAF拮抗作用を有するのと同時にそれ自
身で副作用となりうるPAF様作用を有することまたは
、すぐに代謝されることなどいくつかの問題点を有して
おり、これらの問題点を解決することが望まれている。
課 を解決するための手段
本発明者らは有用なPAF拮抗剤の開発を目指し、鋭意
に研究を行なった結果、PAFのリン酸エステル部分を
スルホンアミドに変換することにより強いPAF拮抗作
用または抗腫瘍作用を示すことを見出し、本発明を完成
した。
に研究を行なった結果、PAFのリン酸エステル部分を
スルホンアミドに変換することにより強いPAF拮抗作
用または抗腫瘍作用を示すことを見出し、本発明を完成
した。
本発明化合物は、下記式(1)で表わされる。
[式中、R1はアルキルまたはアルキルカルバモイルi
Rmは低級アルキルオキシ、低級アルキルカルバモイル
オキシ、低級アルキルカルボニルアミノ、低級アルキル
オキシカルボニルアミノ、低級アルキルウレイド、低級
アルキルオキシメチル、低級アルキルカルボニルメチル
、シアンメチルまたはヘテロ環基またはヘテロサイクリ
ルオキシ;R1′は水素を表わすかまたはR2と一緒に
なって −〇(CH,)ffi−(式中、mは工ないし
5の整数を表わす)を形成する;R8、R6およびR1
は互いに独立して水素もしくは低級アルキルを表わすか
またはR1、R4およびR6の2個または3個が隣接す
るNと一緒になって環状アンモニオを形成する;R6は
水素または低級アルキルカルボニル;X−は対イオン;
Yは酸素または硫黄;およびnは1ないし10の整数を
それぞれ表わす]本明細書を通して用いられる語句の定
義は、以下の通りである。
Rmは低級アルキルオキシ、低級アルキルカルバモイル
オキシ、低級アルキルカルボニルアミノ、低級アルキル
オキシカルボニルアミノ、低級アルキルウレイド、低級
アルキルオキシメチル、低級アルキルカルボニルメチル
、シアンメチルまたはヘテロ環基またはヘテロサイクリ
ルオキシ;R1′は水素を表わすかまたはR2と一緒に
なって −〇(CH,)ffi−(式中、mは工ないし
5の整数を表わす)を形成する;R8、R6およびR1
は互いに独立して水素もしくは低級アルキルを表わすか
またはR1、R4およびR6の2個または3個が隣接す
るNと一緒になって環状アンモニオを形成する;R6は
水素または低級アルキルカルボニル;X−は対イオン;
Yは酸素または硫黄;およびnは1ないし10の整数を
それぞれ表わす]本明細書を通して用いられる語句の定
義は、以下の通りである。
「低級アルキル」とは、直鎖状または分枝状のC3〜C
,アルキルを意味し、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、詭rt−ブチル、ペン
チル、ヘキシルまたはへブチルなどを挙げることができ
る。
,アルキルを意味し、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、詭rt−ブチル、ペン
チル、ヘキシルまたはへブチルなどを挙げることができ
る。
rアルキル」とは、二重結合または三重結合を有しても
よい直鎖状の01〜CAMアルキルを意味する。好まし
くは、C0〜C1,の高級アルキルを意味し、例えば、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オ
クタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘニフシル、ドフ
シル、トリフシル、テトラゾール、ベンタフシル、ヘキ
サデシル、ベンタフシル、オフタフシル、ノナフシル、
ドリアコンチルなどを挙げることができる。
よい直鎖状の01〜CAMアルキルを意味する。好まし
くは、C0〜C1,の高級アルキルを意味し、例えば、
デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オ
クタデシル、ノナデシル、イコシル、ヘニフシル、ドフ
シル、トリフシル、テトラゾール、ベンタフシル、ヘキ
サデシル、ベンタフシル、オフタフシル、ノナフシル、
ドリアコンチルなどを挙げることができる。
1個級アルキルオキシ」1個級アルキルカルバモイルオ
キシ」「低級アルキルカルボニル、r低級アルキルカル
ボニルアミノ」1個級アルキルオキシカルボニルアミノ
」1個級アルキルウレイド、r低級アルフキジメチル」
または「低級アルキルカルボニルメチル」において、「
低級アルキル、とは前記1個級アルキル、に対応する。
キシ」「低級アルキルカルボニル、r低級アルキルカル
ボニルアミノ」1個級アルキルオキシカルボニルアミノ
」1個級アルキルウレイド、r低級アルフキジメチル」
または「低級アルキルカルボニルメチル」において、「
低級アルキル、とは前記1個級アルキル、に対応する。
1ヘテロ環基」とは、1ないし4個の酸素、硫黄および
/または窒素などのヘテロ原子を含み、低級アルキル、
低級アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたは低級
アルキルオキシカルボニルなどで置換されていてもよい
5ないし7員環のヘテロ環基を意味し、例えば、IH−
ピロール−1−イル、2−メチル−IH−ピロール−1
−イル、3−メチル−IH−ピロール−1−イル、IH
−イミダゾール−1−イル、2−メチル−IH−イミダ
ゾール−1−イル、2,4−ジメデルーIH−イミダゾ
ール−1−イル、IH−ピラゾール−1−イル、5−メ
チル−IH−ピラゾール−1−イル、3,5−ジメチル
−IH−ピラゾール−1−イル、IH−1,2,3−ト
リアゾール−1−イル、4−メチル−IH−1,2,3
−トリアゾール−1−イル、4−メチル−2H−1,2
,3−トリアゾール−2−イル、4−メチル−3H−1
,2,3−トリアゾール−3−イル、3−メチル−I
H−1,2,4−トリアゾール−1−イル、3−メチル
−2H−1,2,4−トリアゾール−2−イル、3−メ
チル−4H−1,2,4−トリアゾール−4−イル、2
H−テトラゾール−2−イル、IH−テトラゾール−1
−イル、5−メチル−IH−テトラゾール−1−イルま
たは5−メチル−2H−テトラゾール−2−イルなどを
挙げることができる。
/または窒素などのヘテロ原子を含み、低級アルキル、
低級アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲンまたは低級
アルキルオキシカルボニルなどで置換されていてもよい
5ないし7員環のヘテロ環基を意味し、例えば、IH−
ピロール−1−イル、2−メチル−IH−ピロール−1
−イル、3−メチル−IH−ピロール−1−イル、IH
−イミダゾール−1−イル、2−メチル−IH−イミダ
ゾール−1−イル、2,4−ジメデルーIH−イミダゾ
ール−1−イル、IH−ピラゾール−1−イル、5−メ
チル−IH−ピラゾール−1−イル、3,5−ジメチル
−IH−ピラゾール−1−イル、IH−1,2,3−ト
リアゾール−1−イル、4−メチル−IH−1,2,3
−トリアゾール−1−イル、4−メチル−2H−1,2
,3−トリアゾール−2−イル、4−メチル−3H−1
,2,3−トリアゾール−3−イル、3−メチル−I
H−1,2,4−トリアゾール−1−イル、3−メチル
−2H−1,2,4−トリアゾール−2−イル、3−メ
チル−4H−1,2,4−トリアゾール−4−イル、2
H−テトラゾール−2−イル、IH−テトラゾール−1
−イル、5−メチル−IH−テトラゾール−1−イルま
たは5−メチル−2H−テトラゾール−2−イルなどを
挙げることができる。
1ヘテロサイクリルオキシ」とは、工ないし4個の酸素
、硫黄および/または窒素などのヘテロ原子を含み、低
級アルキノ呟低級アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ンまたは低級アルキルオキシカルボニルなどで置換され
ていてもよい5ないし7員環のヘテロ環基によって置換
されているヒドロキシを意味し、例えば、3−インキサ
ゾリルオキシ、3−イソチアゾリルオキシ、3−ピラゾ
リルオキシ、3−(4−メチルインキサゾリル)オキシ
、4−(1,2,3−トリアゾリル)オキシまたは4−
(5−pチル−1,2,3−トリアゾノル)オキシなど
を挙げることがてぎる。
、硫黄および/または窒素などのヘテロ原子を含み、低
級アルキノ呟低級アルキルオキシ、ヒドロキシ、ハロゲ
ンまたは低級アルキルオキシカルボニルなどで置換され
ていてもよい5ないし7員環のヘテロ環基によって置換
されているヒドロキシを意味し、例えば、3−インキサ
ゾリルオキシ、3−イソチアゾリルオキシ、3−ピラゾ
リルオキシ、3−(4−メチルインキサゾリル)オキシ
、4−(1,2,3−トリアゾリル)オキシまたは4−
(5−pチル−1,2,3−トリアゾノル)オキシなど
を挙げることがてぎる。
「環状アンモニオ」としては、ヘテロ原子および/また
は置換基を有してもよい5ないし6員環の単ないし二環
系の環状アンモニオを意味し、例えば、N−メチル−1
−ピロリニオ、N−メチル−1−ピロリジニオ、3−オ
キサゾリオ、2−イソキサゾリオ、3−チアゾリオ、4
−メチル−3−チアゾリオ、5−ヒドロキシエチル−4
−メチル−3−チアゾリオ、3−イミダゾリオ、1−ピ
リジニオ、3−カルボキシ−1−ピリジニオ、N−メチ
ル−1−ピペリジニオ、N−メチル−4−モルホリオ、
1−ピリミジニオ、1−ピラジニオ、N−メチル−1−
ピペラジニオ、1−トリアジニオ、3−ペンゾオキサゾ
リオ、3−ベンゾチアゾリオ、1−キノリニオ、6−メ
ドキシー1−キノリニオ、5.6,7.8−テトラヒド
ロ−1−キノリニオ、2−イソキノリニオ、1−キノキ
サノニオまたはアジりニオなどを挙げることができる。
は置換基を有してもよい5ないし6員環の単ないし二環
系の環状アンモニオを意味し、例えば、N−メチル−1
−ピロリニオ、N−メチル−1−ピロリジニオ、3−オ
キサゾリオ、2−イソキサゾリオ、3−チアゾリオ、4
−メチル−3−チアゾリオ、5−ヒドロキシエチル−4
−メチル−3−チアゾリオ、3−イミダゾリオ、1−ピ
リジニオ、3−カルボキシ−1−ピリジニオ、N−メチ
ル−1−ピペリジニオ、N−メチル−4−モルホリオ、
1−ピリミジニオ、1−ピラジニオ、N−メチル−1−
ピペラジニオ、1−トリアジニオ、3−ペンゾオキサゾ
リオ、3−ベンゾチアゾリオ、1−キノリニオ、6−メ
ドキシー1−キノリニオ、5.6,7.8−テトラヒド
ロ−1−キノリニオ、2−イソキノリニオ、1−キノキ
サノニオまたはアジりニオなどを挙げることができる。
置換基としては、低級アルキル、カルボニル、イ氏級ア
ルキルオキシカルボニル、ヒドロキシ、低級アルキルオ
キシ、アシルオキシ、低級アルキルアミノ、アミノ、カ
ルバモイルまたはウレイドなどを挙げることができる。
ルキルオキシカルボニル、ヒドロキシ、低級アルキルオ
キシ、アシルオキシ、低級アルキルアミノ、アミノ、カ
ルバモイルまたはウレイドなどを挙げることができる。
r対イオン」としては、例えば、ハロゲンイオン(塩素
、臭素、ヨウ素)、酢酸イオン、メタンスルホネートイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、Jン酸イオンなどの薬
理学的に許容されうるものを挙げることができる。また
、環状アンモニオの置換基が陰イオンになろうるときは
、分子内で塩を形成してもよい。
、臭素、ヨウ素)、酢酸イオン、メタンスルホネートイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、Jン酸イオンなどの薬
理学的に許容されうるものを挙げることができる。また
、環状アンモニオの置換基が陰イオンになろうるときは
、分子内で塩を形成してもよい。
上記の定義において、より好ましいR1が示すアルキル
とは、C11〜C8,の高級アルキル、例えば、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシルまた
はイフサニルなどを挙げることができ、最も好ましいR
8として、CtS−C1,アルキル、例えば、ヘキサデ
シル、ヘプタデシルまたはオクタデシルを挙げることが
できる。
とは、C11〜C8,の高級アルキル、例えば、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサ
デシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシルまた
はイフサニルなどを挙げることができ、最も好ましいR
8として、CtS−C1,アルキル、例えば、ヘキサデ
シル、ヘプタデシルまたはオクタデシルを挙げることが
できる。
R3が示すアルキルカルバモイルとして、アルキル部分
が上記アルキルに対応するもの、すなわち、より好まし
いR,アルキルカルバモイルとして、ドデシルカルバモ
イル、トリデシルカルバモイル、テトラデシルカルバモ
イル、ペンタデシルカルバモイル タデシルカルバモイル バモイルを挙げることができ、最も好ましいR。
が上記アルキルに対応するもの、すなわち、より好まし
いR,アルキルカルバモイルとして、ドデシルカルバモ
イル、トリデシルカルバモイル、テトラデシルカルバモ
イル、ペンタデシルカルバモイル タデシルカルバモイル バモイルを挙げることができ、最も好ましいR。
アルキルカルバモイル
モイル
タデシルカルバモイルなどを挙げることができる。
より好ましいR8低級アルキルオキシとして、メトキシ
、エトキシまたはプロポキシなど;低級アルキルカルバ
モイルオキシとして、メチルカルバモイルオキシ、エチ
ルカルバモイルオキシまたはプロピルカルバモイルオキ
シなど;低級アルキルカッしボニルアミノとして、メチ
ルカルボニルアミノ ルボニルアミノなど;低級アルキルオキシカルボニルア
ミノとして、メトキシカルボニルアミノエトキシカルボ
ニルアミノ ボニルアミノなど;低級アルキルウレイドとして、メチ
ルウレイド、エチルウレイドまたはプロピルウレイドな
ど;低級アルキルオキシメチルとして、メトキシメチル
、エトキシメチルまたはプロポキシメチルなど;および
低級アルキルカルボニルメチルとして、メチルカルボニ
ルメチル、工チルカルボニルメチル ル R,ヘテロ環基とは、酸素もしくは硫黄または/および
置換基を有してもよい窒素含有5ないし6員環のヘテロ
環基を意味し、例えば、3−メチル− 2 H− 1.
2.4−トリアゾール−2−イル、3H−1.2.3.
4−テトラゾール−3−イル、5H− 1.2.3.4
−テトラゾール−5−イル、5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イルまたは5−メチル−2H−テトラゾー
ル−2−イルなどを、またより好ましいR,ヘテロサイ
クリルオキシとは、酸素、硫黄または/および窒素など
のヘテロ原子を含有し、置換基を有してもよい5ないし
6員環のヘテロ環基によって置換されているヒドロキシ
を意味し、例えば、3−イソキサゾリルオキシまたは3
−(4−メチルインキサゾリル)オキシなどを挙げるこ
とができる。
、エトキシまたはプロポキシなど;低級アルキルカルバ
モイルオキシとして、メチルカルバモイルオキシ、エチ
ルカルバモイルオキシまたはプロピルカルバモイルオキ
シなど;低級アルキルカッしボニルアミノとして、メチ
ルカルボニルアミノ ルボニルアミノなど;低級アルキルオキシカルボニルア
ミノとして、メトキシカルボニルアミノエトキシカルボ
ニルアミノ ボニルアミノなど;低級アルキルウレイドとして、メチ
ルウレイド、エチルウレイドまたはプロピルウレイドな
ど;低級アルキルオキシメチルとして、メトキシメチル
、エトキシメチルまたはプロポキシメチルなど;および
低級アルキルカルボニルメチルとして、メチルカルボニ
ルメチル、工チルカルボニルメチル ル R,ヘテロ環基とは、酸素もしくは硫黄または/および
置換基を有してもよい窒素含有5ないし6員環のヘテロ
環基を意味し、例えば、3−メチル− 2 H− 1.
2.4−トリアゾール−2−イル、3H−1.2.3.
4−テトラゾール−3−イル、5H− 1.2.3.4
−テトラゾール−5−イル、5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イルまたは5−メチル−2H−テトラゾー
ル−2−イルなどを、またより好ましいR,ヘテロサイ
クリルオキシとは、酸素、硫黄または/および窒素など
のヘテロ原子を含有し、置換基を有してもよい5ないし
6員環のヘテロ環基によって置換されているヒドロキシ
を意味し、例えば、3−イソキサゾリルオキシまたは3
−(4−メチルインキサゾリル)オキシなどを挙げるこ
とができる。
最も好ましいR.とじて、メトキシ、メチルカルバモイ
ルオキシ、アセトアミド、メトキシカルボニルアミノ、
メチルウレイド、メトキシメチル、アセチルメチル、シ
アノメチル、3−メチル− 2 H− 1.2.4−ト
リアゾール−2−イル、5−メチル−IH−テトラゾー
ル−1−イル、5−メチル−2H−テトラゾール−2−
イル、または3−インキサゾリルオキシなどを挙げるこ
とができる。
ルオキシ、アセトアミド、メトキシカルボニルアミノ、
メチルウレイド、メトキシメチル、アセチルメチル、シ
アノメチル、3−メチル− 2 H− 1.2.4−ト
リアゾール−2−イル、5−メチル−IH−テトラゾー
ル−1−イル、5−メチル−2H−テトラゾール−2−
イル、または3−インキサゾリルオキシなどを挙げるこ
とができる。
R,およびR,°は一緒になって一〇(CH−m−を形
成する.好ましいmは、1ないし5の整数であり、より
好ましいmは、4または5の整数である.最も好ましい
整数、4である。
成する.好ましいmは、1ないし5の整数であり、より
好ましいmは、4または5の整数である.最も好ましい
整数、4である。
R,、R4及びR.が示すより好ましい低級アルキルと
して、メチル、エチルまたはプロピルを挙げることがで
き、最も好ましいものとして、メチルを挙げることがで
きる。
して、メチル、エチルまたはプロピルを挙げることがで
き、最も好ましいものとして、メチルを挙げることがで
きる。
より好ましい環状アンモニオとしては、N−メチ−1−
ピロリニオ、N−メチル−1−ピロリジニオ、3−オキ
サゾリオ、2−イソオキサゾリオ、3−チアゾリオ、4
−メチル−3−チアゾリオ、5−ヒドロキシエチル−4
−メチル−3−チアゾリオ、1−N−メチル−3−イミ
ダゾリオ、1−ピリジニオ、3−カルボキシ−1−ピリ
ジニオ、N−メゾルー1−ピペリジニオ、N−メチル−
4−モルホリニオ、1−ピリミジニオ、1−ピリジニオ
、1−メチル−1−ピペラジニオ、1−トリアジニオ、
3−ペンゾオキサゾリオ、3−ペンゾデアゾリオ、1−
キノリニオ、6−メドキシー1−キノリニオ、5.6.
7.8−テトラヒドロ−1−キノリニオ、2−インキノ
リニオまたは1−キノキサリニオなどを挙げることがで
きる。
ピロリニオ、N−メチル−1−ピロリジニオ、3−オキ
サゾリオ、2−イソオキサゾリオ、3−チアゾリオ、4
−メチル−3−チアゾリオ、5−ヒドロキシエチル−4
−メチル−3−チアゾリオ、1−N−メチル−3−イミ
ダゾリオ、1−ピリジニオ、3−カルボキシ−1−ピリ
ジニオ、N−メゾルー1−ピペリジニオ、N−メチル−
4−モルホリニオ、1−ピリミジニオ、1−ピリジニオ
、1−メチル−1−ピペラジニオ、1−トリアジニオ、
3−ペンゾオキサゾリオ、3−ペンゾデアゾリオ、1−
キノリニオ、6−メドキシー1−キノリニオ、5.6.
7.8−テトラヒドロ−1−キノリニオ、2−インキノ
リニオまたは1−キノキサリニオなどを挙げることがで
きる。
より好ましいR.アルキルカルボニルとして、アセチル
、プロピオニルまたはブチリルなどを挙げることができ
、最も好ましいR.アルキルカルボニルとしてアセチル
を挙げることができる。
、プロピオニルまたはブチリルなどを挙げることができ
、最も好ましいR.アルキルカルボニルとしてアセチル
を挙げることができる。
好ましいnは、1ないし10の整数であり、より好まし
いれは工ないし5の整数、最も好ましいnは2ないし4
の整数である。
いれは工ないし5の整数、最も好ましいnは2ないし4
の整数である。
好ましいR,低級アルキルとして、上記C1−C,アル
キルを挙げることができ、より好ましいものとして、メ
チル、エチルまたはプロピルなどを、また最も好ましい
ものとして、メチルを挙げることができる。
キルを挙げることができ、より好ましいものとして、メ
チル、エチルまたはプロピルなどを、また最も好ましい
ものとして、メチルを挙げることができる。
prot−ORは、通常用いられるヒドロキシ保護基を
意味し、例えば、ベンジル、トリアリールメチル[トリ
フェニルメチル(トリチル)など]、トノアルキルシリ
ル(トリメチルシリル、tart−ブチルジメチルシリ
ルなど)、テトラヒドロピラニル、アセチ4,ベンゾイ
ルまたはp−ニトロベンゾイルなどを挙げることができ
る。
意味し、例えば、ベンジル、トリアリールメチル[トリ
フェニルメチル(トリチル)など]、トノアルキルシリ
ル(トリメチルシリル、tart−ブチルジメチルシリ
ルなど)、テトラヒドロピラニル、アセチ4,ベンゾイ
ルまたはp−ニトロベンゾイルなどを挙げることができ
る。
Prot−NH.は、アミノ保護基を意味し、例えば、
アセチル、ベンゾイル、ベンゾイルオキシカルボニル、
tart−ブトキシカルボニルまたはトリチルを挙げる
ことができる。
アセチル、ベンゾイル、ベンゾイルオキシカルボニル、
tart−ブトキシカルボニルまたはトリチルを挙げる
ことができる。
本明細書中、以下の略記が用いられている。
Me: メチル、
Et: エチル、
1−13u: tart−ブチル、
Ph: フェニル、
Trニトリフェニルメチル(トリチル)、Ac: ア
セチル、 DEAD : アゾジカルボン酸ジエチル、THF
: テトラヒドロフラン、およびMEK : メチ
ルエチルケトン。
セチル、 DEAD : アゾジカルボン酸ジエチル、THF
: テトラヒドロフラン、およびMEK : メチ
ルエチルケトン。
化合物(1)において、R−配位、S−配位の2種の立
体異性体が存在するが、その各々あるいはその混合体お
よびラセミ体のいずれも本発明に包含されるものである
。
体異性体が存在するが、その各々あるいはその混合体お
よびラセミ体のいずれも本発明に包含されるものである
。
本発明化合物(りは、例えば以下の反応工程によって製
造することができる。
造することができる。
(以下余白)
岳
反応工程■
(第1工程)
本工程は化合物Vのヒドロキシをアミンに変える工程で
ある。
ある。
本工程は、化合物Vのスクシンイミド体またはN−置換
フタルイミド体を加水分解することにより行なうことが
できる。
フタルイミド体を加水分解することにより行なうことが
できる。
N−置換スクシンイミド体またはN−置換フタルイミド
体を得る反応は、スクシンイミドまたはフタルイミドを
用いて、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジ
カルボキシレート存在下、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ンまたはジメチルホルムアミド(DMF)などの溶媒中
、室温にて、数時間から数十時間で行なうことができる
。
体を得る反応は、スクシンイミドまたはフタルイミドを
用いて、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジ
カルボキシレート存在下、テトラヒドロフラン、ベンゼ
ンまたはジメチルホルムアミド(DMF)などの溶媒中
、室温にて、数時間から数十時間で行なうことができる
。
加水分解は、ヒドラジンを用いて、アルコール系のメタ
ノールまたはエタノールなどの溶媒中、室温で反応また
は数時間還流することにより行なうことができる。
ノールまたはエタノールなどの溶媒中、室温で反応また
は数時間還流することにより行なうことができる。
別法として、ヒドロキシをメタンスルホニルオキシまた
はベンゼンスルホニルオキシに変えた後、ナトリウムア
ジドまたはリチウムアジドなどと反応させアジド体とし
、きらにトリフェニルホスフィンなどで還元してもよい
。
はベンゼンスルホニルオキシに変えた後、ナトリウムア
ジドまたはリチウムアジドなどと反応させアジド体とし
、きらにトリフェニルホスフィンなどで還元してもよい
。
(第2工程)
本工程は、化合物■をHalo−5Ox (CH,)n
−Hal CHalおよびHal’はハロゲン;nは上
記と同義]で示されるハロゲン置換アルカンスルホニル
ハライドでスルホニル化して、スルホンアミド誘導体■
を得る工程である。
−Hal CHalおよびHal’はハロゲン;nは上
記と同義]で示されるハロゲン置換アルカンスルホニル
ハライドでスルホニル化して、スルホンアミド誘導体■
を得る工程である。
該スルホニルハライドの具体例としては、3−クロロプ
ロパンスルホニルクロライド、3−クロロプロパンスル
ホニルブロマイド、4−クロロブタンスルホニルクロラ
イド、4−クロロブタンスルホニルブロマイド、5−ク
ロロペンタンスルホニルクロライド、6−ブロモヘキサ
ンスルホニルクロライド、7−ブロモヘプタンスルホニ
ルブロマイド、8−クロロオクタンスルホニルクロライ
ド、9−ブロモノナンスルホニルブロマイドまたは10
−クロロデカンスルホニルクロライドナトが挙げられる
。
ロパンスルホニルクロライド、3−クロロプロパンスル
ホニルブロマイド、4−クロロブタンスルホニルクロラ
イド、4−クロロブタンスルホニルブロマイド、5−ク
ロロペンタンスルホニルクロライド、6−ブロモヘキサ
ンスルホニルクロライド、7−ブロモヘプタンスルホニ
ルブロマイド、8−クロロオクタンスルホニルクロライ
ド、9−ブロモノナンスルホニルブロマイドまたは10
−クロロデカンスルホニルクロライドナトが挙げられる
。
反応は、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、水酸化
ナトリウムなどの塩基存在下、塩素化炭化水素系のクロ
ロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランまたは芳香族系のベンゼンなど
の溶媒中、冷却下ないしは室温にて、数時間から数十時
間で行なうことができる。
ナトリウムなどの塩基存在下、塩素化炭化水素系のクロ
ロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランまたは芳香族系のベンゼンなど
の溶媒中、冷却下ないしは室温にて、数時間から数十時
間で行なうことができる。
また必要に応じて、ジメチルアミノピリジンを触媒とし
て加えてもよい。
て加えてもよい。
本工程で得られる化合物が塩化物の場合には、その化合
物は、常法に従って、臭化ナトリウムまたはヨウ化ナト
リウムで処理することにより臭化物またはヨウ化物に変
えることができる。
物は、常法に従って、臭化ナトリウムまたはヨウ化ナト
リウムで処理することにより臭化物またはヨウ化物に変
えることができる。
R1がアルキルカルボニルである本発明化合物を得るた
めには、本工程で、先に得られた化合物を、アシル化剤
と、塩基(例えば、トリエチルアミン、ピリジン、N、
N−ジイソプロピルエチルアミンなど)存在下、塩素化
炭化水素系溶媒(例えば、ジクロロメタン、クロロホル
ム)中、冷却下ないしは室温にて、反応させるとよい。
めには、本工程で、先に得られた化合物を、アシル化剤
と、塩基(例えば、トリエチルアミン、ピリジン、N、
N−ジイソプロピルエチルアミンなど)存在下、塩素化
炭化水素系溶媒(例えば、ジクロロメタン、クロロホル
ム)中、冷却下ないしは室温にて、反応させるとよい。
アシル化剤としては、酸ハロゲン化物、例えば、アセチ
ルクロライド、プロピオニルクロライド、ブチリルクロ
ライド、イソブチリルクロライド、バレリルクロライド
、イソバレリルクロライド、ピバロイルクロライド、ペ
ンタノイルクロライド、ヘキサノイルクロライドもしく
はペンタノイルクロライドなど、または酸無水物、例え
ば、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、イ
ソ酪酸無水物、吉草酸無水物、イソ吉草酸無水物、ビバ
ル酸無水物、ペンタン酸無水物、ヘキサン酸無水物もし
くはヘプタン酸無水物などを挙げることができる。
ルクロライド、プロピオニルクロライド、ブチリルクロ
ライド、イソブチリルクロライド、バレリルクロライド
、イソバレリルクロライド、ピバロイルクロライド、ペ
ンタノイルクロライド、ヘキサノイルクロライドもしく
はペンタノイルクロライドなど、または酸無水物、例え
ば、酢酸無水物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、イ
ソ酪酸無水物、吉草酸無水物、イソ吉草酸無水物、ビバ
ル酸無水物、ペンタン酸無水物、ヘキサン酸無水物もし
くはヘプタン酸無水物などを挙げることができる。
(第3工程)
本工程は、化合物■を4級アンモニウム化して本発明化
合物上を得る工程である。
合物上を得る工程である。
4級アンモニウム化に用いられるアミン類として、例え
ば、トリメチルアミンもしくはトリエチルアミンなどの
アルキルアミンまたはN−メチルピロール、N−メチル
ピロリジン、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾ
ール、4−メチルチアゾール、N−メチルイミダゾール
、ピリジン、3−カルボキシピリジン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ピリミジン、ピラジン
、N−メチルピペラジン、トリアジン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾデアゾール、キノリン、インキノリン、キ
ノキサリンもしくはアジリンなどのヘテロ原子および/
または置換基を有してもよい5〜6員環の単環ないしは
二環系の環状アミンを挙げることができる。
ば、トリメチルアミンもしくはトリエチルアミンなどの
アルキルアミンまたはN−メチルピロール、N−メチル
ピロリジン、オキサゾール、インオキサゾール、チアゾ
ール、4−メチルチアゾール、N−メチルイミダゾール
、ピリジン、3−カルボキシピリジン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ピリミジン、ピラジン
、N−メチルピペラジン、トリアジン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾデアゾール、キノリン、インキノリン、キ
ノキサリンもしくはアジリンなどのヘテロ原子および/
または置換基を有してもよい5〜6員環の単環ないしは
二環系の環状アミンを挙げることができる。
反応は、アミン自体を溶媒として用いるかまたはフルフ
ール系のメタノール、エタノール、芳香族系のベンゼン
、トルエン、エーテル系ノエチル工−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンまたはジメチルホルムアミドなど
の溶媒中、室温または加熱下、数時間から数十時間で行
なうことができる。
ール系のメタノール、エタノール、芳香族系のベンゼン
、トルエン、エーテル系ノエチル工−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンまたはジメチルホルムアミドなど
の溶媒中、室温または加熱下、数時間から数十時間で行
なうことができる。
また別法として、化合物■のHalが塩素である場合は
、これを臭素またはヨウ素に置換し、各種アミンと反応
きせて臭素塩またはヨウ素塩の四級アミンとした後、塩
酸を用いて分液して塩素塩に置換してもよい。
、これを臭素またはヨウ素に置換し、各種アミンと反応
きせて臭素塩またはヨウ素塩の四級アミンとした後、塩
酸を用いて分液して塩素塩に置換してもよい。
反応工程■
(第1°工程)
本工程は、化合物旦を脱ハロゲン化水素して、化合物亘
を得る工程である。
を得る工程である。
本工程は、化合物■のハロゲンをフェニルセレニウムア
ニオンまたはフェニルチオアニオンで置換して得られる
フェニルセレニド体またはフェニルチオ体を過酸化物で
酸化し、得られた酸化物をさらに加熱してベンゼンセレ
ネン酸またはベンゼンスルフェン酸として脱離させるこ
とにより行なうことができる。
ニオンまたはフェニルチオアニオンで置換して得られる
フェニルセレニド体またはフェニルチオ体を過酸化物で
酸化し、得られた酸化物をさらに加熱してベンゼンセレ
ネン酸またはベンゼンスルフェン酸として脱離させるこ
とにより行なうことができる。
フェニルセレニド体またはフェニルチオ体を得る反応は
、ジフェニルジセレニドまたはジフェニルスルフィドを
水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより得られる
試薬を用いて、アルコール系のメタノール、エタノール
、インプロパツールまたはエーテル系のエチルエーテル
、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどの溶媒中、
室温ないし加熱下数時間で行なうことができる。
、ジフェニルジセレニドまたはジフェニルスルフィドを
水素化ホウ素ナトリウムで還元することにより得られる
試薬を用いて、アルコール系のメタノール、エタノール
、インプロパツールまたはエーテル系のエチルエーテル
、テトラヒドロフランまたはジオキサンなどの溶媒中、
室温ないし加熱下数時間で行なうことができる。
酸化反応は、過酸化物として、過酸化水票水、m−クロ
ロ過安息香酸、過酢酸、tert−ブチルペルオキシド
などを用いて、アルコール系のメタノール、エタノール
または塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホル
ムなどの溶媒中、室温にて、数時間で行なうことができ
る。
ロ過安息香酸、過酢酸、tert−ブチルペルオキシド
などを用いて、アルコール系のメタノール、エタノール
または塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロロホル
ムなどの溶媒中、室温にて、数時間で行なうことができ
る。
酸化物を加熱して除去する反応は、芳香族系のベンゼン
、トルエン、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロ
ロホルムなどの溶媒中で加熱して行なえばよい。
、トルエン、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、クロ
ロホルムなどの溶媒中で加熱して行なえばよい。
(第2′工程)
本工程は、化合物■の二重結合を酸化的に開裂してアル
デヒド体とし、得られたアルデヒド体を還元して化合物
■を得る工程である。
デヒド体とし、得られたアルデヒド体を還元して化合物
■を得る工程である。
アルデヒド体は化合物■を常法に従ってオゾン酸化して
得られるオシニドを還元的に分解することにより得られ
る。
得られるオシニドを還元的に分解することにより得られ
る。
オゾン酸化は、塩素化炭化水素系のジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、アルコール系のメタノール、
エタノールまたはベンゼン、酢酸エチルなどの溶媒を必
要に応じて混合して用い、冷却下、数時間で行なうこと
ができる。
ロロホルム、四塩化炭素、アルコール系のメタノール、
エタノールまたはベンゼン、酢酸エチルなどの溶媒を必
要に応じて混合して用い、冷却下、数時間で行なうこと
ができる。
オシニドを還元的に分解する反応は、還元剤として酢酸
中皿鉛末、亜リン酸トリメチルエステル、亜リン酸トリ
フェニルエステルもしくはジメチルスルフィド、ヨウ化
ナトリウム、二酸化硫黄、亜硫酸水素ナトリウム、塩化
スズ(II)もしくは硫酸鉄(I[)などを用いるかま
たは白金、パラジウム、ニッケル触媒もしくはパラジウ
ム−炭酸カルシウムなどを用いた接触還元により行なう
ことができる。
中皿鉛末、亜リン酸トリメチルエステル、亜リン酸トリ
フェニルエステルもしくはジメチルスルフィド、ヨウ化
ナトリウム、二酸化硫黄、亜硫酸水素ナトリウム、塩化
スズ(II)もしくは硫酸鉄(I[)などを用いるかま
たは白金、パラジウム、ニッケル触媒もしくはパラジウ
ム−炭酸カルシウムなどを用いた接触還元により行なう
ことができる。
アルデヒド体をアルコール体に還元する反応は、還元剤
として水素化金属、例えば、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化トリメトキシアルミニウムリチウムまたは水素化
トリーtert−ブトキシアルニミウムリチウムなどを
用い、アルコール系のメタノール、エタノール、エーテ
ル系のエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの溶媒
中、室温ないしは加熱下、数時間で行なうことができる
。
として水素化金属、例えば、水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化トリメトキシアルミニウムリチウムまたは水素化
トリーtert−ブトキシアルニミウムリチウムなどを
用い、アルコール系のメタノール、エタノール、エーテ
ル系のエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの溶媒
中、室温ないしは加熱下、数時間で行なうことができる
。
(第3″工程)
本工程は、化合物■のヒドロキシをハロゲン化する工程
である。
である。
ハロゲン化反応は、ハロゲン化剤として、ハロゲン化リ
ン(五塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リン
など)、またはハロゲン化チオニル(塩化チオニル、臭
化チオニルなど)を用いて、直接水酸基をハロゲン化す
るかまたはヒドロキシに脱離基をつけた後、ハロゲン化
すればよい。
ン(五塩化リン、五塩化リン、三臭化リン、五臭化リン
など)、またはハロゲン化チオニル(塩化チオニル、臭
化チオニルなど)を用いて、直接水酸基をハロゲン化す
るかまたはヒドロキシに脱離基をつけた後、ハロゲン化
すればよい。
脱離基をつける反応は、脱離基を形成する化合物として
、置換スルホニルクロライド、例えば、メタンスルホニ
ルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドまたはp
−トルエンスルホニルクロライドなどを用いて、トリエ
チルアミン、ピリジンなどの塩基存在下、常法に従って
行なうとよい、この後、ハロゲン化アルカリ金属、例え
ば、塩化リチウム、臭化ナトリウムまたはヨウ化ナトノ
ウムなどと反応させるとよい。
、置換スルホニルクロライド、例えば、メタンスルホニ
ルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドまたはp
−トルエンスルホニルクロライドなどを用いて、トリエ
チルアミン、ピリジンなどの塩基存在下、常法に従って
行なうとよい、この後、ハロゲン化アルカリ金属、例え
ば、塩化リチウム、臭化ナトリウムまたはヨウ化ナトノ
ウムなどと反応させるとよい。
反応は、使用するハロゲン化剤の性質に応じて、塩素化
炭化水素系のジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、ケトン系のアセトン、メチルエチルケトンまたはジ
メチルホルムアミドなどを溶媒として用い、常法に従っ
て行なうとよい。
炭化水素系のジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、ケトン系のアセトン、メチルエチルケトンまたはジ
メチルホルムアミドなどを溶媒として用い、常法に従っ
て行なうとよい。
またハロゲン化は、四塩化炭素−トリフェニルホスフィ
>、 四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、is−ト
リフェニルホスフィンまたはヨウ化メタン−トリフエノ
キシホスフィンなどの有機リン化合物を用いて行なうこ
ともできる。
>、 四臭化炭素−トリフェニルホスフィン、is−ト
リフェニルホスフィンまたはヨウ化メタン−トリフエノ
キシホスフィンなどの有機リン化合物を用いて行なうこ
ともできる。
(第4′工程)
本工程は、化合物l二のハロゲンをアミンで置換し、本
発明化合物■を得る工程である0本工程は第3工程に従
って行なえばよい。
発明化合物■を得る工程である0本工程は第3工程に従
って行なえばよい。
必要に応じて、第3工程または本工程で得られる本発明
化合物の陰イオンを所望の陰イオンと交換してもよい。
化合物の陰イオンを所望の陰イオンと交換してもよい。
(以下余白)
(i) −Y−R+がアルキルチオカルバモイルチオで
R1がアルコキシのとき、化合物ハは、以下のようにし
て製造することができる。
R1がアルコキシのとき、化合物ハは、以下のようにし
て製造することができる。
[式中、RIはアルキルカルバモイル;およびYは硫黄
をそれぞれ示す] rなわち、まず化合物x6を還元的に開裂して化合物り
を得、次に、化合物遅のヒドロキシをメルカプトに変換
して化合物厖を得、それに所望のアルキルを有するイソ
シアネートを作用させて化合物Bを得るとよい、化合物
ハは、化合物VIAのベンジルを除去するとよい。
をそれぞれ示す] rなわち、まず化合物x6を還元的に開裂して化合物り
を得、次に、化合物遅のヒドロキシをメルカプトに変換
して化合物厖を得、それに所望のアルキルを有するイソ
シアネートを作用させて化合物Bを得るとよい、化合物
ハは、化合物VIAのベンジルを除去するとよい。
化合物μから化合物IX睦得る反応は、還元剤として水
素化リチウムアルミニウムー塩化アルミニウムを用いて
行なうとよい。
素化リチウムアルミニウムー塩化アルミニウムを用いて
行なうとよい。
化合物影から化合物影を得る工程は、まず化合物■6を
脱離基を形成する化合物、例えば、メタンスルホニルク
ロライド、ベンゼンスルホニルクロライドまたはp−ト
ルエンスルホニルクロライドなどとトリエチルアミンな
どの塩基存在下、常法に従って反応させヒドロキシを脱
離基に変えた後、チオ酢酸カリウムまたはチオ酢酸ナト
リウムなどを用いて、チオ酢酸エステルJとした後、ア
ルカリ加水分解することによりメルカプト誘導体Vff
61得るとよい0次に得られた化合物μに所望のCI!
〜C8゜アルキルを有するイソシアナート、例えば、ド
デシルイソシアナート、ヘキサデンルイソシアナートま
たはオクタデシルイソシアナートをピリジンなどの溶媒
中、作用させることにより化合物犯を得ることができる
。
脱離基を形成する化合物、例えば、メタンスルホニルク
ロライド、ベンゼンスルホニルクロライドまたはp−ト
ルエンスルホニルクロライドなどとトリエチルアミンな
どの塩基存在下、常法に従って反応させヒドロキシを脱
離基に変えた後、チオ酢酸カリウムまたはチオ酢酸ナト
リウムなどを用いて、チオ酢酸エステルJとした後、ア
ルカリ加水分解することによりメルカプト誘導体Vff
61得るとよい0次に得られた化合物μに所望のCI!
〜C8゜アルキルを有するイソシアナート、例えば、ド
デシルイソシアナート、ヘキサデンルイソシアナートま
たはオクタデシルイソシアナートをピリジンなどの溶媒
中、作用させることにより化合物犯を得ることができる
。
化合物ハは、化合物ちのベンジルエーテルを、トリメチ
ルシリルヨーダイトまたは塩化アルミニウムーヨウ化ナ
トリウムなどを用いて、アセトニトリル中、中性条件下
、0℃から室温にて開裂させることにより得ることがで
きる。
ルシリルヨーダイトまたは塩化アルミニウムーヨウ化ナ
トリウムなどを用いて、アセトニトリル中、中性条件下
、0℃から室温にて開裂させることにより得ることがで
きる。
(以下余白)
(ii) R*がアルキルカルバモイルオキシのとき
、化合物VCは以下のように製造できる。
、化合物VCは以下のように製造できる。
[式中、R2は低級アルキルHprot−OHはヒドロ
キシ保護基; R1% l’、およびYは前記と同意義
] ■ 本工程は、アルキルイソシアナートへアルコールq
を付加させる本工程である。
キシ保護基; R1% l’、およびYは前記と同意義
] ■ 本工程は、アルキルイソシアナートへアルコールq
を付加させる本工程である。
アルキルイソシアナートとして、例えば、メチルイソシ
アナート、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナ
ート、イソブロビルイソシアナート、ブチルイソシアナ
ート、tert−ブチルイソシアナートなどを挙げるこ
とができる。
アナート、エチルイソシアナート、プロピルイソシアナ
ート、イソブロビルイソシアナート、ブチルイソシアナ
ート、tert−ブチルイソシアナートなどを挙げるこ
とができる。
反応は、塩素化度化水素系溶媒、例えばジクロロメタン
、クロロホルム中、室温または加熱下、数時間から数十
時間で行なうことができる。必要に応じて、酸(三フッ
化ホウ素エーテレート、塩酸、塩化アルミニウムなど)
または塩基(トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、4−メチルピペリジンなど)を触媒
として用いてもよい。
、クロロホルム中、室温または加熱下、数時間から数十
時間で行なうことができる。必要に応じて、酸(三フッ
化ホウ素エーテレート、塩酸、塩化アルミニウムなど)
または塩基(トリエチルアミン、ピリジン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、4−メチルピペリジンなど)を触媒
として用いてもよい。
■ 本工程は、3位のヒドロキシ保護基を脱保護する工
程である。
程である。
脱保護反応は、保護基の種類によって異なるが、#(ト
リフルオロ酢酸、酢酸、臭化水素/酢酸または塩酸/ク
ロロホルム)存在下に行なうことができる。また、パラ
ジウム触媒を用いた接触還元によっても行なうことがで
きる。
リフルオロ酢酸、酢酸、臭化水素/酢酸または塩酸/ク
ロロホルム)存在下に行なうことができる。また、パラ
ジウム触媒を用いた接触還元によっても行なうことがで
きる。
(iii) −Y−R+がアルキルカルバモイルオキ
シで、R1がアルコキシカルボニルアミノのとき、化合
物豆は以下のように製造できる。
シで、R1がアルコキシカルボニルアミノのとき、化合
物豆は以下のように製造できる。
[式中1 R1はアルキルカルバモイル;Yは酸素;
prot−Nはアミノ保護基:R8゛およびR,は前記
と同義である。] ■ 本工程は、アルコール■をC,、−C,、アルキル
イソシアナートへ付加させる工程である。
prot−Nはアミノ保護基:R8゛およびR,は前記
と同義である。] ■ 本工程は、アルコール■をC,、−C,、アルキル
イソシアナートへ付加させる工程である。
本工程に用いるアルキルイソシアナートとしては、ドデ
シルイソシアナート、トリデシルイソシアナート、テト
ラデシルイソシアナート、ペンタデシルイソシアナート
、ヘキサデシルイソシアナート、ヘプタデシルイソシア
ナート、オクタデシルイソシアナート、ノナデシルイソ
シアナート、イコサニルイソシアナートなどを挙げるこ
とがでさる0反応は、(ii)−〇と同様にして行なう
ことができる。
シルイソシアナート、トリデシルイソシアナート、テト
ラデシルイソシアナート、ペンタデシルイソシアナート
、ヘキサデシルイソシアナート、ヘプタデシルイソシア
ナート、オクタデシルイソシアナート、ノナデシルイソ
シアナート、イコサニルイソシアナートなどを挙げるこ
とがでさる0反応は、(ii)−〇と同様にして行なう
ことができる。
■ 本工程は、アミン保護基を脱保護する工程である。
脱保護反応は、保護基の種類によって異なるが、加水素
分解(Pd触媒、常圧水素、室温、メタノール、メタノ
ール−酢酸または氷酢酸中)、緩和な酸処理(含水酢酸
、30°C;含水トリフルオロ酢酸、−5℃)など常法
に従って行なうことができる。
分解(Pd触媒、常圧水素、室温、メタノール、メタノ
ール−酢酸または氷酢酸中)、緩和な酸処理(含水酢酸
、30°C;含水トリフルオロ酢酸、−5℃)など常法
に従って行なうことができる。
■ 本工謬は、化合物E3のメトキシカルボニルをヒド
ロキシメチルに還元する工程である。
ロキシメチルに還元する工程である。
還元剤として、水素化金属錯体、例えば、水素化アルミ
ニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム
、水素化トリーtart −フトキシアルミニウムリチ
ウムまたは塩化カルシウムと水素化ホウ素ナトリウムよ
り生成する水素化ホウ素カルシウムなどを挙げることが
できる。
ニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化トリメトキシアルミニウムリチウム
、水素化トリーtart −フトキシアルミニウムリチ
ウムまたは塩化カルシウムと水素化ホウ素ナトリウムよ
り生成する水素化ホウ素カルシウムなどを挙げることが
できる。
反応は、アルコール系のメタノール、エタノール、プロ
パツールまたはエーテル系のエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、グライム、ジグライムなどの溶媒中、冷却
下、数時間で行なうことができる。
パツールまたはエーテル系のエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、グライム、ジグライムなどの溶媒中、冷却
下、数時間で行なうことができる。
■ 本工程は、化合物聾のアミノをアルキルオキシカル
ボニルアミノに変換する工程である。
ボニルアミノに変換する工程である。
アルキルオキシカルボニル化のための試薬として、アル
キルハロホルメート、例えば、メチルクロロホルメート
、メチルブロムホルメート、エチルクロロホルメート、
プロピルクロロホルメート、イソプロピルクロロホルメ
ート、ブチルクロロホルメート、インブチルブロムホル
メート、tart−ブチルクロロホルメート、tart
−ブチルブロムホルメート、ペンチルクロロホルメート
、ヘキシルクロロホルメートもしくはヘプチルクロロホ
ルメートなどまたはジアルキルジカルボネート、1列え
ば、ジプロルカルボネート、ジプロルカルボネート、ジ
プロピルカルボネートソプロビルジカルボネート、ジブ
チノしジカルボネート、ジーtertーブナルジ力ルボ
ネート、ジペンチルカルボネート ジヘプチルジカルボネートなどを挙(することかできる
。
キルハロホルメート、例えば、メチルクロロホルメート
、メチルブロムホルメート、エチルクロロホルメート、
プロピルクロロホルメート、イソプロピルクロロホルメ
ート、ブチルクロロホルメート、インブチルブロムホル
メート、tart−ブチルクロロホルメート、tart
−ブチルブロムホルメート、ペンチルクロロホルメート
、ヘキシルクロロホルメートもしくはヘプチルクロロホ
ルメートなどまたはジアルキルジカルボネート、1列え
ば、ジプロルカルボネート、ジプロルカルボネート、ジ
プロピルカルボネートソプロビルジカルボネート、ジブ
チノしジカルボネート、ジーtertーブナルジ力ルボ
ネート、ジペンチルカルボネート ジヘプチルジカルボネートなどを挙(することかできる
。
反応は、エーテル系、例えば、エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ケトン系例えばアセトンなどの溶媒中、
室温にて数時間で行なうことができる。
ヒドロフラン、ケトン系例えばアセトンなどの溶媒中、
室温にて数時間で行なうことができる。
(iv) −Y−R+がアルキルチオでR,がアルキ
ルオキシカルボニルアミノのとき、化合物L■は、以下
のように製造できる。
ルオキシカルボニルアミノのとき、化合物L■は、以下
のように製造できる。
[式中、R1はアルキル;Yは酸素:R,°およびR,
は前記と同意義] ■ 本工程は、アルコールe5でチオ酢酸エステル赳に
変換する工程である。
は前記と同意義] ■ 本工程は、アルコールe5でチオ酢酸エステル赳に
変換する工程である。
本工程は、(i)の■6から■6を得る工程と同様に、
アルコール1をスルホン酸エステルまたはハロゲン化物
に変換したのち、チオ酢酸カリウムまたはチオ酢酸ナト
リウムなどを用いて、チオ酢酸エステルに変換すること
ができる。
アルコール1をスルホン酸エステルまたはハロゲン化物
に変換したのち、チオ酢酸カリウムまたはチオ酢酸ナト
リウムなどを用いて、チオ酢酸エステルに変換すること
ができる。
■ 本工程は、化合物e6のアセチルを所望のアルキル
に変換する工程である.本工程は、チオ酢酸エステルリ
をアルカリ加水分解して、チオールを得、水素化ナトリ
ウムなどでデオラートアニオンとしたのちハロゲン化C
lm−Cl@アルキル、例えば、ドデシルブロマイド、
トリデシルブロマイド、テトラデシルブロマイド、ペン
タデシルブロマイド、ペンタデシルクロマイド、ヘキサ
デシルブロマイド、ヘプタデシルブロマイド、オクタデ
シルブロマイド、オクタデシルクロライド、ノナデシル
ブロマイド、イコサニルブロマイドなどと反応移せるこ
とにより行なうことができる。
に変換する工程である.本工程は、チオ酢酸エステルリ
をアルカリ加水分解して、チオールを得、水素化ナトリ
ウムなどでデオラートアニオンとしたのちハロゲン化C
lm−Cl@アルキル、例えば、ドデシルブロマイド、
トリデシルブロマイド、テトラデシルブロマイド、ペン
タデシルブロマイド、ペンタデシルクロマイド、ヘキサ
デシルブロマイド、ヘプタデシルブロマイド、オクタデ
シルブロマイド、オクタデシルクロライド、ノナデシル
ブロマイド、イコサニルブロマイドなどと反応移せるこ
とにより行なうことができる。
本工程は、(i)の2軟と同様にCIO−Cm@アルキ
ルイソシアナートを用いて行なうこともできる。
ルイソシアナートを用いて行なうこともできる。
■ 本工程は、化合物虹のアミノとヒドロキシの保護基
を除去する工程である。
を除去する工程である。
反応は、酸、例えば、希塩酸、希硫酸などを用いて行な
うとよい。
うとよい。
■ 本工程は、化合物E8のアミノをアルキルオキシカ
ルボニルアミノに変換する.工程である。
ルボニルアミノに変換する.工程である。
本工程は、(iii)−〇と同様に行なうことができる
。
。
(v) Rmがアルキルウレイドまたはアルカノイル
アミノのとき、化合物1[[Fまたは II[Gは以下
のように製造できる。
アミノのとき、化合物1[[Fまたは II[Gは以下
のように製造できる。
(以下余白)
[式中、R1、R t ’、R.、R,、Yおよびnは
前記と同意義である] ■ 本工程は、酸性条件下、化合物DIHのアルコキシ
カルボニルを開裂して、化合物1[[E’を得る工程で
ある。
前記と同意義である] ■ 本工程は、酸性条件下、化合物DIHのアルコキシ
カルボニルを開裂して、化合物1[[E’を得る工程で
ある。
化合物111Eは、化合物VEIまたは VH2を反応
工程I、第1工程および、第2工程と同様に反応させる
ことにより得ることができる。
工程I、第1工程および、第2工程と同様に反応させる
ことにより得ることができる。
本工程は、酢酸中、臭化水素もしくは塩酸処理、エーテ
ル、酢酸エチルもしくはニトロメタン中、塩酸処理また
はトリフルオロ酢酸処理などウレタン型誘導体のアミノ
保護基を除去するとき常法に従って行なうとよい。
ル、酢酸エチルもしくはニトロメタン中、塩酸処理また
はトリフルオロ酢酸処理などウレタン型誘導体のアミノ
保護基を除去するとき常法に従って行なうとよい。
■ 本工程は、アミン I[[E’にアルキルイソシア
ナートを付加させて化合物1[[Fを得る工程である。
ナートを付加させて化合物1[[Fを得る工程である。
反応は、 C、−Ctアルキルイソシアナート、例えば
、メチルイソシアナート、エチルイソシアナート、プロ
ピルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ブ
チルイソシアナート、tart−ブチルイソシアナート
、ペンチルイソシアナート、ヘキシルインシアナート、
ヘプチルイソシアナートなどを用いて、不活性溶媒(ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジ
クロロメタン、アセトン、テトラヒドロフランなど)中
、行なうことができる。
、メチルイソシアナート、エチルイソシアナート、プロ
ピルイソシアナート、イソプロピルイソシアナート、ブ
チルイソシアナート、tart−ブチルイソシアナート
、ペンチルイソシアナート、ヘキシルインシアナート、
ヘプチルイソシアナートなどを用いて、不活性溶媒(ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、クロロホルム、ジ
クロロメタン、アセトン、テトラヒドロフランなど)中
、行なうことができる。
■ 本工程は、アミンII[E’ を酸アミド鼾に変換
する工程である。
する工程である。
本工程は、酸ハロゲン化物、例えば、アセチルクロライ
ド、プロピオニルクロライド、ブチリルクロライド、イ
ソブチリルクロライド、バレリルクロライド、イソバレ
リルクロライド、ピバロイルクロライド、ペンタノイル
クロライド、ヘキサノイルクロライドもしくはヘプタノ
イルクロライドなどまたは、酸無水物、例えば酢酸無水
物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物
、吉草酸無水物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、
ペンタン酸無水物、ヘキサン酸無水物またはへブタン酸
無水物などのアシル化剤を用いて行なうとよい。
ド、プロピオニルクロライド、ブチリルクロライド、イ
ソブチリルクロライド、バレリルクロライド、イソバレ
リルクロライド、ピバロイルクロライド、ペンタノイル
クロライド、ヘキサノイルクロライドもしくはヘプタノ
イルクロライドなどまたは、酸無水物、例えば酢酸無水
物、プロピオン酸無水物、酪酸無水物、イソ酪酸無水物
、吉草酸無水物、イソ吉草酸無水物、ピバル酸無水物、
ペンタン酸無水物、ヘキサン酸無水物またはへブタン酸
無水物などのアシル化剤を用いて行なうとよい。
反応は、無溶媒で、または不活性溶媒(例えば、エチル
エーテル、ベンゼンなど)中で加熱することにより行な
うことができる。必要に応じて、反応を促進させるため
に、ピリジンまたは硫酸などを添加するとよい。
エーテル、ベンゼンなど)中で加熱することにより行な
うことができる。必要に応じて、反応を促進させるため
に、ピリジンまたは硫酸などを添加するとよい。
(vi) Rxが、ヘテロ環基またはヘテロサイクノ
ルオキンのとき、化合物V HIJは以下のように製造
できる。
ルオキンのとき、化合物V HIJは以下のように製造
できる。
[式中、R1はヘテロ環基またはヘテロサイクリルオキ
シ;R1、R8、YおよびProt−OHは前記と同意
義] ■ 本工程は、1位のヒドロキシを選択的に保護する工
程である。
シ;R1、R8、YおよびProt−OHは前記と同意
義] ■ 本工程は、1位のヒドロキシを選択的に保護する工
程である。
1級ヒドロキシを選択的に保護する基として、例えば、
tert−ブチルジメチルシリルを挙げることができる
。
tert−ブチルジメチルシリルを挙げることができる
。
tert−ブチルジメチルシリルを導入する場合には、
反応はtart−ブチルジメチルクロロシランを用いて
、イミダゾールなどの塩基存在下に行なうことができる
。
反応はtart−ブチルジメチルクロロシランを用いて
、イミダゾールなどの塩基存在下に行なうことができる
。
■ 本工程は、所望のヘテロ環基またはヘテロナイクリ
ルオキシを化合物能に導入し、化合物胆豆を得る工程で
ある。
ルオキシを化合物能に導入し、化合物胆豆を得る工程で
ある。
本反応は、ミツノブ[シンセシス(5YNTHESIS
)、1、(1981年)]記載の方法に従って行なうと
よい。
)、1、(1981年)]記載の方法に従って行なうと
よい。
反応は、所望のヘテロ環、例えば、ピローノ呟2−メチ
ルピロール、3−メチルピロール、イミダゾール、2−
メチルイミダゾール、2.4−ジメチルイミダゾール、
ピラゾール、5−メチルピラゾール、3.5−ジメチル
ピラゾール、1,2゜3−トリアゾール、4−メチル−
1,2,3−トリアゾール、3−メチル−1,2,4−
トリアゾール、3.5−ジメチル−1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾールもしくは、5−メチルテトラゾ−
ルなどまたは3−ヒドロキシインキサゾール、3−ヒド
ロキシインチアゾール、3−ヒドロキシピラゾール、3
−ヒジロキシー4−メチルインキサゾール、4−ヒドロ
キシ−1,2,3−トリアゾールまたは4−ヒドロキシ
−5−メチル−1,2゜3−トリアゾールなどを用いて
、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジカルボ
キシレート存在下、無水エーテルまたは無水テトラヒド
ロフランまたは無水ベンゼン中、行なうとよい。
ルピロール、3−メチルピロール、イミダゾール、2−
メチルイミダゾール、2.4−ジメチルイミダゾール、
ピラゾール、5−メチルピラゾール、3.5−ジメチル
ピラゾール、1,2゜3−トリアゾール、4−メチル−
1,2,3−トリアゾール、3−メチル−1,2,4−
トリアゾール、3.5−ジメチル−1,2,4−トリア
ゾール、テトラゾールもしくは、5−メチルテトラゾ−
ルなどまたは3−ヒドロキシインキサゾール、3−ヒド
ロキシインチアゾール、3−ヒドロキシピラゾール、3
−ヒジロキシー4−メチルインキサゾール、4−ヒドロ
キシ−1,2,3−トリアゾールまたは4−ヒドロキシ
−5−メチル−1,2゜3−トリアゾールなどを用いて
、トリフェニルホスフィンおよびジエチルアゾジカルボ
キシレート存在下、無水エーテルまたは無水テトラヒド
ロフランまたは無水ベンゼン中、行なうとよい。
■ 本工程は、1位のヒドロキシ保護基を選択的に除去
する工程である。
する工程である。
脱保護反応は、室温における酢酸処理またはテトラヒド
ロフラン中のテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオラ
イド処理など常法に従って行なうことができる。
ロフラン中のテトラ−n−ブチルアンモニウムフルオラ
イド処理など常法に従って行なうことができる。
■ 本工程は、化合物U■のヒドロキシを所望の側鎖に
変換する工程である。
変換する工程である。
本工程は、(i)、(ii)−■または(iv)−■、
■と同様に行なうことができる。
■と同様に行なうことができる。
■ 本工程は、化合物5HIJの3位のヒドロキシ保護
基を脱保護する工程である。
基を脱保護する工程である。
脱保護反応は、酢酸、塩酸/クロロホルム、臭化水素酸
/酢酸、p−トルエンスルホン酸などの試薬を用いて、
常法に従って行なうことができる。
/酢酸、p−トルエンスルホン酸などの試薬を用いて、
常法に従って行なうことができる。
(vii) R*がアルカロイルメチルのとき、化合物
I[Mは以下のように製造できる。
I[Mは以下のように製造できる。
(以下余白)
[式中、R2、R*′、R1、R2、Y、m、lalお
よびProt−OBは前記と同意義] ■ 本工程は化合物m1のヒドロキシをハロゲン化する
工程である。
よびProt−OBは前記と同意義] ■ 本工程は化合物m1のヒドロキシをハロゲン化する
工程である。
本工程は、反応工程I、第3′工程と同様に行なうこと
ができる。
ができる。
■ 本工程は、化合物匪にアルデヒドを付加的に縮合さ
せて化合物M3を得る工程である。
せて化合物M3を得る工程である。
本工程は、グリニヤー反応の常法に従って行なえばよい
。
。
反応に用いるアルデヒドとして、アセトアルデヒド、プ
ロピオンアルデビド、ブチルアルデヒド、イソブチルア
ルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、
ピバルアルデヒド、ヘキサナール、ヘプタナールまたは
オクタナールなどC,−C,アルデヒドを挙げることが
できる。
ロピオンアルデビド、ブチルアルデヒド、イソブチルア
ルデヒド、バレルアルデヒド、イソバレルアルデヒド、
ピバルアルデヒド、ヘキサナール、ヘプタナールまたは
オクタナールなどC,−C,アルデヒドを挙げることが
できる。
■ 本工程は、化合物邦のヒドロキシを保護する工程で
ある。
ある。
通常ヒドロキシ保護基として用いられているもので保護
すればよい。
すればよい。
トリアリールメチル(例えば、トリチルなど)アロイル
(例えばベンゾイルなど)を導入する場合には、対応す
るハロゲン化物(例えば、トリチルクロライド、トリチ
ルブロマイドまたはベンゾイルクロライドなど)を塩基
(例えば、ピリジン、トリエチルアミンなど)存在下に
反応させればよい。
(例えばベンゾイルなど)を導入する場合には、対応す
るハロゲン化物(例えば、トリチルクロライド、トリチ
ルブロマイドまたはベンゾイルクロライドなど)を塩基
(例えば、ピリジン、トリエチルアミンなど)存在下に
反応させればよい。
トリアルキルシリル(例えば、トリメチルシリルまたは
tart−ブチルジメチルシリルなど)を導入する場合
には、トリアルキルクロロシラン(例えば、トリメチル
クロロシランまたはtart −ブチルジメチルクロロ
シラン)を塩基(例えば、ピリジン)存在下に反応させ
ればよい。
tart−ブチルジメチルシリルなど)を導入する場合
には、トリアルキルクロロシラン(例えば、トリメチル
クロロシランまたはtart −ブチルジメチルクロロ
シラン)を塩基(例えば、ピリジン)存在下に反応させ
ればよい。
■ 本工程は、化合物旧を開裂して化合物基5を得る工
程である。
程である。
反応は、微量の臭化水素酸を含む、N−プロモフハク酸
の水性懸濁液で処理することにより行なうことができる
。
の水性懸濁液で処理することにより行なうことができる
。
■ 本工程は、化合物M5のヒドロキシを所望の側鎖に
変換する工程である。
変換する工程である。
本工程は、(i)、(ii)−〇または(iv)−■、
■と同様に行なうことができる。
■と同様に行なうことができる。
■ 本工程は、化合物M6を塩基加水分解して、化合物
M7を得る工程である。
M7を得る工程である。
反応は、塩基触媒として、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化バリウムなどを用いて、水またはアルコ
ール系溶媒(例えば、メタノール、エタノールなど)中
、常法に従って行なうことができる。
リウム、水酸化バリウムなどを用いて、水またはアルコ
ール系溶媒(例えば、メタノール、エタノールなど)中
、常法に従って行なうことができる。
■ 本工程は、化合物Uのヒドロキシをアミンに変換す
る工程である。
る工程である。
本工程は、反応工程!、第1工程と同様に行なうこと、
ができる。
ができる。
■ 本工程は、化合物邸をスルホニル化して、スルホン
アミド誘導体M9を得る工程である。
アミド誘導体M9を得る工程である。
本工程は、反応工程11第2工程と同様に行なうことが
できる。
できる。
■ 本工程は、化合物間のヒドロキシ保護基を除去する
工程である。
工程である。
脱保護反応は、ヒドロキシ保護基が、トリアリールメチ
ルの場合には、酸処理、トリアルキルジノルの場合には
、酢酸処理またはテトラヒドロフラン中のテトラ−n−
ブチルアンモニウムフルオライド処理、アロイルの場合
には、触媒として、メトキシドナトリウムなどの塩基物
質を用いた加水分解などにより行なうことができる。
ルの場合には、酸処理、トリアルキルジノルの場合には
、酢酸処理またはテトラヒドロフラン中のテトラ−n−
ブチルアンモニウムフルオライド処理、アロイルの場合
には、触媒として、メトキシドナトリウムなどの塩基物
質を用いた加水分解などにより行なうことができる。
0 本工程は、化合物■のヒドロキシをカルボニルに酸
化する工程である。
化する工程である。
酸化剤としては、クロム酸系のジョーンズ試薬、フリン
ズ試薬、ピリジウム・クロロクロメート、ピリジニウム
・ジクロメートを用いるかまたはジメチルスルホキシド
と三酸化硫黄、無水トリフルオロ酢酸、無水メタンスル
ホン酸、塩化チオニルもしくは塩化オキザリルとを組み
合わせて用いるとよい、ジメチルスルホキシドを酸化剤
として使用するときは、分解剤として三級アミンのトノ
エチルアミン、ピリジンなどを用いるとよい。
ズ試薬、ピリジウム・クロロクロメート、ピリジニウム
・ジクロメートを用いるかまたはジメチルスルホキシド
と三酸化硫黄、無水トリフルオロ酢酸、無水メタンスル
ホン酸、塩化チオニルもしくは塩化オキザリルとを組み
合わせて用いるとよい、ジメチルスルホキシドを酸化剤
として使用するときは、分解剤として三級アミンのトノ
エチルアミン、ピリジンなどを用いるとよい。
溶媒として、試薬の性質に応じて、塩素化炭化水1系(
7)クロロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のジエ
チルエーテル、テトラヒドロフランまたはジメチルホル
ムアミドなどを用いるとよい0反応は冷却下または室温
で数時間で達成することができる。
7)クロロホルム、ジクロロメタン、エーテル系のジエ
チルエーテル、テトラヒドロフランまたはジメチルホル
ムアミドなどを用いるとよい0反応は冷却下または室温
で数時間で達成することができる。
(viii) R*がシアンメチルのとき、化合物」は
以下のように製造できる。
以下のように製造できる。
[式中、R3およびYは前記と同意義]■ 本工程は、
化合物n1のヒドロキシを所望の側鎖に変換する工程で
ある。
化合物n1のヒドロキシを所望の側鎖に変換する工程で
ある。
本工程は、(i)、(11)−■または(iv)−〇、
■と同様に行なうことができる。
■と同様に行なうことができる。
■ 本工程は、化合物ソのアセタールを開裂して化合物
N3を得る工程である。
N3を得る工程である。
本工程は、N−ブロモコハク酸イミドを用いて、塩素化
淡化水素系溶媒(例えば、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロロメタン)中、数時間加熱することにより行なう
ことができる。
淡化水素系溶媒(例えば、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロロメタン)中、数時間加熱することにより行なう
ことができる。
■ 本工程は、化合物N3をシアノ化して化合物旧を得
る工程である。
る工程である。
本工程は、金属シアン化物(例えば、シアン化ナトリウ
ム、シアン化カリウム、シアン化m(I))を用いて、
アセトン、アセトニトリル、ピリジン、エチルエーテル
、ベンゼン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホル
ムアミドなどの溶媒中、加熱下行なうことができる。必
要に応じて、相間移動触媒(クラウンエーテル(1B−
クラウン−6)またはテトラエチルアンモニウムシアニ
ドなど)を用いてもよい。
ム、シアン化カリウム、シアン化m(I))を用いて、
アセトン、アセトニトリル、ピリジン、エチルエーテル
、ベンゼン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホル
ムアミドなどの溶媒中、加熱下行なうことができる。必
要に応じて、相間移動触媒(クラウンエーテル(1B−
クラウン−6)またはテトラエチルアンモニウムシアニ
ドなど)を用いてもよい。
■ 本工程は、安息香酸エステルN4を加水分解して、
アルコールVNを得る工程である。
アルコールVNを得る工程である。
本工程は、(vii)−〇と同様に、塩基加水分解の常
法に従って行なうことができる。
法に従って行なうことができる。
以下に参考例および実施例を示して、本発明をさらに具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
ない。
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
ない。
出発物質として、例えば、下記化合物を用いる。
2−メトキシ−3−オクタデジルカルバモイルオキレシ
プロビルアミン 7]、 3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロパツール[G
er. Offen. DE 3,204.735]、
3−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシプロパツール[
シマズ(Shimazu)ら、ケミカル・アンド・ファ
ーマシューティカル・プルチン( Chew. Pha
rm. Bull. 、第30巻、3260頁、198
2年) β−メチル−α7−ベンジリデングリコール[ピー・イ
ー・ベルカブ(P.E.Verkade)ら、ジJw−
ナル・才プ・ザ・ロイヤル・ネーデルランズ・ケミカル
・ソサエティー(Reel. Tray。
プロビルアミン 7]、 3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロパツール[G
er. Offen. DE 3,204.735]、
3−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシプロパツール[
シマズ(Shimazu)ら、ケミカル・アンド・ファ
ーマシューティカル・プルチン( Chew. Pha
rm. Bull. 、第30巻、3260頁、198
2年) β−メチル−α7−ベンジリデングリコール[ピー・イ
ー・ベルカブ(P.E.Verkade)ら、ジJw−
ナル・才プ・ザ・ロイヤル・ネーデルランズ・ケミカル
・ソサエティー(Reel. Tray。
Chem. Pays.−Bas.)、第61巻、83
1頁、1942年)、 2−ヘキサデシルチオメチル−2−ヒドロキシメチルテ
トラヒドロフラン( USP 792095 )、2−
ヒドロキシメチル−2−オクタデジルカルバモイルメチ
ルテトラヒドロフラン( USP 792095)、 1−ヘキサデシルチオ−3−トリチルオキシ−2−プロ
パツール[ジャーナル・才ブ・ザ・メディシナル・ケミ
ストリー( J. Med. Chew. 、第31巻
、410頁、1988年]、 1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トノチルオ
キシ−2−プロパツール[ジャーナル・才ブ・ザ・メデ
ィシナル・ケミストリー〇。
1頁、1942年)、 2−ヘキサデシルチオメチル−2−ヒドロキシメチルテ
トラヒドロフラン( USP 792095 )、2−
ヒドロキシメチル−2−オクタデジルカルバモイルメチ
ルテトラヒドロフラン( USP 792095)、 1−ヘキサデシルチオ−3−トリチルオキシ−2−プロ
パツール[ジャーナル・才ブ・ザ・メディシナル・ケミ
ストリー( J. Med. Chew. 、第31巻
、410頁、1988年]、 1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トノチルオ
キシ−2−プロパツール[ジャーナル・才ブ・ザ・メデ
ィシナル・ケミストリー〇。
Mad. Chem.、第31巻、410頁、1988
年]、 N−トリチルセリンメチルエステル[テトラヘドロン・
レターズ(τatrahedron Letters
)、第22巻、491頁、1981年]、 4−ヒドロキシメチル−2−フェニル−2−オキサシリ
ン[ジャーナル・才ブ・デイ・オルガニック・ケミスト
リー( J. Org. Chem. )、第48巻、
1197頁、1983年]、 3−トリチルオキシ−1.2−プロパンジオール[ (
ChefIl. Ber. 、第94巻、812頁、
1961年]、 3−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパツ
ール[特開昭58−10592コ、3−ヘキサデシルチ
オ−2−メトキシメチルプロピルアミン[特開昭57−
982911、2−メトキシメチル−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロパノール[特開昭58−105
92]、および 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1.3−ジオキ
サン[リピッズ(Lipids)、第22巻、11号、
947−951頁、1987年]。
年]、 N−トリチルセリンメチルエステル[テトラヘドロン・
レターズ(τatrahedron Letters
)、第22巻、491頁、1981年]、 4−ヒドロキシメチル−2−フェニル−2−オキサシリ
ン[ジャーナル・才ブ・デイ・オルガニック・ケミスト
リー( J. Org. Chem. )、第48巻、
1197頁、1983年]、 3−トリチルオキシ−1.2−プロパンジオール[ (
ChefIl. Ber. 、第94巻、812頁、
1961年]、 3−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパツ
ール[特開昭58−10592コ、3−ヘキサデシルチ
オ−2−メトキシメチルプロピルアミン[特開昭57−
982911、2−メトキシメチル−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロパノール[特開昭58−105
92]、および 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1.3−ジオキ
サン[リピッズ(Lipids)、第22巻、11号、
947−951頁、1987年]。
(以下余白)
参考例1
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
f[[alの製造 1.2g(3mM)の2−メトキシ−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロピルアミンIVal[特開昭6
0−243047記載化合物]を24m1のジクロロメ
タンと0.54m1(3,9mM)のトリエチルアミン
に溶解し、水冷下、その混合物に0.401m1(3,
3mM)の3−クロロプロパンスルホニルクロライドを
加え、室温で一晩攪拌する6反応液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、食塩水でfc浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エ
チル(3: 2)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより分離精製し、クロロホルム
−n−ヘキサンより再結晶して、3−(3−クロロプロ
ピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデ
シル力ルノ(モイルオキシプロパンl虹1.386g(
2,56mM)が無色粉末で得られる。収率85%。
トキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
f[[alの製造 1.2g(3mM)の2−メトキシ−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロピルアミンIVal[特開昭6
0−243047記載化合物]を24m1のジクロロメ
タンと0.54m1(3,9mM)のトリエチルアミン
に溶解し、水冷下、その混合物に0.401m1(3,
3mM)の3−クロロプロパンスルホニルクロライドを
加え、室温で一晩攪拌する6反応液を炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、食塩水でfc浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エ
チル(3: 2)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより分離精製し、クロロホルム
−n−ヘキサンより再結晶して、3−(3−クロロプロ
ピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデ
シル力ルノ(モイルオキシプロパンl虹1.386g(
2,56mM)が無色粉末で得られる。収率85%。
NMRSS ppm (CDCIn) 0.86(t、
3H)、 1.24(s、30H)。
3H)、 1.24(s、30H)。
1.58(m、2H)、 2.1〜2.5(m、2H)
、 2.9〜3.6(m、7H)。
、 2.9〜3.6(m、7H)。
3.44(s、3H)、 3.67(t、2H,J=6
.0Hz)、 4.18(m、 2H)。
.0Hz)、 4.18(m、 2H)。
4.87(m、IH)、 5.10(m、IH)。
IRニジmax(CHCIs) 3445.2920.
2850.1715゜1510、1460.1330.
1220.1145 am−’元素分析(Cfi @H
s 5oiN*5c1)計算値(%) C57,70,
H9,87,N 5.18. S 5.92゜C16,
55゜ 実験値(%) C57,51,H9,84,N 5.3
4. S 5.95゜C16,82゜ MS: 540(M”、 C13’)。
2850.1715゜1510、1460.1330.
1220.1145 am−’元素分析(Cfi @H
s 5oiN*5c1)計算値(%) C57,70,
H9,87,N 5.18. S 5.92゜C16,
55゜ 実験値(%) C57,51,H9,84,N 5.3
4. S 5.95゜C16,82゜ MS: 540(M”、 C13’)。
mp、:64.5〜66℃。
(以下余白)
参考例2
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルレバモイルオキシプロパ
ン IIalの製造 972mg(1,8mM)の3−(3−りcoロプロピ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン、!」1を10m1のメ
チルエチルケトンに溶解し、500mg(3,38mM
)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶
媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢際エチル(1
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、クロロホルム−n−ヘキ
サンにより再結晶して3−(3−ヨードプロピルスルホ
ニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン IIalを972mg(1,5
4mM)得る。収率86%。
トキシ−1−オクタデジルカルレバモイルオキシプロパ
ン IIalの製造 972mg(1,8mM)の3−(3−りcoロプロピ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン、!」1を10m1のメ
チルエチルケトンに溶解し、500mg(3,38mM
)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶
媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢際エチル(1
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、クロロホルム−n−ヘキ
サンにより再結晶して3−(3−ヨードプロピルスルホ
ニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン IIalを972mg(1,5
4mM)得る。収率86%。
NMR:Sppm (CDC1,) 0.88(t、3
H)、 1.26(s、30H)。
H)、 1.26(s、30H)。
1.5(m、2H)、 2.2!r2.40(m、2H
)、 3.1〜3.3(m、4H)。
)、 3.1〜3.3(m、4H)。
3.31(t、2H,J=6.6Hz)、 3.46(
s、38)、 3.50(m、LH)。
s、38)、 3.50(m、LH)。
4.05〜4.30(m、2H)、 4.83(m、I
H)、 5.00(t、LH。
H)、 5.00(t、LH。
J=6Hz)。
IRニジmax(CHClm) 3450.2940.
2855,1725゜1510、1470.1335.
1230.1145 cm−’元素分析(C**Hss
OsN*SI)計算値(X) C49,12,H8,4
4,N 4.56. S 5.34゜1 20.08゜ 実験値(X) C49,36,H8,44,N 4.4
3. S 5.07゜I 2G、10゜ MS: 505(M−I)”。
2855,1725゜1510、1470.1335.
1230.1145 cm−’元素分析(C**Hss
OsN*SI)計算値(X) C49,12,H8,4
4,N 4.56. S 5.34゜1 20.08゜ 実験値(X) C49,36,H8,44,N 4.4
3. S 5.07゜I 2G、10゜ MS: 505(M−I)”。
mp、 :61.5〜62.5℃。
(以下余白)
実施例1
2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−
3−(3−トリメチルアンモニオスルホニルアミノ)プ
ロパンクロライド Ialの製造420mg(0,77
6mM)の3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ
)−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキ
シプロパン1[[alを10m1のトリメチルアミン−
トルエン溶液(10ml/25m1)に溶解し、封管中
、120℃で24時間加熱する。溶媒を留去し、アヒト
ンーエーテルで数回洗った後、HP−20を使用したカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して、2−メトキシ
−1−オクタデジルカルバリモイルオキシ− ホニルアミノ)プロパンクロライド−Ia150mgを
得る.収率11%。
3−(3−トリメチルアンモニオスルホニルアミノ)プ
ロパンクロライド Ialの製造420mg(0,77
6mM)の3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ
)−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキ
シプロパン1[[alを10m1のトリメチルアミン−
トルエン溶液(10ml/25m1)に溶解し、封管中
、120℃で24時間加熱する。溶媒を留去し、アヒト
ンーエーテルで数回洗った後、HP−20を使用したカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して、2−メトキシ
−1−オクタデジルカルバリモイルオキシ− ホニルアミノ)プロパンクロライド−Ia150mgを
得る.収率11%。
NMR:Sppm (CDC1.) 0.86(t.3
H)、 1.25(s.30H)。
H)、 1.25(s.30H)。
1、4〜1.6(m.2H)、 2.0〜2.5(m
.2H)、 3.20(s.3H)。
.2H)、 3.20(s.3H)。
3、0〜3.4(m.6H)、 3.46(s.3H
)、 3.4〜3.8(m.3H)。
)、 3.4〜3.8(m.3H)。
4、 15(m. 2H)。
IR:l/max(CHCIs) 3450. 2
925. 2850, 1710。
925. 2850, 1710。
1460、 1320. 1220. 1140
am−’元素分析<C**Hm*OsNsSC1・1
.511jO)計算値(X) C 55.52. H
10.44, N 6.70. S 5.11。
am−’元素分析<C**Hm*OsNsSC1・1
.511jO)計算値(X) C 55.52. H
10.44, N 6.70. S 5.11。
Cl 5.65。
実験値(X) C 55.49. H 10.42.
N 6.78. S 4.85。
N 6.78. S 4.85。
Cl 5.78。
mp.:60〜62℃。
実施例2
2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
ルアミノ)プロパン ヨーダイト−In2の製造240
mg(0.38mM)の3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン11alを2mlのチアゾール
に溶解し、50°Cで一晩攪拌する.チアゾールを留去
した後、ジクロロメタン−アセトンより再結晶して2−
メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−
(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパ’
/ヨーダイト−1a2 150mg(0.209mM)
を得る.収率55%。
mg(0.38mM)の3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン11alを2mlのチアゾール
に溶解し、50°Cで一晩攪拌する.チアゾールを留去
した後、ジクロロメタン−アセトンより再結晶して2−
メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−
(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパ’
/ヨーダイト−1a2 150mg(0.209mM)
を得る.収率55%。
NMR :Sppm (d6−DMSO) 0.6(t
.3H)、 t.24(s。
.3H)、 t.24(s。
30H)、 1.36(m.2H)、 2.2〜2.4
(m.2H)、 2.9〜3.2(m。
(m.2H)、 2.9〜3.2(m。
6H)、 3.2(s.3H)、 3.3〜3.45(
m.IH)、 3.80〜4.15(m。
m.IH)、 3.80〜4.15(m。
2H)、 4.67(t,2H.J=7.2Hz)、
7.15(t.LH.J=5.6Hz)。
7.15(t.LH.J=5.6Hz)。
7、33(t.LH.J:5.8Hz>、 8.35〜
8.42(m.LH)、 8.60(d。
8.42(m.LH)、 8.60(d。
ILJ:3.8)1z)、 10.20(s.IH)。
IRニジmax(KBr) 3360. 2925.
2855, 1685。
2855, 1685。
1565、 1470, 1310. 1280. 1
145. 1130 cm”(以下余白) 元素分析(C**HisOaNsS*I・0. 2HI
O>計算値(%) C 48.28. H 7.88,
N 5.82. S 8.89。
145. 1130 cm”(以下余白) 元素分析(C**HisOaNsS*I・0. 2HI
O>計算値(%) C 48.28. H 7.88,
N 5.82. S 8.89。
I 17.59。
実験値(X) C 48.37. H 7.8B. N
6.00. S 9.22。
6.00. S 9.22。
I L7.38
mp.: 116〜118°C(分解)。
実施例3〜7
次の第1表に示すように、実施例2の方法と同様にして
化合物malから本発明化合物を得る。
化合物malから本発明化合物を得る。
ただし、アミンを留去したあとの残渣を実施例4ではn
−ヘキサンで、実施例5および実施例6ではエチルエー
テルでそれぞれ洗う。
−ヘキサンで、実施例5および実施例6ではエチルエー
テルでそれぞれ洗う。
(以下余白)
参考例3
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロピルアミンI
Va2の製造 4.356g(12,57mM)の3−ヘキサデシルチ
オ−2−メトキシプロパツールVa2、[西ドイツ特許
(Ger、 0ffen、 DE) 3 、204 、
735記載化合物コ3.7g(25,14mM)のフタ
ルイミド、6.59g(25,14mM)のトノフェニ
ルホスフィンを150m1のテトラヒドロフランに溶解
し、水冷下、4.37g(25゜14mM)のジエチル
アゾジカルポキシレートを滴下し室温で3日間攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
−クロロホルム(9:1:1)混液を溶出溶媒とするシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、
ジクロロメタン−n−ヘキサンより再沈して、フタルイ
ミド体4.9g(10,23mM)を得る。
Va2の製造 4.356g(12,57mM)の3−ヘキサデシルチ
オ−2−メトキシプロパツールVa2、[西ドイツ特許
(Ger、 0ffen、 DE) 3 、204 、
735記載化合物コ3.7g(25,14mM)のフタ
ルイミド、6.59g(25,14mM)のトノフェニ
ルホスフィンを150m1のテトラヒドロフランに溶解
し、水冷下、4.37g(25゜14mM)のジエチル
アゾジカルポキシレートを滴下し室温で3日間攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
−クロロホルム(9:1:1)混液を溶出溶媒とするシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、
ジクロロメタン−n−ヘキサンより再沈して、フタルイ
ミド体4.9g(10,23mM)を得る。
収率82%。
4.678g(9,83mM)のフタルイミド体を10
0m1のメタノールに溶解し、0.54g(10,79
mM)のヒドラジン−1水和物を加え5時間加熱攪拌す
る。溶媒を留去した後、残渣にクロロホルムを加え、セ
ライト濾過し不溶物ヲ除キ、クロロホルム−メタノール
(20:1〜9:1)混液(0,2%トリエチルアミン
)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製し、2.98g(8,622mM)の
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロピルアミンI
Va2を得る。収率88%。
0m1のメタノールに溶解し、0.54g(10,79
mM)のヒドラジン−1水和物を加え5時間加熱攪拌す
る。溶媒を留去した後、残渣にクロロホルムを加え、セ
ライト濾過し不溶物ヲ除キ、クロロホルム−メタノール
(20:1〜9:1)混液(0,2%トリエチルアミン
)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製し、2.98g(8,622mM)の
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロピルアミンI
Va2を得る。収率88%。
NMR:Sppm(CDC1,) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.6(m、2B)、 2.5〜3.0(m、6H)、
3.30(m、IH)、 3.43(s、 3H)。
3.30(m、IH)、 3.43(s、 3H)。
IRニジmax(CHCIs> 3380.2930.
2850,1465゜1380、1230.1110
allMS: 346(MW”)。
2850,1465゜1380、1230.1110
allMS: 346(MW”)。
参考例4
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘ
キサデシルチオ−2−メトキシプロパン1[[a2の製
造 1.018g(2,95mM)の3−ヘキサデシルチオ
−2−メトキシプロピルアミンIVa2を15m1のジ
クロロメタンと0.534m1(3,83mM)のトリ
エチルアミンに溶解し、水冷下、その混合物に0.56
3mg(3,24mM)の3−クロロプロパンスルホニ
ルクロライドを加え、O″Cで3時間攪拌する。溶媒を
留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1
)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトクラ
フィーにより分離精製し、クロロホルム−n−ヘキサン
により再沈して、3−(3−クロロプロピルスルホニル
アミン)−1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロパ
ン封t、275g(2,62mM)が無色粉末で得られ
る。
キサデシルチオ−2−メトキシプロパン1[[a2の製
造 1.018g(2,95mM)の3−ヘキサデシルチオ
−2−メトキシプロピルアミンIVa2を15m1のジ
クロロメタンと0.534m1(3,83mM)のトリ
エチルアミンに溶解し、水冷下、その混合物に0.56
3mg(3,24mM)の3−クロロプロパンスルホニ
ルクロライドを加え、O″Cで3時間攪拌する。溶媒を
留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1
)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトクラ
フィーにより分離精製し、クロロホルム−n−ヘキサン
により再沈して、3−(3−クロロプロピルスルホニル
アミン)−1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシプロパ
ン封t、275g(2,62mM)が無色粉末で得られ
る。
収率89%。
NMR:Sppm(CDCIs) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.6(m、2H)、 2.2〜2.4(m、2H)、
2.55(t、2H。
2.55(t、2H。
J=7.41(z)、 2.53〜2.80(m、2H
)、 3.10〜3.30(m、3H)。
)、 3.10〜3.30(m、3H)。
3.42(s、3H)、 3.4=3.6(m、2H)
、 3.69(t、2H。
、 3.69(t、2H。
J:6.2Hz)、 4.70(t、IH,J’6Hz
)。
)。
IRニジmax(CHCIg) 3380.2930.
2g50.1470゜1410、1330.1150.
1095 cm−’元素分析(CmsH−aOsNs*
c1)計算値(X): C56,82,H9,95,N
2.88. S 13.19゜CI 7.29゜ 実験値<%>: C56,76、H9,89,N 3.
18. S 12.94゜C17,1g。
2g50.1470゜1410、1330.1150.
1095 cm−’元素分析(CmsH−aOsNs*
c1)計算値(X): C56,82,H9,95,N
2.88. S 13.19゜CI 7.29゜ 実験値<%>: C56,76、H9,89,N 3.
18. S 12.94゜C17,1g。
M5: 485(M”、 C1”)。
mp、:49〜50℃。
(以下余白)
参考例5
1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−メトキシプロパン11a2の製造 t、03g(2,12mM)の3−(3−クロロプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルチオ−2−メ
トキシプロパン IIra2を20m!のメチルエチル
ケトンに溶解し、636mg(4,24mM)のヨウ化
ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶媒を留去し
た後、残渣をn −ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製して、1−ヘキサデシルチオ−3−(
3−ヨードフロビルスルホニルアミノ)−2−メトキシ
フロパン 1[a2を油状物質として1.06g (
1,835mM)得る。収率87%。
ホニルアミノ)−2−メトキシプロパン11a2の製造 t、03g(2,12mM)の3−(3−クロロプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルチオ−2−メ
トキシプロパン IIra2を20m!のメチルエチル
ケトンに溶解し、636mg(4,24mM)のヨウ化
ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶媒を留去し
た後、残渣をn −ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製して、1−ヘキサデシルチオ−3−(
3−ヨードフロビルスルホニルアミノ)−2−メトキシ
フロパン 1[a2を油状物質として1.06g (
1,835mM)得る。収率87%。
NMR:sppm(CDCIj) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.6(m、2H)、 2.22〜2.40(m、2
H)、 2.55(t、2H。
H)、 2.55(t、2H。
J=7.4Hz)、 2.53〜2.81(m、2H
)、 3.11−3.26(m、3H)。
)、 3.11−3.26(m、3H)。
3.31(t、2H,J=6.6Hz>、 3.43
(s、3H)、 3.41〜3.56(m、LH)、
4.65(t、IH,J=6)1z)。
(s、3H)、 3.41〜3.56(m、LH)、
4.65(t、IH,J=6)1z)。
IRニジmax(CHCIm) 3370. 2920
. 2850. 1460゜1405、 1325.
1145. 1090 am−’元素分析CC* sH
a aosNsmI)計算値C%’): C47,82
,H8,38,N 2.42. S Ll、10゜I
21.97゜ 実験値C%>: C47,62,H8,28,N 2.
50. S Ll、09゜I 22.18゜ MS: 577(M”)。
. 2850. 1460゜1405、 1325.
1145. 1090 am−’元素分析CC* sH
a aosNsmI)計算値C%’): C47,82
,H8,38,N 2.42. S Ll、10゜I
21.97゜ 実験値C%>: C47,62,H8,28,N 2.
50. S Ll、09゜I 22.18゜ MS: 577(M”)。
実施例8
1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシ−3−(3−トリ
メチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン
ヨーダイト1蛯の製造 500mg(0,866mM)の1−ヘキサデシルチオ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシプロパン Ira2を10m1のトリメチルア
ミン−トルエン溶液(10ml/ 25 m l )に
溶解し、封管中室温で24時間放置する。溶媒を留去し
、残渣をクロロホルム−メタノール(5:1〜3:1)
混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより分離精製し、ジクロロメタン−n−ヘキサン
より再沈して、1−ヘキサデシルチオ−3−(3−トリ
メチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシプロパン Ia8330mg(0,518mM)
を得る。収率60%。
メチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン
ヨーダイト1蛯の製造 500mg(0,866mM)の1−ヘキサデシルチオ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシプロパン Ira2を10m1のトリメチルア
ミン−トルエン溶液(10ml/ 25 m l )に
溶解し、封管中室温で24時間放置する。溶媒を留去し
、残渣をクロロホルム−メタノール(5:1〜3:1)
混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより分離精製し、ジクロロメタン−n−ヘキサン
より再沈して、1−ヘキサデシルチオ−3−(3−トリ
メチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシプロパン Ia8330mg(0,518mM)
を得る。収率60%。
NMR:8ppm(CDC1s) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.58(m、2H)、 2.3〜2.5(m、2H)
、 2.56(t、2H。
、 2.56(t、2H。
J=7.2Hz)、 2.72(d、2)1.J−5,
81(z)、 3.20〜3.65(m。
81(z)、 3.20〜3.65(m。
5H)、 3.43(s、9H)、 3.45(s、3
8)、 3.85〜3.93(m。
8)、 3.85〜3.93(m。
2H)、 6.20(t、LH,J=6Hz>。
IRニジmax(CHCl、> 3375.2925.
2850.1470゜1330、1230.1150.
1090.1055.1030 cm−’mp、:69
〜71 ℃。
2850.1470゜1330、1230.1150.
1090.1055.1030 cm−’mp、:69
〜71 ℃。
元素分析(Cm Ja yOJ*stI・0.4H,O
)計算値(X): C48,49,H9,05,N 4
.35. S 9.96゜I 19゜71゜ 実勢値C%’): C48,66、H8,85,N 4
.47. S 10.19゜I 19.47゜ 実施例9 1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシ−3−(3−チア
ゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト
In2の製造 600mg(1,04mM)の1−ヘキサデシルチオ−
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシプロパンを5mlのチアゾールに溶解し、60℃
で6時間攪拌する。チアゾールを留去した後、エーテル
で洗い、アセトンより再沈して1−ヘキサデシルチオ−
2−メトキシ−3−(3−チアゾリオプロピルスルホニ
ルアミノ)プロパンヨーダイト Ia9387mg(0
゜5841TIM)を得る。収率56%。
)計算値(X): C48,49,H9,05,N 4
.35. S 9.96゜I 19゜71゜ 実勢値C%’): C48,66、H8,85,N 4
.47. S 10.19゜I 19.47゜ 実施例9 1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシ−3−(3−チア
ゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト
In2の製造 600mg(1,04mM)の1−ヘキサデシルチオ−
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシプロパンを5mlのチアゾールに溶解し、60℃
で6時間攪拌する。チアゾールを留去した後、エーテル
で洗い、アセトンより再沈して1−ヘキサデシルチオ−
2−メトキシ−3−(3−チアゾリオプロピルスルホニ
ルアミノ)プロパンヨーダイト Ia9387mg(0
゜5841TIM)を得る。収率56%。
NMRr8 ppm(CDCIm) 0.88(t、3
H)、 1.26(s、26H)。
H)、 1.26(s、26H)。
1.58(m、2H)、 2.55(t、2H,J=7
.3Hz)、 2.70(d、2H,J=5.6Hz)
、 2.5〜2.7(m、2H)、 3.1〜3.5(
m、4H)、 3.43(s、38)、 3.55(m
、IH)、 5.04(t、2H,J=7.4Hz)、
6.26(t、l)1.J=6Hz)、 8.29〜
8.32(m、LH)、 8.72−8.75(m。
.3Hz)、 2.70(d、2H,J=5.6Hz)
、 2.5〜2.7(m、2H)、 3.1〜3.5(
m、4H)、 3.43(s、38)、 3.55(m
、IH)、 5.04(t、2H,J=7.4Hz)、
6.26(t、l)1.J=6Hz)、 8.29〜
8.32(m、LH)、 8.72−8.75(m。
IH)、 10.59−10.60(m、IH)。
IR:I、+max(CHClm)3375.2930
.2850.1460゜1325、1220.1140
.1090 cm−’元素分析(C* −Ha 1Os
NsSsI・O,IHIO)計算値(x>: C46,
99,H7,76、N 4.21. S 14.47゜
I 19.1G。
.2850.1460゜1325、1220.1140
.1090 cm−’元素分析(C* −Ha 1Os
NsSsI・O,IHIO)計算値(x>: C46,
99,H7,76、N 4.21. S 14.47゜
I 19.1G。
実験値(X)二C46,79゜t(7,71,N 4.
25. S L4.42゜I 19.01゜ mp、ニア0〜73℃。
25. S L4.42゜I 19.01゜ mp、ニア0〜73℃。
参考例6
3−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシプロピルアミン
IVa3の製造 8.26g(25mM)の3−ヘキサデシルオキシ−2
−メトキシプロパツールV a3[津島ら、ケミカル・
ファーマシューテイカル・ブリチン(CheIIl、
Pharm、 Bull、)、第30巻、3260頁、
1982年に記載化合物]、7.35g(50mM)の
フタルイミド、13.1g(50mM)のトリフェニル
ホスフィンを300m1のテトラヒドロフランに溶解し
、水冷下、8.7g(50mM)のジエチルアゾジカル
ボキシレートを滴下し、室温で3日間攪拌する。溶媒を
留去した後、ffEiをn−ヘキサン−酢酸エチル−ク
ロロホルム(9:1:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、n−
ヘキサンより再沈して、フタルイミド体10.142g
(22,06mM)を得る。
IVa3の製造 8.26g(25mM)の3−ヘキサデシルオキシ−2
−メトキシプロパツールV a3[津島ら、ケミカル・
ファーマシューテイカル・ブリチン(CheIIl、
Pharm、 Bull、)、第30巻、3260頁、
1982年に記載化合物]、7.35g(50mM)の
フタルイミド、13.1g(50mM)のトリフェニル
ホスフィンを300m1のテトラヒドロフランに溶解し
、水冷下、8.7g(50mM)のジエチルアゾジカル
ボキシレートを滴下し、室温で3日間攪拌する。溶媒を
留去した後、ffEiをn−ヘキサン−酢酸エチル−ク
ロロホルム(9:1:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、n−
ヘキサンより再沈して、フタルイミド体10.142g
(22,06mM)を得る。
収率88%。
10.142g(22,06mM)のフタルイミド体を
200m1のメタノールに溶解し、1.47gC29,
4mM)のヒドラジン−1水和物を加λ、5時間加熱攪
拌する。溶媒を留去した後、残渣にクロロホルムを加え
セライト濾去し不溶物を除き、クロロホルム−メタノー
ル(5:1)混液(0,2%トリエチルアミン)を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製し、5.523g(16,76mM)の3−ヘ
キサデシルオキシ−2−メトキシプロピルアミンLりを
得る。収率76%。
200m1のメタノールに溶解し、1.47gC29,
4mM)のヒドラジン−1水和物を加λ、5時間加熱攪
拌する。溶媒を留去した後、残渣にクロロホルムを加え
セライト濾去し不溶物を除き、クロロホルム−メタノー
ル(5:1)混液(0,2%トリエチルアミン)を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製し、5.523g(16,76mM)の3−ヘ
キサデシルオキシ−2−メトキシプロピルアミンLりを
得る。収率76%。
NMR:Sppm(CDCIs) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.58(m、2H)、 2.70〜2.96(m、6
H)、 3.33(m、IH)。
H)、 3.33(m、IH)。
3.45(s、3H)、 3.4(1−3,60(m、
6H)。
6H)。
IRニジmax(CHCI−) 3380.2920.
2845.1580゜1465、1360.1240.
1115.860 crt−’MS: 330 (M)
1”)。
2845.1580゜1465、1360.1240.
1115.860 crt−’MS: 330 (M)
1”)。
(以下余白)
参考例7
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘ
キサデシルオキシ−2−メトキシプロパンlすの製造 3.368g(10,22mM)の3−ヘキサデシルオ
キシ−2−メトキシプロピルアミンを35m1のジクロ
ロメタンと1.85m1(13゜29mM)のトリエチ
ルアミンに溶解し、水冷下、その混合物に1.99g(
11,24mM)の3−クロロプロパンスルホニルクロ
ライドを加え、室温で4時間攪拌し、きらに30分加熱
攪拌する。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢
酸エチル(3:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより分離精製し、メタノール
より再沈して、3−(3−クロロプロピルスルホニルア
ミノ)−1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシプロパ
ンI[[a34.15g(s、827mM)が無色粉末
で得られる。
キサデシルオキシ−2−メトキシプロパンlすの製造 3.368g(10,22mM)の3−ヘキサデシルオ
キシ−2−メトキシプロピルアミンを35m1のジクロ
ロメタンと1.85m1(13゜29mM)のトリエチ
ルアミンに溶解し、水冷下、その混合物に1.99g(
11,24mM)の3−クロロプロパンスルホニルクロ
ライドを加え、室温で4時間攪拌し、きらに30分加熱
攪拌する。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢
酸エチル(3:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより分離精製し、メタノール
より再沈して、3−(3−クロロプロピルスルホニルア
ミノ)−1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシプロパ
ンI[[a34.15g(s、827mM)が無色粉末
で得られる。
収率86%。
NMR:Sppm(CDC1,) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.56(m、2H)、 2.20〜2.38(m、2
H)、 3.15〜3.60(m。
H)、 3.15〜3.60(m。
9H)、 3.44(s、3H)、 3.68(t、2
H,J:6.2Hz>、 4.79(t、 LH,J=
6Hz)。
H,J:6.2Hz>、 4.79(t、 LH,J=
6Hz)。
IR:l/IIIax(CBCI、) 3375.29
20.2845.1465゜1335、1410.12
65.1145 am”mp、:49〜50℃。
20.2845.1465゜1335、1410.12
65.1145 am”mp、:49〜50℃。
元素分析(c* sH−、O,N5C1)計算値(X)
C58,76、H10,29,N 2.9B、 S
6.82゜C17,54゜ 実験値(X) C58,63,H10,20,N 3.
00. S 6.72゜C17,47゜ MS: 469 (M”、C1”)。
C58,76、H10,29,N 2.9B、 S
6.82゜C17,54゜ 実験値(X) C58,63,H10,20,N 3.
00. S 6.72゜C17,47゜ MS: 469 (M”、C1”)。
(以下余白)
参考例8
1−ヘキサデシルオキシ−3−(3−ヨードプロピルス
ルホニルアミノ)−2−メトキシプロパンlすの製造 3.845(8,18mM)の3−(3−クロロプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルオキシ−2−
メトキシプロパンIIIa3を30m1のメデルエチル
ケトンに溶解し、2.45g(16,36mM)のヨウ
化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶媒を留去
した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製し、メタノールより再沈して、1−ヘ
キサデシルオキシ−3−(3−ヨードプロピルスルホニ
ルアミノ)−2−メトキシプロパン1[a33.556
g(6,332mM)を得る。
ルホニルアミノ)−2−メトキシプロパンlすの製造 3.845(8,18mM)の3−(3−クロロプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルオキシ−2−
メトキシプロパンIIIa3を30m1のメデルエチル
ケトンに溶解し、2.45g(16,36mM)のヨウ
化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。溶媒を留去
した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)混
液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離精製し、メタノールより再沈して、1−ヘ
キサデシルオキシ−3−(3−ヨードプロピルスルホニ
ルアミノ)−2−メトキシプロパン1[a33.556
g(6,332mM)を得る。
収率77%。
HMR:8ppm(CDC1s) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、26H)。
)、 1.26(s、26H)。
1.58(m、2H)、 2.25〜2.40(m、
2H)、 3.1(1〜3.60(m。
2H)、 3.1(1〜3.60(m。
9H)、 3.30(t、2H,J=6.6Hz>、
3.44(s、3H)、 4.81(t、18.
J:6Hz>。
3.44(s、3H)、 4.81(t、18.
J:6Hz>。
IRニジmax(CICIs) 3380. 293
0. 2855. 147G1410.1335.12
70.1150 a1′元素分析(C,、H,、O,N
5I) 計算値(χ)C49,19,H8,61,N 2.49
. S 5.71゜1 22.60゜ 実験値(χ) C49,11,H8,54,N 2.5
3. S 6.00゜I 22.48゜ MS: 562 (M”)。
0. 2855. 147G1410.1335.12
70.1150 a1′元素分析(C,、H,、O,N
5I) 計算値(χ)C49,19,H8,61,N 2.49
. S 5.71゜1 22.60゜ 実験値(χ) C49,11,H8,54,N 2.5
3. S 6.00゜I 22.48゜ MS: 562 (M”)。
mp、:46〜47 ℃。
(以下余白)
実施例10
1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3−(3−)
リメチルアンモニオブロビルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト11匹の製造600mg(1,068mM
)の1−ヘキサデシルオキシ−3−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミン)−2−メトキシプロパン I[a
3を10m1のトリメチルアミン−トルエン溶液(10
ml / 25 m l )に溶解し、封管中室塩で2
4時間放置する。溶媒を留去し、残渣をエーテルで洗っ
て精製し、1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3
−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパンヨーダイト Ia10577mgを得る。
リメチルアンモニオブロビルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト11匹の製造600mg(1,068mM
)の1−ヘキサデシルオキシ−3−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミン)−2−メトキシプロパン I[a
3を10m1のトリメチルアミン−トルエン溶液(10
ml / 25 m l )に溶解し、封管中室塩で2
4時間放置する。溶媒を留去し、残渣をエーテルで洗っ
て精製し、1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3
−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパンヨーダイト Ia10577mgを得る。
収率87%。
NMR:εpp1n(CDCIg ) 0.88(t、
3H)、L 26(s、 26H)。
3H)、L 26(s、 26H)。
1.58(m、2H)、 2.3〜2.5(m、2H
)、 3.15〜3.65(m。
)、 3.15〜3.65(m。
9H)、 3.42(s、9H)、 3.47(s
、3H)、 3.8(1〜3.95(m。
、3H)、 3.8(1〜3.95(m。
2H)、 6.3(t、LH,J=6Hz)。
[R:l/max(CHCIs) 3380. 29
25. 2g50. 1470゜1325.1230.
1145 cm−里元素分析(CsJiyOsNtSI
) 計算値(X) C50,31,H9,26,N 4.5
1. S 5.17゜I 20.44゜ 実験値(X) C50,20,H9,25,N 4.6
3. S 5.29゜I 20.4g。
25. 2g50. 1470゜1325.1230.
1145 cm−里元素分析(CsJiyOsNtSI
) 計算値(X) C50,31,H9,26,N 4.5
1. S 5.17゜I 20.44゜ 実験値(X) C50,20,H9,25,N 4.6
3. S 5.29゜I 20.4g。
mp、 80.5〜82,5℃。
実施例11
1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3−(3−チ
アゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイ
ト1A■の製造 600mg(1,07mM)の1−ヘキサデシルオキシ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシプロパンを5mlのチアゾールに溶解し、50
℃で6時間攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣を
クロロホルム−メタノール(5:1〜3:1)混液を溶
出溶媒をするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製し、エーテル−ジクロロメタンにより再沈し
て1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3−(3−
チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨータ
イド fall 450mg(0,70mM)を得る。
アゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイ
ト1A■の製造 600mg(1,07mM)の1−ヘキサデシルオキシ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシプロパンを5mlのチアゾールに溶解し、50
℃で6時間攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣を
クロロホルム−メタノール(5:1〜3:1)混液を溶
出溶媒をするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製し、エーテル−ジクロロメタンにより再沈し
て1−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ−3−(3−
チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨータ
イド fall 450mg(0,70mM)を得る。
収率66%。
NMR:εppm(DMSO) 0.85(t、3H)
、 1.24(s、26H)。
、 1.24(s、26H)。
1.48(m、2H)、 2.2〜2.4(m、2H)
、 3.31(s、3H)、 2.9〜3.5(m、9
H)、 4.65(t、2H,J=7Hz)、 7.2
6(t、IH。
、 3.31(s、3H)、 2.9〜3.5(m、9
H)、 4.65(t、2H,J=7Hz)、 7.2
6(t、IH。
J=6Hz)、 8.36〜8.39(m、IH)、
8.57〜8.60(m、IH)。
8.57〜8.60(m、IH)。
10、17〜10.20(m、 IH)。
IRニジmax(CHCl、) 3400.2930.
2850.1460゜1320、1220.1140
cm−’mp、 52〜53℃。
2850.1460゜1320、1220.1140
cm−’mp、 52〜53℃。
参考例9
2−メトキシ−1−オクタデシJレカルバモイルオキシ
−3−(3−フェニルセレニルプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパン I[al’の製造1.52g(4,9m
M)のジフェニルジセレニドを25m1の無水エタノー
ルに溶解し、氷冷F、370mg(9,78mM)の水
素化ホウ素ナトリウムを加え30分間攪拌する。その混
合物に0.56m1(9,78mM)の酢酸を加え、更
に、10m1のテトラヒドロフランに溶解した1 、0
3g(1,63mM)の3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパンを加え、室温で1.5時間攪拌
する0反応液に酢酸エチルを加え、IN−塩酸、炭酸水
素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−へキサン
−酢酸エチル(2:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルレバモイルオキシ−3−
(3−フェニルセレニルプロピルスルホニルアミノ)プ
ロパン 1[al’1.06g(1,60mM)が無色
粉末で得られる。
−3−(3−フェニルセレニルプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパン I[al’の製造1.52g(4,9m
M)のジフェニルジセレニドを25m1の無水エタノー
ルに溶解し、氷冷F、370mg(9,78mM)の水
素化ホウ素ナトリウムを加え30分間攪拌する。その混
合物に0.56m1(9,78mM)の酢酸を加え、更
に、10m1のテトラヒドロフランに溶解した1 、0
3g(1,63mM)の3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパンを加え、室温で1.5時間攪拌
する0反応液に酢酸エチルを加え、IN−塩酸、炭酸水
素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−へキサン
−酢酸エチル(2:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルレバモイルオキシ−3−
(3−フェニルセレニルプロピルスルホニルアミノ)プ
ロパン 1[al’1.06g(1,60mM)が無色
粉末で得られる。
収率98%。
聞R:δppm(CDCIn) 0.88(t、3H)
、 1.26(s、30H)。
、 1.26(s、30H)。
1.5(m、2H)、 2.1〜2.24(m、2H)
、 3.01(t、2H,J=7Hz)。
、 3.01(t、2H,J=7Hz)。
3.08〜3.32(m、6H)、 3.42(s、3
H)、 3.46(m、IH)。
H)、 3.46(m、IH)。
4.00〜4.28(m、2H)、 4.73〜4.9
0(m、2H)、 7.24−7.34(m、3H)、
7.45=7.57(m、2H)。
0(m、2H)、 7.24−7.34(m、3H)、
7.45=7.57(m、2H)。
IRニジmax(CHCIs) 3450.2930.
2850.1720゜1515、1460.1330.
1220.1145 cm−’MS: M” 662
(Se@O)。
2850.1720゜1515、1460.1330.
1220.1145 cm−’MS: M” 662
(Se@O)。
(以下余白)
参考例10
2−メトキン−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−
3−(3−プロペンスルホニルアミノ)プロパン■a4
の製造 1.028g(1,553mM)の2−メトキン−1−
才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(3−フェニル
ゼレニルプロビルスルホニルアミノ)プロパンを30m
1のメタノール−ジクロロメタン(5:1)混液に溶解
し、水冷下、0.25m1(3,16mM)のピリジン
と2mlの30%過酸化水素水を加えて室温まで昇温し
5時間攪拌する0反応液に酢酸エチルを加え、食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣に30m1のベンゼンと0.25m1のピリジ
ンを加え、45〜50℃に1時間加熱する。溶媒を留去
した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(2:1〜1
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、ジクロロメタン−n−ヘ
キサンより再結晶して、2−メトキシ−1−オクタデジ
ルカルバモイルオリキシ− ニルアミノ)プロパンWa4624mg(1.2BmM
)が無色結晶で得られる.収率80%。
3−(3−プロペンスルホニルアミノ)プロパン■a4
の製造 1.028g(1,553mM)の2−メトキン−1−
才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(3−フェニル
ゼレニルプロビルスルホニルアミノ)プロパンを30m
1のメタノール−ジクロロメタン(5:1)混液に溶解
し、水冷下、0.25m1(3,16mM)のピリジン
と2mlの30%過酸化水素水を加えて室温まで昇温し
5時間攪拌する0反応液に酢酸エチルを加え、食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去す
る。残渣に30m1のベンゼンと0.25m1のピリジ
ンを加え、45〜50℃に1時間加熱する。溶媒を留去
した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(2:1〜1
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離精製し、ジクロロメタン−n−ヘ
キサンより再結晶して、2−メトキシ−1−オクタデジ
ルカルバモイルオリキシ− ニルアミノ)プロパンWa4624mg(1.2BmM
)が無色結晶で得られる.収率80%。
NMRi l; ppm(CDC1.) 0.88(t
.3H)、 1.26(s,30H)。
.3H)、 1.26(s,30H)。
1、5(m.2H)、 3.1〜3.4(m.4)1)
、 3.74〜3.82(m.2H)。
、 3.74〜3.82(m.2H)。
3、45(s.3H)、 3.50(m.IH)、 4
.05=4.30(m.2H)。
.05=4.30(m.2H)。
4、8(m.LH)、 4.93(t.IH.J=6)
1z)、 5.35〜5.50(m。
1z)、 5.35〜5.50(m。
21()、 5.82−6.04(m.LH)。
IRニジmax(CHCI−) 3460. 2930
. 2B50. 1725。
. 2B50. 1725。
1520、 1475. 1340. 1240. 1
150 am”元素分析(Cm Js *OsN*S)
計算値(X) C 61.87. H 10.3B.
N 5.55. S 6.35。
150 am”元素分析(Cm Js *OsN*S)
計算値(X) C 61.87. H 10.3B.
N 5.55. S 6.35。
実験値(X) C 61.68, H 10.34.
N 5.73. S 6.20。
N 5.73. S 6.20。
mp.ニア4〜75.5℃。
(以下余白)
参考例11
2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
アミノ)プロパンVIa4の製造
600mg(1.19mM)の2−メトキシ−1−才ク
タデジルカルバモイルオキシ−3−(3−プロペンスル
ホニルアミノ)プロパン■a4ヲ22mlのメタノール
−ジクロロメタン(1:10)混液に溶解し、−78℃
でオゾン酸化する。
タデジルカルバモイルオキシ−3−(3−プロペンスル
ホニルアミノ)プロパン■a4ヲ22mlのメタノール
−ジクロロメタン(1:10)混液に溶解し、−78℃
でオゾン酸化する。
生成したオシニドを0.5mlのジメチルスルフィドで
分解し、溶媒を留去後、10mlメタノールを加え、水
冷下、300mg(7 、93mM)の水嚢化ホウ素ナ
トリウムを加えて室温まで昇温し、2時間攪拌する。反
応液に酢酸エチルを加え、食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去する.残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(1:3)混液を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して、
2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
3−( 2−ヒドロキシエチルスルホニルアミノ)プロ
パンユa4300mg(0.59mM)が無色粉末で得
られる.収率50%。
分解し、溶媒を留去後、10mlメタノールを加え、水
冷下、300mg(7 、93mM)の水嚢化ホウ素ナ
トリウムを加えて室温まで昇温し、2時間攪拌する。反
応液に酢酸エチルを加え、食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去する.残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(1:3)混液を溶出溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して、
2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
3−( 2−ヒドロキシエチルスルホニルアミノ)プロ
パンユa4300mg(0.59mM)が無色粉末で得
られる.収率50%。
NMR :δppm(CDCIm) 0.88(t.3
H)、 1.26(s.30H)。
H)、 1.26(s.30H)。
1、5(m.2H)、 2.05(br.、IH)、
3.05〜3.35(m.6H)。
3.05〜3.35(m.6H)。
3、45(s.3H)、 3.51(m.IH)、 4
.02〜4.12(m.2H)。
.02〜4.12(m.2H)。
4、12=4.27(m.2H)、 4.89(m.I
H)、 5.19(m.IH)。
H)、 5.19(m.IH)。
IR’ V max(CBCIs ) 3450. 2
920.2850, 1710。
920.2850, 1710。
1510、 1465. 1330. 1220. 1
135 cm−’MS: 509 (MH”)。
135 cm−’MS: 509 (MH”)。
(以下余白)
参考例12
2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−
3−(2−メタンスルホニルオキシエチルスルホニルア
ミノ)プロパンVfa4’の製造298mg(0,58
6mM)の2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイ
ルオキシ−3−(2−ヒドロキシエチルスルホニルアミ
ノ)プロパンVIa4を6mlのジクロロメタンと2m
lのテトラヒドロフランに溶解し、水冷下、その混合物
に50μ!(0,645mM)のメタン7、Juホニル
クロライドと0.IQ6mlのトリエチルアミンを加え
、室温で2時間攪拌する。溶媒を留去した後、残渣をn
−ヘキサン−酢酸エチル(1:1〜1:2)混液を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製し、2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモ
イルオキシ−3−(2−メタンスルホニルオキシエチル
スルホニルアミノ)プロパンVIa4’ 287mg(
0,489mM)が無色粉末で得られる。収率83%。
3−(2−メタンスルホニルオキシエチルスルホニルア
ミノ)プロパンVfa4’の製造298mg(0,58
6mM)の2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイ
ルオキシ−3−(2−ヒドロキシエチルスルホニルアミ
ノ)プロパンVIa4を6mlのジクロロメタンと2m
lのテトラヒドロフランに溶解し、水冷下、その混合物
に50μ!(0,645mM)のメタン7、Juホニル
クロライドと0.IQ6mlのトリエチルアミンを加え
、室温で2時間攪拌する。溶媒を留去した後、残渣をn
−ヘキサン−酢酸エチル(1:1〜1:2)混液を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製し、2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモ
イルオキシ−3−(2−メタンスルホニルオキシエチル
スルホニルアミノ)プロパンVIa4’ 287mg(
0,489mM)が無色粉末で得られる。収率83%。
NMRj& ppm(CDC1,) 0.88(t、3
H)、 1.26(s、30H)。
H)、 1.26(s、30H)。
1.5(m、2H)、 3.11(s、3H)、 3.
10=3.42(m、4H)。
10=3.42(m、4H)。
3.45(s、3H)、 3.50(t、2H,J=6
Hz>、 4.15〜4.28(m。
Hz>、 4.15〜4.28(m。
28)、 4.61(t、2H,J=6Hz)、 4.
91(m、LH)、 5.19(t。
91(m、LH)、 5.19(t。
IH,J:6.2Hz)。
IRニジmax(CHCIs) 3460.2930.
2850.1725゜1520、1470.1345.
1235.1180.1155.1000゜970 a
m” 参考例13 3−(2−ヨードエチルスルホニルアミン)−2−メト
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
I[a4の製造 200mg(0,341mM)の2−メトキシ1−才ク
タデジルカルバモイルオキシ−3−(2−メタンスルホ
ニルオキシエチルスルホニルアミノ)プロパンVIa4
’を5mlのアセトンに溶解し、200mg(1,33
mM)のヨウ化ナトリウムを加え、5時間加熱攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
(2:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製して、3−(2−ヨード
エチルスルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパン1[a4188mg
(0,296mM)得る。
2850.1725゜1520、1470.1345.
1235.1180.1155.1000゜970 a
m” 参考例13 3−(2−ヨードエチルスルホニルアミン)−2−メト
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
I[a4の製造 200mg(0,341mM)の2−メトキシ1−才ク
タデジルカルバモイルオキシ−3−(2−メタンスルホ
ニルオキシエチルスルホニルアミノ)プロパンVIa4
’を5mlのアセトンに溶解し、200mg(1,33
mM)のヨウ化ナトリウムを加え、5時間加熱攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
(2:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製して、3−(2−ヨード
エチルスルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパン1[a4188mg
(0,296mM)得る。
収率87%。
NMR:E ppm(CDC1,) 0.88(t、3
H)、 1.26(s、30H)。
H)、 1.26(s、30H)。
1.5(m、2H)、 3゜1(]〜3.30(m、4
H)、 3.46(s、3H)、 3.30〜3.60
(m、5H)、 4.1〜4.3(m、2H)、 4.
83(m、LH)、 5.10(t、 1)1. J=
6.3Hz> IRニジmax(CHCIs) 3450.2935.
2g55.1720゜1515、1460.1410.
1335.1220.1145.1090゜1050
cm−’ 実施例12 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−
3−(2−チアゾリオエチルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト Ia■の製造188mg(0,296m
M)の3−(2−ヨードエチルスルホニルアミノ)−2
−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンを2mlのチアゾールに溶解し、60℃で12時間
攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣をクロロホル
ム−メタノール(5:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、エー
テル−ジクロロメタン−アセトンより再沈して、2−メ
トキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(
2−チアゾリオエチルスルホニルアミノ)プロパンヨー
ダイドIa1230mg(0,043mM)を得る。
H)、 3.46(s、3H)、 3.30〜3.60
(m、5H)、 4.1〜4.3(m、2H)、 4.
83(m、LH)、 5.10(t、 1)1. J=
6.3Hz> IRニジmax(CHCIs) 3450.2935.
2g55.1720゜1515、1460.1410.
1335.1220.1145.1090゜1050
cm−’ 実施例12 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−
3−(2−チアゾリオエチルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト Ia■の製造188mg(0,296m
M)の3−(2−ヨードエチルスルホニルアミノ)−2
−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンを2mlのチアゾールに溶解し、60℃で12時間
攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣をクロロホル
ム−メタノール(5:1)混液を溶出溶媒とするシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製し、エー
テル−ジクロロメタン−アセトンより再沈して、2−メ
トキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(
2−チアゾリオエチルスルホニルアミノ)プロパンヨー
ダイドIa1230mg(0,043mM)を得る。
収率14%。
NMRF &ppm(CDC1,+CD、OD) 0
.88(t、3H)、 1.25(s、30H)、1
.5(m、2H)、 3.05〜3.20(m、2H
)、 3.20〜3.40(m、2H)、3.46(
s、3H)、 3.60(m、LH)、 3.94
(m。
.88(t、3H)、 1.25(s、30H)、1
.5(m、2H)、 3.05〜3.20(m、2H
)、 3.20〜3.40(m、2H)、3.46(
s、3H)、 3.60(m、LH)、 3.94
(m。
2H)、 4.(1−4,3(m、21()、 5
.2〜5.4(m、2M)、 5.55(m。
.2〜5.4(m、2M)、 5.55(m。
IH)、 6.82(m、LH)、 8.17(d、L
H,J=3.8Hz>、 8.70(d。
H,J=3.8Hz>、 8.70(d。
IH,J=3.8Hz>、 10.60〜10.65
(m、IH)。
(m、IH)。
IR: νmax(KBr) 3360. 2920
. 2850. 1700゜1535、 1460.
1335. 1255. 1150 cm−’参考例1
4 3−(4−クロロブチルスルホニルアミノ)−2−メト
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl
すの製造 1.2g(3mM)の2−メトキシ−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロピルアミン■1を24m1のジ
クロロメタンと0.5m1(3゜6mM)のトリエチル
アミンに溶解し、水冷下、その混合物に0.75g(3
,93mM)の4−クロロブタンスルホニルクロライド
を加え、室温で一晩攪拌する0反応液を炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エ
チル(3:2)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより分離精製し、ジクロロメタン
−n−ヘキサンより再結晶して、3−(4−クロロブチ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデシ
ルカルバモイルオキシプロパンI[a51.28g(2
,305mM)が無色結晶で得られる。収率77%。
. 2850. 1700゜1535、 1460.
1335. 1255. 1150 cm−’参考例1
4 3−(4−クロロブチルスルホニルアミノ)−2−メト
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl
すの製造 1.2g(3mM)の2−メトキシ−3−オクタデシル
カルバモイルオキシブロピルアミン■1を24m1のジ
クロロメタンと0.5m1(3゜6mM)のトリエチル
アミンに溶解し、水冷下、その混合物に0.75g(3
,93mM)の4−クロロブタンスルホニルクロライド
を加え、室温で一晩攪拌する0反応液を炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エ
チル(3:2)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより分離精製し、ジクロロメタン
−n−ヘキサンより再結晶して、3−(4−クロロブチ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデシ
ルカルバモイルオキシプロパンI[a51.28g(2
,305mM)が無色結晶で得られる。収率77%。
NMR:εppm(CDC1,> 0.88(t、3H
)、 1.25(s、30H)。
)、 1.25(s、30H)。
1.48(m、2H)、 1.8〜2.1(m、4H)
、 3.0〜3.4(m、6H)。
、 3.0〜3.4(m、6H)。
3.45(s、3H)、 3.4〜3.55(m、IH
)、 3.58(t、2H。
)、 3.58(t、2H。
J=6.0Hz)、 4.05〜4.3(m、2H)、
4.8(br、IH)、 4.94(t、 IH,J
=6Hz)。
4.8(br、IH)、 4.94(t、 IH,J
=6Hz)。
IR: しmax(CHCl、) 3450. 29
30. 2850. 1720゜1510.1330.
1225.1140.1040 cm−’元素分析(C
*yH□0INffiSC1)計算値(X) C58,
41,H9,98,N 5.05. S 5.77゜C
I 6.38゜ 実験値(X) C58,15,H9,91,N 5.1
6. S 5.89゜C16,71゜ MS: 554(M”、 C13’)。
30. 2850. 1720゜1510.1330.
1225.1140.1040 cm−’元素分析(C
*yH□0INffiSC1)計算値(X) C58,
41,H9,98,N 5.05. S 5.77゜C
I 6.38゜ 実験値(X) C58,15,H9,91,N 5.1
6. S 5.89゜C16,71゜ MS: 554(M”、 C13’)。
mp、 : 57.5〜58.5℃。
参考例15
3−(4−ヨードブチルスルホニルアミン)−2−メト
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
IIa5の製造 1.23g(2,22mM)の3−(4−クローオクタ
デシルカルバモイルオキシプロパンIlla520ml
のメチルエチルケトンに溶解し、0゜67g(4,44
mM)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
(1:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製し、クロロホルム−n−
ヘキサンにより再結晶して、3−(4−ヨードブチルス
ルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタデシルカ
ルバモイルオキシプロパン 16g(1.79mM)得る.収率81%。
キシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
IIa5の製造 1.23g(2,22mM)の3−(4−クローオクタ
デシルカルバモイルオキシプロパンIlla520ml
のメチルエチルケトンに溶解し、0゜67g(4,44
mM)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する
。溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル
(1:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにより分離精製し、クロロホルム−n−
ヘキサンにより再結晶して、3−(4−ヨードブチルス
ルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタデシルカ
ルバモイルオキシプロパン 16g(1.79mM)得る.収率81%。
NMR: &ppm(CDCIs> 0.88(t.3
H)、 1.26(s.30H)。
H)、 1.26(s.30H)。
1、5(m.2H)、 1.9〜2.0(m.4H)、
3.0〜3.4(m.10)1)。
3.0〜3.4(m.10)1)。
3、46(s.3H)、 3.50(m.LH)、 4
.1〜4.3(m.2H)。
.1〜4.3(m.2H)。
4、7(br.IH)、 4.87(t.IH.J=6
.6Hz>。
.6Hz>。
IR: νmax(Cl(Cls) 3450. 29
25. 2850. 1720。
25. 2850. 1720。
1510、 133G. 1230. 1140 cm
−’mp.ニア1〜72℃。
−’mp.ニア1〜72℃。
(以下余白)
ロブチルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1元素分
析(C1Ha60aN*SI) 計算値(X) C50,15,H8,57,N 4.3
3. S 4.96゜I 19.62゜ 実験値(X) C50,09,H8,45,N 4.4
1. S 5.26゜1 19.33゜ MS: 647(M”) 実施例13 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
3−(4−チアゾリオブチルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a13の製造300mg(0,46
4mM)の3−(4−ヨードブチルスルホニルアミノ)
−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパンを3mlのチアゾールに溶解し、60℃で6時
間攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣をニーチル
で洗い、エーテル−ジクロロメタンより再沈して2−メ
トキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(
4−チアゾリオブチルスルホニルアミノ)プロパンヨー
ダイト140mg(0,191mM)を得る。収率41
%。
析(C1Ha60aN*SI) 計算値(X) C50,15,H8,57,N 4.3
3. S 4.96゜I 19.62゜ 実験値(X) C50,09,H8,45,N 4.4
1. S 5.26゜1 19.33゜ MS: 647(M”) 実施例13 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキシ−
3−(4−チアゾリオブチルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a13の製造300mg(0,46
4mM)の3−(4−ヨードブチルスルホニルアミノ)
−2−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパンを3mlのチアゾールに溶解し、60℃で6時
間攪拌する。チアゾールを留去した後、残渣をニーチル
で洗い、エーテル−ジクロロメタンより再沈して2−メ
トキシ−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−(
4−チアゾリオブチルスルホニルアミノ)プロパンヨー
ダイト140mg(0,191mM)を得る。収率41
%。
NMR: Sppm(CDC1,) 0.88(t、3
H)、 1.25(s、30H)。
H)、 1.25(s、30H)。
1.5(rn、2H)、 1.8〜2.05(m、2H
)、 2.05=2.40(m、2H)。
)、 2.05=2.40(m、2H)。
3.0(1〜3.40(m、6H)、 3.44(s、
3H)、 3.60(m、1)1)。
3H)、 3.60(m、1)1)。
4.0〜4.3(m、2H)、 4.85(m、2H)
、 5.38(br、IH)、 6.16(br、lH
)、 8.3〜8.4(m、IH)、 8.6〜8.7
(m、IH)、 10.55(s、 LH)。
、 5.38(br、IH)、 6.16(br、lH
)、 8.3〜8.4(m、IH)、 8.6〜8.7
(m、IH)、 10.55(s、 LH)。
[R: νmax(CHC1*) 3400.2930
.2g50.1715゜1465、1430.1320
.1235.1140 am−’元素分析(Cs eH
i *0aNsS*I・0.5H10)計算値(fc)
C48,64,H8,03,N 5.67、 S 8
.66゜I 17.13゜ 実験値(1) C4g、46. H7,99,N 5.
77、 S 8.87゜I 17.02゜ mp、:59.5〜61.5℃。
.2g50.1715゜1465、1430.1320
.1235.1140 am−’元素分析(Cs eH
i *0aNsS*I・0.5H10)計算値(fc)
C48,64,H8,03,N 5.67、 S 8
.66゜I 17.13゜ 実験値(1) C4g、46. H7,99,N 5.
77、 S 8.87゜I 17.02゜ mp、:59.5〜61.5℃。
(以下余白)
実施例14〜17
次の第2表に示すように、実施例2の方法と同様にして
化合物IIa5から本発明化合物を得る。
化合物IIa5から本発明化合物を得る。
(以下余白)
実施例18
2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルオキン−
3−(4−キノリニオブチルスルホニルアミノ)プロパ
ンクロライド !a18の製造1.57g(2,43m
M)の3−(4−ヨードブチルスルホニルアミノ)−2
−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンIra5を3mlのキノリンの溶解し、40℃で3
日間攪拌する0反応液をクロロホルム−メタノール混液
に溶解し、IN−塩酸で2回洗浄した後、溶媒を留去し
アセトンより再沈殿して、2−メトキシ−1−才クタデ
ジルカルバモイルオキシ−3−(4−キノリニオブチル
スルホニルアミノ)プロパンクロライド1.07g(1
,56mM)を得る。
3−(4−キノリニオブチルスルホニルアミノ)プロパ
ンクロライド !a18の製造1.57g(2,43m
M)の3−(4−ヨードブチルスルホニルアミノ)−2
−メトキシ−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンIra5を3mlのキノリンの溶解し、40℃で3
日間攪拌する0反応液をクロロホルム−メタノール混液
に溶解し、IN−塩酸で2回洗浄した後、溶媒を留去し
アセトンより再沈殿して、2−メトキシ−1−才クタデ
ジルカルバモイルオキシ−3−(4−キノリニオブチル
スルホニルアミノ)プロパンクロライド1.07g(1
,56mM)を得る。
収率64%。
NMR: Sppm(CDC1,> 0.88(t、3
H)、 1.25(s。
H)、 1.25(s。
30H)、 1.48(m、2H)、 2.0−2.3
(m、2H)、 2.3〜2.5(m。
(m、2H)、 2.3〜2.5(m。
2旧、 3.0〜3.2(m、 2H)、 3.2〜3
.4(m、 41)、 3.39(s。
.4(m、 41)、 3.39(s。
3H)、 3.58(m、LH>、 4.0〜4.3(
m、2H)、 5.40〜5.65(a3H)、 6.
85(t、IH,J=7Hz)、 7.93(t、11
(、Jニア、2Hz)。
m、2H)、 5.40〜5.65(a3H)、 6.
85(t、IH,J=7Hz)、 7.93(t、11
(、Jニア、2Hz)。
8.0−8.4(m、3H)、 8.65(d、IH,
J=9Hz)、 9.01(d、LH。
J=9Hz)、 9.01(d、LH。
J=8.2Hz>、 10.35(d、IH,J=5.
2Hz)。
2Hz)。
IR: Vmax(CHCIs) 3450.2925
.2850.1?15゜1520、1465.1320
.1220.1140゜mp、: 57.0〜59.0
℃。
.2850.1?15゜1520、1465.1320
.1220.1140゜mp、: 57.0〜59.0
℃。
(以下余白)
元素分析(CsaHsmOaNsSC14,5H*O)
計算値m C60,78,H9,21,N 5.91.
S 4.51゜C14,98゜ 実験値(X) C60,94,H9,02,N 5.9
1. S 4.78゜C14,58゜ mp、 57〜59℃(分解) 実施例19 3−(4−ベンゾチアゾリオブチルスルホニルアミン)
−2−メトキシ−1−オクタデシルカルモイルオキシプ
ロパンクロライド I a19の製造300mg(0,
384mM)の3−(4−ベンゾチアゾリオブチルスル
ホニルアミン)−2−メトキシ、−1−オクタデシル力
ルバモイルオキシプロパンヨーダイド1ΔIをクロロホ
ルム−メタノール混液に溶解しIN−塩厳で2回、水で
1回洗浄した後、溶媒を留去し、ジクロロメタン−アセ
トンより再沈殿して3−(4−ベンゾチアゾリオブチル
スルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパンクロライド Ia1965
mg(0,0941mM)を得る。収率25%。
計算値m C60,78,H9,21,N 5.91.
S 4.51゜C14,98゜ 実験値(X) C60,94,H9,02,N 5.9
1. S 4.78゜C14,58゜ mp、 57〜59℃(分解) 実施例19 3−(4−ベンゾチアゾリオブチルスルホニルアミン)
−2−メトキシ−1−オクタデシルカルモイルオキシプ
ロパンクロライド I a19の製造300mg(0,
384mM)の3−(4−ベンゾチアゾリオブチルスル
ホニルアミン)−2−メトキシ、−1−オクタデシル力
ルバモイルオキシプロパンヨーダイド1ΔIをクロロホ
ルム−メタノール混液に溶解しIN−塩厳で2回、水で
1回洗浄した後、溶媒を留去し、ジクロロメタン−アセ
トンより再沈殿して3−(4−ベンゾチアゾリオブチル
スルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパンクロライド Ia1965
mg(0,0941mM)を得る。収率25%。
NMRSppm: (CDCIm) 0.88(t、3
H)、 1.25(s。
H)、 1.25(s。
30H)、 1.48(m、2H)、 2.0〜2.2
(m、2H)、 2.2〜2.4(m。
(m、2H)、 2.2〜2.4(m。
2H)、 3.(1〜3.2(m、2H)、 3.2〜
3.4(m、4H)、 3.38(s。
3.4(m、4H)、 3.38(s。
3)1)、 3.55(m、IH)、 4.0〜4.3
(m、2H)、 5.25(m、2H)。
(m、2H)、 5.25(m、2H)。
5.52(br、LH)、 6.80(br、IH)、
7.7(1〜7.95(m、2H)。
7.7(1〜7.95(m、2H)。
8、2〜8.4(m、 2H)、 11.80(s、
IH)。
IH)。
IRVmax: (CHCIm) 3450.2940
.2855.1715゜1515、1465.1435
.1330.1220.1140 am”mp、: 5
7.0〜59.0℃。
.2855.1715゜1515、1465.1435
.1330.1220.1140 am”mp、: 5
7.0〜59.0℃。
元素分析(C,、H,、O,N、SC1・1.5H10
)計算値(%): C56,92,H8,85,N 5
.86. S 8.94゜C14,94゜ 実験値<’A”): C56,72,H8,71,N
6.05. S 8.97゜CI 4.68゜ 実施例20〜21 実施例19と同様にして、第3表に示す化合物を得る。
)計算値(%): C56,92,H8,85,N 5
.86. S 8.94゜C14,94゜ 実験値<’A”): C56,72,H8,71,N
6.05. S 8.97゜CI 4.68゜ 実施例20〜21 実施例19と同様にして、第3表に示す化合物を得る。
(以下余白)
実施例22〜23
実施例9と同様にして、
第4表に示す化合物を
得る。
(以下余白)
参考例16
3−ベンジルオキシ−1−ヒドロキシ−2−メトキシプ
ロパン 1Xa6の製造 18.98g(0,5mol)の水素化リチウムアルミ
ニウムを400m1のエーテルに懸濁させ、−40℃で
66.69g(0,5mol)の塩化アルミニウムの2
50m1のエーテル溶液を滴下し、さらに−20℃で3
0分間攪拌する。上記反応液に48.5g(0,25m
ol)のβ−メチル−α7−ベンジリデングリコール1
す[ピー・イー・ベルカブら(P、E、Verkade
、 at al)、ジャーナル・才ブ・ザ・ロイヤル・
ネーブルランド・ケミカル・ソサエティー(Recl、
Trav、 Chim。
ロパン 1Xa6の製造 18.98g(0,5mol)の水素化リチウムアルミ
ニウムを400m1のエーテルに懸濁させ、−40℃で
66.69g(0,5mol)の塩化アルミニウムの2
50m1のエーテル溶液を滴下し、さらに−20℃で3
0分間攪拌する。上記反応液に48.5g(0,25m
ol)のβ−メチル−α7−ベンジリデングリコール1
す[ピー・イー・ベルカブら(P、E、Verkade
、 at al)、ジャーナル・才ブ・ザ・ロイヤル・
ネーブルランド・ケミカル・ソサエティー(Recl、
Trav、 Chim。
Pays、−Bas、 >、第61巻、831頁、19
42年記載化合物コの200m1のジクロロメタン溶液
を反応温度が一20℃以下に保つような速度で滴下し、
次いで徐々に室温まで昇温した後、2時間攪拌する0反
応液に、水冷下飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、生成
する白色沈殿を濾過する。得られる濾液を減圧下濃縮後
、減圧蒸留して、沸点133℃(2〜3mmHg)の留
分の標題化合物lすを47.1g得る。
42年記載化合物コの200m1のジクロロメタン溶液
を反応温度が一20℃以下に保つような速度で滴下し、
次いで徐々に室温まで昇温した後、2時間攪拌する0反
応液に、水冷下飽和硫酸ナトリウム水溶液を加え、生成
する白色沈殿を濾過する。得られる濾液を減圧下濃縮後
、減圧蒸留して、沸点133℃(2〜3mmHg)の留
分の標題化合物lすを47.1g得る。
収率96%。
NMR: &ppm(CDC1,) 2.44(s、L
H)、 3.38〜3.52(a。
H)、 3.38〜3.52(a。
18)、 3.45(s、3H)、 3.53=3.8
3(m、4H)、 4.53(s。
3(m、4H)、 4.53(s。
2H)、 7.32(s、5H)。
参考例17
1−アセチルチオ−3−ベンジルオキシ−2−メトキシ
プロパン !蛯の製造 14.7g(75mM)のdl−3−ベンジルオキシ−
2−メトキシプロピルアルコール封と12.53ml(
90mM)のトリエチルアミンを150m1のジクロロ
メタンに溶解し、6.08m1(78,75mM)のメ
タンスルホニルクロライドを水冷下加える。室温で1時
間攪拌した後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、粗メシレ
ート[Xa6’を得る。上記メシレートIXa6’を2
00m1のアセトニトリルに溶解し、8.994g(7
8,75mM)のチオ酢酸カリウムを加え、15時間加
熱還流する。冷却後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を、水洗、乾燥、濃縮し、油状の残
渣を減圧下蒸留し、沸点130〜137℃(2mmHg
)の留分より、16.92g(67mM)の標題化合物
、1−アセデルチオ−3−ベンジルオキシ−2−メトキ
シプロパン■a6を得る。収率89%。
プロパン !蛯の製造 14.7g(75mM)のdl−3−ベンジルオキシ−
2−メトキシプロピルアルコール封と12.53ml(
90mM)のトリエチルアミンを150m1のジクロロ
メタンに溶解し、6.08m1(78,75mM)のメ
タンスルホニルクロライドを水冷下加える。室温で1時
間攪拌した後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、粗メシレ
ート[Xa6’を得る。上記メシレートIXa6’を2
00m1のアセトニトリルに溶解し、8.994g(7
8,75mM)のチオ酢酸カリウムを加え、15時間加
熱還流する。冷却後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出する。抽出液を、水洗、乾燥、濃縮し、油状の残
渣を減圧下蒸留し、沸点130〜137℃(2mmHg
)の留分より、16.92g(67mM)の標題化合物
、1−アセデルチオ−3−ベンジルオキシ−2−メトキ
シプロパン■a6を得る。収率89%。
NMRl;ppm(CDCIs): 2.34(s、3
H)、 3.13(d、2)1゜J=5.6Hz>、
3.43〜3.58(m、3H)、 4.55(s、2
H)、 7.33(s、 5H)。
H)、 3.13(d、2)1゜J=5.6Hz>、
3.43〜3.58(m、3H)、 4.55(s、2
H)、 7.33(s、 5H)。
IRνmax(CHClm):3000,2930,2
850.2820゜1685.1450.1355.1
100 cm”参考例18 3−ベンジルオキシ−2−メトキシプロピルチオアルコ
ール !鱈の製造 14.028g(55mM)のアセチルチオ−3−ベン
ジルオキシ−2−メトキシプロパン■a6を300m1
のメタノールに溶解し、11.24m1(58,3mM
)の28重量%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
を一10℃で滴下する。−10〜0℃で2時間攪拌した
後、3.58m1のメタンスルホン酸を加え、反応液を
水中に注ぐ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗、乾燥
、濃縮する。油状の残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、エーテル−n−ヘキサン(3:97)混液で
溶出された画分を集めて、8.85g(41,7mM)
の標題化合物、3−ベンジルオキジ−2−メトキシプロ
ピルチオアルコールWa6を油状物質として得る。
850.2820゜1685.1450.1355.1
100 cm”参考例18 3−ベンジルオキシ−2−メトキシプロピルチオアルコ
ール !鱈の製造 14.028g(55mM)のアセチルチオ−3−ベン
ジルオキシ−2−メトキシプロパン■a6を300m1
のメタノールに溶解し、11.24m1(58,3mM
)の28重量%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
を一10℃で滴下する。−10〜0℃で2時間攪拌した
後、3.58m1のメタンスルホン酸を加え、反応液を
水中に注ぐ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗、乾燥
、濃縮する。油状の残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、エーテル−n−ヘキサン(3:97)混液で
溶出された画分を集めて、8.85g(41,7mM)
の標題化合物、3−ベンジルオキジ−2−メトキシプロ
ピルチオアルコールWa6を油状物質として得る。
NMR&ppm(CDC1m)’ 1.49(t、LH
,J=8.5Hz)、 2.58〜2.87(m、2H
)、 3.40〜3.53(m、IH)、 3.44(
s、3H)。
,J=8.5Hz)、 2.58〜2.87(m、2H
)、 3.40〜3.53(m、IH)、 3.44(
s、3H)。
3.56〜3.63(m、2H)、 4.55(s、2
H)、 7.34(s、5H)。
H)、 7.34(s、5H)。
IRv max(CHCIs): 3000.2940
.2860.2g20゜1455.1365.1100
cm”(以下余白) 参考例19 3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン VIa6の製造7.258
g(34,2mM)の3−ベンジルオキシ−2−メトキ
シプロピルチオアルコールにと11.65g(39,4
mM)のオクタデシルイソシアネートを100m1のピ
リジンに溶解し、1時間加熱還流する0反応液を濃縮後
、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、トルエン−酢酸エチル(9:1〜4:1)で溶
出された画分を集めて、17.072g(33,6mM
)の標題化合物、3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−
1−オクタデジルカルバモイルチオプロパン Wa6を
固体として得る。収率98%。
.2860.2g20゜1455.1365.1100
cm”(以下余白) 参考例19 3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン VIa6の製造7.258
g(34,2mM)の3−ベンジルオキシ−2−メトキ
シプロピルチオアルコールにと11.65g(39,4
mM)のオクタデシルイソシアネートを100m1のピ
リジンに溶解し、1時間加熱還流する0反応液を濃縮後
、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、トルエン−酢酸エチル(9:1〜4:1)で溶
出された画分を集めて、17.072g(33,6mM
)の標題化合物、3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−
1−オクタデジルカルバモイルチオプロパン Wa6を
固体として得る。収率98%。
NMR8ppm(CDC1g): 0.8g(t、3H
)、 1.25(s、30H)。
)、 1.25(s、30H)。
1.40〜1.60(m、2H)、 3.10〜3.
19(m、2H)、 3.19−3.34(m、2H
)、 3.46(s、3H)、 3.5(1〜3.
62(m、3H)、 4.56(s。
19(m、2H)、 3.19−3.34(m、2H
)、 3.46(s、3H)、 3.5(1〜3.
62(m、3H)、 4.56(s。
2H)、 5.37〜5.50(broad、IH)
、 7.33(s、5H)。
、 7.33(s、5H)。
mp、 40〜41 ℃。
元素分析(C,。H@joINs>
計算値(X) C70,96,H10,52,N 2.
76、 S 6.31゜実験値(X) C70,90,
H10,5G、 N 2.91. S 5.99゜参考
例20 3−才クタデジルカルバモイルチオ−2−メトキシプロ
ピルアルコール Va6の製造1.02g(2mM)の
3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン 、■a6を80m1のアセ
トニトリルに溶解し、水冷下で0.4m1(2,81m
M)のトリメチルシリルヨーダイトを加え、15時間室
温で放置する1反応液に50m1の10%ハイポ水を加
え、ジクロロメタンで抽出し、水洗、乾燥、濃縮する。
76、 S 6.31゜実験値(X) C70,90,
H10,5G、 N 2.91. S 5.99゜参考
例20 3−才クタデジルカルバモイルチオ−2−メトキシプロ
ピルアルコール Va6の製造1.02g(2mM)の
3−ベンジルオキシ−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン 、■a6を80m1のアセ
トニトリルに溶解し、水冷下で0.4m1(2,81m
M)のトリメチルシリルヨーダイトを加え、15時間室
温で放置する1反応液に50m1の10%ハイポ水を加
え、ジクロロメタンで抽出し、水洗、乾燥、濃縮する。
残渣をシリ、カゲル力ラムクロマトグラフィーに付し、
n−ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出された画分
を集めて、480mg(1,15mM)の標題化合物、
3−オクタデシルカルバモイルチオ−2−メトキシプロ
ピルアルコールゴを固体として得る。収率57%。
n−ヘキサン−酢酸エチル(2:1)で溶出された画分
を集めて、480mg(1,15mM)の標題化合物、
3−オクタデシルカルバモイルチオ−2−メトキシプロ
ピルアルコールゴを固体として得る。収率57%。
NMR8ppm(CDC1m ): 0.88(t、
3H)、 1.26(s、 301)。
3H)、 1.26(s、 301)。
1.42〜1.60(m、2H)、 2.75−2.9
7(broad、LH)、 2.98=3.38(m、
4H)、 3.44(s、3H)、 3.38〜3.5
2(m、IH)。
7(broad、LH)、 2.98=3.38(m、
4H)、 3.44(s、3H)、 3.38〜3.5
2(m、IH)。
3、52−3.75(n+、 2H)、 5.42=5
.63(broad、 IH)。
.63(broad、 IH)。
mp、 62〜63℃。
IRvm5x(CHCIs) 3430.2920.2
850.1655゜150G、1465.1190.1
100.1045 cm−’元素分析(C*sH4,N
5Os) 計算値(%) C66,14,H11,34,N 3.
35.57.6g。
850.1655゜150G、1465.1190.1
100.1045 cm−’元素分析(C*sH4,N
5Os) 計算値(%) C66,14,H11,34,N 3.
35.57.6g。
実験値(X) C65,78,H11,34,N 3.
31. S 7.50゜(以下余白) 参考例21 2−メトキシ−3−オクタデシルカルバモイルチオプロ
ピルアミンIVa6の製造 417.7mg(1mM)の2−メトキシ−3−オクタ
デシルカルバモイルチオプロピルアルコールルイミド、
408 、6mg( 1 、5mM)のトリフェニルホ
スフィンを15mlのテトラヒドロフランに溶解し、−
30℃に冷却した後、271。
31. S 7.50゜(以下余白) 参考例21 2−メトキシ−3−オクタデシルカルバモイルチオプロ
ピルアミンIVa6の製造 417.7mg(1mM)の2−メトキシ−3−オクタ
デシルカルバモイルチオプロピルアルコールルイミド、
408 、6mg( 1 、5mM)のトリフェニルホ
スフィンを15mlのテトラヒドロフランに溶解し、−
30℃に冷却した後、271。
2mg(1.5mM)のジエテJレアゾジカルポキシレ
ートを滴下して30分間撹拌し、きらに室温で2時間攪
拌する.溶媒を留去した後、残渣をベンゼン−酢酸エチ
ル(9:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより分離精製し、フタルイミド体4
00mg(0.732mM)を得る。収率73%。
ートを滴下して30分間撹拌し、きらに室温で2時間攪
拌する.溶媒を留去した後、残渣をベンゼン−酢酸エチ
ル(9:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより分離精製し、フタルイミド体4
00mg(0.732mM)を得る。収率73%。
1 、019g(1.864mM)のフタルイミド体を
30mlのエタノールと10m!のテトラヒドロフラン
に溶解し、2.5mlのヒドラジン−1水和物を加え3
時間室温で攪拌する.溶媒を留去した後、クロロホルム
−メタノール(5:1)混液(0.2%トリエチルアミ
ン)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより分離精製し、418.3mg(1.003m
M)の2−メトキシ−3−オクタデジルカルバトモイル
チオプロピルアミン %。
30mlのエタノールと10m!のテトラヒドロフラン
に溶解し、2.5mlのヒドラジン−1水和物を加え3
時間室温で攪拌する.溶媒を留去した後、クロロホルム
−メタノール(5:1)混液(0.2%トリエチルアミ
ン)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより分離精製し、418.3mg(1.003m
M)の2−メトキシ−3−オクタデジルカルバトモイル
チオプロピルアミン %。
NMRSppm(CDC1s+CDsOD)’ 0.8
8(t.3H)、 1.26(s。
8(t.3H)、 1.26(s。
30H)、 1.40〜1.62(m,2H)、 2.
65〜2.94(m.2H)、 2.95〜3.17(
m.IH)、 3.17〜3.30(m.2H)、 3
.30〜3.42(m.IH>、 3.45(s.3H
)。
65〜2.94(m.2H)、 2.95〜3.17(
m.IH)、 3.17〜3.30(m.2H)、 3
.30〜3.42(m.IH>、 3.45(s.3H
)。
IRνmax(CHCIm> 3425. 2930.
2850, 1665。
2850, 1665。
1500、 1190. 1100 cm”(以下余白
) 参考例22 3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルバモイルチオプロパン 93mg(0.223mM)の2−メトキシ−3−オク
タデジルカルバモイルチオプロビルアミン ■a6、4
0 、4μm(3 、9mM)のトリエチルアミンを5
mlのジクロロメタンと2mlのテトラヒドロフランに
溶解し、水冷下、その混合物に29.8μl(3.3m
M)の3−りooプロパンスルホニルクロライドを加え
2時間攪拌し、さらに、室温で30分攪拌する.反応液
を炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫
醜マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する.残渣をベン
ゼン−酢酸エチル(4:1)混液を溶出溶媒とするシリ
カゲル力ラムクロマトグラフイーニヨり分離精製し、8
3mg(0.149mM)の3−(3−クロロプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン IIIa6を無色粉末とし
て得る。
) 参考例22 3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデジルカルバモイルチオプロパン 93mg(0.223mM)の2−メトキシ−3−オク
タデジルカルバモイルチオプロビルアミン ■a6、4
0 、4μm(3 、9mM)のトリエチルアミンを5
mlのジクロロメタンと2mlのテトラヒドロフランに
溶解し、水冷下、その混合物に29.8μl(3.3m
M)の3−りooプロパンスルホニルクロライドを加え
2時間攪拌し、さらに、室温で30分攪拌する.反応液
を炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水硫
醜マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する.残渣をベン
ゼン−酢酸エチル(4:1)混液を溶出溶媒とするシリ
カゲル力ラムクロマトグラフイーニヨり分離精製し、8
3mg(0.149mM)の3−(3−クロロプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタデジル
カルバモイルチオプロパン IIIa6を無色粉末とし
て得る。
収率67%。
NMR:Sppm(CDC1.) 0.88(t.3H
)、 1.26(s.30H)。
)、 1.26(s.30H)。
1、40−1.60(m.2H)、 2.20−2.3
7(m.2H)、 2.93〜3.40(m.8H)、
3.40〜3.55(m.IH)、 3.43(s.
3H)、 3.69(t。
7(m.2H)、 2.93〜3.40(m.8H)、
3.40〜3.55(m.IH)、 3.43(s.
3H)、 3.69(t。
J:5.3Hz.2H)、 5.17〜5.35(br
oad,LH>、 5.37〜5.54(broad.
18)。
oad,LH>、 5.37〜5.54(broad.
18)。
Itしmax(CHCIm> 3420. 2930
. 2850. 1670。
. 2850. 1670。
1495、 1460. 1335. 1185. 1
150. 1090 am”参考例23 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデシJしカルバモイルチオプロパン
I[a6の製造 (以下余白) 197mg(0,354mM)の3−(3−り[70プ
ロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタ
デシルカルバモイルチオプロパン1[[a6を7mlの
メチルエチルケトンに溶解し、265mg(1,77m
M)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。
150. 1090 am”参考例23 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシ−1−オクタデシJしカルバモイルチオプロパン
I[a6の製造 (以下余白) 197mg(0,354mM)の3−(3−り[70プ
ロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタ
デシルカルバモイルチオプロパン1[[a6を7mlの
メチルエチルケトンに溶解し、265mg(1,77m
M)のヨウ化ナトリウムを加え、3時間加熱攪拌する。
溶媒を留去した後、残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(
3:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製し、3−(3−ヨードプロ
ピルスルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタデ
ジルカルバモイルチオプロパン I[a6を197mg
(0,304mM)得る。収率86%。
3:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製し、3−(3−ヨードプロ
ピルスルホニルアミン)−2−メトキシ−1−オクタデ
ジルカルバモイルチオプロパン I[a6を197mg
(0,304mM)得る。収率86%。
NMR:δppm(CDC1*) 0.88(t、3H
)、 1.26(s、30H)。
)、 1.26(s、30H)。
1.42〜1.62(m、2H)、 2.25〜2.4
2(m、2B)、 2.95〜3.50(m、88)、
3.44(s、3H)、 3.50〜3.58(m、
LH)、 5.18〜5.34(broad、11()
、 5.38−5.57(broad、LH)。
2(m、2B)、 2.95〜3.50(m、88)、
3.44(s、3H)、 3.50〜3.58(m、
LH)、 5.18〜5.34(broad、11()
、 5.38−5.57(broad、LH)。
IRニジmax(CHCIm> 3425. 292
5. 2850. 1670゜1500、 1460.
1325. 1185. 1140. 1100 a
m−’実施例24 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオ−3
−(3−N−メチルイミダゾリオブロビルスルホニルア
ミノ)プロパンヨーダイトD山の製造 100mgの3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミ
ノ)−2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチ
オプロパン」を0.3mlのN−メチルイミダゾールに
溶解し、25℃で一晩攪拌する。溶媒を留去した後、エ
ーテルで洗って、102mgの2−メトキシ−1−才ク
タデジルカルバモイルチオ− ダゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイ
ト I24を得る.収率91%。
5. 2850. 1670゜1500、 1460.
1325. 1185. 1140. 1100 a
m−’実施例24 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオ−3
−(3−N−メチルイミダゾリオブロビルスルホニルア
ミノ)プロパンヨーダイトD山の製造 100mgの3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミ
ノ)−2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチ
オプロパン」を0.3mlのN−メチルイミダゾールに
溶解し、25℃で一晩攪拌する。溶媒を留去した後、エ
ーテルで洗って、102mgの2−メトキシ−1−才ク
タデジルカルバモイルチオ− ダゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイ
ト I24を得る.収率91%。
NMR:& ppm(CDCIs) 0.88(t.3
H)、 1.26(s.301()。
H)、 1.26(s.301()。
1、4!lr1.65(m.2H)、 2.40〜2.
63(m,2H)、 2.95〜3.40(m,8H)
、 3.43(s.3H)、 3.45〜3.60(m
.LH)、 4.06(s。
63(m,2H)、 2.95〜3.40(m,8H)
、 3.43(s.3H)、 3.45〜3.60(m
.LH)、 4.06(s。
3H)、 4.63(m.2H)、 5.96=6.2
4(broad.2H)、 7.38(s.IH)、
7.71(s.IH)、 9.66(s.Hl)。
4(broad.2H)、 7.38(s.IH)、
7.71(s.IH)、 9.66(s.Hl)。
IRニジmax(CHCIs) 3430. 3150
. 2920. 2850。
. 2920. 2850。
1670、 1495. 1460. 1320, 1
140. 1095 cm−’(以下余白) 実施例25 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3
−(4−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a25の製造88mg(0.136
mM)の3−C3−E−ドブロピルスルホニルアミン)
−2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオプ
ロパン Ira旦を1mlのキノリンに溶解し、45℃
で2日間攪拌する.反応液をクロロホルーーメタノール
混液に溶解し、5.7%ヨウ化水素酸で2回、水で1回
洗った後、溶媒を留去し、アセトンより再沈して、2−
メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3−(
3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨ
ーダイト I a25を得る。
140. 1095 cm−’(以下余白) 実施例25 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3
−(4−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a25の製造88mg(0.136
mM)の3−C3−E−ドブロピルスルホニルアミン)
−2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオプ
ロパン Ira旦を1mlのキノリンに溶解し、45℃
で2日間攪拌する.反応液をクロロホルーーメタノール
混液に溶解し、5.7%ヨウ化水素酸で2回、水で1回
洗った後、溶媒を留去し、アセトンより再沈して、2−
メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3−(
3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨ
ーダイト I a25を得る。
NMRz&ppm(CDC1,> 0.88(t、3H
)、 1.25(s、30H)。
)、 1.25(s、30H)。
140〜1.62(m、2H)、 2.62〜2.85
(m、2H)、 2.90〜3.65(m、9H)、
3.39(s、3H)、 5.56(t、2H,J=8
.1Hz)、 5.80〜6.25(broad、2H
)、 7.99(t、LH,J=7.4Hz>、 8.
13〜8.37(m、3H)、 8.67(d、LH,
J:8.8Hz)、 9.07(d、IH。
(m、2H)、 2.90〜3.65(m、9H)、
3.39(s、3H)、 5.56(t、2H,J=8
.1Hz)、 5.80〜6.25(broad、2H
)、 7.99(t、LH,J=7.4Hz>、 8.
13〜8.37(m、3H)、 8.67(d、LH,
J:8.8Hz)、 9.07(d、IH。
J=8.2Hz)、 10.14(d、IH,J:5.
2Hz)。
2Hz)。
IRニジmax(CHClm) 3430.2930.
2855.1670゜1500、1465.1330.
1150 cm−’(以下余白) 実施例26 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3
−(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a26の製造76m17)3−(3
−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−
1−オクタデジルカルバモイルチオプロパンを1mlの
チアゾールに溶解し、60℃で6時間加熱する。溶媒を
留去した後、エーテル、次いでアセトニトリルで洗って
、2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−
3−(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロ
パンヨーダイFIa2632mgを得る。収率37%。
2855.1670゜1500、1465.1330.
1150 cm−’(以下余白) 実施例26 2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−3
−(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンヨーダイト I a26の製造76m17)3−(3
−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−
1−オクタデジルカルバモイルチオプロパンを1mlの
チアゾールに溶解し、60℃で6時間加熱する。溶媒を
留去した後、エーテル、次いでアセトニトリルで洗って
、2−メトキシ−1−才クタデジルカルバモイルチオ−
3−(3−チアゾリオプロピルスルホニルアミノ)プロ
パンヨーダイFIa2632mgを得る。収率37%。
NMR: Sppm(CDC1,> 0.88(t、3
H)、 1.25(s、30H)。
H)、 1.25(s、30H)。
1.40〜1.62(2H)、 2.50〜2.75(
m、2H)、 2.95〜3.60(a+。
m、2H)、 2.95〜3.60(a+。
9H)、 3.42(s、3H)、 4.95〜5.2
0(m、2H)、 6.07〜6.29(m、2H)、
8.2(1〜8.30(m、IH)、 9.70〜9
.80(m、IH)。
0(m、2H)、 6.07〜6.29(m、2H)、
8.2(1〜8.30(m、IH)、 9.70〜9
.80(m、IH)。
10、20〜10.32(m、 IH)。
IR: νmax(CHCl、) 3420.2925
.2850.1670゜1500、1465.1330
.1150 am”(以下余白) 実施例27 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオ−3
−(4−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンクロライド I a27の製造実施例19と同様にし
て、標題化合物を得る。
.2850.1670゜1500、1465.1330
.1150 am”(以下余白) 実施例27 2−メトキシ−1−オクタデシルカルバモイルチオ−3
−(4−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンクロライド I a27の製造実施例19と同様にし
て、標題化合物を得る。
NMRz &ppm(CDC1m) 0.88(t、3
H)、 1.25(s、30H)。
H)、 1.25(s、30H)。
1.48(m、2H)、 2.15=2.35(m、2
H)、 3.0〜3.2(m、2H)。
H)、 3.0〜3.2(m、2H)。
3.2〜3.35(m、2H)、 3.37(、s、3
H)、 3.3!lr3.50(m、IH)。
H)、 3.3!lr3.50(m、IH)。
3.5(1〜3.70(m、2)1)、 4.0(1〜
4.30(m、2H)、 5.55〜5.80(m、3
H)、 7.75(t、IH,J:6Hz>、 7゜9
4(t、 18. J=7.6Hz)、 8.15〜
8.40(m、3H)、 8.74(d、IH,J=
9.0Hz)。
4.30(m、2H)、 5.55〜5.80(m、3
H)、 7.75(t、IH,J:6Hz>、 7゜9
4(t、 18. J=7.6Hz)、 8.15〜
8.40(m、3H)、 8.74(d、IH,J=
9.0Hz)。
8.97(d、IH,J=8.2Hz)、 10.4
8(d、IH,J=5.6Hz)。
8(d、IH,J=5.6Hz)。
ER: νmax(CHCIs) 34ss、
2930. 2855. 1715゜1530.147
0.1325.1220.1140 am”mp、
57〜59℃ 元素分析(CsaHs*0JsSC14,2H*0)計
算値(X) C60,75,H9,09,N 6.07
. S 4.63゜C15,12゜ 実験値(X) C60,66、H9,09,N 6.2
3. S 4.51゜C14,89゜ 実施例28 1−(N−n−オクタデジルカルバモイルオキシ)−2
−メトキシ−3−[4−(3−カルボキシレートピリジ
ニオ)ブチルスルホニルアミノコプロパン13翻の製造 (以下余白) 600mg(0,928mmol)の3−(4−ヨード
ブチルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパンと230mg(1,
87mmol)の二’=+チン酸を10m1のジメチル
スルホキシドに溶解し、80℃で3日間加熱する1反応
液をIN塩酸で1回、炭酸水素ナトリウム水溶液で1回
、飽和食塩水で1回洗った後、ジクロロメタン−アセト
ンより再沈して、279mg(0,435mmo 1)
の1−(N−n−オクタデジルカルバモイルオキシ)−
2−メトキシ−3−[4−(3−カルボキシレートピリ
ジニオ)ブチルスルホニルアミノコプロパンを得る。収
率47%。
2930. 2855. 1715゜1530.147
0.1325.1220.1140 am”mp、
57〜59℃ 元素分析(CsaHs*0JsSC14,2H*0)計
算値(X) C60,75,H9,09,N 6.07
. S 4.63゜C15,12゜ 実験値(X) C60,66、H9,09,N 6.2
3. S 4.51゜C14,89゜ 実施例28 1−(N−n−オクタデジルカルバモイルオキシ)−2
−メトキシ−3−[4−(3−カルボキシレートピリジ
ニオ)ブチルスルホニルアミノコプロパン13翻の製造 (以下余白) 600mg(0,928mmol)の3−(4−ヨード
ブチルスルホニルアミノ)−2−メトキシ−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパンと230mg(1,
87mmol)の二’=+チン酸を10m1のジメチル
スルホキシドに溶解し、80℃で3日間加熱する1反応
液をIN塩酸で1回、炭酸水素ナトリウム水溶液で1回
、飽和食塩水で1回洗った後、ジクロロメタン−アセト
ンより再沈して、279mg(0,435mmo 1)
の1−(N−n−オクタデジルカルバモイルオキシ)−
2−メトキシ−3−[4−(3−カルボキシレートピリ
ジニオ)ブチルスルホニルアミノコプロパンを得る。収
率47%。
NMR: Sppm(CDCIn) 0.88(t、3
H)、 1.25(s、30H)。
H)、 1.25(s、30H)。
1.48(m、2H)、 1.65〜1.95(n+、
2H)、 1.95〜2.25(m。
2H)、 1.95〜2.25(m。
2H)、 2.9〜3.3(m、6H)、 3.36(
s、31)、 3.50(m、IH)。
s、31)、 3.50(m、IH)。
3.9〜4.3(m、2H)、 4.flr4.9
(a+、2H)、5.65〜5.80(m。
(a+、2H)、5.65〜5.80(m。
IH)、 7.20〜7.50(m、 IH)、 7.
90〜8.10(m、 IH)、 8.7Ch8.90
(m、IH)、 8.90〜9.10(m、IH)、
9.25〜9.50(m。
90〜8.10(m、 IH)、 8.7Ch8.90
(m、IH)、 8.90〜9.10(m、IH)、
9.25〜9.50(m。
IR:l/maX(CHCIs) 3450,2920
.2850,1710゜1640、1615.151G
、 1460.1360.1210゜1135 am−
’ 元素分析(CmJieOJJ4.2HmO)計算値(X
) C59,74,H9,33,N 6.33. S
4.83゜実験値(X) C59,61,H9,36,
N 6.26. S 4.63゜(以下余白) 参考例23 2−アミノメチル−2−n−ヘキサデシルチオメチルテ
トラヒドロフランIVblの製造bt 2−n−ヘキサデシルチオメチル−2−ヒドロキシメチ
ルテトラヒドロフランIVblを用いて、参4例3と同
様に反応させ、後処理を行なう、フタルイミド体m、
p、 54.5−55.5℃、仕込み量および生成物の
物性を第5表および第6表に示す。
.2850,1710゜1640、1615.151G
、 1460.1360.1210゜1135 am−
’ 元素分析(CmJieOJJ4.2HmO)計算値(X
) C59,74,H9,33,N 6.33. S
4.83゜実験値(X) C59,61,H9,36,
N 6.26. S 4.63゜(以下余白) 参考例23 2−アミノメチル−2−n−ヘキサデシルチオメチルテ
トラヒドロフランIVblの製造bt 2−n−ヘキサデシルチオメチル−2−ヒドロキシメチ
ルテトラヒドロフランIVblを用いて、参4例3と同
様に反応させ、後処理を行なう、フタルイミド体m、
p、 54.5−55.5℃、仕込み量および生成物の
物性を第5表および第6表に示す。
参考例24
2− (3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル)
−2−n−ヘキサデシルチオメチルテトラヒドロフラ
ンl邑の製造 455°C1仕込み量および生成物の物性を第7表に示
す。
−2−n−ヘキサデシルチオメチルテトラヒドロフラ
ンl邑の製造 455°C1仕込み量および生成物の物性を第7表に示
す。
参考例25
2−n−ヘキサデシルチオメチル−2−(3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミンメチル)テトラヒドロフラン
■b1の製造 Vb1 11b1 2−アミノメチル−2−n−ヘキサデシルチオメチルテ
トラヒドロフランIVblを用いて、参考例4と同様に
反応許せ、後処理を行なう、 m、p、44.5−2−
(3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル) −
2−n−ヘキサデシルチオメチルテトラヒドロフラン肱
を用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処理を行なう
。m、 p、 36−37℃、仕込み量および物性を第
8表に示す。
ロピルスルホニルアミンメチル)テトラヒドロフラン
■b1の製造 Vb1 11b1 2−アミノメチル−2−n−ヘキサデシルチオメチルテ
トラヒドロフランIVblを用いて、参考例4と同様に
反応許せ、後処理を行なう、 m、p、44.5−2−
(3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル) −
2−n−ヘキサデシルチオメチルテトラヒドロフラン肱
を用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処理を行なう
。m、 p、 36−37℃、仕込み量および物性を第
8表に示す。
実施例29
2−n−ヘキサデシルチオメチル−2−(3−トリメチ
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノメチル)テトラ
ヒドロフラン−Iblの製造参考例26 2−アミノメチル−2−n−オクタデジルカルバモイル
オキシメチルテトラヒドロフラン監部の製造 bt 2−ヘキサデシルチオメチル−2−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミンメチル)テトラヒドロフランを用い
て、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう、 m
、p、79−84°C1仕込み量および生成物の物性を
、第9表に示す。
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノメチル)テトラ
ヒドロフラン−Iblの製造参考例26 2−アミノメチル−2−n−オクタデジルカルバモイル
オキシメチルテトラヒドロフラン監部の製造 bt 2−ヘキサデシルチオメチル−2−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミンメチル)テトラヒドロフランを用い
て、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう、 m
、p、79−84°C1仕込み量および生成物の物性を
、第9表に示す。
2−ヒドロキシメチル−2−n−オクタデジルカルバモ
イルオキシメチルテトラヒドロフランを用いて、参考例
3と同様に反応させ、後処理を行なう、フタルイミド体
m、 p、 91−92℃、仕込み量および生成物の物
性を第5表および第6表に示す。
イルオキシメチルテトラヒドロフランを用いて、参考例
3と同様に反応させ、後処理を行なう、フタルイミド体
m、 p、 91−92℃、仕込み量および生成物の物
性を第5表および第6表に示す。
参考例27
2− (3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル)
−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチルテ
トラヒドロフランI[[b2 2−アミノメチル−2−n−オクタデジルカルバモイル
オキシメチルテトラヒドロフランIVb2を用いて、参
考例4と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第7表に示す。
−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチルテ
トラヒドロフランI[[b2 2−アミノメチル−2−n−オクタデジルカルバモイル
オキシメチルテトラヒドロフランIVb2を用いて、参
考例4と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第7表に示す。
参考例28
2−(3−ヨードプロピルスルホニルアミンメチル)
−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチルテト
ラヒドロフラン1脇の製造 Vb2 ■b2 2− (3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル)
−2−n−オクタデシルカルバモイルオキシメチルテト
ラヒドロフランを用いて、参考例5と同様に反応させ、
後処理を行なう、 m、p、66.5−67.5℃、仕
込み量および生成物の物性を第8表に示す。
−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチルテト
ラヒドロフラン1脇の製造 Vb2 ■b2 2− (3−クロロプロピルスルホニルアミノメチル)
−2−n−オクタデシルカルバモイルオキシメチルテト
ラヒドロフランを用いて、参考例5と同様に反応させ、
後処理を行なう、 m、p、66.5−67.5℃、仕
込み量および生成物の物性を第8表に示す。
実施例30
2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチル−2−
(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノメチル)テ
トラヒドロフラン ヨーダイトIb2の製造 ル)−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチル
テトラヒドロフラン1脇を用いて、実施例部と同様に反
応させ、後処理を行なう、 m、p、57−62℃、仕
込み量および生成物の物性を第10表に示す。
(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノメチル)テ
トラヒドロフラン ヨーダイトIb2の製造 ル)−2−n−オクタデジルカルバモイルオキシメチル
テトラヒドロフラン1脇を用いて、実施例部と同様に反
応させ、後処理を行なう、 m、p、57−62℃、仕
込み量および生成物の物性を第10表に示す。
(以下余白)
2−(3−ヨードブロビルスルホニルアミノメチ参考例
29 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモイルオ
キシプロパノール 1−n−ヘキサデシルチオ−3−トリチルオキシ−2−
プロパツールcl 4.6g (8.0ミリモル)をジ
クロロメタン100mlに溶かし、4−ジメチルアミノ
ピリジン1.17g(9.6ミリモル)お−よびメチル
イソシアナート4. 72ml(80ミリモル)を加え
る.この溶液を室温で72時間放置した後、濃縮する.
これをシリカゲル46gを含むカラムにかけ酢酸エチル
−ヘキサン(1 : 5)で溶出して、1−n−ヘキサ
デシルチオ−2−メチルカルバモイルオキシ−3−トリ
チルオキシプロパンc2の油状粗生成物5.6gを得る
轡これをそのままジクロロメタン100mlに溶かし、
0°Cで三フッ化ホウ素・メタノール錯体1.68ml
(15. 5 ミリモル)を加える.生じた黄色溶液を
0℃で15分間、次いで室温で1時間半攪拌すると沈殿
が生じる.炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、
有機層をシリカゲル80gを含むカラムにかけ酢酸エチ
ル−ヘキサン(1 : 1)で溶出して粗結晶2. 0
7 gを得る.これにペンタンを加え粉砕、洗浄して標
題化合物Vat 1.205gを得る.母液を上記溶媒
を溶出溶媒とするローパーカラムクロマトグラフィーで
分離精製して追加のVclO.321g(総数率49%
)を得る.m.p.53−55℃。
29 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモイルオ
キシプロパノール 1−n−ヘキサデシルチオ−3−トリチルオキシ−2−
プロパツールcl 4.6g (8.0ミリモル)をジ
クロロメタン100mlに溶かし、4−ジメチルアミノ
ピリジン1.17g(9.6ミリモル)お−よびメチル
イソシアナート4. 72ml(80ミリモル)を加え
る.この溶液を室温で72時間放置した後、濃縮する.
これをシリカゲル46gを含むカラムにかけ酢酸エチル
−ヘキサン(1 : 5)で溶出して、1−n−ヘキサ
デシルチオ−2−メチルカルバモイルオキシ−3−トリ
チルオキシプロパンc2の油状粗生成物5.6gを得る
轡これをそのままジクロロメタン100mlに溶かし、
0°Cで三フッ化ホウ素・メタノール錯体1.68ml
(15. 5 ミリモル)を加える.生じた黄色溶液を
0℃で15分間、次いで室温で1時間半攪拌すると沈殿
が生じる.炭酸ナトリウム水溶液を加えて中和した後、
有機層をシリカゲル80gを含むカラムにかけ酢酸エチ
ル−ヘキサン(1 : 1)で溶出して粗結晶2. 0
7 gを得る.これにペンタンを加え粉砕、洗浄して標
題化合物Vat 1.205gを得る.母液を上記溶媒
を溶出溶媒とするローパーカラムクロマトグラフィーで
分離精製して追加のVclO.321g(総数率49%
)を得る.m.p.53−55℃。
NMR :8 (CDCIm) 0.80〜1.70
(m,31H)、2.22(br.s.LH)、 2.
50=2.75 (m.4H)、 2.80 (d.J
=5Hz。
(m,31H)、2.22(br.s.LH)、 2.
50=2.75 (m.4H)、 2.80 (d.J
=5Hz。
3H)、 3.82 (m.2H)、 4.85 (b
r.m.2H)。
r.m.2H)。
(以下余白)
参考例30
3−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモイルオ
キシプロピルアミンNclの製造様に反応させ、後処理
を行なう.仕込み量および生成物の物性を第5表および
第6表に示す。
キシプロピルアミンNclの製造様に反応させ、後処理
を行なう.仕込み量および生成物の物性を第5表および
第6表に示す。
粗フタルイミド体は、メタノール−ジクロロメタン(1
0:l)から再結晶する。
0:l)から再結晶する。
参考例31
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−n
−ヘキサテシルチオー2ーメチルカルバモイルオキシプ
ロパン Vc1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモ3ーヘ
キサテシルチオ−2−メチルカルバモイルイルオキシプ
ロパノール オキシプロピルアミン■c1を用いて、参考例4と同様
に反応許せ、後処理を行なう、 m、p、84.5−8
5.5℃、仕込み量および生成物の物性を第7表に示す
。
−ヘキサテシルチオー2ーメチルカルバモイルオキシプ
ロパン Vc1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモ3ーヘ
キサテシルチオ−2−メチルカルバモイルイルオキシプ
ロパノール オキシプロピルアミン■c1を用いて、参考例4と同様
に反応許せ、後処理を行なう、 m、p、84.5−8
5.5℃、仕込み量および生成物の物性を第7表に示す
。
参考例32
1−n−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−メチルカルバモイルオキシプ
ロパン 酸物の物性を第8表に示す。
スルホニルアミノ)−2−メチルカルバモイルオキシプ
ロパン 酸物の物性を第8表に示す。
実施例31
1−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモイルオ
キシ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト Iclの製造3−(3−クロ
ロプロピルスルホニルアミノ)−1−n−ヘキサデシル
チオ−2−メチルカルバモイルオキシプロパン III
clを用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう.仕込み量および生1−n−ヘキサデシルチオ−3
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メチ
ルカルバモイルオキシプロパン I[clを用いて、実
施例25と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量
および生。
キシ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト Iclの製造3−(3−クロ
ロプロピルスルホニルアミノ)−1−n−ヘキサデシル
チオ−2−メチルカルバモイルオキシプロパン III
clを用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう.仕込み量および生1−n−ヘキサデシルチオ−3
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メチ
ルカルバモイルオキシプロパン I[clを用いて、実
施例25と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量
および生。
酸物の物性を第10表に示す。
実施例32
1−n−ヘキサデシルチオ−2−メチルカルバモイルオ
キシ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイト Ic2の製造 酸物の物性を第9表に示す。
キシ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイト Ic2の製造 酸物の物性を第9表に示す。
参考例33
2−メチルカルバモイルオキシ−l−才クタデジルカル
バモイルオキシ−3−トリチルオキシプロパン懸の製造 1−n−ヘキサデシルチオ−3− (3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ〉−2−メチルカルバモイルオキシ
プロパン I[clを用いて、実施例8と同様に反応き
せ、後処理を行なう.仕込み量および生先に得られた1
−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トリチル
オキシ−2−プロパツールc3 1.26g(2.0ミ
リモル)をジクロロメタン20mlに溶かし、4−ジメ
チルアミノピリジン0.293g(2.4ミリモル)お
よびメチルイソシアナート1. 18ml(20ミリモ
ル)を加える。この溶液を室温で24時間攪拌した後、
溶媒を留去し、残さを酢酸エチル−ヘキサン(1:1)
を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製して標題化合物c40、789g (収率59%
)を得る。 m、p、89−91℃。
バモイルオキシ−3−トリチルオキシプロパン懸の製造 1−n−ヘキサデシルチオ−3− (3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ〉−2−メチルカルバモイルオキシ
プロパン I[clを用いて、実施例8と同様に反応き
せ、後処理を行なう.仕込み量および生先に得られた1
−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トリチル
オキシ−2−プロパツールc3 1.26g(2.0ミ
リモル)をジクロロメタン20mlに溶かし、4−ジメ
チルアミノピリジン0.293g(2.4ミリモル)お
よびメチルイソシアナート1. 18ml(20ミリモ
ル)を加える。この溶液を室温で24時間攪拌した後、
溶媒を留去し、残さを酢酸エチル−ヘキサン(1:1)
を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製して標題化合物c40、789g (収率59%
)を得る。 m、p、89−91℃。
NMRES (CDCIs> 0.86 (t、J=6
Hz、3H)−1,28(br、s、32H)、 2.
74 (d、J=6Hz、3H)、 2.90〜3.4
5 (m。
Hz、3H)−1,28(br、s、32H)、 2.
74 (d、J=6Hz、3H)、 2.90〜3.4
5 (m。
4)1)、 4.24 (d、J=6Hz、2H)、
4.70 (m、2H)、 5.10(m、IH)、
7.15”7.65 (m、15H)。
4.70 (m、2H)、 5.10(m、IH)、
7.15”7.65 (m、15H)。
参考例34
2−メチルカルバモイルオキシ−
デシル力ルバモイル才キシプ口バノールVc2の製造
先に得られた化合物c4 4.5g(6.68ミリモル
)をジクロロメタン45mlに溶かし、0℃にて三フッ
化ホウ素・メタノール錯体1. 08ml(9. 96
ミリモル)を加える.この溶液を室温で4時間攪拌し
た後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する.有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、残渣をメタノ
ール−エーテルより再結晶して標題化合物L62.04
g(収率69%)を得る, rn.p.92−93℃。
)をジクロロメタン45mlに溶かし、0℃にて三フッ
化ホウ素・メタノール錯体1. 08ml(9. 96
ミリモル)を加える.この溶液を室温で4時間攪拌し
た後、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄する.有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、残渣をメタノ
ール−エーテルより再結晶して標題化合物L62.04
g(収率69%)を得る, rn.p.92−93℃。
NMR :l; (CDC1.> 0.86 (t.J
=6Hz.3H)、 1.26(br.s.32H)、
2.75 (d.J:6Hz.3H)、 2.80〜
3.45 (m。
=6Hz.3H)、 1.26(br.s.32H)、
2.75 (d.J:6Hz.3H)、 2.80〜
3.45 (m。
3H)、 3.68 <m.2H)、 4.25 (d
.J=6Hz.2H)、 4.75〜5、25 (m.
3H)。
.J=6Hz.2H)、 4.75〜5、25 (m.
3H)。
IR: νIIIax (Nujol) 3340,
3290。
3290。
1685、 1520. 1375. 1285. 1
150. 1065 am−’参考例35 2−メチルカルバモイルオキシ−3−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロピルアミシンの製造 (以下余白) c2 参考例36 3− (3− クロロプロピルスルホニルアミ/)−2
−メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデシルカ
ルバモイルオキシプロパンにの製造c2 2−メチルカルバモイルオキシ−3−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパノールVc2を用いて、参考
例3と同様に反応させ、後処理を行なう.アミンN c
2 m. p. 91−92℃.仕込み量および生成物
の物性を第5表および第6表に示す。
150. 1065 am−’参考例35 2−メチルカルバモイルオキシ−3−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロピルアミシンの製造 (以下余白) c2 参考例36 3− (3− クロロプロピルスルホニルアミ/)−2
−メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデシルカ
ルバモイルオキシプロパンにの製造c2 2−メチルカルバモイルオキシ−3−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパノールVc2を用いて、参考
例3と同様に反応させ、後処理を行なう.アミンN c
2 m. p. 91−92℃.仕込み量および生成物
の物性を第5表および第6表に示す。
2−メチルカルバモイルオキシ−
デシルカルバモイル才キシブロピルアミン■c2を用い
て、参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう.m.
p,102−104℃,仕込み量および生成物の物性を
第7表に示す。
て、参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう.m.
p,102−104℃,仕込み量および生成物の物性を
第7表に示す。
参考例37
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2メチ
ルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパン I[c2の製造表に示す。
ルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパン I[c2の製造表に示す。
実施例33
2−メチルカルバモイルオキシ−
デシルカルバモイルオキシ−3−(3−キノリニオプロ
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイトIc3の
製造 1[[c2 1[c2 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパンI[[c2を用いて、参考例5
と同様に反応許せ、後処理を行なう。
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイトIc3の
製造 1[[c2 1[c2 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパンI[[c2を用いて、参考例5
と同様に反応許せ、後処理を行なう。
m. p. 97−99℃.仕込み量および生成物の物
性を第83−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)
−2−メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン I[c2を用い、実施
例25と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量お
よび生成物の物性を第10表に示す。
性を第83−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)
−2−メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン I[c2を用い、実施
例25と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量お
よび生成物の物性を第10表に示す。
実施例34
2−メチルカルバモイルオキシ−1−n−オクタデンル
カルバモイノしオキシ−3−(3−トリメチルアンモニ
オプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト I
c4の製造 実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量
および生成物の物性を第9表に示す。
カルバモイノしオキシ−3−(3−トリメチルアンモニ
オプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト I
c4の製造 実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量
および生成物の物性を第9表に示す。
(以下余白)
I[c2
3− (3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メチル力ルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン I[c2を用いて、参考例3
8 〇−オクタデジルカルバモイルーN−トリフェニルメチ
ルセリン メチルエステル婬の製造3.16 (2Lm
)、 3.19 (31(、s)、 3.58 (I
H,m)、 4.21<LH,dd、J=11.61
(z)、 4.37 (LH,dd、J=11.5Hz
)。
メチル力ルバモイルオキシ−1−n−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン I[c2を用いて、参考例3
8 〇−オクタデジルカルバモイルーN−トリフェニルメチ
ルセリン メチルエステル婬の製造3.16 (2Lm
)、 3.19 (31(、s)、 3.58 (I
H,m)、 4.21<LH,dd、J=11.61
(z)、 4.37 (LH,dd、J=11.5Hz
)。
4.69 (LH,t、J=11Hz)、 7.1−7
.3 (9)i、m)、 7.45−7.6(6)1
. m)。
.3 (9)i、m)、 7.45−7.6(6)1
. m)。
参考例39
0−オクタデシルカルバモイルセリンメチルエステルN
−トリフェニルメチルセリン メチルエステル1.67
gとステアリルイソシアナート2.OgのN.N−ジメ
チルホルムアミド10ml溶液を85℃で16時間加熱
する.反応物を氷水にあけて、酢酸エチルで抽出する.
抽出物を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して
得られる残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、ヘキサン:酢酸エチル 3:2)で精製して油状
の標記化合物焔を2,46区(収率82.6%)得る。
−トリフェニルメチルセリン メチルエステル1.67
gとステアリルイソシアナート2.OgのN.N−ジメ
チルホルムアミド10ml溶液を85℃で16時間加熱
する.反応物を氷水にあけて、酢酸エチルで抽出する.
抽出物を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して
得られる残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、ヘキサン:酢酸エチル 3:2)で精製して油状
の標記化合物焔を2,46区(収率82.6%)得る。
NMR (CDC1s)δppm F 0.88 (3
H.t,J=7Hz>、 1.25(30)1,s)、
1.46 <2H.m)、 2.78 (IH.d.
J=10Hz)。
H.t,J=7Hz>、 1.25(30)1,s)、
1.46 <2H.m)、 2.78 (IH.d.
J=10Hz)。
10%稀塩酸5mlを婬573mgのアセトン15ml
溶液に加え室温で一夜放置する.炭酸ナトリウム水溶液
でアルカリ性にした後、酢酸エチルで抽出する。抽出物
を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
留去する.a渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲル15g,酢酸エチル:メタノール 9:1)、つ
いで酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して標記化合物e
3 276mg(収率74、9%)を得る. mp.7
0−71℃;NMR ’ (CDClm)& p9fn
O.89 (3H.t.J”6Hz)、 1.26(
30H,s)、 1.49 (2H.m)、 1.78
(2H.s)、 3.16 (21。
溶液に加え室温で一夜放置する.炭酸ナトリウム水溶液
でアルカリ性にした後、酢酸エチルで抽出する。抽出物
を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下に
留去する.a渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリ
カゲル15g,酢酸エチル:メタノール 9:1)、つ
いで酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して標記化合物e
3 276mg(収率74、9%)を得る. mp.7
0−71℃;NMR ’ (CDClm)& p9fn
O.89 (3H.t.J”6Hz)、 1.26(
30H,s)、 1.49 (2H.m)、 1.78
(2H.s)、 3.16 (21。
m>、 3.73 (IH.m)、 3.76 (3H
.s)、 4.31 (2H.d。
.s)、 4.31 (2H.d。
J:5)1z)、 4.76 (ILs>。
参考例40
2−アミノ−3−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パノールe4の製造 酢酸エチルで抽出する.抽出物を水洗、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して減圧下に濃縮する.残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲノLT, クロロホルム
:メタノール 9:1)次いでヘキサンから再結晶して
標記化合物e41.57g(収率80.9%)を得る,
mp 103−105℃。
パノールe4の製造 酢酸エチルで抽出する.抽出物を水洗、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥して減圧下に濃縮する.残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲノLT, クロロホルム
:メタノール 9:1)次いでヘキサンから再結晶して
標記化合物e41.57g(収率80.9%)を得る,
mp 103−105℃。
NMR : (CDC1.)&ppm O.88
(3Lt.J=6)%z)、 1.26(30H
,s)、 1.49 (2H.m)、 1、73 (3
8,s)、 3.06 (IH。
(3Lt.J=6)%z)、 1.26(30H
,s)、 1.49 (2H.m)、 1、73 (3
8,s)、 3.06 (IH。
m)、 3.17 (2H.m)、 3.51 (2H
.m>、 4.08 (2H.d。
.m>、 4.08 (2H.d。
J=5Hz)、 4.75 (1)1.s)。
参考例41
2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデシルカル
バモイルオキジブロバノール1鮎の製造塩化カルシウム
1. 11 gを水素化ホウ素ナトリウム760mgと
エタノール30mlの混合液に一40℃で加える.混合
物を1時間−20°Cで攪拌する.上記エステル2.
08 gのエタノール50ml溶液を一20℃で滴下す
る.混合物を一20℃で3時間攪拌する.水を加えてメ
チルクロロホルメイト117mgのアセトン8ml溶液
を上記のアミノアルコールe4120mg(7) 3.
3%炭酸ナトリウム水溶液3mlの懸濁液に加える。混
合物を6時間攪拌後水を加え酢酸エチルで抽出する。抽
出物を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下に濃
縮する。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル10g1酢酸エチル)次いでヘキサンから再結晶し
て標記化合物Yet 115mg(収率82.3%)を
得る。 mp 84−85℃。
バモイルオキジブロバノール1鮎の製造塩化カルシウム
1. 11 gを水素化ホウ素ナトリウム760mgと
エタノール30mlの混合液に一40℃で加える.混合
物を1時間−20°Cで攪拌する.上記エステル2.
08 gのエタノール50ml溶液を一20℃で滴下す
る.混合物を一20℃で3時間攪拌する.水を加えてメ
チルクロロホルメイト117mgのアセトン8ml溶液
を上記のアミノアルコールe4120mg(7) 3.
3%炭酸ナトリウム水溶液3mlの懸濁液に加える。混
合物を6時間攪拌後水を加え酢酸エチルで抽出する。抽
出物を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧下に濃
縮する。残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカ
ゲル10g1酢酸エチル)次いでヘキサンから再結晶し
て標記化合物Yet 115mg(収率82.3%)を
得る。 mp 84−85℃。
NMR(CDCIs)sppm 0.89 (3H,t
、J=6Hz)、 1.26(30H,s)、 1.5
0 (2H,m)、 1.61 (IH,s)、 3.
07 (IH。
、J=6Hz)、 1.26(30H,s)、 1.5
0 (2H,m)、 1.61 (IH,s)、 3.
07 (IH。
br、s)、 3.18 (2H,m)、 3.69
(3H,s)、 3.86 (IH。
(3H,s)、 3.86 (IH。
br、s)、 4.20 (2H,d、J=5Hz)、
4.83 <ILs)、 5.23(LH,d、J=
7Hz>。
4.83 <ILs)、 5.23(LH,d、J=
7Hz>。
(以下余白)
参考例42
’1−tart−ブトキシカルボニルアミノ−3−オク
タデジルカルバモイルオキシブロバノールの製造 一ヒ記Velの合成でメチルクロロホルメイトの代りに
ジtart−プチルジカルポネートを用いて同様に合成
する,収率93.4% mp 73−75℃。
タデジルカルバモイルオキシブロバノールの製造 一ヒ記Velの合成でメチルクロロホルメイトの代りに
ジtart−プチルジカルポネートを用いて同様に合成
する,収率93.4% mp 73−75℃。
NMR : (CDCIm)& ppm 0.87 (
3H.t.J=5Hz>、 1.26(30H.s)、
1.44 (9H.s)、 1.56 (2H.rn
>、 3.18 (2H。
3H.t.J=5Hz>、 1.26(30H.s)、
1.44 (9H.s)、 1.56 (2H.rn
>、 3.18 (2H。
m>、 3.63 (2H.m)、 3.81 (LH
.br.s)、 4.18 (2H.d。
.br.s)、 4.18 (2H.d。
J=5Hz)、 4.78 (IH.br.s)、 5
.20 <IH.br.s)参考例43 2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデシルカル
バモイルオキシプロピルアミンIVelの製造 m. p. 85−8fi℃.仕込み量および生成物の
物性を第5表および第6表に示す。
.20 <IH.br.s)参考例43 2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデシルカル
バモイルオキシプロピルアミンIVelの製造 m. p. 85−8fi℃.仕込み量および生成物の
物性を第5表および第6表に示す。
参考例44
’l − tart−ブトキシカルボニルアミノ−3−
オクタデシルカルボニルオキシプロビルアミン■e2の
製造 2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデジルカル
バモイルオキシブロバノールVelを用いて、参考例3
と同様に反応させ、後処理を行なう.フタルイミド体m
. p. 128−129℃;アミン体!風2 − t
art−ブトキシカルボニルアミノ−3−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパンVe2を用いて、参考例3
と同様に反応させ、後処理を行なう.フタルイミド体m
. p. 127(29℃;アミン体IVe269−7
0℃。
オクタデシルカルボニルオキシプロビルアミン■e2の
製造 2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデジルカル
バモイルオキシブロバノールVelを用いて、参考例3
と同様に反応させ、後処理を行なう.フタルイミド体m
. p. 128−129℃;アミン体!風2 − t
art−ブトキシカルボニルアミノ−3−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパンVe2を用いて、参考例3
と同様に反応させ、後処理を行なう.フタルイミド体m
. p. 127(29℃;アミン体IVe269−7
0℃。
仕込み量および生成物の物性を第5表および第6表に示
す。
す。
(以下余白)
参考例45
参考例46
4−アセチルチオメチル−2−フェニル−2−オキサシ
リンe6の製造 4−ヘキサデシルチオメチル−2−フェニル−2−オキ
サシリンe7の製造 4−ヒドロキシメチル−2−フェニル−2−オキサシリ
ン蛯を参考例17と同様に反応し、抽出物をフラッシュ
クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン;酢酸エチ
ル 2:1)次いでヘキサンから結晶化して精製し、標
記化合物e6を針状晶として得る。 mp 59−60
℃6 NMR(CDC1,)&ppm 2.37 (3H,s
)、 3.23 (2H,m)。
リンe6の製造 4−ヘキサデシルチオメチル−2−フェニル−2−オキ
サシリンe7の製造 4−ヒドロキシメチル−2−フェニル−2−オキサシリ
ン蛯を参考例17と同様に反応し、抽出物をフラッシュ
クロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン;酢酸エチ
ル 2:1)次いでヘキサンから結晶化して精製し、標
記化合物e6を針状晶として得る。 mp 59−60
℃6 NMR(CDC1,)&ppm 2.37 (3H,s
)、 3.23 (2H,m)。
4.11 (IH,m)、 4.33−4.62 (2
H)、 7.36−7.55 (3H)。
H)、 7.36−7.55 (3H)。
7.95 (2H,m)−
(以下余白)
上記のチオールエステルe613.28gのメタノール
70m1溶液に0°で攪拌下に10%水酸化ナトリウム
水溶液60m1を加え、室温で2時間攪拌する。水を加
えてエーテルで抽出する。重機層を水洗、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後減圧下で濃縮して粗チオールr、6sg
(収率70.4%)を得る。
70m1溶液に0°で攪拌下に10%水酸化ナトリウム
水溶液60m1を加え、室温で2時間攪拌する。水を加
えてエーテルで抽出する。重機層を水洗、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後減圧下で濃縮して粗チオールr、6sg
(収率70.4%)を得る。
この残渣の無水テトラヒドロフラン溶液(40ml)に
少量ずつ60%ナトリウムヒドリド1.6gを室温で加
える。混合物を30分間攪拌した後、臭化へキナデカン
12.22gの無水テトラヒドロフラン10m1溶液を
加えて室温で一夜攪拌する6反応混合物をエーテルで稀
釈し水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に濃
縮して得られる残渣をフラッシュクロマトグラフィー(
シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル 4:1)次いでヘ
キサンから結晶化して精製し標記化合物e714.68
g (収率62.3%)を針状晶として得る。mp39
−41℃NMR(CDCIs)Sppm 0.88 (
3H,t、J:6.5Hz>、 1.25(26H,s
)、 1.59 (2H,m>、 2.53−2.67
(3H)、 2.99(IH,m)、 4.30 (
IH,m)、 4.43−4.59 (2H)、 7.
36−7.54 (38)、 7.95 (2)t、亀
)。
少量ずつ60%ナトリウムヒドリド1.6gを室温で加
える。混合物を30分間攪拌した後、臭化へキナデカン
12.22gの無水テトラヒドロフラン10m1溶液を
加えて室温で一夜攪拌する6反応混合物をエーテルで稀
釈し水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に濃
縮して得られる残渣をフラッシュクロマトグラフィー(
シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル 4:1)次いでヘ
キサンから結晶化して精製し標記化合物e714.68
g (収率62.3%)を針状晶として得る。mp39
−41℃NMR(CDCIs)Sppm 0.88 (
3H,t、J:6.5Hz>、 1.25(26H,s
)、 1.59 (2H,m>、 2.53−2.67
(3H)、 2.99(IH,m)、 4.30 (
IH,m)、 4.43−4.59 (2H)、 7.
36−7.54 (38)、 7.95 (2)t、亀
)。
参考例47
2−アミノ−3−ヘキサデシルチオプロパノールe8の
製造 上記のオキサゾリンe715.0gを6N−硫酸55m
1に懸濁し105°Cで24時間撹拌する。冷却後10
%水るまで加え、酢酸エチルで抽出する。水洗、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られ
る残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、
クロロホルム→クロロホルム:メタノール 10:1)
次いでジクロロメタン−ヘキサンから結晶化して精製し
て標記化合物11.16g(収率93.7%)を微細な
板状晶として得る。 mp 70−71℃。
製造 上記のオキサゾリンe715.0gを6N−硫酸55m
1に懸濁し105°Cで24時間撹拌する。冷却後10
%水るまで加え、酢酸エチルで抽出する。水洗、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られ
る残渣をフラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、
クロロホルム→クロロホルム:メタノール 10:1)
次いでジクロロメタン−ヘキサンから結晶化して精製し
て標記化合物11.16g(収率93.7%)を微細な
板状晶として得る。 mp 70−71℃。
NMR(CDC1s)& 1)pm 0.88 <
3Lt、J=6.5)1z)、 1.26(26H,
s)、 1.58 (2H,m)、 1.85 (38
,s)、 2.46 (IH。
3Lt、J=6.5)1z)、 1.26(26H,
s)、 1.58 (2H,m)、 1.85 (38
,s)、 2.46 (IH。
dd、J=8.2.13.3Hz)、 2.52 (2
H,t、J=7.3Hz)、 2.66(IH,dd、
J=4.8.13.3Hz>、 3.02 (IH,m
)、 3.42(LH,dd、J:6.5.10.7H
z>、 3.67 (IH,dd、J=4.1゜10.
7Hz)。
H,t、J=7.3Hz)、 2.66(IH,dd、
J=4.8.13.3Hz>、 3.02 (IH,m
)、 3.42(LH,dd、J:6.5.10.7H
z>、 3.67 (IH,dd、J=4.1゜10.
7Hz)。
参考例48
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノ
プロパノールe9の製造 酸化ナトリウム水溶液をわずかにアルカリ性にな参考例
41と同様に反応を行なう。(収率94.6%)mp
55−56℃。
プロパノールe9の製造 酸化ナトリウム水溶液をわずかにアルカリ性にな参考例
41と同様に反応を行なう。(収率94.6%)mp
55−56℃。
NMR(CDCIs)& ppm 0.88 (31(
、t、J=6.4)1z>、 1.26(26H,s)
、 1.58 (2H,m)、 2.55 (2H,t
、J=7.2Hz)。
、t、J=6.4)1z>、 1.26(26H,s)
、 1.58 (2H,m)、 2.55 (2H,t
、J=7.2Hz)。
2.73 (2H,d、J=5.7Hz)、 3.69
(38,s)、 3.67−3.88(3H)、 5
.21 (br、S)。
(38,s)、 3.67−3.88(3H)、 5
.21 (br、S)。
参考例49
3−ヘキサデシルチオ−2−tert−ブトキシカルボ
ニルアミノプロバノールelOの製造参考例42と同様
に反応を行なう。
ニルアミノプロバノールelOの製造参考例42と同様
に反応を行なう。
収率95.9%、 mp 48−50℃NMR(CDC
1s)& ppm 0.88 (31(、t、J=6.
411z)、 1.26(26H,s)、 1.45
(9H,s)、 1.58 (2H,m)、 1.96
(IH。
1s)& ppm 0.88 (31(、t、J=6.
411z)、 1.26(26H,s)、 1.45
(9H,s)、 1.58 (2H,m)、 1.96
(IH。
s)、 2.55 (2H,tJ=7.0Hz)、 2
.71 (2H,d。
.71 (2H,d。
J=4.0Hz>、 3.69−3.82 (3H)、
5.02 (LH,br、s)。
5.02 (LH,br、s)。
参考例50
1−ヘキサデシルチオ−3−メタンスルホニルオキシ−
2−メトキシ力ルポニルアミノブロバンallの製造 り記のアルコールe92.727gのジクロロメタン3
5m1、トリエチルアミン4ml溶液にメタンスルホニ
ルクロリド0.96 gのジクロロメタン5ml溶液を
一10℃で滴下し、同温度で2時間攪拌する0反応液を
エーテルで稀釈し、水、10%塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
2−メトキシ力ルポニルアミノブロバンallの製造 り記のアルコールe92.727gのジクロロメタン3
5m1、トリエチルアミン4ml溶液にメタンスルホニ
ルクロリド0.96 gのジクロロメタン5ml溶液を
一10℃で滴下し、同温度で2時間攪拌する0反応液を
エーテルで稀釈し、水、10%塩酸、炭酸水素ナトリウ
ム水、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒を減圧下に留去して得られる固体をベンゼン−ヘキ
サンから再結晶して標記化合物elf 3.133g
(収率95.7%)を結晶性粉末として得る。 mp
82−83℃。
サンから再結晶して標記化合物elf 3.133g
(収率95.7%)を結晶性粉末として得る。 mp
82−83℃。
NMR(CDCIs)# ppm O,88(3H,t
、J=6.5Hz)、 1.26(26)1.s)、
1.58 (2H,m)、 2.55 (2H,t
、J=7.2Hz)。
、J=6.5Hz)、 1.26(26)1.s)、
1.58 (2H,m)、 2.55 (2H,t
、J=7.2Hz)。
2.68 (IH,dd、J=7.3. 13.5Hz
>、 2.78 (IH,dd。
>、 2.78 (IH,dd。
J=5.2.13.5Hz)、 3.05 (3H,s
)、 3.70 (3)1.s)。
)、 3.70 (3)1.s)。
4.05 (LH,m)、 4.34 (LH,dd
J=4.3. 10.2Hz)。
J=4.3. 10.2Hz)。
4.45 (L)1.dd、J=4.2. 10.21
(z)、 5.10 <11(、d。
(z)、 5.10 <11(、d。
J=8.0Hz)。
参考例51
2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヘキサ
デシルチオ−3−メタンスルホキシプロパンe12の製
造 (IH,dd、J=5.6. 13.5Hz>、 3
.05 (3H,s)、 4.00(IH,m)、
4.32 (IH,dd、J=4.3.10.2Hz)
、 4.45(1)1.dd、、c4.1. 10.2
Hz>、 4.90 (1)1.d、J=7.8Hz
>:参考例52 3−アジド−1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシ力ル
ポニルアミノプロパンリの製造 参考例50と同様に反応を行なう。
デシルチオ−3−メタンスルホキシプロパンe12の製
造 (IH,dd、J=5.6. 13.5Hz>、 3
.05 (3H,s)、 4.00(IH,m)、
4.32 (IH,dd、J=4.3.10.2Hz)
、 4.45(1)1.dd、、c4.1. 10.2
Hz>、 4.90 (1)1.d、J=7.8Hz
>:参考例52 3−アジド−1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシ力ル
ポニルアミノプロパンリの製造 参考例50と同様に反応を行なう。
収率97.9%、 mp 90−91℃。
NMR(CDCIs)Sppm 0.88 (3H,t
、J=6.4Hz)、 1.26(26H,s)、 1
.45 (9H,9)、 1.58 (2H,m)、
2.55 (2H。
、J=6.4Hz)、 1.26(26H,s)、 1
.45 (9H,9)、 1.58 (2H,m)、
2.55 (2H。
t、J=7.1Hz)、 2.67 (LH,dd、J
=7.2.13.5Hz)、 2.76上記のメシレー
トall 4.677gのへキサメチルホスホリックト
リアミド25m1溶液にアジ化ナトリウム1gを加え5
0℃で4時間攪拌する。冷却後反応混合物をエーテルで
稀釈し、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減
圧下に留去する。残渣をフラッシュクロマトグラフィー
(シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル8:1)次いでヘ
キサンから結晶化して精製し標記化合物e133.92
5g (収率94.6%)を微細針状晶として得る。
mp 44.5−45.5℃ NMR(CDCIs)Sl)りm O,88(3H,t
、J=6.5Hz)、 1.26(261,s)、
1.58 (2H,m)、 2.54 (2H,t
、J=7.3Hz>。
=7.2.13.5Hz)、 2.76上記のメシレー
トall 4.677gのへキサメチルホスホリックト
リアミド25m1溶液にアジ化ナトリウム1gを加え5
0℃で4時間攪拌する。冷却後反応混合物をエーテルで
稀釈し、水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減
圧下に留去する。残渣をフラッシュクロマトグラフィー
(シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル8:1)次いでヘ
キサンから結晶化して精製し標記化合物e133.92
5g (収率94.6%)を微細針状晶として得る。
mp 44.5−45.5℃ NMR(CDCIs)Sl)りm O,88(3H,t
、J=6.5Hz)、 1.26(261,s)、
1.58 (2H,m)、 2.54 (2H,t
、J=7.3Hz>。
2.64 (IH,dd、Jニア、3. 13.9Hz
)、 2.73 (IH,dd。
)、 2.73 (IH,dd。
J=6.0. 13.9Hz)、 3.52 (LH
,dd、J=5.0. 12.3Hz)。
,dd、J=5.0. 12.3Hz)。
3.65 (LH,dd、J=4.5. 12.3Hz
)、 3.69 (3H,s)。
)、 3.69 (3H,s)。
3.91 (LH,m)、 4.98 (LH,dJ=
6.5)1z)。
6.5)1z)。
参考例53
3−アジド−2−tart−ブトキシカルボニルアミノ
(LH.dd.、C6.1. 14.0Hz)、
3.50 (IH.dd.、C5.1。
(LH.dd.、C6.1. 14.0Hz)、
3.50 (IH.dd.、C5.1。
12、2Hz)、 3.64 (LH,dd.、C
4.2. 12.2Hz>、 3.86(IH.m
)、 4.81 (IH.d.J=6.5Hz>。
4.2. 12.2Hz>、 3.86(IH.m
)、 4.81 (IH.d.J=6.5Hz>。
参考例54
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノ
プロピルアミンLすの製造 参考例52と同様に反応を行なう.収率93.6%、m
p 63−64℃。
プロピルアミンLすの製造 参考例52と同様に反応を行なう.収率93.6%、m
p 63−64℃。
NMR (CDCIs)ff ppm 0.88 (3
H.tJ=6.4Hz)、 1.26(26H,s)、
1.45 (9H.s)、 1.58 (2H.m>
、 2.54 (2H。
H.tJ=6.4Hz)、 1.26(26H,s)、
1.45 (9H.s)、 1.58 (2H.m>
、 2.54 (2H。
t.J=7.3Hz>、 2.63 (IH.dd.J
=7.4, 14.0Hz)、 2.71上記のアジド
a13 3.875g, トリフェニルホスフィン3
. 19 gのテトラヒドロフラン40ml溶液を20
時間攪拌する.水10mlを加え30分間加熱還流する
.冷却後エーテルで稀釈し水洗、無水硫酸ナトフラムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する.残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム→クロロ
ホルム:メタノール 25:2)次いでヘキサンから結
晶化して精製し標記化合物Lす3.532g(収率97
.2%)を結晶性粉末として得る, mp 49−50
.5℃。
=7.4, 14.0Hz)、 2.71上記のアジド
a13 3.875g, トリフェニルホスフィン3
. 19 gのテトラヒドロフラン40ml溶液を20
時間攪拌する.水10mlを加え30分間加熱還流する
.冷却後エーテルで稀釈し水洗、無水硫酸ナトフラムで
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する.残渣をフラッシュク
ロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム→クロロ
ホルム:メタノール 25:2)次いでヘキサンから結
晶化して精製し標記化合物Lす3.532g(収率97
.2%)を結晶性粉末として得る, mp 49−50
.5℃。
NMR (CDCIs)& ppm 0.88 (3H
.t.J=6.4Hz)、 1.25(、26H.s)
、 1.45 (2H,s)、 1.58 (2H.m
)、 2.54 (21。
.t.J=6.4Hz)、 1.25(、26H.s)
、 1.45 (2H,s)、 1.58 (2H.m
)、 2.54 (21。
t.J=7.3Hz)、 2.62 (IH.dd.
J=6.9. 13.2Hz)、 2.74(1)1
.dd,J=5.7, 13.2Hz>、 2.87
(2H.d.J=5.5Hz)。
J=6.9. 13.2Hz)、 2.74(1)1
.dd,J=5.7, 13.2Hz>、 2.87
(2H.d.J=5.5Hz)。
3、68 (3H.s)、 3.76 (LH,m)、
5.14 (IH.d。
5.14 (IH.d。
J=7.6Hz)。
参考例55
3−ヘキサデシルチオ−2−tart−ブトキシカルポ
ニルアミノブロビルアミンIVe4の製造2、72 (
IH.dd.J=5.5. 13.IHz)、 2
.86 (2H.d。
ニルアミノブロビルアミンIVe4の製造2、72 (
IH.dd.J=5.5. 13.IHz)、 2
.86 (2H.d。
J=5.1Hz)、 3.71 (IH.m)、
4.94 (IH,d,J=7.5Hz)。
4.94 (IH,d,J=7.5Hz)。
参考例56
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシカルボニルアミノ− カルバモイルオキシプロパンI[[elの製造e4 参考例54と同様に反応を行なう.収率95.3%。
トキシカルボニルアミノ− カルバモイルオキシプロパンI[[elの製造e4 参考例54と同様に反応を行なう.収率95.3%。
mp 46−47”C
NMR (CDCIs)Sppffi O.88 (3
H.t.J=6.4Hz>、 1.26(26H.s)
、 1.45 (9H.s)、 1.50−1.66
(4H)、 2.54(2H.t.J=7.3Hz)、
2.62 (IH.dd.J=6.7. 13.1H
z>。
H.t.J=6.4Hz>、 1.26(26H.s)
、 1.45 (9H.s)、 1.50−1.66
(4H)、 2.54(2H.t.J=7.3Hz)、
2.62 (IH.dd.J=6.7. 13.1H
z>。
2−メトキシカルボニルアミノ−3−オクタデジルカル
バモイルオキシプロピルアミン胆を用いて、参考例4と
同様に反応させ、後処理を行なう。
バモイルオキシプロピルアミン胆を用いて、参考例4と
同様に反応させ、後処理を行なう。
m. p. 99−101°C,仕込み量および生成物
の物性を第7表に示す。
の物性を第7表に示す。
(以下余白)
参考例57
’1−tert−ブトキシカルボニルアミノ−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンIIIe2参考例58 3−<3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘ
キサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノプロパ
ンlすの製造 Ve2 頂e2 2−tart−ブトキシカルボニルアミノ−3−オクタ
デシルカルバモイルオキシプロピルアミンNe2を用い
て、参考例4と同様に反応許せ、後処理を行なう, a
+.p.112−115℃.仕込み量および生成物の物
性を第7表に示す。
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンIIIe2参考例58 3−<3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘ
キサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノプロパ
ンlすの製造 Ve2 頂e2 2−tart−ブトキシカルボニルアミノ−3−オクタ
デシルカルバモイルオキシプロピルアミンNe2を用い
て、参考例4と同様に反応許せ、後処理を行なう, a
+.p.112−115℃.仕込み量および生成物の物
性を第7表に示す。
3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノ
プロピルアミンffe3を用いて、参考例4と同様に反
応させ、後処理を行なう.m. p. 67−69℃.
仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
プロピルアミンffe3を用いて、参考例4と同様に反
応させ、後処理を行なう.m. p. 67−69℃.
仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
(以下余白)
参考例59
2−tart−iトキシカルボニルアミノー3−(3−
クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシル
チオプロパンme4の製造 参考例60 2−アミノ−3−(3−クロロプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン1
曵の製造 fe4 11e4 3−ヘキサデシフレチオ−2 − tart−プトキシ
カルボニルアミノブロピルアミン及懸を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう,m.p。
クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシル
チオプロパンme4の製造 参考例60 2−アミノ−3−(3−クロロプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン1
曵の製造 fe4 11e4 3−ヘキサデシフレチオ−2 − tart−プトキシ
カルボニルアミノブロピルアミン及懸を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう,m.p。
too. s−tot. s℃.仕込み量および生成物
の物性を第7表に示す。
の物性を第7表に示す。
(以下余白)
11[e2
トリフルオロ酢酸0. 5mlのジクロロメタン2ml
溶液,を上記のBOCi導体11[e2 252mgの
ジクロロメタン釉1の懸濁液に室温で滴下する.混合物
を室温で2時間攪拌する.炭酸水素ナトリウム水でアル
カリ性にした後、有機層を分離する.水層をジクロロメ
タンで抽出する.有機層を合わせ、水洗、、噴水硫酸ナ
トリウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をフ
ラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホル
ム:メタノールいで酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して
精製して標記化合物m el ’ 190mg(収率8
9,7%)を結晶性粉末として得る, mp 8fr8
8℃;NMR (CDCIs)5ppm o.ss (
3H.t.J=5Hz)、 1.26(30H.s)、
1.50 (2H.m)、 2.20 (2H.br
.s)、 2.30(2H.m)、 3.16 (6H
.m)、 3.69 (2H,t.J=6Hz)、 4
.09(3H.br.s)、 4.88 (LH.br
.s)(以下余白) 参考例61 2−アミノ−3−(3−クロロプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−ヘキサデシルチオプロパンI[Ie2’1[
C4 参考例60と同様に反応を行なう.収率98,4%。
溶液,を上記のBOCi導体11[e2 252mgの
ジクロロメタン釉1の懸濁液に室温で滴下する.混合物
を室温で2時間攪拌する.炭酸水素ナトリウム水でアル
カリ性にした後、有機層を分離する.水層をジクロロメ
タンで抽出する.有機層を合わせ、水洗、、噴水硫酸ナ
トリウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣をフ
ラッシュクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホル
ム:メタノールいで酢酸エチル−ヘキサンで再結晶して
精製して標記化合物m el ’ 190mg(収率8
9,7%)を結晶性粉末として得る, mp 8fr8
8℃;NMR (CDCIs)5ppm o.ss (
3H.t.J=5Hz)、 1.26(30H.s)、
1.50 (2H.m)、 2.20 (2H.br
.s)、 2.30(2H.m)、 3.16 (6H
.m)、 3.69 (2H,t.J=6Hz)、 4
.09(3H.br.s)、 4.88 (LH.br
.s)(以下余白) 参考例61 2−アミノ−3−(3−クロロプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−ヘキサデシルチオプロパンI[Ie2’1[
C4 参考例60と同様に反応を行なう.収率98,4%。
mp7ロー77℃。
NMR (CDC1n)Sppm O.88 (3)1
.t.J=6.4Hz)、 1.26(26H.s)、
1.58 (2Lm)、 2.20 (3Lbr.s
)、 2.30(2H.m)、 2.44−2.55
(38)、 2.65 (IH.dd,J=5.0。
.t.J=6.4Hz)、 1.26(26H.s)、
1.58 (2Lm)、 2.20 (3Lbr.s
)、 2.30(2H.m)、 2.44−2.55
(38)、 2.65 (IH.dd,J=5.0。
13、3Hz)、 2.97 (IH.dd,J=7.
5. 11.8Hz>、 3.07(LH.m)、 3
.19−3.33 (3H)、 3.70 (2H.t
.、C6.2Hz)。
5. 11.8Hz>、 3.07(LH.m)、 3
.19−3.33 (3H)、 3.70 (2H.t
.、C6.2Hz)。
参考例62
2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パン1鮭 Itral’ ツシュクロマトグラフイー(シリカゲル、クロロホルム
:メタノール lo:1)次いで酢酸エチルから再結晶
して精製して標記化合物L&! 459mg(収率84
.8%)を得る, mp 110(12℃;NMR (
CDC1.)& ppm O.88 (3)1.t.J
=61(z)、 1.26(30H.s)、 1.50
(2H.m)、 2.02 (3)1.s)、 2、
28 (2H。
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パン1鮭 Itral’ ツシュクロマトグラフイー(シリカゲル、クロロホルム
:メタノール lo:1)次いで酢酸エチルから再結晶
して精製して標記化合物L&! 459mg(収率84
.8%)を得る, mp 110(12℃;NMR (
CDC1.)& ppm O.88 (3)1.t.J
=61(z)、 1.26(30H.s)、 1.50
(2H.m)、 2.02 (3)1.s)、 2、
28 (2H。
m)、 3.1−3.3 (6H)、 3.69 (2
H.t.、J=6Hz>、 4.1−4.3(3H)、
4.91 (IH.t.J=6Hz>、 5.72
(IH.br.s)。
H.t.、J=6Hz>、 4.1−4.3(3H)、
4.91 (IH.t.J=6Hz>、 5.72
(IH.br.s)。
6、48 (IH.d.J=6Hz>。
(以下余白)
ピリジン0. 77mlのジクロロメタン2ml溶液を
室温で上記のアミン旦el’ 5Q1mgと無水酢酸1
94■のジクロロメタン15ml溶液に加える.室温で
2時間攪拌した後、稀塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液
、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する.溶媒
を減圧下に留去して得られる残渣をフラ参考例63 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2=
(3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバトモ
イルオキシプロパン 1[[al’ ツカゲル、クロロホルム:メタノール いで酢酸エチルから再結晶して精製し標記化合物469
mg(収率88.0%)を得る. fflp 87−9
0°C。
室温で上記のアミン旦el’ 5Q1mgと無水酢酸1
94■のジクロロメタン15ml溶液に加える.室温で
2時間攪拌した後、稀塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液
、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する.溶媒
を減圧下に留去して得られる残渣をフラ参考例63 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2=
(3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバトモ
イルオキシプロパン 1[[al’ ツカゲル、クロロホルム:メタノール いで酢酸エチルから再結晶して精製し標記化合物469
mg(収率88.0%)を得る. fflp 87−9
0°C。
NMR (CDC1.>Sppm 0.88 (3H.
t.J=6Hz)、 1.26(30H,s)、 1.
50 (2H.m)、 2.28 (2H.m)、 2
.77 (3H。
t.J=6Hz)、 1.26(30H,s)、 1.
50 (2H.m)、 2.28 (2H.m)、 2
.77 (3H。
s)、 3.1−3.3 (68)、 3.68 (2
8,t.J’7Hz)、 4.05(IH,br.s)
、 4.15 (2)1.m>、 5.04 (171
,br.s)、 5.51(lH.br.s)、 6.
11 (LH.br.s)。
8,t.J’7Hz)、 4.05(IH,br.s)
、 4.15 (2)1.m>、 5.04 (171
,br.s)、 5.51(lH.br.s)、 6.
11 (LH.br.s)。
(以下余白)
メチルイソシアナート0.2mlを上記のアミンN e
lL480mgのN,N−ジメチルホルムアミド5ml
の溶液に加える.室温で1時間攪拌した後、水にあけて
、酢酸エチルで抽出する.抽出物を無水硫酸ナト1)ラ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をフ
ラッシュクロ1トゲラフイー(シ参考例64 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパンl−の製造 1[[e2’ :1)で精成し、ヘキサンから結晶化して標記化合物1
超924mg(収率88.2%)を得る. mp 86
−88℃。
lL480mgのN,N−ジメチルホルムアミド5ml
の溶液に加える.室温で1時間攪拌した後、水にあけて
、酢酸エチルで抽出する.抽出物を無水硫酸ナト1)ラ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をフ
ラッシュクロ1トゲラフイー(シ参考例64 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパンl−の製造 1[[e2’ :1)で精成し、ヘキサンから結晶化して標記化合物1
超924mg(収率88.2%)を得る. mp 86
−88℃。
NMR (CDCIs>Sppm 0.88 (3H.
t.J=6.5Hz)、 1.26(26H.s)、
1.58 (2)t.m)、 2.03 (3
H.s)、 2.28 (21。
t.J=6.5Hz)、 1.26(26H.s)、
1.58 (2)t.m)、 2.03 (3
H.s)、 2.28 (21。
m)、 2.54 (2H.t.J=7.3Hz)、
2.65 (IH.dd。
2.65 (IH.dd。
J=7.0. 13.5Hz)、 2.76 (IH.
dd.J=5.9. 13.5Hz)。
dd.J=5.9. 13.5Hz)。
3、18−3.37 (4H)、 3.69 (2H.
t.J=6.2Hz)、 4.13(lH.m)、 5
.36 (LH.t.J=6.1Hz>、 6.23
(IH.d。
t.J=6.2Hz)、 4.13(lH.m)、 5
.36 (LH.t.J=6.1Hz>、 6.23
(IH.d。
J=7. 9Hz)。
(以下余白)
上記アミン互且虹962mg(2. 042mmol
)のジクロロメタン20ml溶液に無水酢酸0. 5m
lを加え、ここにピリジン161. 5mg(2. 0
42mmol)のジクロロメタン2ml溶液を室温で滴
下し、1時間攪拌する.溶媒を減圧で留去した後、フラ
ッシュクロマトグラフィー(クロロホルム→クロロホル
ムーメタノール2。
)のジクロロメタン20ml溶液に無水酢酸0. 5m
lを加え、ここにピリジン161. 5mg(2. 0
42mmol)のジクロロメタン2ml溶液を室温で滴
下し、1時間攪拌する.溶媒を減圧で留去した後、フラ
ッシュクロマトグラフィー(クロロホルム→クロロホル
ムーメタノール2。
参考例65
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1ヘキ
サデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)−プロパン
mf2 111e2’ キサンから再結晶し標記化合物11[f21.107g
(収率97.8%)を得る。 mp 79−80℃。
サデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)−プロパン
mf2 111e2’ キサンから再結晶し標記化合物11[f21.107g
(収率97.8%)を得る。 mp 79−80℃。
NMR(CDC1m>δpりffi : 0.88 (
3H,t、J=6.4Hz)。
3H,t、J=6.4Hz)。
1.26 (26H,s)、 1.57 (2H,m)
、 1.88 (LH,br、s)。
、 1.88 (LH,br、s)。
2.28 (2H,m)、 2.54 (2H,t、J
=7.0Hz)、 2.70 (2H。
=7.0Hz)、 2.70 (2H。
m)、 2.78 (3H,s)、 3.17−3.4
1 (4H)、 3.68 (2H,t。
1 (4H)、 3.68 (2H,t。
J=6.2Hz)、 3.99 (IH,m)、 5.
12 (IH,br、s)、 5.78(IH,br、
s)。
12 (IH,br、s)、 5.78(IH,br、
s)。
(以下余白)
上記アミン!」3二1.01 g (2,143mmo
l)のジメチルホルムアミド20m1溶液に、メチルイ
ソシアナート0.2n+1のジメチルホルムアミド2m
l溶液を加え室温で3時間攪拌する0反応液を酢酸エチ
ルで稀釈し、水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸ナト
リウで乾燥する0m媒を留去して得られる結晶をへ参考
例66 2−アセトアミド−3−(N−アセデル−3−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ)−一1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパンmの製造1[eL″ ;Lクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム:
メタノール 20:1)次いで酢酸エチルから再結晶で
精製して標記化合物L&!342mg(収率81.7%
)を得る。 mp 116(17℃。
l)のジメチルホルムアミド20m1溶液に、メチルイ
ソシアナート0.2n+1のジメチルホルムアミド2m
l溶液を加え室温で3時間攪拌する0反応液を酢酸エチ
ルで稀釈し、水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸ナト
リウで乾燥する0m媒を留去して得られる結晶をへ参考
例66 2−アセトアミド−3−(N−アセデル−3−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ)−一1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパンmの製造1[eL″ ;Lクロマトグラフィー(シリカゲル、クロロホルム:
メタノール 20:1)次いで酢酸エチルから再結晶で
精製して標記化合物L&!342mg(収率81.7%
)を得る。 mp 116(17℃。
NMR(CDCIs)δppm 0.88 (3H,t
、J=5Hz)、 1.26(30H,s)、 1.5
0 (2H,m)、 1.99 (3H,s)、 2.
33 (2)1゜m)、 2.46 (3H,s)、
3.17 (2H,m)、 3.58 (2H,t。
、J=5Hz)、 1.26(30H,s)、 1.5
0 (2H,m)、 1.99 (3H,s)、 2.
33 (2)1゜m)、 2.46 (3H,s)、
3.17 (2H,m)、 3.58 (2H,t。
J−7Hz)、 3.69 (2H,t、J=7Hz)
、 3.90 (2H,m)、 4.10(IH,dd
、J:12.5Hz)、 4.22 (IH,dd、J
=12.5Hz)。
、 3.90 (2H,m)、 4.10(IH,dd
、J:12.5Hz)、 4.22 (IH,dd、J
=12.5Hz)。
4.47 (IH,m)、 4.81 (LH,t、J
=5Hz)、 6.08 (LH,d。
=5Hz)、 6.08 (LH,d。
J=7Hz)。
(以下余白)
無水酢酸0.5mlのジクロロメタン2ml溶液を上記
のアミン N el ’ 361mgのトリエチルアミ
ン2mlとジクロロメタ210m1溶液に加える。−夜
室温に放置した後、稀塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液
、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
のアミン N el ’ 361mgのトリエチルアミ
ン2mlとジクロロメタ210m1溶液に加える。−夜
室温に放置した後、稀塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液
、水で順次洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。
溶媒を減圧下に留去して得られる残渣をフラツシ参考例
67 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデシルカルバモイ
ルオキシプロパン11の製造参考例68 2−ブトキシカルボニルアミノ− プロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン IIe2の製造1[[el 1[[a2 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン11を用いて、参セ例5と同様に反応
させ、後処理を行なう,m.p。
67 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデシルカルバモイ
ルオキシプロパン11の製造参考例68 2−ブトキシカルボニルアミノ− プロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン IIe2の製造1[[el 1[[a2 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン11を用いて、参セ例5と同様に反応
させ、後処理を行なう,m.p。
93℃.仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
2−プトキシカルボニJレアミノ−3−(3−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ ルバモイルオキシプロパンI[[e2を用いて、参考例
5と同様に反応させ、後処理を行なう, m.p.96
−98°C.仕込み量および生成物の物性を第8表に示
す。
ロピルスルホニルアミノ ルバモイルオキシプロパンI[[e2を用いて、参考例
5と同様に反応させ、後処理を行なう, m.p.96
−98°C.仕込み量および生成物の物性を第8表に示
す。
参考例69
2−アセトアミド−3−(3−ヨードプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンl鮭の製造 参考例70 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバモイル
オキシプロパン nflの製造 11[gl 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンl鮭を用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処理
を行なう, m.p.IQl(02°C.仕込み量およ
び生成物の物性を第8表に示す。
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンl鮭の製造 参考例70 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバモイル
オキシプロパン nflの製造 11[gl 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロ
パンl鮭を用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処理
を行なう, m.p.IQl(02°C.仕込み量およ
び生成物の物性を第8表に示す。
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン■f1を用いて、参考例5と同様に反
応させ、後処理を行なう, m. p. 87−89℃
.仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
(3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン■f1を用いて、参考例5と同様に反
応させ、後処理を行なう, m. p. 87−89℃
.仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
参考例71
1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ〉−2−メトキシカルボニルアミノプロパ
ン IIe3の製造 参考例72 2−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヘキサデシルチオ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンl懸の製造 11e3 e4 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノプロ
パン 反応させ、後処理を行なう, m.p.79−81°C
.仕込み看および生成物の物性を第8表に示す。
ホニルアミノ〉−2−メトキシカルボニルアミノプロパ
ン IIe3の製造 参考例72 2−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヘキサデシルチオ
−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ンl懸の製造 11e3 e4 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノプロ
パン 反応させ、後処理を行なう, m.p.79−81°C
.仕込み看および生成物の物性を第8表に示す。
2−ブトキシカルボニルアミノ−3−(3−クロロプロ
ピルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパ
ン me4を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処
理を行なう. m.p.82−83℃.仕込み量および
生成物の物性を第8表に示す。
ピルスルホニルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパ
ン me4を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処
理を行なう. m.p.82−83℃.仕込み量および
生成物の物性を第8表に示す。
参考例73
2−アセトアミド−1−ヘキサデシルチオ−3−(3−
ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン1感 参考例74 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ’)−2−(3−メチルウレイド)プロパ
ン1μの製造 ]11g2 f2 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパン几を用いて
、参考例5と同様に反応させ、後処理を行なう, m.
p.75−76°C.仕込み量および生成物の物性を第
8表に示す。
ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン1感 参考例74 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ’)−2−(3−メチルウレイド)プロパ
ン1μの製造 ]11g2 f2 2−アセトアミド−3−(3−クロロプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−ヘキサデシルチオプロパン几を用いて
、参考例5と同様に反応させ、後処理を行なう, m.
p.75−76°C.仕込み量および生成物の物性を第
8表に示す。
3− (3− クロロプロピルスルホニルアミノ)−1
−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)プロ
パン I[If2を用いて、参考例5と同様に反応させ
、後処理を行なう, m.p.70−71℃.仕込み量
および生成物の物性を第8表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)プロ
パン I[If2を用いて、参考例5と同様に反応させ
、後処理を行なう, m.p.70−71℃.仕込み量
および生成物の物性を第8表に示す。
参考例75
2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンjLH=Aの製造m、 9.118
119°C1仕込み量および生成物の物性を第8表に示
す。
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンjLH=Aの製造m、 9.118
119°C1仕込み量および生成物の物性を第8表に示
す。
実施例35
1−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−メトキシカ
ルボニルアミノ−3−(3−トリメチルアンモニオプロ
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト−Iel
の製造 2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデシルカルバモ
イルオキシプロパンllを用いて、参考例5と同様に反
応させ、後処理を行なう。
ルボニルアミノ−3−(3−トリメチルアンモニオプロ
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト−Iel
の製造 2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデシルカルバモ
イルオキシプロパンllを用いて、参考例5と同様に反
応させ、後処理を行なう。
3− (3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパン I[elを用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
メトキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパン I[elを用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
実施例36
2−tart−ブトキシカルボニルアミノ−1−オクタ
デシルカルバモイルオキシ− ルアンモニオブロビルスルホニルアミノ)プロパン ヨ
ーダイト居の製造 ーC1実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう.仕
込み量および生成物の物性を第9表に示す。
デシルカルバモイルオキシ− ルアンモニオブロビルスルホニルアミノ)プロパン ヨ
ーダイト居の製造 ーC1実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう.仕
込み量および生成物の物性を第9表に示す。
実施例37
2−アセトアミド−1−オクタデシルカルバモイルオキ
シ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニ
ルアミノ)フロパン ヨーダイト上鮎の製造 1e2 g1 2 − tert − フトキシカルボニルアミノ−3
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−1−オク
タデシルカルバモイルオキシプロパン−1[e2ヲ用い
2−アセトアミド−3−(3−ヨードプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−才クタデシル力ルバモイル才キシプロ
パン1訂を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理
を行なう、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す
。
シ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニ
ルアミノ)フロパン ヨーダイト上鮎の製造 1e2 g1 2 − tert − フトキシカルボニルアミノ−3
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−1−オク
タデシルカルバモイルオキシプロパン−1[e2ヲ用い
2−アセトアミド−3−(3−ヨードプロピルスルホニ
ルアミノ)−1−才クタデシル力ルバモイル才キシプロ
パン1訂を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理
を行なう、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す
。
実施例38
1−オクタデジルカルバモイルオリキシ−メチルウレイ
ド)−3−(3− トリメチルアンモニオプロピルスル
ホニルアミノ)プロパン ヨーダイト Iffの製造 モイルオキシプロパン I[flを用いて、実施例8と
同様に反応きせ、後処理を行なう.仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
ド)−3−(3− トリメチルアンモニオプロピルスル
ホニルアミノ)プロパン ヨーダイト Iffの製造 モイルオキシプロパン I[flを用いて、実施例8と
同様に反応きせ、後処理を行なう.仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
実施例39
1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノ
− スルホニルアミノ)プロパン ヨーダイFI@3の製造 e3 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−才クタデジルカルバ1−ヘ
キサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−2−メトキシカルボニルアミノプロパン1す
を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
− スルホニルアミノ)プロパン ヨーダイFI@3の製造 e3 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−才クタデジルカルバ1−ヘ
キサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−2−メトキシカルボニルアミノプロパン1す
を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
実施例40
2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−l−ヘキサ
デシルチオ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピル
スルホニルアミノ)プロパン ヨータイトIe4の製造 ルアミノ)プロパン ffe4を用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
デシルチオ−3−(3−トリメチルアンモニオプロピル
スルホニルアミノ)プロパン ヨータイトIe4の製造 ルアミノ)プロパン ffe4を用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
実施例41
2−アセトアミド−1−ヘキサデシルチオ−3−(3−
トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロ
パン ヨーダイト1婬の製造I[e4 1[g2 2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−サデシルチ
オ−3−(3−ヨードプロピルスルホニ2−アセトアミ
ド−1−ヘキサデシルチオ−3−〈3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)プロパン1Gを用いて、実施例8と
同様に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロ
パン ヨーダイト1婬の製造I[e4 1[g2 2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−サデシルチ
オ−3−(3−ヨードプロピルスルホニ2−アセトアミ
ド−1−ヘキサデシルチオ−3−〈3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)プロパン1Gを用いて、実施例8と
同様に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
実施例42
1−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)−
3−(3−トリメチルアンモニオプロピルアミノ)プロ
パン ヨーダイト1Bの製造 性を第9表に示す。
3−(3−トリメチルアンモニオプロピルアミノ)プロ
パン ヨーダイト1Bの製造 性を第9表に示す。
実施例43
2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−トリメチ
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパン ヨーダイト1Gの
製造 1[f2 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−(3−メチルウレイド)プロパン
[f2を用いて、実施例8と同様に反応許せ、後処理
を行なう、仕込み量および生成物の物2−アセトアミド
−3−(N−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパ
ン−1」】を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処
理を行なう、仕込みはおよび生成物の物性を第9表に示
す。
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)−1−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパン ヨーダイト1Gの
製造 1[f2 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ)−2−(3−メチルウレイド)プロパン
[f2を用いて、実施例8と同様に反応許せ、後処理
を行なう、仕込み量および生成物の物2−アセトアミド
−3−(N−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパ
ン−1」】を用いて、実施例8と同様に反応させ、後処
理を行なう、仕込みはおよび生成物の物性を第9表に示
す。
実施例44
1−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−メトキシカ
ルボニルアミノ−3−(3−キノリニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイトIe5の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン11を用いて、実施例25と同様に反
応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性
を第10表に示す。
ルボニルアミノ−3−(3−キノリニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイトIe5の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシカルボニルアミノ−1−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン11を用いて、実施例25と同様に反
応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性
を第10表に示す。
(以下余白)
実施例45
2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−タデジルカ
ルバモイルオキシ−3−(3−キノリニオプロピルスル
ホニルアミノ)プロパン ヨーダイト Ie6の製造 ℃、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう。仕
込み量および生成物の物性を第10表に示す。
ルバモイルオキシ−3−(3−キノリニオプロピルスル
ホニルアミノ)プロパン ヨーダイト Ie6の製造 ℃、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう。仕
込み量および生成物の物性を第10表に示す。
実施例46
2−アセトアミド−1−才クタデジルカルバモイルオキ
シ−3− (3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト1己の製造e2 2− tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(3
−ヨードプロピルスルホニルアミノ〉−1−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン−1[e2を用い2−ア
セトアミド−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンJ
Lmを用いて、実施例25と同様に反応許せ、後処理を
行なう.仕込み量および生成物の物性を第10表に示す
。
シ−3− (3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト1己の製造e2 2− tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(3
−ヨードプロピルスルホニルアミノ〉−1−オクタデジ
ルカルバモイルオキシプロパン−1[e2を用い2−ア
セトアミド−3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミ
ノ)−1−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンJ
Lmを用いて、実施例25と同様に反応許せ、後処理を
行なう.仕込み量および生成物の物性を第10表に示す
。
実施例47
1−才クタデジルカルバモイルオキシ−2− (3−メ
チルウレイド)−3−(3−キノリニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイ)’If3の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバトモイ
ルオキシプロパン と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生
成物の物性を第10表に示す。
チルウレイド)−3−(3−キノリニオプロピルスルホ
ニルアミノ)プロパン ヨーダイ)’If3の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチルウレイド)−1−オクタデジルカルバトモイ
ルオキシプロパン と同様に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生
成物の物性を第10表に示す。
実施例48
1−ヘキサデシルチオ−2−メトキシカルボニルアミノ
−3− (3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)
プロパン ヨーダイト1虹の製造e3 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ ノプロパン I[e3を用いて、実施例25と同様に反
応許せ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の物性
を第10表に示す。
−3− (3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)
プロパン ヨーダイト1虹の製造e3 1−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピルスル
ホニルアミノ ノプロパン I[e3を用いて、実施例25と同様に反
応許せ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の物性
を第10表に示す。
(以下余白)
実施例49
2−tart−プトキシカルボニJレアミノ−1−ヘキ
サデシルチオ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニ
ルアミノ)プロパン ヨーダイト Ie8の製造 e4 2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヘキサ
デシルチオ−3− (3−ヨードプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン IIe4を用いて、実施例25と同様
に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の
物性を第1O表に示す。
サデシルチオ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニ
ルアミノ)プロパン ヨーダイト Ie8の製造 e4 2−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1−ヘキサ
デシルチオ−3− (3−ヨードプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン IIe4を用いて、実施例25と同様
に反応させ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の
物性を第1O表に示す。
実施例50
2−アセトアミド−1−ヘキサデシルチオ−3−(3−
キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨー
ダイト1Cの製造 年を用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行
なう.仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨー
ダイト1Cの製造 年を用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行
なう.仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
実施例51
1−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチルウレイド)−
3−(3−*ノリニオプロピルアミノ)プロパンヨーダ
イト1ムの製造 1g2 f2 2−アセトアミド−1−ヘキサデシルチオ−3−(3−
ヨードプロピルスルホニルアミノ)フロパンl−ヘキサ
デシルチオ−3−(3−ヨードプロビルスルホニルアミ
ノ)−2−(3−メチルウレイド)プロパン Mf2を
用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう
、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
3−(3−*ノリニオプロピルアミノ)プロパンヨーダ
イト1ムの製造 1g2 f2 2−アセトアミド−1−ヘキサデシルチオ−3−(3−
ヨードプロピルスルホニルアミノ)フロパンl−ヘキサ
デシルチオ−3−(3−ヨードプロビルスルホニルアミ
ノ)−2−(3−メチルウレイド)プロパン Mf2を
用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう
、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
(以下余白)
実施例52
2−アセトアミド−3−(N−アセテルー3−キノノニ
オプロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン ヨーダイト上」の製造 2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンlCを用いて、実施例25と同様に
反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物を第
10表に示す。
オプロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカル
バモイルオキシプロパン ヨーダイト上」の製造 2−アセトアミド−3−(N−アセチル−3−ヨードプ
ロピルスルホニルアミノ)−1−オクタデジルカルバモ
イルオキシプロパンlCを用いて、実施例25と同様に
反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物を第
10表に示す。
(以下−余白)
参考例76
1− tert−ブチルジメチルシリロキシ−3−トリ
フェニルメトキシプロパン−2−オール 鈷の製造 tart−ブチルジメチルシリルクロリド14.2g(
94mM)及びイミダゾール12.8g (198mM
)をジメチルホルムアミド200m1に溶解し、室温に
おいて攪拌する。30分後、この反応溶液に、3−トリ
フェニルメトキシ−1,2−プロパンジオールth 3
1゜45g (94mM)のジメチルホルムアミド10
0m1溶液を滴下した後、室温において2時間攪拌する
。
フェニルメトキシプロパン−2−オール 鈷の製造 tart−ブチルジメチルシリルクロリド14.2g(
94mM)及びイミダゾール12.8g (198mM
)をジメチルホルムアミド200m1に溶解し、室温に
おいて攪拌する。30分後、この反応溶液に、3−トリ
フェニルメトキシ−1,2−プロパンジオールth 3
1゜45g (94mM)のジメチルホルムアミド10
0m1溶液を滴下した後、室温において2時間攪拌する
。
反応溶液を氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出
する。ジクロロメタン着をさらに水で2回、飽和食塩水
で1回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去する。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより分離精製rる・ドにより、標題化合物2hが
油状物質として40、7 g得られる、溶出溶媒:トル
エン−トルエン−酢酸エチル(9:1)コ収率96に NMR: l;ppm (CDC1,) 0.02
& 0.03 (s、各3H)。
する。ジクロロメタン着をさらに水で2回、飽和食塩水
で1回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去する。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーにより分離精製rる・ドにより、標題化合物2hが
油状物質として40、7 g得られる、溶出溶媒:トル
エン−トルエン−酢酸エチル(9:1)コ収率96に NMR: l;ppm (CDC1,) 0.02
& 0.03 (s、各3H)。
0.84 (s、9H)、 2.46 (d、J=5H
z、LH)。
z、LH)。
3.14 (ABX、J=9.2 & 5.84H2,
IH)、 3.22(ABX、J=9.2 & 5.7
6Hz、LH)、 3.67 (ABX。
IH)、 3.22(ABX、J=9.2 & 5.7
6Hz、LH)、 3.67 (ABX。
J=9.40.& 4.91Hz、LH>、 3.70
(ABX。
(ABX。
J:9.40 & 3.09Hz、LH)、 3.75
−3.9 (m。
−3.9 (m。
IH)、 7.1−7.5 (m、15H)(以下余白
) 参考例77 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン塾及ヒ1− tart” ブ
チルジメチルシリロキシ−2−(5−メチル−LH−テ
トラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシプ
ロパン31の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−3−トリ
フェニルメトキシプロパン−2−オールzht、og(
2,23mM)、トリフェニルホスフィン877n+g
(3,35mM)、及びアゾジカルボン酸ジエチル0.
53m1(3,35mM>をTHF 30m1に溶解し
、0℃、攪拌下、5−メチルテトラゾール281mg
(3,35mM)を少量ずつ加える0反応溶液を室温に
おいて15時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液及びジクロ1メタンの混合物にあけ抽出する。得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより標題化
合物3hO,74g<収率64%)及び3i0.36g
(収率31%)が得られる。
) 参考例77 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン塾及ヒ1− tart” ブ
チルジメチルシリロキシ−2−(5−メチル−LH−テ
トラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシプ
ロパン31の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−3−トリ
フェニルメトキシプロパン−2−オールzht、og(
2,23mM)、トリフェニルホスフィン877n+g
(3,35mM)、及びアゾジカルボン酸ジエチル0.
53m1(3,35mM>をTHF 30m1に溶解し
、0℃、攪拌下、5−メチルテトラゾール281mg
(3,35mM)を少量ずつ加える0反応溶液を室温に
おいて15時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液及びジクロ1メタンの混合物にあけ抽出する。得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより標題化
合物3hO,74g<収率64%)及び3i0.36g
(収率31%)が得られる。
[溶出溶媒:n−ヘキサン−トルエン(1:1)〜トル
エンー酢酸エチル(9: t)コ 化合物3h油状物質 NMR:Sppm (CDC1,) −0,10(s
、38)、 −0,08(s、3H)、 0.74 (
s、9H)、2.54 (s、3H)、 3.57(A
BX、J=9.8 & 4.6Hz、IH)、 3.6
3 (ABX。
エンー酢酸エチル(9: t)コ 化合物3h油状物質 NMR:Sppm (CDC1,) −0,10(s
、38)、 −0,08(s、3H)、 0.74 (
s、9H)、2.54 (s、3H)、 3.57(A
BX、J=9.8 & 4.6Hz、IH)、 3.6
3 (ABX。
J:9.8 & 7.6Hz、IH)、 4.0−4.
15 (m、2H)。
15 (m、2H)。
4.95−5.15 (m、IH)、 7.1−7.3
5 (m、15H)’。
5 (m、15H)’。
化合物旦油状物質
NMRs Sppm (CDC1,) −0,
16(s、3H)、 −0,09(s、3H)、 0
.73 (s、9H)、 2.56 (s、3H)、
3.59(ABX、J=9.8 & 5.6Hz、LH
)、 3.67 (ABX。
16(s、3H)、 −0,09(s、3H)、 0
.73 (s、9H)、 2.56 (s、3H)、
3.59(ABX、J=9.8 & 5.6Hz、LH
)、 3.67 (ABX。
J=9.8 & 9.4Hz、IH)、 3.9
1 <ABX、J=10.4 &9.9Hz、LH
)、 3.97 (ABX、J=LQ、4 & 5.9
%%2゜LH)、 4.35−4.5 (m、IH
)、 7.15−7.4(m、L5H)。
1 <ABX、J=10.4 &9.9Hz、LH
)、 3.97 (ABX、J=LQ、4 & 5.9
%%2゜LH)、 4.35−4.5 (m、IH
)、 7.15−7.4(m、L5H)。
(以下余白)
参考例78
2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール4hの製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン並17.2g (33,4m
M)をテトラヒドロフラン300m1に溶解した後、1
Mテトラ−n−ブチルアンモニウム フルオライドのテ
トラヒドロフラン溶液36.8+++1 (36,7m
M)を滴下する。室温において10分間攪拌した後、反
応溶液を氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出す
る。ジクロロメタン層を水で1回、飽和食塩水で1回洗
った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。得られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を
溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーにより分
離精製する事により標題化合物4hが12.8g(収率
96z)が得られる。融点126(27℃(ジクロロメ
タン−メタノールから再結晶) NMR:εppm (CDCIs) 2.49 (s
、3H)、 2.94(t、J=6.5Hz、LH)、
3.6−3.75 (m、2H)。
3−トリフェニルメトキシプロパツール4hの製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン並17.2g (33,4m
M)をテトラヒドロフラン300m1に溶解した後、1
Mテトラ−n−ブチルアンモニウム フルオライドのテ
トラヒドロフラン溶液36.8+++1 (36,7m
M)を滴下する。室温において10分間攪拌した後、反
応溶液を氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出す
る。ジクロロメタン層を水で1回、飽和食塩水で1回洗
った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去す
る。得られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を
溶出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーにより分
離精製する事により標題化合物4hが12.8g(収率
96z)が得られる。融点126(27℃(ジクロロメ
タン−メタノールから再結晶) NMR:εppm (CDCIs) 2.49 (s
、3H)、 2.94(t、J=6.5Hz、LH)、
3.6−3.75 (m、2H)。
3.95−4.3 (m、2H)、 4.9−5.1
(m、LH)。
(m、LH)。
7.15−7.45 (m、15H)。
参考例79
2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール41の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン3i 5.92g (12m
M>及ヒIMテトラーn−ブチルアンモニウム フルオ
ライドのテトラヒドロフラン溶液12.7ml (12
,7mM)をテトラヒドロフラン100m1中、参考例
78と同様に反応、後処理を行い、標題化合物4i4.
17g(収率911)ヲ得る。 m、p、148−15
0℃NMR: Sppm (CDC1,) 2.49
(s、3H)、 3.5−3.65(m、3H)、
3.9−4.2 (m、2H)、 4.35−4.5(
m、LH)、 7.1−7.35 (m、15H)。
3−トリフェニルメトキシプロパツール41の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−3−トリ
フェニルメトキシプロパン3i 5.92g (12m
M>及ヒIMテトラーn−ブチルアンモニウム フルオ
ライドのテトラヒドロフラン溶液12.7ml (12
,7mM)をテトラヒドロフラン100m1中、参考例
78と同様に反応、後処理を行い、標題化合物4i4.
17g(収率911)ヲ得る。 m、p、148−15
0℃NMR: Sppm (CDC1,) 2.49
(s、3H)、 3.5−3.65(m、3H)、
3.9−4.2 (m、2H)、 4.35−4.5(
m、LH)、 7.1−7.35 (m、15H)。
(以下余白)
参考例80
1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン51の製造 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)=
3−トリフェニルメトキシプロパツール4i 1.86
g(4,6mM)及びトリエチルアミン0.71m1
(5,1mM)をジクロロメタン50m1に溶解し、0
℃、攪拌下、メタンスルホニルクロリド0.38m1
(4,8mM)を滴下した後、次第に室温に戻し終夜放
置する。
テトラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン51の製造 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)=
3−トリフェニルメトキシプロパツール4i 1.86
g(4,6mM)及びトリエチルアミン0.71m1
(5,1mM)をジクロロメタン50m1に溶解し、0
℃、攪拌下、メタンスルホニルクロリド0.38m1
(4,8mM)を滴下した後、次第に室温に戻し終夜放
置する。
反応溶液は氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出
する。ジクロロメタン層を水で2回、飽和食塩水で1回
洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去す
る事によりメタンスルホネート体を得る。水素化ナトリ
ウム(60%油性懸濁物)204mg(5,1mに)及
びn−ヘキサデシル メルカプタン(純度98%) 1
.75m1 (5,5mM)をベンゼン20m1中、7
0℃で30分間反応させる0反応溶液を冷却後、上記の
メタンスルホネート体のベンゼン20m1 r!j液を
滴下し、次にジシクロへキシル−18−クラウン−61
00mgを加えた後、室温において4時間反応させる0
反応溶液を氷水及び酢酸エチルの混合物にあけ抽出する
。酢酸エチル層を水で1回、飽和食塩水で1回洗った後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。得られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を溶
出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーにより分離
精製する事により、標題化合物5i2.97g(収率1
00%)を油状物質として得る。
する。ジクロロメタン層を水で2回、飽和食塩水で1回
洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去す
る事によりメタンスルホネート体を得る。水素化ナトリ
ウム(60%油性懸濁物)204mg(5,1mに)及
びn−ヘキサデシル メルカプタン(純度98%) 1
.75m1 (5,5mM)をベンゼン20m1中、7
0℃で30分間反応させる0反応溶液を冷却後、上記の
メタンスルホネート体のベンゼン20m1 r!j液を
滴下し、次にジシクロへキシル−18−クラウン−61
00mgを加えた後、室温において4時間反応させる0
反応溶液を氷水及び酢酸エチルの混合物にあけ抽出する
。酢酸エチル層を水で1回、飽和食塩水で1回洗った後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去する
。得られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を溶
出溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーにより分離
精製する事により、標題化合物5i2.97g(収率1
00%)を油状物質として得る。
NMR: Sppm (CDC1,) 0.88 (
t、J=6)1z、3H)。
t、J=6)1z、3H)。
2.21 (t、に7.5Hz、2H)、 2.56
(s、3H)。
(s、3H)。
2.99 (d、J=7.2Hz、2H)、 3.62
(ABX、J:10& 4.9Hz、IH)、3.6
8 (ABX、J=10 & 8.2Hz。
(ABX、J:10& 4.9Hz、IH)、3.6
8 (ABX、J=10 & 8.2Hz。
1)1)、 4.2−4.4 (−11>、 7.
1−7.4(m、15H)。
1−7.4(m、15H)。
参考例81
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)プロパツールVil(7)製
造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン旦2.90g (4,5mM>をメタノール−
テトラヒドロフラン(1: 1) 60m1に溶解して
p−トルエンスルホン酸−水和物170mg (0,9
mM)を加えて室温において一夜放置する0反応溶液を
炭酸水素ナトリウム151mg (1,8mM)を含む
氷水および酢酸エチルの混合物にあけ、抽出する。酢酸
エチル暦を飽和食塩水で1回洗った後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒を留去する。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して標題
化合物L■t、4ag(収率81%)を得る。(溶出溶
媒:トルエンー酢酸エチル(4:l〜1:1>、’、;
クロロメタン−メタノールよす再結晶 mp 77−7
8℃) NMR: Sppm (CDCIs) 0.88 (
t、J=7Hz、3H)。
テトラゾール−1−イル)プロパツールVil(7)製
造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン旦2.90g (4,5mM>をメタノール−
テトラヒドロフラン(1: 1) 60m1に溶解して
p−トルエンスルホン酸−水和物170mg (0,9
mM)を加えて室温において一夜放置する0反応溶液を
炭酸水素ナトリウム151mg (1,8mM)を含む
氷水および酢酸エチルの混合物にあけ、抽出する。酢酸
エチル暦を飽和食塩水で1回洗った後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒を留去する。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製して標題
化合物L■t、4ag(収率81%)を得る。(溶出溶
媒:トルエンー酢酸エチル(4:l〜1:1>、’、;
クロロメタン−メタノールよす再結晶 mp 77−7
8℃) NMR: Sppm (CDCIs) 0.88 (
t、J=7Hz、3H)。
1.4−1.6 (+n、2H)、 2.34 (t、
、c7.4Hz、2H)。
、c7.4Hz、2H)。
2.59 (s、3H)、 3.03 (ABXJ=1
4.4 &10.1Hz、IH)、 3.07 (AB
X、J=14.4 &5.9Hz、IH)、 4.08
(ABX、J=IQ、a & 3.2Hz。
4.4 &10.1Hz、IH)、 3.07 (AB
X、J=14.4 &5.9Hz、IH)、 4.08
(ABX、J=IQ、a & 3.2Hz。
LH>、 4.15 (ABX、J=10.8 & 7
.6Hz、IH)。
.6Hz、IH)。
4.35−4.55 (m、IH)。
(以下余白)
参考例82
2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
厄の製造 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパン−1−オール4i
1.9g (4,7mM)及びn−オクタデシルイソシ
アナート 20m1 (5,6mM>をピリジン40f
f11に溶解し、室温、60時間、攪拌後、60°Cに
おいて2時間加熱する0反応溶液を冷却後、溶媒を留去
し、残渣を氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出
する。ジクロロメタン署を飽和食塩水で1回洗った後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得られ
た残渣をトルエン−酢酸エチル(9;1〜2:1)を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製する事により若干の不純物を含む1−n−オ
クタデジルカルバメート体1.84gを得る。上記に得
られた1−n−オクタデジルカルバメート1本1.84
gをメタノール−テトラヒドロフラン(1:1)混合物
50m1に溶解してp−トルエンスルホン酸−水和物1
50mg (0,79a+M)を加えて室温において一
夜放置する6反応溶液を炭酸水素ナトリウム132mg
(1,6mM>を含む氷水およびジクロロメタンの混
合物にあけ、抽出する。ジクロロメタン層を飽和食塩水
で1回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより分離精製して標題化合物6i1.05&
〈■より収率49%)を得る、溶出溶媒;トルエン−酢
酸エチル−1/1〜l/、〜酢酸エチル;ジクロメタン
ーメタノールより再結晶 融点 80−83°C] NMR: Sppm (CDCIs) 0.88
(t、J=6.4Hz、3H)。
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
厄の製造 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパン−1−オール4i
1.9g (4,7mM)及びn−オクタデシルイソシ
アナート 20m1 (5,6mM>をピリジン40f
f11に溶解し、室温、60時間、攪拌後、60°Cに
おいて2時間加熱する0反応溶液を冷却後、溶媒を留去
し、残渣を氷水及びジクロロメタンの混合物にあけ抽出
する。ジクロロメタン署を飽和食塩水で1回洗った後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得られ
た残渣をトルエン−酢酸エチル(9;1〜2:1)を溶
出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製する事により若干の不純物を含む1−n−オ
クタデジルカルバメート体1.84gを得る。上記に得
られた1−n−オクタデジルカルバメート1本1.84
gをメタノール−テトラヒドロフラン(1:1)混合物
50m1に溶解してp−トルエンスルホン酸−水和物1
50mg (0,79a+M)を加えて室温において一
夜放置する6反応溶液を炭酸水素ナトリウム132mg
(1,6mM>を含む氷水およびジクロロメタンの混
合物にあけ、抽出する。ジクロロメタン層を飽和食塩水
で1回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより分離精製して標題化合物6i1.05&
〈■より収率49%)を得る、溶出溶媒;トルエン−酢
酸エチル−1/1〜l/、〜酢酸エチル;ジクロメタン
ーメタノールより再結晶 融点 80−83°C] NMR: Sppm (CDCIs) 0.88
(t、J=6.4Hz、3H)。
1.4−1.6 (m、21()、 2.54 (s
、3H)、 3.13(quartet、J=6.4
Hz、21()、 4.0−4.25 (m。
、3H)、 3.13(quartet、J=6.4
Hz、21()、 4.0−4.25 (m。
2M)、 4.38 (ABX、J=11.8 &
8.3)1z、IH)。
8.3)1z、IH)。
4.56 (ABX、J=11.8 & 4.5Hz、
IH)、 4.65−4.8 (m、IH)、
5.01 (t、J=5.7)1z、IH)参考例
83 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−ゴーテ
トラゾール−2−イル−3−トリフェニルメトキシプロ
パン5hの製造 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール4h 6.50
g(16mM)、トリエチルアミン2.5ml (18
mM)及びメタンスルホニルクロライド1.3ml (
17mM)をジクロロメタン150m1中、参考例80
と同様に反応、後処理を行い、メタンスルホネート体を
得る。引き続いて、上記のメタンスルホネート体、水素
化ナトリウム(60%油性懸濁物) 0.71g (1
8−)及びn−ヘキサデシル メルカプタン(純度98
%)4.70g (18mM)をベンゼン150m1中
、参考例80と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
助を得る。但し、得られた生成物には少量の不純物を含
んでいるが、トリチル基を脱保護した後、精製する事が
できる。
IH)、 4.65−4.8 (m、IH)、
5.01 (t、J=5.7)1z、IH)参考例
83 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−ゴーテ
トラゾール−2−イル−3−トリフェニルメトキシプロ
パン5hの製造 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール4h 6.50
g(16mM)、トリエチルアミン2.5ml (18
mM)及びメタンスルホニルクロライド1.3ml (
17mM)をジクロロメタン150m1中、参考例80
と同様に反応、後処理を行い、メタンスルホネート体を
得る。引き続いて、上記のメタンスルホネート体、水素
化ナトリウム(60%油性懸濁物) 0.71g (1
8−)及びn−ヘキサデシル メルカプタン(純度98
%)4.70g (18mM)をベンゼン150m1中
、参考例80と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
助を得る。但し、得られた生成物には少量の不純物を含
んでいるが、トリチル基を脱保護した後、精製する事が
できる。
NMR: Sppm (CDC1,) 0.88 (
t、J=7Hz、3H)。
t、J=7Hz、3H)。
2.34 (t、J=7.5Hz、2H)、 2.55
(s、3H)。
(s、3H)。
3.05 (d、J=7.2Hz、2H)、 3.60
(ABX、に10& 5.0Hz、LH)、 3.6
6 (ABX、J=10 & 7.3Hz。
(ABX、に10& 5.0Hz、LH)、 3.6
6 (ABX、J=10 & 7.3Hz。
LH)、 4.9−5.1 (m、IH)、 7.15
−7.5 (m。
−7.5 (m。
15H)。
(以下余白)
参考例84
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)プロパツールVhlの製造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)−3−トリフェニルメトキシプ
ロパン5hの粗生成物10.2g、p−トルエンスルホ
ン酸−水和物500mg (2,6mM) ヲy’ )
) /−ルーテトラヒドロフラン(1: l)200m
l中、参考例81と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物ヱhl 3.17g(収率は化合物仙より49%)
を得る。
トラゾール−2−イル)プロパツールVhlの製造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)−3−トリフェニルメトキシプ
ロパン5hの粗生成物10.2g、p−トルエンスルホ
ン酸−水和物500mg (2,6mM) ヲy’ )
) /−ルーテトラヒドロフラン(1: l)200m
l中、参考例81と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物ヱhl 3.17g(収率は化合物仙より49%)
を得る。
NMR8ppm (CDCIs) 0.88 (t、
J=7Hz、3H)。
J=7Hz、3H)。
1.45−1.65 (m、2H)、 2.48 (t
、J=7.4Hz、2B)。
、J=7.4Hz、2B)。
2.52 (s、3H)、 3.08 (ABX、J=
14.6 & 7.6Hz。
14.6 & 7.6Hz。
IH)、 3.12 (ABX、J:14.6 & 7
.4Hz、LH)。
.4Hz、LH)。
4.16 (ABX、J=12.4 & 4.3Hz、
1)1)、 4.19(ABX、J=12.4 & 7
.7Hz、IH)、 4.9−5.1(m、 LH)
。
1)1)、 4.19(ABX、J=12.4 & 7
.7Hz、IH)、 4.9−5.1(m、 LH)
。
(以下余白)
参考例85
2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
Vh2の製造 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール6h 5.71
g (14mM>、及びn−オクタデシルイソシアナ
ート5.9ml (17mM)をピリジン120m1中
、参考例82と同様に反応、後処理を行い、カルバメー
ト体を得る。但し、得られた生成物には少量の不純物を
含んでいるが、トリチル基を脱保護した後、精製する事
ができる。
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
Vh2の製造 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−トリフェニルメトキシプロパツール6h 5.71
g (14mM>、及びn−オクタデシルイソシアナ
ート5.9ml (17mM)をピリジン120m1中
、参考例82と同様に反応、後処理を行い、カルバメー
ト体を得る。但し、得られた生成物には少量の不純物を
含んでいるが、トリチル基を脱保護した後、精製する事
ができる。
2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
1−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トリフ
ェニルメトキシプロパンの粗生成物5.74g、p−ト
ルエンスルホン酸−水和物400mg (2,1mM)
をメタノール−テトラヒドロフラン(L:L)150m
l中、参考例82と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物Vh23.39gを得る。(収率は化合物色より5
2%) m、p、7ロ一77°C1NMRF 8 pp
m (CDC1,) 0.88 (t、J=7)1z
、3)1)。
1−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−3−トリフ
ェニルメトキシプロパンの粗生成物5.74g、p−ト
ルエンスルホン酸−水和物400mg (2,1mM)
をメタノール−テトラヒドロフラン(L:L)150m
l中、参考例82と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物Vh23.39gを得る。(収率は化合物色より5
2%) m、p、7ロ一77°C1NMRF 8 pp
m (CDC1,) 0.88 (t、J=7)1z
、3)1)。
1.35−1.55 (m、2H)、 2.54 (s
、3H)、 3.14(quartet、J=6.5H
z、2H)、 4.14 (d。
、3H)、 3.14(quartet、J=6.5H
z、2H)、 4.14 (d。
J=5.8Hz、2H)、 4.55−4.7 (m、
2H)、 4.8−4.95 (m、IH)、 5.0
−5.2 (m、1)1)。
2H)、 4.8−4.95 (m、IH)、 5.0
−5.2 (m、1)1)。
(以下余白)
参考例86
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)ブaピルアミンIVi13−
n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テト
ラゾール−1−イル)プロパツール5iヲ用いて、参考
例3と同様に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量およ
び生成物の物性を第5表および第6表に示す。
テトラゾール−1−イル)ブaピルアミンIVi13−
n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テト
ラゾール−1−イル)プロパツール5iヲ用いて、参考
例3と同様に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量およ
び生成物の物性を第5表および第6表に示す。
得られたフタルイミド体は、そのまま次の反応に付す。
参考例87
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−n
−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロパン 1[[ilの製造3−n
−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロピルアミンNilを用いて、参
考例4と同様に反応させ、後処理を行なう、 m、p、
62−62.5℃、仕込み量および生成物の物性を第7
表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロパン 1[[ilの製造3−n
−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロピルアミンNilを用いて、参
考例4と同様に反応させ、後処理を行なう、 m、p、
62−62.5℃、仕込み量および生成物の物性を第7
表に示す。
収率は、3−ヒドロキシ体51かものものである。
(以下余白)
1ril
参考例88
1−n−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロパン I[1lya、 p、
63.5−65.5℃、仕込み量および生成物の物性を
第8表に示す。
スルホニルアミノ)−2−(5−メチル−IH−テトラ
ゾール−1−イル)プロパン I[1lya、 p、
63.5−65.5℃、仕込み量および生成物の物性を
第8表に示す。
実施例53
1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−
テトラゾール−1−イル)−3−(3−トリメチルアン
モニオプロビルスルホニルアミノプロパンヨーダイド1
uの製造 11i1 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ〉−1−
n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テト
ラゾール−1−イル)プロパンIilを用いて、参考例
5と同様に反応させ、後処理を行なう。
テトラゾール−1−イル)−3−(3−トリメチルアン
モニオプロビルスルホニルアミノプロパンヨーダイド1
uの製造 11i1 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ〉−1−
n−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−IH−テト
ラゾール−1−イル)プロパンIilを用いて、参考例
5と同様に反応させ、後処理を行なう。
1−n−ヘキサデシルチオ−3−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ”)−2−(5−メチル−IH−テト
ラシリ−1−イル)プロパン f[ilを用いて、実施
例8と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量およ
び生成物の物性を第9表に示す。
スルホニルアミノ”)−2−(5−メチル−IH−テト
ラシリ−1−イル)プロパン f[ilを用いて、実施
例8と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量およ
び生成物の物性を第9表に示す。
参考例89
2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−不ル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンL■の製造 i2 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノ−ル
V i21.02g (2,25mM)、トリフェニル
ホスフィン885mg (3,38mM)、及び1.8
mMアジ化水素ベンゼン溶液1.9ml (3,38m
M)をテトラヒドロフラン50m1に溶解して一50℃
冷却下、アゾジカルボン酸ジエチル0.53m1 (3
,3B+nM )を滴下する。
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンL■の製造 i2 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノ−ル
V i21.02g (2,25mM)、トリフェニル
ホスフィン885mg (3,38mM)、及び1.8
mMアジ化水素ベンゼン溶液1.9ml (3,38m
M)をテトラヒドロフラン50m1に溶解して一50℃
冷却下、アゾジカルボン酸ジエチル0.53m1 (3
,3B+nM )を滴下する。
反応溶液の温度は2時間かけて0℃まで上げる0次いで
、反応溶液に10%Pdカーボン粉末150mgを加え
て、水素気流下30分間反応する。10%Pdカーボン
粉末を濾去した後、溶媒を留去する。得られた残渣を酢
酸エチル〜クロロホルムーメタノール(9:1)を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製して、標題化合物IVi20.82g(収率8
1%)を得る。
、反応溶液に10%Pdカーボン粉末150mgを加え
て、水素気流下30分間反応する。10%Pdカーボン
粉末を濾去した後、溶媒を留去する。得られた残渣を酢
酸エチル〜クロロホルムーメタノール(9:1)を溶出
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
分離精製して、標題化合物IVi20.82g(収率8
1%)を得る。
NMR: δppm (CDCIn) 0.88 (
t、J=7Hz、3H)。
t、J=7Hz、3H)。
2.52 (s、3H)、 3.13 (quarte
t、J=6.6Hz。
t、J=6.6Hz。
28)、 3.15−3.45 (m、2H)、 4.
23 (ABX、J=12.6 & 9.8Hz、IB
)、 4.52 (ABX、J=12.6 &4.2H
z、11)、 4.5−4.65 <m、1%()、
5.07 (t。
23 (ABX、J=12.6 & 9.8Hz、IB
)、 4.52 (ABX、J=12.6 &4.2H
z、11)、 4.5−4.65 <m、1%()、
5.07 (t。
J=6Hz、IH)。
参考例90
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl且の製
造 ルアミンff12を用いて、参考例4と同様に反応させ
、後処理を行なう、 m、p、74−77℃、仕込み量
および生成物の物性を第7表に示す。
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl且の製
造 ルアミンff12を用いて、参考例4と同様に反応させ
、後処理を行なう、 m、p、74−77℃、仕込み量
および生成物の物性を第7表に示す。
参考例91
3− (3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン![i2
の製造 fi2 (以下余白) 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−n−才クタデシル力ルバモイル才キシブロピ111
i2 実施例54 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
1−n−オクタデシルカルバモイルオキシ−5−(3−
キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨー
ダイト Ii3の製造 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパンlff1
2を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行な
う、 m、p、82.5−83.5℃、仕込み量および
生成物の物性を第8表に示す。
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン![i2
の製造 fi2 (以下余白) 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
3−n−才クタデシル力ルバモイル才キシブロピ111
i2 実施例54 2−(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−
1−n−オクタデシルカルバモイルオキシ−5−(3−
キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨー
ダイト Ii3の製造 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(5−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−
n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパンlff1
2を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行な
う、 m、p、82.5−83.5℃、仕込み量および
生成物の物性を第8表に示す。
(以下余白)
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ〉−2−(
3−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−n
−−オクタデシルカルバモイルオキシプロパン1[i2
を用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行な
う、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
3−メチル−IH−テトラゾール−1−イル)−1−n
−−オクタデシルカルバモイルオキシプロパン1[i2
を用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行な
う、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
参考例92
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)プロピルアミンyhtの製造 参考例93 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
〇−ヘキサデシルチオー2−(3−メチル−2H−テト
ラゾール−2−イル)プロパンIi[hlの製造Vh1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−耐−テ
トラゾール−2−イル)プロパツールvh1を用いて、
参考例3と同様に反応させ、後処理を行なう、フタルイ
ミド体m、 p、 82−83℃、仕込み量および生成
物の物性を第5表および第6表に示す。
トラゾール−2−イル)プロピルアミンyhtの製造 参考例93 3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
〇−ヘキサデシルチオー2−(3−メチル−2H−テト
ラゾール−2−イル)プロパンIi[hlの製造Vh1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−耐−テ
トラゾール−2−イル)プロパツールvh1を用いて、
参考例3と同様に反応させ、後処理を行なう、フタルイ
ミド体m、 p、 82−83℃、仕込み量および生成
物の物性を第5表および第6表に示す。
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)プロピルアミン匹を用いて、参
考例4と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第7表に示す。
トラゾール−2−イル)プロピルアミン匹を用いて、参
考例4と同様に反応きせ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第7表に示す。
参考例94
1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(5−メチル−2H−テトラ
ゾール−2−イル)プロパン l1hlの製造参考例5
と同様に反応させ、後処理を行なう。
スルホニルアミノ)−2−(5−メチル−2H−テトラ
ゾール−2−イル)プロパン l1hlの製造参考例5
と同様に反応させ、後処理を行なう。
m、 p、 50−51℃、仕込み量および生成物の物
性を第8表に示す。
性を第8表に示す。
実施例55
1−n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−四−テ
トラゾール−2−イル)−3−(3−トリメチルアンモ
ニオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト
Ih1 ht 3− <3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−2H−テト
ラゾール−2−イル)プロパンII[hlを用いて、1
−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピルス
ルホニルアミノ)−2−(5−メチル−2H−テトラゾ
ール−2−イル)プロパン1■ヲ用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
トラゾール−2−イル)−3−(3−トリメチルアンモ
ニオプロピルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト
Ih1 ht 3− <3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
n−ヘキサデシルチオ−2−(3−メチル−2H−テト
ラゾール−2−イル)プロパンII[hlを用いて、1
−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピルス
ルホニルアミノ)−2−(5−メチル−2H−テトラゾ
ール−2−イル)プロパン1■ヲ用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
参考例95
2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンl酪の製造 h2 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイJレオキシプロノール
匡2.57g(5,7m旧、トリフェニルホスフィン2
.23 g (8,6mM)、1.8mMアジ化水素ベ
ンゼン溶液4.7ml (8,6mM)及びジエチルア
ゾジカルボキシレート1.44g (8,6mM)をテ
トラヒドロフラン中参考例89と同様に反応、アジド体
を得る。上記のアジド体の反応溶液は後処理する事なく
、10%Pd/C350mgを加えて、参考例89と同
様に反応、後処理を行い、標題化合物IVh2を得る。
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンl酪の製造 h2 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイJレオキシプロノール
匡2.57g(5,7m旧、トリフェニルホスフィン2
.23 g (8,6mM)、1.8mMアジ化水素ベ
ンゼン溶液4.7ml (8,6mM)及びジエチルア
ゾジカルボキシレート1.44g (8,6mM)をテ
トラヒドロフラン中参考例89と同様に反応、アジド体
を得る。上記のアジド体の反応溶液は後処理する事なく
、10%Pd/C350mgを加えて、参考例89と同
様に反応、後処理を行い、標題化合物IVh2を得る。
但し、得られた生成物は少量の不純物を含んでいるが、
3−クロロプロピルスルホニルアミノ化の後、精製する
事ができる。
3−クロロプロピルスルホニルアミノ化の後、精製する
事ができる。
NMR: sppm (CDC1m) 0.88 (
t、J=6.5Hz、3H)。
t、J=6.5Hz、3H)。
1.4−1.65 (m、2H)、 2.55 (s、
3H)、 3.12(quartat、J=6.61(
z、2H)、 3.25−3.35(m、2H)、 4
.47 (ABX、J=11.6 & 8゜OHz。
3H)、 3.12(quartat、J=6.61(
z、2H)、 3.25−3.35(m、2H)、 4
.47 (ABX、J=11.6 & 8゜OHz。
LH)、 4.59 (ABX、J=11.6 & 4
.1Hz、LH)。
.1Hz、LH)。
4.8−4.95 (m、IH)、 4.95−5.1
(m、IH)。
(m、IH)。
Vh2
参考例96
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−
〇−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンI[h2
の製造 許せ、後処理を行なう、 m、p、70−70.5℃、
仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−
〇−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンI[h2
の製造 許せ、後処理を行なう、 m、p、70−70.5℃、
仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
収率はヒドロキシ体Vh2からの収率である。
参考例97
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−n
−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl婬 Vh2 11h3 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
1−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロビルアミ
ンIVh2を用いて、参考例4と同様に反応3−(3−
クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−(5−メチル
−2H−テトラゾール−2−イル)−1−〇−オクタデ
ジルカルバモイルオキシプロパン111h3を用いて、
参考例5と同様に反応させ、後処理を行なう、 n+、
p、53.5−54℃、仕込み量および生成物の物性を
第8表に示す。
5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−n
−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンl婬 Vh2 11h3 2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
1−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロビルアミ
ンIVh2を用いて、参考例4と同様に反応3−(3−
クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−(5−メチル
−2H−テトラゾール−2−イル)−1−〇−オクタデ
ジルカルバモイルオキシプロパン111h3を用いて、
参考例5と同様に反応させ、後処理を行なう、 n+、
p、53.5−54℃、仕込み量および生成物の物性を
第8表に示す。
実施例56
2−(5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−
1−n−オクタデジルカルバモイルオキシ−(3−キノ
リニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイ
ト Ih3の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−n
−オクタデシルカルバモイルオキシプロパン1[h2を
用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量及び生成物の物性を第10表に示す。
1−n−オクタデジルカルバモイルオキシ−(3−キノ
リニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイ
ト Ih3の製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
5−メチル−2H−テトラゾール−2−イル)−1−n
−オクタデシルカルバモイルオキシプロパン1[h2を
用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量及び生成物の物性を第10表に示す。
参考例98
1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(3
−インキサゾリルオキシ)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン類の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−3−トリ
フェニルメトキシプロパン−2−オール2h6.72g
(15mM)、3−ヒドロキシインキサゾール1.53
g (18mM>、トリフェニルホスフィン4.71g
(18mM)及びジエチルアゾジカルボキシレート3.
10g(18mM)をテトラヒドロフラン100m1中
、参考例77と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
し7.24g(収率94%)を得る。
−インキサゾリルオキシ)−3−トリフェニルメトキシ
プロパン類の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−3−トリ
フェニルメトキシプロパン−2−オール2h6.72g
(15mM)、3−ヒドロキシインキサゾール1.53
g (18mM>、トリフェニルホスフィン4.71g
(18mM)及びジエチルアゾジカルボキシレート3.
10g(18mM)をテトラヒドロフラン100m1中
、参考例77と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
し7.24g(収率94%)を得る。
NMRr 8ppm (CDC1,) 0 & 0.
01 (s、各3H)。
01 (s、各3H)。
0.82 (s、9H)、 3.36 (ABX、J=
10.2 &5.31Hz、18)、 3.47 (A
BX、J=10.2 & 4.09゜IH)、 3.9
6 (d、、c5.2Hz、21()、 4.85−5
.0(m、LH)、 6.01 (d、J=1.6Hz
、LH)、 7.15−7.6 (m、15H)、 8
.13 (d、J=1.6Hz、IH)参考例99 2−(3−インキサゾリルオキシ’)−3−トリフェニ
ルメトキシプロパツール幻の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−イソキサゾリルオキシ)−3−トリフェニルメトキシ
プロパy 3J 7.24g(1,4mM>及びIHテ
トラ−n−ブチルアンモニウム フルオライドのテトラ
ヒドロフラン溶液15.4ml (15mM)をテトラ
ヒドロフラン100m1中、参考例78と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物J45.37g(収率95%
)を得る。
10.2 &5.31Hz、18)、 3.47 (A
BX、J=10.2 & 4.09゜IH)、 3.9
6 (d、、c5.2Hz、21()、 4.85−5
.0(m、LH)、 6.01 (d、J=1.6Hz
、LH)、 7.15−7.6 (m、15H)、 8
.13 (d、J=1.6Hz、IH)参考例99 2−(3−インキサゾリルオキシ’)−3−トリフェニ
ルメトキシプロパツール幻の製造 1− tart−ブチルジメチルシリロキシ−2−(5
−イソキサゾリルオキシ)−3−トリフェニルメトキシ
プロパy 3J 7.24g(1,4mM>及びIHテ
トラ−n−ブチルアンモニウム フルオライドのテトラ
ヒドロフラン溶液15.4ml (15mM)をテトラ
ヒドロフラン100m1中、参考例78と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物J45.37g(収率95%
)を得る。
NMR! Sppm (CDCIm) 2.31 (
t、、c6Hz、IH)。
t、、c6Hz、IH)。
3.40 (ABX、J=10.2 & 4.89Hz
、LH)、 3.50(ABX、J=10.2 & 4
.51Hz、IH)、 3.94(quartet、J
=4.6Hz、IH)、 3.96 (quartet
。
、LH)、 3.50(ABX、J=10.2 & 4
.51Hz、IH)、 3.94(quartet、J
=4.6Hz、IH)、 3.96 (quartet
。
J=4.6Hz、IH)、 4.85−4.95 (m
、IH)、 6.01(d、J=1.8Hz、IH)、
7.15−7.55 (m、L5H)。
、IH)、 6.01(d、J=1.8Hz、IH)、
7.15−7.55 (m、L5H)。
8、12 (d、 J=1.81Hz、 1)1)。
(以下余白)
参考例100
1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−イソキサジノル
オキシ)−3−1−リフェニルメトキシブロバン幻の製
造 2−り3−イソキサゾリルオキシ)−3−)リフェニル
メトキシプロバノールij0.17 g (0,42m
M)、トリエチルアミン65μm (0,46mM)及
びメタンスルホニルクロライド34μm(0,44mM
)をジクロロメタン4ml中、参考例80と同様に反応
、後処理を行い、メタンスルホネート体を得る。引き続
いて、上記のメタンスルホネート体、水素化ナトリウム
(60%油性懸濁物)18mg(0,46mM)及びf
i−ヘキサデシル メルカプタン(純度98%>0.1
2g (0,46mM>をベンゼン6ml中、参考例8
0と同様に反応、後処理を行い、標題化合物540.1
9 g (収率70%)を得る。鶴、9.41−44℃
。
オキシ)−3−1−リフェニルメトキシブロバン幻の製
造 2−り3−イソキサゾリルオキシ)−3−)リフェニル
メトキシプロバノールij0.17 g (0,42m
M)、トリエチルアミン65μm (0,46mM)及
びメタンスルホニルクロライド34μm(0,44mM
)をジクロロメタン4ml中、参考例80と同様に反応
、後処理を行い、メタンスルホネート体を得る。引き続
いて、上記のメタンスルホネート体、水素化ナトリウム
(60%油性懸濁物)18mg(0,46mM)及びf
i−ヘキサデシル メルカプタン(純度98%>0.1
2g (0,46mM>をベンゼン6ml中、参考例8
0と同様に反応、後処理を行い、標題化合物540.1
9 g (収率70%)を得る。鶴、9.41−44℃
。
NMR:εppm (CDCIm) 0.88 (t
、J=7Hz、3H)。
、J=7Hz、3H)。
2.48 (t、、c7.3Hz、2B)、 2.96
(d。
(d。
、C7,8Hz、2H)、 3.38 (ABX、J=
10.2 &4.78Hz、IR)、 3.52 (A
BX、、C10,2&3゜98Hz、IH)、 4.9
−5.05 (m、LH)、 6.00(d、J=1.
8Hz、IH)、 7.15−7.5 (m、15H)
。
10.2 &4.78Hz、IR)、 3.52 (A
BX、、C10,2&3゜98Hz、IH)、 4.9
−5.05 (m、LH)、 6.00(d、J=1.
8Hz、IH)、 7.15−7.5 (m、15H)
。
8.11 (d、J=1.8Hz、LH>参考例101
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサゾリル
オキシ)プロパツールXUの製造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−〈3−イソキサゾリル
オキシ)−3−トリフェニルメトキシプロパン547、
30 g (11mM)、p−トルエンスルホン酸−水
和物433mg (2,3mM)をメタノール−テトラ
ヒドロフラン(1: 1) 150m1中、実施例81
と同様に反応、後処理を行い、標題化合物狂4.25
g (収率94%・)を得る。
オキシ)プロパツールXUの製造 1−n−ヘキサデシルチオ−2−〈3−イソキサゾリル
オキシ)−3−トリフェニルメトキシプロパン547、
30 g (11mM)、p−トルエンスルホン酸−水
和物433mg (2,3mM)をメタノール−テトラ
ヒドロフラン(1: 1) 150m1中、実施例81
と同様に反応、後処理を行い、標題化合物狂4.25
g (収率94%・)を得る。
NMRi l; ppm (CDC1m) 0.88
(t、、C6,2Hz、3H)。
(t、、C6,2Hz、3H)。
1.45−1.7 (m、2H)、 2.5 (bro
ad、IH)。
ad、IH)。
2.60 (t、J=7.4Hz)、 2.87 (A
BX、J=12.8& 6.48Hz、IH)、 2.
95 (ABX、J=12.8 &3.52Hz、LH
)、 3.92 (ABX、J=13.0 &4
.8Hz、LH)、 4.01 (ABX、、C13,
0& 3.2Hz。
BX、J=12.8& 6.48Hz、IH)、 2.
95 (ABX、J=12.8 &3.52Hz、LH
)、 3.92 (ABX、J=13.0 &4
.8Hz、LH)、 4.01 (ABX、、C13,
0& 3.2Hz。
18)、 4.8−4.9 (m、IH)、 5.99
(d。
(d。
J=1.8Hz、LH)、 8.13 (d、J=1.
8Hz、IH)(以下余白) 参考例102 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサシノル
オキシ〉プロピルアミンL旦の製造3−n−ヘキサデシ
ルチオ−2−(5−インキサシノルオキシ)プロパツー
ル島を用いて、参考例3と同様に反応きせ、後処理を行
なう、フタルイミド体m、 p、 73−74℃、仕込
み量およびその生成物の物性を第5表および第6表に示
す。
8Hz、IH)(以下余白) 参考例102 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサシノル
オキシ〉プロピルアミンL旦の製造3−n−ヘキサデシ
ルチオ−2−(5−インキサシノルオキシ)プロパツー
ル島を用いて、参考例3と同様に反応きせ、後処理を行
なう、フタルイミド体m、 p、 73−74℃、仕込
み量およびその生成物の物性を第5表および第6表に示
す。
参考例103
3−(3−’70口プロピルスルホニルアミノ−1−n
−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサゾリルオキシ
)プロパンl且の製造 参考例104 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(3−イソキサゾリルオキシ
)プロパン1旦の製造 Ij1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサシノル
オキシ)プロピルアミン監退を用いて、参考例4と同様
に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第7表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサゾリルオキシ
)プロパンl且の製造 参考例104 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(3−イソキサゾリルオキシ
)プロパン1旦の製造 Ij1 3−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−インキサシノル
オキシ)プロピルアミン監退を用いて、参考例4と同様
に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第7表に示す。
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−n
−ヘキサデシルチオ−2−〈3−イソキサゾリルオキシ
)プロパン旦」、を用いて、参考例5と同様に反応させ
、後処理を行なう、仕込み量および生放物の物性を第8
表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−〈3−イソキサゾリルオキシ
)プロパン旦」、を用いて、参考例5と同様に反応させ
、後処理を行なう、仕込み量および生放物の物性を第8
表に示す。
実施例57
1−n−ヘキサデシルチオ−2−(5−イソキサジノル
オキシ)−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルス
ルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト朋の製造 オキシ)プロパンl退を用いて、実施例8と同様に反応
させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性を
第9表に示す。
オキシ)−3−(3−トリメチルアンモニオプロピルス
ルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト朋の製造 オキシ)プロパンl退を用いて、実施例8と同様に反応
させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性を
第9表に示す。
参考例105
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−
(3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパン其の製造Vj2 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(3−イソキサゾリル2−(
3−インキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデシルカ
ルバモイルオキシブロピルアミン監謡を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう、 m、p、63
.5−65℃、仕込み量および生成物の物性を第7表に
示す。
(3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジル
カルバモイルオキシプロパン其の製造Vj2 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(3−イソキサゾリル2−(
3−インキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデシルカ
ルバモイルオキシブロピルアミン監謡を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう、 m、p、63
.5−65℃、仕込み量および生成物の物性を第7表に
示す。
参考例106
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジルカ
ルバモイルオキシプロパンUの製造3− (3−クロロ
プロピルスルホニルアミノ)−2−(3−インキサゾリ
ルオキシ)−1−n−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパン!lを用いて、参考例5と同様に反応させ、後
処理を行なう、 m、p、69−71.5℃、仕込み量
および生成物の物性を第8表に示す。
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジルカ
ルバモイルオキシプロパンUの製造3− (3−クロロ
プロピルスルホニルアミノ)−2−(3−インキサゾリ
ルオキシ)−1−n−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパン!lを用いて、参考例5と同様に反応させ、後
処理を行なう、 m、p、69−71.5℃、仕込み量
および生成物の物性を第8表に示す。
実施例58
2−(3−インキサゾリルオキシ)−1−n−才クタデ
ジルカルバモイルオキシ−5−(3−トリメチルアンモ
ニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト
1謡の製造 I[j2 ■j2 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデシル力
ルバモイルオキシブロバンlルL用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
ジルカルバモイルオキシ−5−(3−トリメチルアンモ
ニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト
1謡の製造 I[j2 ■j2 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデシル力
ルバモイルオキシブロバンlルL用いて、実施例8と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第9表に示す。
(以下余白)
実施例59
2−(3−イソキサゾリルオキシ)−L−tt−オクタ
デンル力ルバモイルオキシ−5−(3−キノリニオプロ
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト−IWの
製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジルカ
ルバモイルオキシプロパン朋を用い工、実施例25と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第10表に示す。
デンル力ルバモイルオキシ−5−(3−キノリニオプロ
ピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト−IWの
製造 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−イソキサゾリルオキシ)−1−n−オクタデジルカ
ルバモイルオキシプロパン朋を用い工、実施例25と同
様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物
の物性を第10表に示す。
(以下余白)
参考例107
3−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロ
ピルアミンL■の製造 k1 3−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロ
パツールvhtを用いて、参考例3と同様に反応させ、
後処理を行なう、フタルイミド体m、 p、 49−5
1℃、仕込み量および生成物の物性を第5表および第6
表に示す。
ピルアミンL■の製造 k1 3−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロ
パツールvhtを用いて、参考例3と同様に反応させ、
後処理を行なう、フタルイミド体m、 p、 49−5
1℃、仕込み量および生成物の物性を第5表および第6
表に示す。
参考例108
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパン
旦」、の製造 参考例109 1−n−ヘキサデシルオキシ−5−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパン
Iklの製造 Vkl fik1 3−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロ
ピルアミンIVklを用いて、参考例4と同様に反応さ
せ、後処理を行なう、 m、p、44−46.5℃。
n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパン
旦」、の製造 参考例109 1−n−ヘキサデシルオキシ−5−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパン
Iklの製造 Vkl fik1 3−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロ
ピルアミンIVklを用いて、参考例4と同様に反応さ
せ、後処理を行なう、 m、p、44−46.5℃。
仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−
n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパン
II[klを用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処
理を行なう、 m、p、42.5−44℃、仕込み量お
よび生成物の物性を第8表に示す。
n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチルプロパン
II[klを用いて、参考例5と同様に反応許せ、後処
理を行なう、 m、p、42.5−44℃、仕込み量お
よび生成物の物性を第8表に示す。
参考例110
3−(N−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニルア
ミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメ
チルプロパン I[kl’の製造kl fド0.14m1(2,0mM)をジクロロメタン10
m1に溶解して、0℃攪拌下、N、N−ジイソプロピル
エチルアミン0.39m1 (2,2mM)を加えて、
0℃において3時間反応する0反応溶液を氷水にあけ、
抽出する。ジクロロメタン層を飽和食塩水で1回洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得
られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を溶出溶
媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分
離精製する事により、標題化合物1[kl’0.81区
(収率99%)を得る。
ミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメ
チルプロパン I[kl’の製造kl fド0.14m1(2,0mM)をジクロロメタン10
m1に溶解して、0℃攪拌下、N、N−ジイソプロピル
エチルアミン0.39m1 (2,2mM)を加えて、
0℃において3時間反応する0反応溶液を氷水にあけ、
抽出する。ジクロロメタン層を飽和食塩水で1回洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去する。得
られた残渣をトルエン−酢酸エチル(9:1)を溶出溶
媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分
離精製する事により、標題化合物1[kl’0.81区
(収率99%)を得る。
NMRS ppffi (CDCL) ’ 0.88
(t、J:6Hz、3)1)。
(t、J:6Hz、3)1)。
1.95−2.15 (m、IH)、 2.2−2.4
5 (m、2B>。
5 (m、2B>。
2.38 (s、3H)、 3.29 (t、J:5H
z、2H)、 3.32(s、3H)、 3.59 (
t、J=8Hz、2H)、 3.82 (d。
z、2H)、 3.32(s、3H)、 3.59 (
t、J=8Hz、2H)、 3.82 (d。
J=6Hz、 2H)。
(以下余白)
1−n−ヘキサデシルオキシ−5−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミン)−2−メトキシメチルプロパン
I[kl O,76g (1,3mM)、アセチルクロ
ラ実施例60 3−(N−アセチル−3−トリメチルアンモニオプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−
2−メトキシメチルプロパン ヨーダイト Iklの製
造 に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第9表に示す。
ルスルホニルアミン)−2−メトキシメチルプロパン
I[kl O,76g (1,3mM)、アセチルクロ
ラ実施例60 3−(N−アセチル−3−トリメチルアンモニオプロピ
ルスルホニルアミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−
2−メトキシメチルプロパン ヨーダイト Iklの製
造 に反応許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第9表に示す。
実施例61
1−n−一\キサデシルオキシー2−メトキシメチル−
3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン ヨーダイト Ik2の製造 c 11kl ’ 1[kl 3− (N−7セチルー3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ
メチルプロパンを用いて、実施例8と同様1−n−ヘキ
サデシルオキシ−5−(3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−2−メトキシメチルプロパン I[klを用
いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう、仕
込み量および生成物の物性を第9表に示す。
3−(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン ヨーダイト Ik2の製造 c 11kl ’ 1[kl 3− (N−7セチルー3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−1−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシ
メチルプロパンを用いて、実施例8と同様1−n−ヘキ
サデシルオキシ−5−(3−ヨードプロピルスルホニル
アミノ)−2−メトキシメチルプロパン I[klを用
いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行なう、仕
込み量および生成物の物性を第9表に示す。
実施例62
1−n−ヘキサデシルオキシ−2−メトキシメチル−3
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト Ik3の製造1−n−ヘキサデシルオ
キシ−5−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−
2−メトキシメチルプロパン1uを用いて、実施例25
と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生
成物の物性を第10表に示す。
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト Ik3の製造1−n−ヘキサデシルオ
キシ−5−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−
2−メトキシメチルプロパン1uを用いて、実施例25
と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生
成物の物性を第10表に示す。
参考例111
3−n−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロピ
ルアミンIVk3の製造 kt 3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパツー
ルIVk3を用いて、参考例3と同様に反応させ、後処
理を行なう、フタルイミド体m、p、45°C6仕込み
量および生成物の物性を第5表および第6表に示す。
ルアミンIVk3の製造 kt 3−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパツー
ルIVk3を用いて、参考例3と同様に反応させ、後処
理を行なう、フタルイミド体m、p、45°C6仕込み
量および生成物の物性を第5表および第6表に示す。
参考例112
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−n
−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパンLり
の製造 参考例113 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパン1す
の製造 Vk3 11[k3 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロピ
ルアミンIVk3を用いて、参考例4と同様に反応させ
、後処理を行なう、 m、p、41.5−43℃、仕込
み量および生成物の物性を第7表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパンLり
の製造 参考例113 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパン1す
の製造 Vk3 11[k3 3−n−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロピ
ルアミンIVk3を用いて、参考例4と同様に反応させ
、後処理を行なう、 m、p、41.5−43℃、仕込
み量および生成物の物性を第7表に示す。
3−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−1−n
−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパン I
[k3を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を
行なう、仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチルプロパン I
[k3を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を
行なう、仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
実施例63
1−n−ヘキサデシルチオ−2−メトキシメチル−5−
(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト−1に4の製造後処理を行なう
、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
(3−トリメチルアンモニオプロピルスルホニルアミノ
)プロパン ヨーダイト−1に4の製造後処理を行なう
、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
参考例114
2−メトキシメチル−5−n−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロビルアミン1Vk2の製造k3 k2 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパンI[
k3を用いて、実施例8と同様に反応させ、2−メトキ
シメチル−5−n−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロパノールVk2を用いて、参考例3と同様に反応させ
、後処理を行なう、フタルイミド体m、 p、 84−
85℃、仕込み量および生成物の物性を第5表および第
6表に示す。
ルオキシプロビルアミン1Vk2の製造k3 k2 1−n−ヘキサデシルチオ−5−(3−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−メトキシメチルプロパンI[
k3を用いて、実施例8と同様に反応させ、2−メトキ
シメチル−5−n−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロパノールVk2を用いて、参考例3と同様に反応させ
、後処理を行なう、フタルイミド体m、 p、 84−
85℃、仕込み量および生成物の物性を第5表および第
6表に示す。
参考例115
3− (3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2メ
トキシメチル−1−n−オクタデジルカルバリモイルオ
キシプロパン 参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう・m. p
. 72−73℃.仕込み量および生成物の物性を第7
表に示す。
トキシメチル−1−n−オクタデジルカルバリモイルオ
キシプロパン 参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう・m. p
. 72−73℃.仕込み量および生成物の物性を第7
表に示す。
参考例116
3− (3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−
メトキシメチル−1−n−オクタデジルカルバリモイル
オキシプロパン Vk2 1[k2 2−メトキシメチル−3−n−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロピルアミンIVk2を用いて、3− (3
−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシメ
チル−1−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパ
ン封を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう, m,p.69−70℃。
メトキシメチル−1−n−オクタデジルカルバリモイル
オキシプロパン Vk2 1[k2 2−メトキシメチル−3−n−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロピルアミンIVk2を用いて、3− (3
−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−メトキシメ
チル−1−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパ
ン封を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう, m,p.69−70℃。
仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
参考例117
3−(N−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニルア
ミノ)−2−メトキシメチル−1−n−オクタデンルカ
ルバモイルオキシプロパン IIk2’の製造1[k2 3−(3−ヨードフロビルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシメチル−1−n−オクタデシルカルバモイルオキ
シプロパン−1[k2 0.72g (1.1mM)、
アセチルクロライド88μm (1.2mM)及びN,
N−ジイソプロピルエチルアミン0.25ml (1.
4mM)をジクロロメタン中、参考例110と同様に反
応、後処理を行い、標題化合物−Lηl’ 0.65g
(収率85%)を得る, m.p.71−73℃。
ミノ)−2−メトキシメチル−1−n−オクタデンルカ
ルバモイルオキシプロパン IIk2’の製造1[k2 3−(3−ヨードフロビルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシメチル−1−n−オクタデシルカルバモイルオキ
シプロパン−1[k2 0.72g (1.1mM)、
アセチルクロライド88μm (1.2mM)及びN,
N−ジイソプロピルエチルアミン0.25ml (1.
4mM)をジクロロメタン中、参考例110と同様に反
応、後処理を行い、標題化合物−Lηl’ 0.65g
(収率85%)を得る, m.p.71−73℃。
NMR : Sppm (CDC1.) 0.88
(t.J=6Hz.3H)。
(t.J=6Hz.3H)。
1、4−1.6 (m.2H)、 2.25−2.5
(m.3H)。
(m.3H)。
2、40 (s.3H)、 3.15 (q,J=6H
z.21(>、 3.30(t.J=7Hz.3H)、
3.32 (s.3H)、 3.35−3.5(m.
2H)、 3.56 (t.J=8Hz.2H)、 3
.84 (d。
z.21(>、 3.30(t.J=7Hz.3H)、
3.32 (s.3H)、 3.35−3.5(m.
2H)、 3.56 (t.J=8Hz.2H)、 3
.84 (d。
J=7Hz.2H)、 4−4.2 (m.2H)、
4.79 (t。
4.79 (t。
J=6Hz. IH)。
(以下余白)
COC)I。
1[k2
実施例64
2−メトキシメチル−1−n−才クタデジルカルバモイ
ルオキシ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン ヨーダイト上りの製造 同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第10表に示す。
ルオキシ−3−(3−キノリニオプロピルスルホニルア
ミノ)プロパン ヨーダイト上りの製造 同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第10表に示す。
実施例65
3−(N−アセチル−3−キノリニオプロピルスルホニ
ルアミノ)−2−メトキシメチル−1−n−オクタデシ
ルカルバモイルオキシプロパン Ik6の製造 1[k2 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシメチル−1−n−オクタデジルカルバモイルオキ
シプロパン I[k2を用いて、実施例25と3−(N
−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−
2−メトキシメチル−1−n−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン I[k2’を用いて、実施例25と
同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第10表に示す。
ルアミノ)−2−メトキシメチル−1−n−オクタデシ
ルカルバモイルオキシプロパン Ik6の製造 1[k2 3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−メ
トキシメチル−1−n−オクタデジルカルバモイルオキ
シプロパン I[k2を用いて、実施例25と3−(N
−アセチル−3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−
2−メトキシメチル−1−n−オクタデジルカルバモイ
ルオキシプロパン I[k2’を用いて、実施例25と
同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第10表に示す。
(以下余白)
参考例118
5−ブロモメチル−2−フェニル−1,3−ジオキサン
m2の製造 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキ
サンm119.4g(0,1モル)と四臭化炭素33.
1g<0.1モル)の無水ベンゼン60ffi1の溶液
にトリフェニルホスフィン26.2g(0,1モル)を
70℃で激しく攪拌しながら45分間で加える。更に3
0分間反反応せた後、反応液を減圧濃縮した。得られた
残渣にエーテル200m1を加え析出するトリフェニル
ホスフィンオキシトを濾過して除く、この操作を2回く
り返した後、得られた濾液を減圧濃縮後、減圧蒸留する
ことにより19.391 g (収率75.4%)の標
題化合物m2を得る。
m2の製造 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキ
サンm119.4g(0,1モル)と四臭化炭素33.
1g<0.1モル)の無水ベンゼン60ffi1の溶液
にトリフェニルホスフィン26.2g(0,1モル)を
70℃で激しく攪拌しながら45分間で加える。更に3
0分間反反応せた後、反応液を減圧濃縮した。得られた
残渣にエーテル200m1を加え析出するトリフェニル
ホスフィンオキシトを濾過して除く、この操作を2回く
り返した後、得られた濾液を減圧濃縮後、減圧蒸留する
ことにより19.391 g (収率75.4%)の標
題化合物m2を得る。
B、 P、 lmmHg 145〜158℃参考例11
9 5−(2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−2−フェ
ニル−1,3−ジオキサンm3の製造標題化合物m3の
粗生成物を得る。
9 5−(2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−2−フェ
ニル−1,3−ジオキサンm3の製造標題化合物m3の
粗生成物を得る。
IR: vmax (CHCIs) 3620〜31
50 am−’(broad)参考例120 5− (2−ヘンジイルオキシプロパン−1−イル)−
2−フェニル−1,3−ジオキサン懸の製造5−ブロモ
メチル−2−フェニル−1,3−’;オキサンrn21
9.39g (75,4ミリモル)のテトラヒドロ7ラ
ン200m1溶液にマグネシウム 1.923g (7
9゜17ミリモル)を加え40℃で7時間ウルトルソニ
ケーターを用いて反応する。得られた反応液に一78℃
でアセトアルデヒド21.27m1 (377ミリモル
)を加え0℃で15時間放置する1反応液を氷冷した塩
化アンモニア水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル署は飽和食塩水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。得られた残渣をショートパスシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて非極性物質を除
く事により11.353 g の先に得られた5−(2
−ヒドロキシプロパン−1−イル)−2−フェニル−1
,3−ジオキサンm3の粗生成物のうち10.829
g をジクロロメタン200m1に溶かし、次いで水
冷下で塩化ベンゾイル11.3m1(97,4ミリモル
)とトリエチルアミン20.5m1(146,1ミリモ
ル)、ジメチルアミノピリジン100mgを順次加える
。
50 am−’(broad)参考例120 5− (2−ヘンジイルオキシプロパン−1−イル)−
2−フェニル−1,3−ジオキサン懸の製造5−ブロモ
メチル−2−フェニル−1,3−’;オキサンrn21
9.39g (75,4ミリモル)のテトラヒドロ7ラ
ン200m1溶液にマグネシウム 1.923g (7
9゜17ミリモル)を加え40℃で7時間ウルトルソニ
ケーターを用いて反応する。得られた反応液に一78℃
でアセトアルデヒド21.27m1 (377ミリモル
)を加え0℃で15時間放置する1反応液を氷冷した塩
化アンモニア水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル署は飽和食塩水で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮する。得られた残渣をショートパスシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーを用いて非極性物質を除
く事により11.353 g の先に得られた5−(2
−ヒドロキシプロパン−1−イル)−2−フェニル−1
,3−ジオキサンm3の粗生成物のうち10.829
g をジクロロメタン200m1に溶かし、次いで水
冷下で塩化ベンゾイル11.3m1(97,4ミリモル
)とトリエチルアミン20.5m1(146,1ミリモ
ル)、ジメチルアミノピリジン100mgを順次加える
。
反応液を室温で15時間攪拌した後、2規定塩酸水に注
ぎジクロロメタン抽出する。ジクロロメタン層は飽和炭
酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗った後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去する。得られた残渣
はショートパスシリカゲル−カラムクロマトグラフィー
で溶出溶媒としてn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)
を用いて極性物質を除く事により17.125 g の
標題化合物m4の粗生成物を得る。
ぎジクロロメタン抽出する。ジクロロメタン層は飽和炭
酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗った後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去する。得られた残渣
はショートパスシリカゲル−カラムクロマトグラフィー
で溶出溶媒としてn−ヘキサン−酢酸エチル(4:1)
を用いて極性物質を除く事により17.125 g の
標題化合物m4の粗生成物を得る。
IR: vmax(CHCIs) 1715 am−’
参考例121 2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−3
−ヒドロキシ−プロパツール 安息香酸エステルm5の
製造 N−ブロモコハク酸イミド9.344 g (52,5
ミリモル)と水250m1の!!!濁液に、水冷下、臭
化水素酸−滴を加え激しく攪拌下で、先に得られた5−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−2−フ
ェニル−1,3−ジオキサン懸の粗生成物17.125
gをゆっくりと加える。水冷下、1時間反応させた後、
反応液に炭酸水素ナトリウム22g (260ミノモル
)を加え更に1時間攪拌後、酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル層は飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し溶媒を留去する。得られた残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(1:1)混液を溶出溶媒とする。シ
リカゲル−カラムクロマトグラフィーにより分離する事
により7.401g(化合物感よりの収率29.7%)
を油状物質として標題化合物l115を得る。
参考例121 2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−3
−ヒドロキシ−プロパツール 安息香酸エステルm5の
製造 N−ブロモコハク酸イミド9.344 g (52,5
ミリモル)と水250m1の!!!濁液に、水冷下、臭
化水素酸−滴を加え激しく攪拌下で、先に得られた5−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−2−フ
ェニル−1,3−ジオキサン懸の粗生成物17.125
gをゆっくりと加える。水冷下、1時間反応させた後、
反応液に炭酸水素ナトリウム22g (260ミノモル
)を加え更に1時間攪拌後、酢酸エチルで抽出する。酢
酸エチル層は飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し溶媒を留去する。得られた残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(1:1)混液を溶出溶媒とする。シ
リカゲル−カラムクロマトグラフィーにより分離する事
により7.401g(化合物感よりの収率29.7%)
を油状物質として標題化合物l115を得る。
IRニジwax (CHCl、) 3600〜3250
(broad)。
(broad)。
1700 cm−’
NMR: Sppm (CDCIm) 1.40 (
d、J=2.6Hz。
d、J=2.6Hz。
1.5H)、 1.43 (d、J=2.6Hz、1.
5H)、 1.67−1.99 (m、2H)、 2.
01〜2.24 (m、IH)、 2.51−1.52
(br、IH)、 3.57−3.82 (m、2H
)、 4.32−4.60 (m、2H)、 5.26
−5.47 (m、IH)、 7.37−7.67 (
m、6H)、 7.93−8.13 (m、4H)。
5H)、 1.67−1.99 (m、2H)、 2.
01〜2.24 (m、IH)、 2.51−1.52
(br、IH)、 3.57−3.82 (m、2H
)、 4.32−4.60 (m、2H)、 5.26
−5.47 (m、IH)、 7.37−7.67 (
m、6H)、 7.93−8.13 (m、4H)。
参考例122
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール安息
香酸エステルm6の製造 3.70g(11,2ミリモル)の3−ヒドロキシ−2
−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)プロパ
ツール 安息香酸エステル1のピリジン74m1溶液に
イソシアン酸オクタデシル4.964g (16,8ミ
リモル)を加え70℃で15時間加熱する6反応液を減
圧下で濃縮後、得られた残渣に冷却した2規定塩酸水を
加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は飽和炭酸水
素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(4:1)を溶出溶媒とするシリカゲ
ル−カラムクロマトグラフィーにより分離精製する事に
より6.28g〈収率87.8%〉の標題化合物m6を
得る。
3−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール安息
香酸エステルm6の製造 3.70g(11,2ミリモル)の3−ヒドロキシ−2
−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)プロパ
ツール 安息香酸エステル1のピリジン74m1溶液に
イソシアン酸オクタデシル4.964g (16,8ミ
リモル)を加え70℃で15時間加熱する6反応液を減
圧下で濃縮後、得られた残渣に冷却した2規定塩酸水を
加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層は飽和炭酸水
素ナトリウム水及び飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキ
サン−酢酸エチル(4:1)を溶出溶媒とするシリカゲ
ル−カラムクロマトグラフィーにより分離精製する事に
より6.28g〈収率87.8%〉の標題化合物m6を
得る。
IRi νmax (CHCIs) 3440.170
5 am″1NMR: Sppm (CDCIs)
0.88 (t、J=6.4Hz、3H)。
5 am″1NMR: Sppm (CDCIs)
0.88 (t、J=6.4Hz、3H)。
1.10−1.35 (m、30H)、 1.36−1
.55 (m、5H)。
.55 (m、5H)。
1.68−2.07 (m、2H)、 2.22−2.
45 (m、IH)。
45 (m、IH)。
2.97−3.21 (m、2H)、 4.10−4.
27 (m、2H)。
27 (m、2H)。
4.27−4.45 (m、2H)、 4.62−4.
83 (br、。
83 (br、。
IH)、5.28−5.50 (m、IH)、 7.3
8−7.64 (m。
8−7.64 (m。
6H)、7.97−8.13 (m、4H)。
参考例123
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−メタンスルホニルオキシプロパツール安息香酸エス
テルm11゛の製造 1.85g (5,60ミリモル)の3−ヒドロキシ−
2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)プロ
パツール安息香酸エステルm5のジクロロメタン40m
1の溶液に水冷下、塩化メタンスルホニル607μm
(7,84ミリモル)とトリエチルアミン1.34m1
(9、52ミリモル)を加え攪拌する。30分後、反応
液を水冷した2規定塩酸水に注ぎ、ジクロロメタン看は
飽和炭酸水素ナトリウム水、次いで飽和食塩水で洗い無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する事により
標題化合物m11゛の粗生成物を得る。
3−メタンスルホニルオキシプロパツール安息香酸エス
テルm11゛の製造 1.85g (5,60ミリモル)の3−ヒドロキシ−
2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)プロ
パツール安息香酸エステルm5のジクロロメタン40m
1の溶液に水冷下、塩化メタンスルホニル607μm
(7,84ミリモル)とトリエチルアミン1.34m1
(9、52ミリモル)を加え攪拌する。30分後、反応
液を水冷した2規定塩酸水に注ぎ、ジクロロメタン看は
飽和炭酸水素ナトリウム水、次いで飽和食塩水で洗い無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する事により
標題化合物m11゛の粗生成物を得る。
NMR: Sppm (CDC1s) 1.43 (
d、J=6.2Hz、3H)。
d、J=6.2Hz、3H)。
1.74−2.08 (m、2H)、 2.27−2.
53 (m、IH)。
53 (m、IH)。
3.01 (s、3)1)、 4.25−4.54 (
m、4H)、 5.27−5.47 (m、LH)、
7.37−7.65 (m、6H)、 7.9!r8.
11 (m、4H)。
m、4H)、 5.27−5.47 (m、LH)、
7.37−7.65 (m、6H)、 7.9!r8.
11 (m、4H)。
(以下余白)
参考例124
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−ヘキサデシルチオプロパノール 安息香酸エス
テルmllの製造 3、858 g (14,92ミリモル〉のれ−ヘキサ
デシルメルカプタンの無水ベンゼン100m1溶液に6
0%油性水素化ナトリウム554mg (13,86ミ
リモル)を加え50℃で加熱攪拌する。1時間後、反応
液に先に得られた粗生成物の2−(2−ベンゾイルオキ
シプロパン−1−イル)−3−メタンスルホニルオキシ
プロパツール安息香酸エステルm11′の無水ベンゼン
5Il11溶液を加え50℃で1時間加熱攪拌する0反
応液は冷却後、酢酸エチルにて抽出する。
3−n−ヘキサデシルチオプロパノール 安息香酸エス
テルmllの製造 3、858 g (14,92ミリモル〉のれ−ヘキサ
デシルメルカプタンの無水ベンゼン100m1溶液に6
0%油性水素化ナトリウム554mg (13,86ミ
リモル)を加え50℃で加熱攪拌する。1時間後、反応
液に先に得られた粗生成物の2−(2−ベンゾイルオキ
シプロパン−1−イル)−3−メタンスルホニルオキシ
プロパツール安息香酸エステルm11′の無水ベンゼン
5Il11溶液を加え50℃で1時間加熱攪拌する0反
応液は冷却後、酢酸エチルにて抽出する。
酢酸エチル層は飽和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン
−酢酸エチル(95:5)を溶出溶媒とするンリカゲル
−力ラムクロマトグラフィーにより分離精製する事によ
り 4.4tag(収率71.1%)の標題化合物ml
lを得る。
シウムで乾燥し、溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン
−酢酸エチル(95:5)を溶出溶媒とするンリカゲル
−力ラムクロマトグラフィーにより分離精製する事によ
り 4.4tag(収率71.1%)の標題化合物ml
lを得る。
NMR:δppm (CDC1,) 0.88 (t
、J=6.4Hz、3H)。
、J=6.4Hz、3H)。
1.12−1.38 (m、26H)、 1.40 (
d、J=6.2Hz。
d、J=6.2Hz。
3H)、 1.45−1.65 (m、2)1)、 1
.67−2.31 (m。
.67−2.31 (m。
3H)、 2.49−2.53 (m、2H)、 2.
57−2.82 (m。
57−2.82 (m。
2H)、 4.29−4.55 (m、2H)、 5.
26−5.45 (m。
26−5.45 (m。
LH)、 7.36−7.63 (m、6H)、 7.
97−8.11(m、 4H)。
97−8.11(m、 4H)。
(以下余白)
参考例125
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパノール
m7の製造 2、879 g (4,51ミリモル)の2−〈2−ベ
ンゾイルオキシプロパン−1−イル) −3−n−オク
タデシルカルバモイルオキシブロバノール安息isエス
テルm6のメタノール25m1とテトラヒドロフラン2
5m1の溶液に水冷下、2規定水酸化ナトリウム4.5
1m1 (9,02ミリモル)を加え2時間攪拌する0
反応液を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。有機層は飽
和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(2
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲル−カラムクロマ
トグラフィーにより分離精製する事により 1.72g
(収率71.4%)の標題化合物m7を得る。
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロパノール
m7の製造 2、879 g (4,51ミリモル)の2−〈2−ベ
ンゾイルオキシプロパン−1−イル) −3−n−オク
タデシルカルバモイルオキシブロバノール安息isエス
テルm6のメタノール25m1とテトラヒドロフラン2
5m1の溶液に水冷下、2規定水酸化ナトリウム4.5
1m1 (9,02ミリモル)を加え2時間攪拌する0
反応液を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出する。有機層は飽
和食塩水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(2
:1)混液を溶出溶媒とするシリカゲル−カラムクロマ
トグラフィーにより分離精製する事により 1.72g
(収率71.4%)の標題化合物m7を得る。
NMR: l; ppm (CDC1,) 0.88
(t、J=6.4Hz、3H)。
(t、J=6.4Hz、3H)。
1.10−1.39 (m、30H)、 1.37 (
d、J=6.2Hz。
d、J=6.2Hz。
3H)、 1.38−1.53 (m、2H)、 1.
60−1.81(m、2H)、 1.85−2.02
(m、LH)、 2.92−3.24(m、2H)、
3.39−3.70 <m、2H)、 4.05−4.
32(m、2H)、 4.68−4.88 (m、IH
)、 5.20−5.40(m、LH)、 7.35−
7.66 (m、3H)、 8.04 (d。
60−1.81(m、2H)、 1.85−2.02
(m、LH)、 2.92−3.24(m、2H)、
3.39−3.70 <m、2H)、 4.05−4.
32(m、2H)、 4.68−4.88 (m、IH
)、 5.20−5.40(m、LH)、 7.35−
7.66 (m、3H)、 8.04 (d。
J=6.8Hz、 2H)
(以下余白)
参考例126
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−ヘキサデシルチオプロパノールm12の製造 4.017g (6,89ミリモル)の2−(2−ベン
ゾイルオキシプロパン−1−イル)−3−n−ヘキサデ
シルチオプロパノール 安息香酸エステルmllのメタ
ノール38m1とテトラヒドロフラン43m1の溶液に
水冷下、2規定水酸化ナトリウム6、89m1(13,
78ミリモル)を加え、参考例125と同様に反応、後
処理を行い、2.071g(収率62.8%)の標題化
合物m12を得る。
3−n−ヘキサデシルチオプロパノールm12の製造 4.017g (6,89ミリモル)の2−(2−ベン
ゾイルオキシプロパン−1−イル)−3−n−ヘキサデ
シルチオプロパノール 安息香酸エステルmllのメタ
ノール38m1とテトラヒドロフラン43m1の溶液に
水冷下、2規定水酸化ナトリウム6、89m1(13,
78ミリモル)を加え、参考例125と同様に反応、後
処理を行い、2.071g(収率62.8%)の標題化
合物m12を得る。
NMR: δppm (CDCIs) 0.88 (
t、J=6.4Hz、3H)。
t、J=6.4Hz、3H)。
1.12−1.38 (m、26H)、 1.38 (
d、J=6.2Hz。
d、J=6.2Hz。
3)1)、 1.45−1.63 (m、28)、 1
.63−2.01 (m。
.63−2.01 (m。
31(>、 2.47 (t、J=7、OHz、2
)%)、 2.51−2.75(m、2H)、 3
.62−3.82 (m、2H)、 5.15−5.
42(m、LH)、 7.39−7.61 (m、3
H)、 8.04 (d。
)%)、 2.51−2.75(m、2H)、 3
.62−3.82 (m、2H)、 5.15−5.
42(m、LH)、 7.39−7.61 (m、3
H)、 8.04 (d。
J=7.2Hz、 2B>。
参考例127
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
メタンスルホン酸エステル自の製造ノールm72.0
59g (3,86ミリモル)、メタンスルホニルクロ
リド359μm (4,63ミリモル)、トリエチルア
ミン814μm (5,79ミリモル)をジクロロメタ
ン中、参考例50と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物m7aの粗生成物を得る。
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパノール
メタンスルホン酸エステル自の製造ノールm72.0
59g (3,86ミリモル)、メタンスルホニルクロ
リド359μm (4,63ミリモル)、トリエチルア
ミン814μm (5,79ミリモル)をジクロロメタ
ン中、参考例50と同様に反応、後処理を行い、標題化
合物m7aの粗生成物を得る。
NMRr Sppm (CDCIs) 0.88 (
t、J=6.4Hz、3H)。
t、J=6.4Hz、3H)。
1.14−1.35 (m、30H)、 1.39 (
d、J=6.2Hz。
d、J=6.2Hz。
38)、 1.36−1.56 (m、2H)、 1.
59−2.01(m、2H>、 2.15−2.37
(m、LH)、 3.02 (s。
59−2.01(m、2H>、 2.15−2.37
(m、LH)、 3.02 (s。
3H)、 3.05−3.22 (m、2H)、 3.
99−4.37 (m。
99−4.37 (m。
4H)、 4.63−4.84 (m、LH)、 5.
20−5.45(m、IH)、 7.35−7.66
(m、3H)、 8.04(d、 J=6.8Hz、
2H)。
20−5.45(m、IH)、 7.35−7.66
(m、3H)、 8.04(d、 J=6.8Hz、
2H)。
(以下余白)
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパ参考例
128 1−アジド−2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプ
ロパンm7bの製造 92.0%)の標題化合物■を得る。
3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパ参考例
128 1−アジド−2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプ
ロパンm7bの製造 92.0%)の標題化合物■を得る。
NMR: δppm (CDCIn> 0.88 (
t、J=6.4)1z、3H)。
t、J=6.4)1z、3H)。
1.17−1.36 (m、30H)、 1.38 (
d、、C6,2Hz。
d、、C6,2Hz。
3Hz)、 1.39−1.53 (m、2H)、 1
.55−1.98(m、2H)、 1.99−2.17
(m、IH)、 3.02−3.03(m、 28)
、 3.32−3.53 (m、2H)、 3.93−
4.22(m、2H)、 4.60−4.80 (br
、、IH)、 5.20−5.42 (m、18)、
7.39−7.64 (m、3H)、 8.04(d、
J=6.8Hz、21)。
.55−1.98(m、2H)、 1.99−2.17
(m、IH)、 3.02−3.03(m、 28)
、 3.32−3.53 (m、2H)、 3.93−
4.22(m、2H)、 4.60−4.80 (br
、、IH)、 5.20−5.42 (m、18)、
7.39−7.64 (m、3H)、 8.04(d、
J=6.8Hz、21)。
(以下余白)
先に得られた2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシブ
ロバノール メタンスルホン酸エステルm7aの粗生成
物とアジ化リチウム1.889g(38,6ミリモル)
をジメチルホルムアミド50m1中参考例52と同様に
反応、後処理を行い、1.986g(収率参考例129 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンm8の製造 物す粗生成物を得る。
−イル)−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシブ
ロバノール メタンスルホン酸エステルm7aの粗生成
物とアジ化リチウム1.889g(38,6ミリモル)
をジメチルホルムアミド50m1中参考例52と同様に
反応、後処理を行い、1.986g(収率参考例129 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプロピルアミ
ンm8の製造 物す粗生成物を得る。
NMR; l; ppm (CDC1,) 0.88
(t、、c6.4Hz、3H)。
(t、、c6.4Hz、3H)。
1.17−1.36 (m、30)1)、 1.37
(d、J=6.2Hz。
(d、J=6.2Hz。
38)、 1.39−1.53 (m、2H)、 1.
55−1.96(m、5H)、 2.59−2.85
(m、2H)、 2.98−3.27(m、2H)、
4.00−4.27 (m、2H)、 4.65−4.
87(br、、IH)、 5.20−5.46 (m、
IH)、 7.36−7.65 (m、3)1)、 8
.04 (d、J=6.8Hz、2H)。
55−1.96(m、5H)、 2.59−2.85
(m、2H)、 2.98−3.27(m、2H)、
4.00−4.27 (m、2H)、 4.65−4.
87(br、、IH)、 5.20−5.46 (m、
IH)、 7.36−7.65 (m、3)1)、 8
.04 (d、J=6.8Hz、2H)。
(以下余白)
1−アジド−2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル) −3−n−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパンm7b 1.617g (2,89ミリモル)
、10%パラジウム−炭素触媒170mgのメタノール
150m1懸濁液を1時間水素気流下で接触還元する0
反応液を濾過し、溶媒を留去する事により標題化合参考
例130 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−〇
−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンm9の製造 トリエチルアミン495μl(3.52ミリモル)を加
え、参考例4と同様に反応、後処理を行う事により 1
.56g(ワックス、アジド体山より収率80、2%)
の標題化合物m9を得た。
−イル) −3−n−オクタデジルカルバモイルオキシ
プロパンm7b 1.617g (2,89ミリモル)
、10%パラジウム−炭素触媒170mgのメタノール
150m1懸濁液を1時間水素気流下で接触還元する0
反応液を濾過し、溶媒を留去する事により標題化合参考
例130 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−〇
−オクタデジルカルバモイルオキシプロパンm9の製造 トリエチルアミン495μl(3.52ミリモル)を加
え、参考例4と同様に反応、後処理を行う事により 1
.56g(ワックス、アジド体山より収率80、2%)
の標題化合物m9を得た。
N1’lR :δppm (CDC1.) 0.88
<t.J=6.4Hz.3H)。
<t.J=6.4Hz.3H)。
1、17−1.36 (m.30H)、 1.39 (
d.J=6.2Hz。
d.J=6.2Hz。
38)、 1.37−1.53 (m.2H)、 1.
57−1.88 (m。
57−1.88 (m。
28)、 1.90−2.11 (m.IH)、 2.
17−2.36(m.2H)、 2.92−3.29
(m.6H)、 3.65 (t。
17−2.36(m.2H)、 2.92−3.29
(m.6H)、 3.65 (t。
J=6.2Hz.2H)、 3.97−4.35 (m
.2H)。
.2H)。
4、70−4.86 (br.、LH)、 5.20−
5.50(m.2H)、 7.39−7.64 (m+
3’H)、8.04 (d。
5.50(m.2H)、 7.39−7.64 (m+
3’H)、8.04 (d。
J=6. 8Hz. 2H)。
〈以下余白)
先に得られた2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロピルアミンm8の粗生成物のジクロロメタン60ml
の溶液に水冷下3ークロロプロパンスルホニルクロライ
ド330μm (2.71ミリモル)と参考例131 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−(
2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−3−n−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパンmlO(7)製造 941mg (1,40ミリモル)の2−(2−ベンゾ
イルオキシプロパン−1−イル)−1−(3−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ−5−n−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン1のメタノール50m1溶液に氷
冷下5.18Mol/Lナトリウムメトキシド−メタノ
ール溶液0.539m1 (2,80ミリモル)を加え
、室温で15時間攪拌する0反応液を減圧濃縮し得られ
た残渣は酢酸エチル抽出する。酢酸エチル層は飽和食塩
水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(1: 2
)混液を溶出溶媒とするシリカゲル−カラムクロマトグ
ラフィーにより分離精製する事により491mg (収
率61.7%)の標題化合物mlOを得る。
−イル)−3−n−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロピルアミンm8の粗生成物のジクロロメタン60ml
の溶液に水冷下3ークロロプロパンスルホニルクロライ
ド330μm (2.71ミリモル)と参考例131 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−(
2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−3−n−オクタ
デジルカルバモイルオキシプロパンmlO(7)製造 941mg (1,40ミリモル)の2−(2−ベンゾ
イルオキシプロパン−1−イル)−1−(3−クロロプ
ロピルスルホニルアミノ−5−n−オクタデジルカルバ
モイルオキシプロパン1のメタノール50m1溶液に氷
冷下5.18Mol/Lナトリウムメトキシド−メタノ
ール溶液0.539m1 (2,80ミリモル)を加え
、室温で15時間攪拌する0反応液を減圧濃縮し得られ
た残渣は酢酸エチル抽出する。酢酸エチル層は飽和食塩
水で洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去する。残渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(1: 2
)混液を溶出溶媒とするシリカゲル−カラムクロマトグ
ラフィーにより分離精製する事により491mg (収
率61.7%)の標題化合物mlOを得る。
NMR:Sppm (CDC1,) 0.88 (t
、J=6.4Hz、3H)。
、J=6.4Hz、3H)。
1.12−1.36 (m、33H)、 1.36−1
.60 (m、4H)。
.60 (m、4H)。
1.80−2.20 (m、2H)、 2.18−2.
37 (m、21()。
37 (m、21()。
2.99−3.27 (m、6H)、 3.68 (t
、J−6,2Hz。
、J−6,2Hz。
2H)、 3.83−4.27 (m、3H)、 4.
67−4.96(br、、IH)、 5.27−5.8
5 (br、、IH)。
67−4.96(br、、IH)、 5.27−5.8
5 (br、、IH)。
(以下余白)
参考例132
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−〇
−オクタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キソ
プ口パン−1−イル)プロパンIf[ml(7)製造塩
化オキザリル65.4μm(0,75ミリモル)のジク
ロロメタン50m1の溶液に一78℃でジメチルスルホ
キシド106μm (1,5ミリモル)を加え5分間攪
拌する0反応液に1−(3−クロロプロピルスルホニル
アミノ)−2−(2−ヒドロキシプロパン−1−イル)
−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
m10285mg (0,5ミリモル)のジクロロメタ
ン2ml溶液を激しく攪拌しながら滴下する。
−オクタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キソ
プ口パン−1−イル)プロパンIf[ml(7)製造塩
化オキザリル65.4μm(0,75ミリモル)のジク
ロロメタン50m1の溶液に一78℃でジメチルスルホ
キシド106μm (1,5ミリモル)を加え5分間攪
拌する0反応液に1−(3−クロロプロピルスルホニル
アミノ)−2−(2−ヒドロキシプロパン−1−イル)
−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシプロパン
m10285mg (0,5ミリモル)のジクロロメタ
ン2ml溶液を激しく攪拌しながら滴下する。
−70℃で15分間反応させた後、トリエチルアミン8
36μm(6ミリモル)を加え徐々に室温まで反応温度
を上げて反応させた後生成物をジクロロメタン抽出する
。ジクロロメタン層は2N−塩酸水、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する事により標題化合物の
粗生成物11[mlを得る。
36μm(6ミリモル)を加え徐々に室温まで反応温度
を上げて反応させた後生成物をジクロロメタン抽出する
。ジクロロメタン層は2N−塩酸水、水、飽和炭酸水素
ナトリウム水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去する事により標題化合物の
粗生成物11[mlを得る。
NMR
: Sppm (CDCIm) 0.88 (t、
J=6.4Hz、3H)。
J=6.4Hz、3H)。
1.14−1.41 (m、30H)、 1.37−
1.61 (m、2H)。
1.61 (m、2H)。
2.12−2.77 (m、5H)、 2.18 (
s、3H)、 2.97−3.28 (m、6H)、
3.68 (t、J=6.2Hz、2H)。
s、3H)、 2.97−3.28 (m、6H)、
3.68 (t、J=6.2Hz、2H)。
3.86−4.25 (m、2H)、 4.65−4
.86 (br、IH)。
.86 (br、IH)。
5、26−5.42 (br、 、 IH)。
(以下余白)
参考例133
1−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−3−n
−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キソ
ブ口パン−1−イル)プロパン 1m1c7)製造■l
111 原料として、参考例132で得られる粗生成物をそのま
ま用いる。
−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キソ
ブ口パン−1−イル)プロパン 1m1c7)製造■l
111 原料として、参考例132で得られる粗生成物をそのま
ま用いる。
化合物mlOからの収率は、66%である。
実施例66
3−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−
オキソプロパン−1−イル)−1−(3−キノリニオプ
ロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト1畦の
製造 1[ml l−(3−’70口プロビルスルホニルアミノ)−3−
〇−オクタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キ
ソプロパン−1−イル)プロパンn1m1ヲ用いて、参
考例5と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第8表に示す。
オキソプロパン−1−イル)−1−(3−キノリニオプ
ロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨーダイト1畦の
製造 1[ml l−(3−’70口プロビルスルホニルアミノ)−3−
〇−オクタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−才キ
ソプロパン−1−イル)プロパンn1m1ヲ用いて、参
考例5と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量お
よび生成物の物性を第8表に示す。
3−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−(2−
才キソプロパン−1−イル)−1−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ)プロパン I[mlヲ用いて、実
施例25と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量
および生成物の物性を第10表に示す。
才キソプロパン−1−イル)−1−(3−ヨードプロピ
ルスルホニルアミノ)プロパン I[mlヲ用いて、実
施例25と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量
および生成物の物性を第10表に示す。
参考例134
5−n−ヘキサデシルオキシメチル−2−フェニル−1
,3−ジオキサン婬の製造 酸エチル抽出する。酢酸エチル層は飽和食塩水で洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。
,3−ジオキサン婬の製造 酸エチル抽出する。酢酸エチル層は飽和食塩水で洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。
得られた残渣をペンタン−メタノールで再結晶する事に
より 16.203g (収率97%)の標題化合物
婬を得る。
より 16.203g (収率97%)の標題化合物
婬を得る。
参考例135
2−ブロモメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノール 安息香酸エステルn3の製造7.769g
(40ミリモル)の5−ヒドロキシメチル−2−フェニ
ル−1,3−ジオキサンn1の無水ベンゼン150m1
溶液に60%油性水素化ナトリウム2゜08g(52ミ
リモル)を加え50℃で1時間加熱し、次いでメタンス
ルホン酸n−ヘキサデシル17.28 g(54ミリモ
ル)の無水ベンゼン50ffi1溶液を加え7時間加熱
還流する0反応液を冷却後、水を加え酢5−n−ヘキサ
デシルオキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキサ
ンn214.703 g (35,2ミリモル)、N−
プロモフハク酸イミド6.90g(38,4ミリモル)
と硫酸バリウム700mgのジクロロメタン200m1
の反応液を1時間加熱還流する0反応液を水冷した飽和
炭酸水素ナトリウム水に注ぎ、ジクロロメタン層を10
%チオ硫酸ナトリウム水、及び飽和食塩水で順次洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。
ノール 安息香酸エステルn3の製造7.769g
(40ミリモル)の5−ヒドロキシメチル−2−フェニ
ル−1,3−ジオキサンn1の無水ベンゼン150m1
溶液に60%油性水素化ナトリウム2゜08g(52ミ
リモル)を加え50℃で1時間加熱し、次いでメタンス
ルホン酸n−ヘキサデシル17.28 g(54ミリモ
ル)の無水ベンゼン50ffi1溶液を加え7時間加熱
還流する0反応液を冷却後、水を加え酢5−n−ヘキサ
デシルオキシメチル−2−フェニル−1,3−ジオキサ
ンn214.703 g (35,2ミリモル)、N−
プロモフハク酸イミド6.90g(38,4ミリモル)
と硫酸バリウム700mgのジクロロメタン200m1
の反応液を1時間加熱還流する0反応液を水冷した飽和
炭酸水素ナトリウム水に注ぎ、ジクロロメタン層を10
%チオ硫酸ナトリウム水、及び飽和食塩水で順次洗った
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去する。
残渣をn−へキサン−酢酸エチル(9:1)を溶出溶媒
とするショートパスシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離する事により13.845 g (収率7
9.3%)の標題化合物n3を得る。
とするショートパスシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより分離する事により13.845 g (収率7
9.3%)の標題化合物n3を得る。
参考例136
2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノール 安息香酸エステル症の製造ル層は水で4回洗っ
た後、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去する事により標題化合物症の粗生成
物12.42gを得る。
ノール 安息香酸エステル症の製造ル層は水で4回洗っ
た後、飽和食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去する事により標題化合物症の粗生成
物12.42gを得る。
NMRr 8 ppm (CDCIm) 0.88
(t、J=6.4Hz、38)。
(t、J=6.4Hz、38)。
1.15−1.43 (m、26H)、 1.45−1
.70 (m、2B)。
.70 (m、2B)。
2.39−2.67 (m、3H)、 3.45 (t
、J=4.8Hz。
、J=4.8Hz。
2H)、 3.50−3.67 (m、2H)、 4.
26−4.52 (m。
26−4.52 (m。
2H)、 7.40−7.65 (m、3H)、 8.
05 (dd。
05 (dd。
J=6.4 & 1.6Hz、21)。
参考例137
2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノールVnlの製造 2−ブロモメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノール 安息i酸エステルn313.845g (27
,9ミリモル)のジメチルスルホキシド150m1溶液
に95%シアン化ナトリウム1.439 g (27,
9ミリモル)を加え90℃で1時間反応する0反応液に
冷却下、氷水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ2
−シアンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパノ
ール 安息香fli−cス5−ルn3’ 12.42g
のメタノール60m1とテトラヒドロフラン100m1
の溶液に水冷下2規定水酸化ナトリウム水溶液15、5
m1(30,7ミリモル)を加え、室温で1時間反応す
る0反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで
抽出し、水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去する。*渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4
:1)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより分離精製して6.430g(収率67.8
%)の標題化合物L1を得る。
ノールVnlの製造 2−ブロモメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノール 安息i酸エステルn313.845g (27
,9ミリモル)のジメチルスルホキシド150m1溶液
に95%シアン化ナトリウム1.439 g (27,
9ミリモル)を加え90℃で1時間反応する0反応液に
冷却下、氷水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ2
−シアンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパノ
ール 安息香fli−cス5−ルn3’ 12.42g
のメタノール60m1とテトラヒドロフラン100m1
の溶液に水冷下2規定水酸化ナトリウム水溶液15、5
m1(30,7ミリモル)を加え、室温で1時間反応す
る0反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルで
抽出し、水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去する。*渣をn−ヘキサン−酢酸エチル(4
:1)を溶出溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより分離精製して6.430g(収率67.8
%)の標題化合物L1を得る。
NMR: &ppm (CDCIg> 0.88 (
t、J=6.4Hz、3H)。
t、J=6.4Hz、3H)。
1.15−1.43 (m、26H)、 1.45−1
.70 (m、2H)。
.70 (m、2H)。
1.96−2.27 (m、2H)、 2.45−2.
69 (m、2H)。
69 (m、2H)。
3.45 (t、J=6.6Hz、2H)、 3.59
(d。
(d。
J:4.8Hz、2H)、 3.67−3.88 (
m、2H)。
m、2H)。
(以下余白)
参考例138
2−シアンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノール メタンスルホン酸エステルy!にの製造 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノールVnl 3.40g (10ミリモル)、メタン
スルホニルクロリド1.08m1 (14ミリモル)、
トIJエチルアミン2.39m1 (17ミリモル)を
ジクロロメタン60m1中、参考例50と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物V nlaの粗生成物を得る
。
ノール メタンスルホン酸エステルy!にの製造 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパ
ノールVnl 3.40g (10ミリモル)、メタン
スルホニルクロリド1.08m1 (14ミリモル)、
トIJエチルアミン2.39m1 (17ミリモル)を
ジクロロメタン60m1中、参考例50と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物V nlaの粗生成物を得る
。
NMR:δppm (CDC1,) 0.88 (t
、J=6.4Hz、3H)。
、J=6.4Hz、3H)。
1.15−1.43 (a+、26H)、 1.45−
1.64 (m、2H)。
1.64 (m、2H)。
2.33−2.57 (m、IH)、 2.50−2.
62 (m、2H)。
62 (m、2H)。
3.06 (s、3H)、 3.43 (t、J=6.
6Hz、2H)。
6Hz、2H)。
3.43−3.59 (m、2H)、 4.19−4.
42 (m、2H)。
42 (m、2H)。
参考例139
1−アジド−2−シアノメチル−5−n−へキサデシル
オキシプロパン V nibの製造参考例140 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロビ
ルアミン■nlの製造 先に得られた2−シアンメチル−5−n−ヘキサデシル
オキジブロバノール メタンスルホン酸エステル V
nlaの粗生成物とアジ化リチウム4.9g(100ミ
リモル)をジメチルホルムアミド30m1中で参考例5
2と同様に反応、後処理を行い、3.504匹(収率9
6,1%)の油状の標題化合物ヱnibを得る。
オキシプロパン V nibの製造参考例140 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロビ
ルアミン■nlの製造 先に得られた2−シアンメチル−5−n−ヘキサデシル
オキジブロバノール メタンスルホン酸エステル V
nlaの粗生成物とアジ化リチウム4.9g(100ミ
リモル)をジメチルホルムアミド30m1中で参考例5
2と同様に反応、後処理を行い、3.504匹(収率9
6,1%)の油状の標題化合物ヱnibを得る。
NMR: δppm (CDCIg) 0.88
(t、J=6.4Hz、3H)。
(t、J=6.4Hz、3H)。
1.15−1.43 (m、26H)、 1.45−
1.64 (m、2H)。
1.64 (m、2H)。
2.10−2.30 (m、IH)、 2.50 (
d、J=6.81(z。
d、J=6.81(z。
2B>、 3.37−3.59 (m、6H)。
1−アジド−2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシル
オキシプロパンヱnib、3.OOg (8,23mM
)10%パラジウム−炭素触媒300mgのメタノール
100m1の懸濁液を参考例129と同様に反応後処理
を行い標題化合物L1の粗生成物を得る。
オキシプロパンヱnib、3.OOg (8,23mM
)10%パラジウム−炭素触媒300mgのメタノール
100m1の懸濁液を参考例129と同様に反応後処理
を行い標題化合物L1の粗生成物を得る。
NMR:δppa+ (CDCIn) 0.88 (
t、J=6.4Hz、3H)。
t、J=6.4Hz、3H)。
1.15−1.43 (m、28H)、 1.45−1
.64 (m、2H)。
.64 (m、2H)。
1.88−2.11 (m、IH)、 2.53 (d
、J=6.4Hz。
、J=6.4Hz。
2H)、 2.70−2.93 (m、2H)、 3.
31−3.50(m、 41)。
31−3.50(m、 41)。
(以下余白)
参考例141
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−シ
アンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパン11
1nlの製造 参考例142 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−1,
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン1
1の製造 El/n1 11nl 先に得られた2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシル
オキシプロピルアミン1畦の粗生成物を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および
生成物の物性を第7表に示す。
アンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシプロパン11
1nlの製造 参考例142 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−1,
−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン1
1の製造 El/n1 11nl 先に得られた2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシル
オキシプロピルアミン1畦の粗生成物を用いて、参考例
4と同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および
生成物の物性を第7表に示す。
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−ジ
アツメテル−5−n−ヘキサデシルオキジプロパン、l
」、を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
アツメテル−5−n−ヘキサデシルオキジプロパン、l
」、を用いて、参考例5と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第8表に示す。
実施例67
2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−1−
(5−1−リメチルアンモニオプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパン ヨーダイト Inlの製造実施例68 2−シアンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−L−
(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン
ヨーダイト In2の製造 1[nL 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−1−
(5−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン−U
niを用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
(5−1−リメチルアンモニオプロピルスルホニルアミ
ノ)プロパン ヨーダイト Inlの製造実施例68 2−シアンメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−L−
(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン
ヨーダイト In2の製造 1[nL 2−シアノメチル−5−n−ヘキサデシルオキシ−1−
(5−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プロパン−U
niを用いて、実施例8と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第9表に示す。
2−シアノメチル−3−ヘキサデシルオキジ−1−(5
−ヨードフロビルスルホニルアミノ)プロパン I[n
lを用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
−ヨードフロビルスルホニルアミノ)プロパン I[n
lを用いて、実施例25と同様に反応させ、後処理を行
なう、仕込み量および生成物の物性を第10表に示す。
参考例143
5−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−フェニ
ル−1,3−ジオキサンn4 参考例144 2−ブロモメチル−5−n−オクタデジルカルレバモイ
ルオキシ−プロパノール 安息香酸エステルn5の製造 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1,3−’;オ
キサンnl 7.769g (40ミリモル)、イソシ
アン酸オクタデシル21.991m1 (64ミリモル
)及びジメチルアミノピリジンlOQmgをピリジンl
QOml中参考例122と同様に反応、後処理を行い、
得られた残渣をエタノールで再結晶することにより 1
5゜861 g (収率81.0%)の標題化合物襲を
得る。
ル−1,3−ジオキサンn4 参考例144 2−ブロモメチル−5−n−オクタデジルカルレバモイ
ルオキシ−プロパノール 安息香酸エステルn5の製造 5−ヒドロキシメチル−2−フェニル−1,3−’;オ
キサンnl 7.769g (40ミリモル)、イソシ
アン酸オクタデシル21.991m1 (64ミリモル
)及びジメチルアミノピリジンlOQmgをピリジンl
QOml中参考例122と同様に反応、後処理を行い、
得られた残渣をエタノールで再結晶することにより 1
5゜861 g (収率81.0%)の標題化合物襲を
得る。
IR: νmax (CHCl、> 3440.170
5 am−’(以下余白) 5−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−フェニ
ル−1,3−ジオキサンn42.55g (5,22
ミJモル)、N−ブロモコハク酸イミド938mg (
5,22ミリモル)と硫酸バリウム100mgをジクロ
ロメタン50m1中、参考例135と同様に反応、後処
理を行い、標題化合物n51.86g(収率62.6%
)を得る。
5 am−’(以下余白) 5−n−才クタデジルカルバモイルオキシ−2−フェニ
ル−1,3−ジオキサンn42.55g (5,22
ミJモル)、N−ブロモコハク酸イミド938mg (
5,22ミリモル)と硫酸バリウム100mgをジクロ
ロメタン50m1中、参考例135と同様に反応、後処
理を行い、標題化合物n51.86g(収率62.6%
)を得る。
NMR’ S ppffi (CDCIs) 0.
88 (t、J=6.4Hz、3H)。
88 (t、J=6.4Hz、3H)。
1.17−1.41 (m、30H)、 1.36
−1.57 (m、2H)。
−1.57 (m、2H)。
2.46−2.68 (m、LH)、 3.16 (
q、J=6.2Hz。
q、J=6.2Hz。
2)1)、 3.57 (d、J:5.6Hz、2H
)、 4.26 (d。
)、 4.26 (d。
J=6.4Hz、2H)、 4.44 (d、J=6
.0Hz、2H)。
.0Hz、2H)。
4.59−4.77 (br、IH)、 7.40−
7.60 (m、3H)。
7.60 (m、3H)。
8.03 (d、J=7.0Hz、2H)。
参考例145
2−シアノメチル−5−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノール n5’の製造 130ml中、実施例136と同様に反応、後処理を行
い、標題化合物生1.49g (収率95.5%)を
得る。
オキシプロパノール n5’の製造 130ml中、実施例136と同様に反応、後処理を行
い、標題化合物生1.49g (収率95.5%)を
得る。
NMR r Sppm (CDC1.) 0.88
(t.J=6.4Hz.3H)。
(t.J=6.4Hz.3H)。
1、17−1.41 (m.30H)、 1.36
−1.57 (m.2H)。
−1.57 (m.2H)。
2、61 (s.3H)、 3.17 (q.J=6
.2Hz.2H)。
.2Hz.2H)。
4、16−4.53 (m.4H)、 4.65−4
.81 (m.IH)。
.81 (m.IH)。
7、41−7.67 (m.3H)、 8.05 (
d。
d。
J=7. 0Hz. 2H)。
(以下余白)
2−ブロモメチル−3−n−オクタデジルカルバリモイ
ルオキシプロパノール n5 1.76g (3.10ミリモル)、95%シア
ン化ナトリウム185mg (3.26ミリモル)をジ
メチルスルホキシ参考例146 2−シアンメチル−3−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノールVn2の製造J=6.4Hz.2H
)、 3.65 (d.J=4.8Hz.2H)。
ルオキシプロパノール n5 1.76g (3.10ミリモル)、95%シア
ン化ナトリウム185mg (3.26ミリモル)をジ
メチルスルホキシ参考例146 2−シアンメチル−3−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノールVn2の製造J=6.4Hz.2H
)、 3.65 (d.J=4.8Hz.2H)。
4、22 (d,J=5.4Hz.2H)、 4.7
0−4.87(br.、IH)。
0−4.87(br.、IH)。
参考例147
2−シアノメチル−3−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノール メタンスルホン酸エステルヱ旦釦
の製造 2−シアノメチル−3−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノール 安息香酸エステルn5’ 1.4
9g (2.96ミリモル)、2規定水酸化ナトリウム
水溶液1.66ml (3.32ミリモル)をメタノー
ル15rnlとテトラヒドロフラン15mlの混液中で
参考例137と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
V n2 966mg (収率76、8%)を得る。
オキシプロパノール メタンスルホン酸エステルヱ旦釦
の製造 2−シアノメチル−3−n−オクタデシルカルバモイル
オキシプロパノール 安息香酸エステルn5’ 1.4
9g (2.96ミリモル)、2規定水酸化ナトリウム
水溶液1.66ml (3.32ミリモル)をメタノー
ル15rnlとテトラヒドロフラン15mlの混液中で
参考例137と同様に反応、後処理を行い、標題化合物
V n2 966mg (収率76、8%)を得る。
NMR Z Sppm (CDC1.> 0.88
(t.J−6.4Hz,3H)。
(t.J−6.4Hz,3H)。
1、17−1.40 (m.30H)、 1.37−1
.57 (m.2H)。
.57 (m.2H)。
2、11−2.32 (m.IH)、 2.47 (d
.J=7.2Hz。
.J=7.2Hz。
2H)、 2.56−2、77 (br.IH)、 3
.18 (q。
.18 (q。
2−シアノメチル−3−n−オクタデジルカルバモイル
オキシプロパノール Vn2 940mg (2.29
mM)、メタンスルホニルクロライド231μm (2
.98mM)、トリエチルアミン483 μm (3.
44mM)をジクロロメタン10ml中で参考例52と
同様に反応させ、後処理を行ない、標題化合物V n2
aの粗生成物を得る。
オキシプロパノール Vn2 940mg (2.29
mM)、メタンスルホニルクロライド231μm (2
.98mM)、トリエチルアミン483 μm (3.
44mM)をジクロロメタン10ml中で参考例52と
同様に反応させ、後処理を行ない、標題化合物V n2
aの粗生成物を得る。
NMR二 l; ppm (CDCIs) 0.
88 (t、J=6.4)1z、3H)。
88 (t、J=6.4)1z、3H)。
1.16−1.38 (m、30H)、 1.40
−1.58 (m、1)1)。
−1.58 (m、1)1)。
2.45−2.63 (m、3H)、 3.80
(s、3H)、 3.16(q、J=6.4Hz、
2)1)、 4.09−4.45 (m、4H)4.
73−4.87 (br、、LH)参考例148 1−アンド−2−シアノメチル−5−n−オクタデフル
カルバモイルオキシプロパン )得る。
(s、3H)、 3.16(q、J=6.4Hz、
2)1)、 4.09−4.45 (m、4H)4.
73−4.87 (br、、LH)参考例148 1−アンド−2−シアノメチル−5−n−オクタデフル
カルバモイルオキシプロパン )得る。
NMR : Sppm (CDC1.) 0.88
(t.J=6.4Hz.3H)。
(t.J=6.4Hz.3H)。
1、16−1.40 (m.30)1)、 1.40
−1.58 (m.2H)。
−1.58 (m.2H)。
2、20−2.40 (m.IH)、 2.51
(d.J=6.6Hz。
(d.J=6.6Hz。
2H)、 3.18 (q.J=6.4Hz.2H)
、 3.40−3.66(m.2H)、 4.00
−4.23 (m.2H)、 4.60−4.84(
br.、IH)。
、 3.40−3.66(m.2H)、 4.00
−4.23 (m.2H)、 4.60−4.84(
br.、IH)。
参考例149
2−シアノメチル−3−n−オクタデジルカルバモイル
オキシプロビルアミン1婬の製造先に得られた2−シア
ノメチル−3−n−オクタデシル力ルバモイルオキンプ
ロパノール メタンスルホン酸エステル V n2aの
粗生成物とアジ化ノチウム1. 121 g (22.
9mM)をジメチルホルムアミド15ml中、参考例
53と同様に反応させ、後処理を行ない、標因化合物V
n2b 854mg (収率85,6%1−アジド−
2−シアノメチル−3−n−オクタデジルカルバモイル
オキレシプロパン 1、84mM)を10%パラジウム−炭素触媒801m
gを用い、メタノール40ml中、参考例129と同様
に接触還元した後、後処理を行ない、標題化合物の粗生
成物を得る。
オキシプロビルアミン1婬の製造先に得られた2−シア
ノメチル−3−n−オクタデシル力ルバモイルオキンプ
ロパノール メタンスルホン酸エステル V n2aの
粗生成物とアジ化ノチウム1. 121 g (22.
9mM)をジメチルホルムアミド15ml中、参考例
53と同様に反応させ、後処理を行ない、標因化合物V
n2b 854mg (収率85,6%1−アジド−
2−シアノメチル−3−n−オクタデジルカルバモイル
オキレシプロパン 1、84mM)を10%パラジウム−炭素触媒801m
gを用い、メタノール40ml中、参考例129と同様
に接触還元した後、後処理を行ない、標題化合物の粗生
成物を得る。
NMR : l; ppm (CDCIs) 0.8
8 (t.J=6.4Hz.3H)。
8 (t.J=6.4Hz.3H)。
1、16−1.40 (m.30H)、 1.’40−
1.58 (m.2H)。
1.58 (m.2H)。
1、96−2.97 (m.7H)、 3.OQ
−3.29 (m.2H)。
−3.29 (m.2H)。
3、96−4.27 (m.2H)、 4.60−4.
90 (br.、LH)参考例150 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−ン
アノメチルー3ーnーオクタデジルカルバモイルオキシ
プロパン 先に得られた2−シアノメチル−3−n−オクタデシル
カルバモイルオキシブロビルアミンIVn2の粗生成物
を用いて、参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
90 (br.、LH)参考例150 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−ン
アノメチルー3ーnーオクタデジルカルバモイルオキシ
プロパン 先に得られた2−シアノメチル−3−n−オクタデシル
カルバモイルオキシブロビルアミンIVn2の粗生成物
を用いて、参考例4と同様に反応させ、後処理を行なう
.仕込み量および生成物の物性を第7表に示す。
参考例151
2−シアノメチル−3−n−才クタデジルカルバモイル
オキシ−1−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)
プロパン I[n2の製造 ■n2 I[[n2 1[[n2 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ−2−ンア
ノメテル−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシ に反応させ、後処理を行なう。仕込み量および生成物の
物性を第8表に示す。
オキシ−1−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)
プロパン I[n2の製造 ■n2 I[[n2 1[[n2 1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ−2−ンア
ノメテル−3−n−オクタデジルカルバモイルオキシ に反応させ、後処理を行なう。仕込み量および生成物の
物性を第8表に示す。
実施例69
2−シアノメチル−3−n−オクタデジルカルバトモイ
ルオキシ− ホニルアミノ)プロパンヨーダイト上りの製造上イルオ
キシ−1−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プ
ロパン IIn2を用いて、実施例25と同様に反応さ
せ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の物性を第
10表に示す。
ルオキシ− ホニルアミノ)プロパンヨーダイト上りの製造上イルオ
キシ−1−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)プ
ロパン IIn2を用いて、実施例25と同様に反応さ
せ、後処理を行なう.仕込み量および生成物の物性を第
10表に示す。
参考例152
2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
3−n−ヘキサデシルチオプロパノール メタンスルホ
ン酸エステルm12aの製造 1[n2 2−シアンメチル−3−n−才クタデジルカルバ2−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−3−n
−ヘキサデシルチオプロパノールm121、 268
g ( 2. 65mM>、メタンスルホニルクロリド
27oB 1 (3.45mM)、トリエチルアミン5
60μm(3. 98mM)をジクロロメタン30ml
中、参考例52と同様に反応、後処理を行ない、標題化
合物m12aの粗生成物を得る。
3−n−ヘキサデシルチオプロパノール メタンスルホ
ン酸エステルm12aの製造 1[n2 2−シアンメチル−3−n−才クタデジルカルバ2−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−3−n
−ヘキサデシルチオプロパノールm121、 268
g ( 2. 65mM>、メタンスルホニルクロリド
27oB 1 (3.45mM)、トリエチルアミン5
60μm(3. 98mM)をジクロロメタン30ml
中、参考例52と同様に反応、後処理を行ない、標題化
合物m12aの粗生成物を得る。
NMR : Sppm (CDCIs) 0.88
(t.J=6.4Hz.3H)。
(t.J=6.4Hz.3H)。
1、15−1.37 (m.26H)、 1.39 (
d.J=6.4Hz。
d.J=6.4Hz。
3Hz)、 1.41−1.62 (m.2H)、 1
.68−1.86(m.IH)、 1.88−2.21
(m,28)、 3.02 (s。
.68−1.86(m.IH)、 1.88−2.21
(m,28)、 3.02 (s。
3H)、 4.24−4.43 (m.2H)、 5.
19−5.42 (m。
19−5.42 (m。
LH)、 7.38−7.63 (m.3H)、 8.
03 (d。
03 (d。
J=7. 2Hz. 2H)。
参考例153
1−アジド−2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−
1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパノールの
製造 ノール メタンスルホン酸エステルm12aとアジ化リ
チウム1.297g (26.5mM)をジメチルホル
ムアミド50ml中、参考例53と同様に反応きせ、後
処理性ない、標題化合物m12b 1. 291 g
(収率96.6%)を得る。
1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパノールの
製造 ノール メタンスルホン酸エステルm12aとアジ化リ
チウム1.297g (26.5mM)をジメチルホル
ムアミド50ml中、参考例53と同様に反応きせ、後
処理性ない、標題化合物m12b 1. 291 g
(収率96.6%)を得る。
NMR : Sppm (CDCIs) 0.88
(t.c6.4Hz.3H)。
(t.c6.4Hz.3H)。
1、16〜1.37 (+n.26H)、 1.38
(d.J−6.0Hz。
(d.J−6.0Hz。
3H)、 1.44−1.62 (m.2H)、 1.
63−1.78(m.LH>、 1.80−2.03
(m.2H)、 2.38−2.50(m.2)1)、
2.49−2.72 (m.2H)、 3.41−3
.62(m.2H)、 5.17−5.37 (m.I
H)、 7.39−7.62(m.3H)、 8.03
(d.J=7.2Hz.2H)。
63−1.78(m.LH>、 1.80−2.03
(m.2H)、 2.38−2.50(m.2)1)、
2.49−2.72 (m.2H)、 3.41−3
.62(m.2H)、 5.17−5.37 (m.I
H)、 7.39−7.62(m.3H)、 8.03
(d.J=7.2Hz.2H)。
(以下余白)
先に得られた2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル) − 3 − n−ヘキサデシルチ才ブロバ参
考例154 1−アミノ−2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパンm13の
製造 参考例155 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−n
−ヘキサデシルチオプロパン当の製造1−アジド−2−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル) −3−
n−ヘキサデシルチオプロパン畦2b 1.291 g
(2,56mM>を10%パラジウム−炭素触媒13
0mgを用い、メタノール100m1中、参考例129
と同様に接触還元した後、後処理を行ない標題化合物の
粗生成物を得る。
−イル) − 3 − n−ヘキサデシルチ才ブロバ参
考例154 1−アミノ−2−(2−ベンゾイルオキシプロパン−1
−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパンm13の
製造 参考例155 2− (2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル)−
1−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−n
−ヘキサデシルチオプロパン当の製造1−アジド−2−
(2−ベンゾイルオキシプロパン−1−イル) −3−
n−ヘキサデシルチオプロパン畦2b 1.291 g
(2,56mM>を10%パラジウム−炭素触媒13
0mgを用い、メタノール100m1中、参考例129
と同様に接触還元した後、後処理を行ない標題化合物の
粗生成物を得る。
NMR: Sppm (CDC1,) 0.88 (
t、J=6.4Hz、3H)。
t、J=6.4Hz、3H)。
1.12−2.00 (m、36)1)、 2.34−
2.91 (m、6H)。
2.91 (m、6H)。
5.19−5.38 (m、11()、 7.39−7
.62 (m、3H)。
.62 (m、3H)。
8.03 (d、J=7.2Hz、2H)。
先に得られた1−アミノ−2−(ベンゾイルオキシプロ
パン−1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパン
lの粗生成物、トリエチルアミン540μm (3,8
4mM)、3−クロロプロパンスルホニルクロリド37
0μH3,07mM)をジクロロメタン30m1中、参
考例4と同様に反応させ、後処理を行ない、標題化合物
m141.295g (収率81.6%)を得る。
パン−1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパン
lの粗生成物、トリエチルアミン540μm (3,8
4mM)、3−クロロプロパンスルホニルクロリド37
0μH3,07mM)をジクロロメタン30m1中、参
考例4と同様に反応させ、後処理を行ない、標題化合物
m141.295g (収率81.6%)を得る。
NMR: S ppm (CDC1,> 0.88
(t、、T=6.4Hz、3H)。
(t、、T=6.4Hz、3H)。
1.14−1.45 (m、29H)、 1.41−
1.61 (m、2H)。
1.61 (m、2H)。
1.63−1.81 (m、IH)、 1.82−
2.01 (m、2H)。
2.01 (m、2H)。
2.15−2.37 (m、2H)、 2.37−2
.77 (m、4H)。
.77 (m、4H)。
3.09−3.34 (m、4H)、 3.65 (t
、J=6.4Hz。
、J=6.4Hz。
2H)、 4.65−5.08 (br、、LH)、
5.10−5.46(m、LH)、 7.39−7
.62 (m、31)、 8.03 (d。
5.10−5.46(m、LH)、 7.39−7
.62 (m、31)、 8.03 (d。
J=7.2Hz、 28)。
(以下余白)
参考例156
1−<3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−2−(
2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−3−n−ヘキサ
デシルチオプロパン11115の製造H 1,24g (2,0ミリモル)の2−(ベンゾイルオ
キシプロパン−1−イル)−1−(3−クロロプロピル
スルホニルアミノ−5−n−ヘキサデシルチオ−プロパ
ンm14のメタノール50m1の溶液中、5.18Mo
l/Lナトリウムメトキシドーメタノール溶液770μ
m(2ミリモル)を加え、参考例131と同様に、反応
、後処理を行い、標題化合物m15562mg (収率
54.5%)を得る。
2−ヒドロキシプロパン−1−イル)−3−n−ヘキサ
デシルチオプロパン11115の製造H 1,24g (2,0ミリモル)の2−(ベンゾイルオ
キシプロパン−1−イル)−1−(3−クロロプロピル
スルホニルアミノ−5−n−ヘキサデシルチオ−プロパ
ンm14のメタノール50m1の溶液中、5.18Mo
l/Lナトリウムメトキシドーメタノール溶液770μ
m(2ミリモル)を加え、参考例131と同様に、反応
、後処理を行い、標題化合物m15562mg (収率
54.5%)を得る。
NMR: S ppm (CDCIs) 0188
(t、J:6.4Hz、3)1)。
(t、J:6.4Hz、3)1)。
1.17−1.42 (m、29H)、 1.43−1
.77 (m、5H)。
.77 (m、5H)。
1.91−2.18 (m、IH)、 2.20−2.
37 (m、2H)。
37 (m、2H)。
2.42−2.65 (m、4H)、 3.02−3.
38 (m、4H)。
38 (m、4H)。
3.69 (t、J=6.0Hz、2H)、 3.80
−4.13 (m。
−4.13 (m。
LH)、 5.10−5.45 (broad、11)
。
。
(以下余白)
参考例157
1−(3−’70口プロピルスルホニルアミノ)−3−
n−ヘキサデシルチオ−2−(2−才キソブロバンー1
−イル〉プロパン封の製造 R 無水トリフルオロ酢酸 のジクロロメタン20m1 ルスルホキシド190μm 分間攪拌する6反応液に 190μm (1,33ミリモル) の溶液に一78℃でジメチ (2,66ミリモル)を加え5 l−(3−クロロプロピル スルホニルアミノ)−2−(2−ヒドロキシプロパン−
1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパン、m1
5428mg(0,83ミリモル)のジクロロメタン2
ml溶液を激しく攪拌しながら滴下する。−70℃で1
5分間反応させた後、トリエチルアミン3.50m1(
24,9ミリモル)を加え参考例132と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物111m2213mg (収
率41.6%)を得る。
n−ヘキサデシルチオ−2−(2−才キソブロバンー1
−イル〉プロパン封の製造 R 無水トリフルオロ酢酸 のジクロロメタン20m1 ルスルホキシド190μm 分間攪拌する6反応液に 190μm (1,33ミリモル) の溶液に一78℃でジメチ (2,66ミリモル)を加え5 l−(3−クロロプロピル スルホニルアミノ)−2−(2−ヒドロキシプロパン−
1−イル)−3−n−ヘキサデシルチオプロパン、m1
5428mg(0,83ミリモル)のジクロロメタン2
ml溶液を激しく攪拌しながら滴下する。−70℃で1
5分間反応させた後、トリエチルアミン3.50m1(
24,9ミリモル)を加え参考例132と同様に反応、
後処理を行い、標題化合物111m2213mg (収
率41.6%)を得る。
NMRr S ppm (CDC1*) 0.88
(t、に6.4Hz、3H)。
(t、に6.4Hz、3H)。
1.10−1.43 (m、26H)、 1.46−1
.66 (m、2H)。
.66 (m、2H)。
2.22−2.44 (m、3H)、 2.44−2.
59 (m、4H)。
59 (m、4H)。
2.65 (d、J=6.0Hz、2)1)、 3.0
9−3.29 (m。
9−3.29 (m。
4H)、 3.68 (t、J=6.4Hz、2)1)
、 4.80 (t。
、 4.80 (t。
J=6.4Hz、 LH>。
(以下余白)
参考例158
3−n−ヘキサデシルチオ−1−(5−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(2−オキソプロパン−1−
イル)プロパンl婬の製造 11m2 l−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−n
−ヘキサデシルチオ−2−(2−オキソプロパン−1−
イル)プロパン II[m2を用いて、参考例5と同様
に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第8表に示す。
スルホニルアミノ)−2−(2−オキソプロパン−1−
イル)プロパンl婬の製造 11m2 l−(3−クロロプロピルスルホニルアミノ)−3−n
−ヘキサデシルチオ−2−(2−オキソプロパン−1−
イル)プロパン II[m2を用いて、参考例5と同様
に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の
物性を第8表に示す。
実施例70
3−n−ヘキサデシルチオ−2−(2−才キソプロパン
−1−イル)−1−(3−トリメチルアンモニオプロピ
ルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト1すの製造 −1−イル)プロパン I[m2を用いて、実施例8と
同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
−1−イル)−1−(3−トリメチルアンモニオプロピ
ルスルホニルアミノ)プロパンヨーダイト1すの製造 −1−イル)プロパン I[m2を用いて、実施例8と
同様に反応させ、後処理を行なう、仕込み量および生成
物の物性を第9表に示す。
(以下余白)
1[m2
3−n−ヘキサデシルチオ−1−(5−ヨードプロピル
スルホニルアミノ)−2−(2−オキソプロパン実施例
71 1−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−28−1,
2,4−トリアシリ−2−イル)−3−(3−トリメチ
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨ
ーダイト1虹の製造第9表に示す。
スルホニルアミノ)−2−(2−オキソプロパン実施例
71 1−ヘキサデシルチオ−2−(5−メチル−28−1,
2,4−トリアシリ−2−イル)−3−(3−トリメチ
ルアンモニオプロピルスルホニルアミノ)プロパン ヨ
ーダイト1虹の製造第9表に示す。
上記出発物質は、参考例77において、5−メチルテト
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−l、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、参考例77.79.80,
81.3.4および5と同様に反応させることにより製
造することができる。
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−l、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、参考例77.79.80,
81.3.4および5と同様に反応させることにより製
造することができる。
実施例72
2−(3−メチル−2H−1,2,4−トリアゾール−
2−イル)−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−5
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト1感の製造1−ヘキサデシルチオ−5−
(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(3−
メチル−28−1,2,4−1−リアゾール−2−イル
)プロパン I[o2を用いて、実施例8と同様に反応
許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性を
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチル−2H−l、2.4− )リアシー ルー
2− イル)−1−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロパン IIo2を用いて、実施例25と同様に反応さ
せ、後処理を行なう、仕込量および生成物の物性を第1
0表に示す。
2−イル)−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−5
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト1感の製造1−ヘキサデシルチオ−5−
(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(3−
メチル−28−1,2,4−1−リアゾール−2−イル
)プロパン I[o2を用いて、実施例8と同様に反応
許せ、後処理を行なう、仕込み量および生成物の物性を
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチル−2H−l、2.4− )リアシー ルー
2− イル)−1−オクタデシルカルバモイルオキシプ
ロパン IIo2を用いて、実施例25と同様に反応さ
せ、後処理を行なう、仕込量および生成物の物性を第1
0表に示す。
、L記出発物質は、参考例77において、5−メチルテ
トラゾールのかわりに3−メチル−2H−l、2.4−
トリアゾールを用いる以外は、参考例77.79.80
.82.3.4および5と同様に反応させることにより
製造できる。
トラゾールのかわりに3−メチル−2H−l、2.4−
トリアゾールを用いる以外は、参考例77.79.80
.82.3.4および5と同様に反応させることにより
製造できる。
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチル−2H−l、2.4−トリアゾール−2−イ
ル)−1−オクタデジルカルバリモイルオキシプロパン 同様に反応させ、後処理を行なう.仕込量および生成物
の物性を第10表に示す。
3−メチル−2H−l、2.4−トリアゾール−2−イ
ル)−1−オクタデジルカルバリモイルオキシプロパン 同様に反応させ、後処理を行なう.仕込量および生成物
の物性を第10表に示す。
上記出発物質は、参考例77において、5−メチルテト
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−1、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、−参考例77、79、80
、82、3、4および5と同様に反応させることにより
製造できる。
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−1、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、−参考例77、79、80
、82、3、4および5と同様に反応させることにより
製造できる。
実施例73
2−(3−メチル−IH−1.2.4−トリアゾール−
1−イル)−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト Io3の製造 ルオキシプロパン Io3を用いて、実施例25と同様
に反応させ、後処理を行なう.仕込量および生成物の物
性を第10表に示す。
1−イル)−1−才クタデジルカルバモイルオキシ−3
−(3−キノリニオプロピルスルホニルアミノ)プロパ
ン ヨーダイト Io3の製造 ルオキシプロパン Io3を用いて、実施例25と同様
に反応させ、後処理を行なう.仕込量および生成物の物
性を第10表に示す。
上記出発物質は、参考例77において、5−メチルテト
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−1、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、参考例77、79、80、
82、3、4および5と同様に反応させることにより製
造できる。
ラゾールのかわりに3−メチル−2H−1、2.4−ト
リアゾールを用いる以外は、参考例77、79、80、
82、3、4および5と同様に反応させることにより製
造できる。
(以下余白)
3−(3−ヨードプロピルスルホニルアミノ)−2−(
3−メチル−IH−1.2.4−トリアゾール−1−イ
ル)−1−才クタデシル力ルバモイハ3発明の効果 本発明化合物は、PAF類縁体でありP −A F受容
体拮抗物質として作用する0本発明化合物はPAFによ
る血小板凝集を抑制するほか、PAFが関与していると
考えられている症状または疾病、例えば、エントドキン
ショック、喘息、炎症、急性組織移植片拒絶反応、降圧
、胃潰瘍または腎炎などに対する有用な治療薬となりう
る。また有用な抗腫瘍剤となりうる。以下に、その代表
的な化合物についてin vitroでの血小板凝集抑
制作用の試験例を示す。
3−メチル−IH−1.2.4−トリアゾール−1−イ
ル)−1−才クタデシル力ルバモイハ3発明の効果 本発明化合物は、PAF類縁体でありP −A F受容
体拮抗物質として作用する0本発明化合物はPAFによ
る血小板凝集を抑制するほか、PAFが関与していると
考えられている症状または疾病、例えば、エントドキン
ショック、喘息、炎症、急性組織移植片拒絶反応、降圧
、胃潰瘍または腎炎などに対する有用な治療薬となりう
る。また有用な抗腫瘍剤となりうる。以下に、その代表
的な化合物についてin vitroでの血小板凝集抑
制作用の試験例を示す。
[試験材料および試験方法コ
雄性ウサギ(NIBS−J賢、体重2.2〜2.5kg
、ラビトン牧場)をベンドパルビタール・ナトリウム(
ソムノペンチル: Pitmab Moore、約25
mg/kg、耳静脈内注射)で麻酔し、三方活栓を接続
したカニユーレを頚動脈に導入し、3.8χクエン酸ナ
トリウム0゜8mlの入ったプラスチック製シリンジに
て血液7.2ml、全量8mlずつ連続して全採血した
。血液はプラスチック製試験管に入れ軽く転倒混和した
のち、22℃、2008g、10分間遠心分離し上清の
多血小板血漿[PRP(Platalet rich
plasma)コを採取した。さらに残りの血液を22
℃、3000rpm(約1900Xg)、10分間遠心
分離し、乏血小板血漿[PPP(Platelet p
oor plasma)]を得た。
、ラビトン牧場)をベンドパルビタール・ナトリウム(
ソムノペンチル: Pitmab Moore、約25
mg/kg、耳静脈内注射)で麻酔し、三方活栓を接続
したカニユーレを頚動脈に導入し、3.8χクエン酸ナ
トリウム0゜8mlの入ったプラスチック製シリンジに
て血液7.2ml、全量8mlずつ連続して全採血した
。血液はプラスチック製試験管に入れ軽く転倒混和した
のち、22℃、2008g、10分間遠心分離し上清の
多血小板血漿[PRP(Platalet rich
plasma)コを採取した。さらに残りの血液を22
℃、3000rpm(約1900Xg)、10分間遠心
分離し、乏血小板血漿[PPP(Platelet p
oor plasma)]を得た。
PRPの血小板数はフールターカウンターで計測し、5
0〜55X10’/μmになるようにPPPで希釈調節
し凝集測定に供した。
0〜55X10’/μmになるようにPPPで希釈調節
し凝集測定に供した。
血小板凝集反応は、ボーンの方法[Born G、V。
Ro、ネイチ+ −(Nature)、出、927〜9
29(1962)]に準じ、アブリボメーター(Mod
el ALITORAM−61、理化電機工業)を用い
て測定した。すなわち、血小板数が50〜55XLO’
/μmになるように調整したPPP230μmを測定用
キュベツトに入れて凝集針にセットし、37℃で1分間
攪拌<120Orpm)、予備加温した後、試験化合物
液(ジメチルスルホキシド溶液1μmと生理食塩水9μ
m)を加え、その2分後に凝集惹起物質として血小板活
性化因子(PAF、 C,)20nM(終濃度)を10
μm加えて凝集により生じた透過度の変化を経時的に記
録した。
29(1962)]に準じ、アブリボメーター(Mod
el ALITORAM−61、理化電機工業)を用い
て測定した。すなわち、血小板数が50〜55XLO’
/μmになるように調整したPPP230μmを測定用
キュベツトに入れて凝集針にセットし、37℃で1分間
攪拌<120Orpm)、予備加温した後、試験化合物
液(ジメチルスルホキシド溶液1μmと生理食塩水9μ
m)を加え、その2分後に凝集惹起物質として血小板活
性化因子(PAF、 C,)20nM(終濃度)を10
μm加えて凝集により生じた透過度の変化を経時的に記
録した。
血小板の凝集率は、PRPおよびPPPの透過度をそれ
ぞれOzおよび10ozとし凝集惹起物質添加後のPR
Pの最大透過度を最大凝集率とした。
ぞれOzおよび10ozとし凝集惹起物質添加後のPR
Pの最大透過度を最大凝集率とした。
凝集阻害率(X)は、対照群(担体添加群)の最大凝集
率に対する試験化合物添加群の最大凝集率の比から算出
した。
率に対する試験化合物添加群の最大凝集率の比から算出
した。
以下に試験結果を示す。試験結果は、血小板凝集を50
X阻害するために必要な試験化合物の濃度ICa。(μ
M)で示した。
X阻害するために必要な試験化合物の濃度ICa。(μ
M)で示した。
(以下余白)
*化合物番号は、実施例の化合物番号に対応する。
比較対照化合物としてPGE rを使用したのは、にE
、がPAFによる血小板凝集に対して強力な抑制作用を
有することが知られているので、この作用レベルを目標
として新規化合物を合成したことによる。その結果、本
発明化合物は、pGE +の血小板凝集抑制作用レベル
までかなり近づくことができた。
、がPAFによる血小板凝集に対して強力な抑制作用を
有することが知られているので、この作用レベルを目標
として新規化合物を合成したことによる。その結果、本
発明化合物は、pGE +の血小板凝集抑制作用レベル
までかなり近づくことができた。
本発明化合物の抗腫瘍活性は、例えば、Meth A(
マウス繊維芽肉腫)を移植したBa1b/cマウスでの
腫瘍重量の減少並びにサイズの退縮ならびにM)I−1
34(7ウス腹水肝癌)を移植したC3)1/HeN7
ウスおよびEhrlich Ascites (エール
リッヒ腹水ガン)を移植したDSマウスでの延命効果な
とにより確かめられている。
マウス繊維芽肉腫)を移植したBa1b/cマウスでの
腫瘍重量の減少並びにサイズの退縮ならびにM)I−1
34(7ウス腹水肝癌)を移植したC3)1/HeN7
ウスおよびEhrlich Ascites (エール
リッヒ腹水ガン)を移植したDSマウスでの延命効果な
とにより確かめられている。
本発明化合物(I)はヒトまたは動物に経口的にまたは
非経口的に投与することができる。例えば、化合物(I
)は適当な注射用溶剤(例えば、注射用蒸留水、エタノ
ール、グリセリン、プロピし・ングリコール、オリーブ
油、ラッカセイ油など)に溶解または懸濁して静注、筋
注もしくは皮下注射などによって投与しろる。注射剤と
して用いる場合、化合物(I)は、溶液または懸濁液と
してアンプルに封入しておくこともできるが、結晶、粉
末、微結晶、凍結乾燥物などとしてアンプルまたはバイ
アル中に保存し、用時調整して用いるのが好ましい、ま
た、安定剤を添加しておいてもよい、また、化合物(1
)は希釈剤(例えば、デンプン、ショ糖、乳糖、炭酸カ
ルシウム、力オJンなど)、滑沢剤(例えば、ステアリ
ン酸、安息香酸ナトリウム、ホウ酸、シリカ、ポリエチ
レングリフールなど)などの製薬成分を添加して、粉末
、錠剤、顆粒剤、カプセル、トローチ、ドライシロップ
などに成型して経口投与することができる。
非経口的に投与することができる。例えば、化合物(I
)は適当な注射用溶剤(例えば、注射用蒸留水、エタノ
ール、グリセリン、プロピし・ングリコール、オリーブ
油、ラッカセイ油など)に溶解または懸濁して静注、筋
注もしくは皮下注射などによって投与しろる。注射剤と
して用いる場合、化合物(I)は、溶液または懸濁液と
してアンプルに封入しておくこともできるが、結晶、粉
末、微結晶、凍結乾燥物などとしてアンプルまたはバイ
アル中に保存し、用時調整して用いるのが好ましい、ま
た、安定剤を添加しておいてもよい、また、化合物(1
)は希釈剤(例えば、デンプン、ショ糖、乳糖、炭酸カ
ルシウム、力オJンなど)、滑沢剤(例えば、ステアリ
ン酸、安息香酸ナトリウム、ホウ酸、シリカ、ポリエチ
レングリフールなど)などの製薬成分を添加して、粉末
、錠剤、顆粒剤、カプセル、トローチ、ドライシロップ
などに成型して経口投与することができる。
化合物(I)をエントドキンショック、喘息、炎症、急
性組織移植片拒絶反応、降圧、胃潰瘍、腎炎または腫瘍
などの治療に用いる場合、成人の日用量で通常1mg〜
5g11日1〜3回投与する。しかし、患者の年齢、病
状、病歴などにより適宜増量または減量して投与すると
よい。
性組織移植片拒絶反応、降圧、胃潰瘍、腎炎または腫瘍
などの治療に用いる場合、成人の日用量で通常1mg〜
5g11日1〜3回投与する。しかし、患者の年齢、病
状、病歴などにより適宜増量または減量して投与すると
よい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1はアルキルまたはアルキルカルバモイル
;R_2は低級アルキルオキシ、低級アルキルカルバモ
イルオキシ、低級アルキルカルボニルアミノ、低級アル
キルオキシカルボニルアミノ、低級アルキルウレイド、
低級アルキルオキシメチル、低級アルキルカルボニルメ
チル、シアノメチルまたはヘテロ環基またはヘテロサイ
クリルオキシ;R_2’は水素を表わすかまたはR_2
と一緒になって−O(CH_2)m−(式中、mは1な
いし5の整数を表わす)を形成する;R_3、R_4お
よびR_5は互いに独立して水素もしくは低級アルキル
を表わすかまたはR_3、R_4およびR_5の2個ま
たは3個が隣接するNと一緒になって環状アンモニオを
形成する;R_5は水素または低級アルキルカルボニル
;X^−は対イオン;Yは酸素または硫黄;およびnは
1ないし10の整数をそれぞれ表わす]で示される化合
物。 2、R_1がC_1_2−C_2_0アルキル;および
nが1ないし5の整数である請求項1記載の化合物。 3、R_1がC_1_2−C_2_0アルキルカルバモ
イル;およびnが1ないし5の整数である請求項1記載
の化合物。 4、R_2’が水素;R_5が水素;およびX^−がハ
ロゲンアニオンである請求項2または3記載の化合物。 5、R_2が低級アルキルオキシ;および環状アンモニ
オがチアゾリオまたはキノリニオである請求項1、2、
3または4記載の化合物。 6、R_2が低級アルキルオキシメチル;および環状ア
ンモニオがチアゾリオまたはチアゾリオである請求項1
、2、3または4記載の化合物。 7、R_2が酸素または硫黄を含んでもよく、また置換
基を有してもよい窒素含有5ないし6員のヘテロ環基;
および環状アンモニオがチアゾリオまたはキノリニオで
ある請求項1、2、3または4記載の化合物。 8、R_2が低級アルキルカルバモイルオキシ;および
環状アンモニオがチアゾリオまたはキノリニオである請
求項1、2、3または4記載の化合物。 9、R_2が低級アルキルオキシメチル;およびR_3
、R_4およびR_5がそれぞれ低級アルキルである請
求項1記載の化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63319136A JPH02767A (ja) | 1987-12-17 | 1988-12-16 | 脂質誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-320238 | 1987-12-17 | ||
| JP32023887 | 1987-12-17 | ||
| JP63319136A JPH02767A (ja) | 1987-12-17 | 1988-12-16 | 脂質誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02767A true JPH02767A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26569615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63319136A Pending JPH02767A (ja) | 1987-12-17 | 1988-12-16 | 脂質誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02767A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017036330A (ja) * | 2006-10-03 | 2017-02-16 | テクミラ ファーマシューティカルズ コーポレイションTekmira Pharmaceuticals Corporation | 製剤用化合物 |
-
1988
- 1988-12-16 JP JP63319136A patent/JPH02767A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017036330A (ja) * | 2006-10-03 | 2017-02-16 | テクミラ ファーマシューティカルズ コーポレイションTekmira Pharmaceuticals Corporation | 製剤用化合物 |
| JP2019048887A (ja) * | 2006-10-03 | 2019-03-28 | アルブータス・バイオファーマー・コーポレイション | 製剤用化合物 |
| CN110066224A (zh) * | 2006-10-03 | 2019-07-30 | 阿尔尼拉姆医药品有限公司 | 含脂质的制品 |
| US11420931B2 (en) | 2006-10-03 | 2022-08-23 | Arbutus Biopharma Corporation | Lipid containing formulations |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0321296B1 (en) | Lipid derivatives their preparation and use | |
| US6214880B1 (en) | Arylsulfonanilide ureas | |
| US5138067A (en) | Lipid derivatives | |
| JP3145410B2 (ja) | 新規な4,6−ジアリールピリミジン誘導体及びその塩 | |
| DE69103991T2 (de) | Substituierte Sulfonamide, Verfahren zu deren Herstellung und die enthaltenden Heilmittel. | |
| IL285399B2 (en) | Thioeno[3,2-b] pyridin-7-amine compounds for treating familial dysautonomia | |
| NZ232659A (en) | Substituted benzimidazoles, pharmaceutical compositions and intermediates | |
| JPH11269146A (ja) | 分化誘導剤 | |
| EA011087B1 (ru) | Соединения и фармацевтические композиции для лечения воспалительных заболеваний | |
| CN104718202A (zh) | 用于制备(s)-3-(4-((4-(吗啉基甲基)苄基)氧基)-1-氧代异吲哚啉-2-基)哌啶-2,6-二酮及其可药用形式的方法 | |
| RU2265592C2 (ru) | Производное альфа-аминогидроксамовой кислоты, способ его получения и фармацевтическая композиция | |
| JPH0253762A (ja) | 新規スルホンアミドおよびこれを含有する、物質代謝機能病および血行障害治療薬 | |
| DE69130362T2 (de) | Imidazopyridinderivate, verfahren zu deren herstellung und deren anwendung | |
| EP2776392B1 (en) | Process for the preparation of 1-acyl-4-phenylsulfonylprolinamide derivatives and new intermediates | |
| US5650428A (en) | Arylsulfonamide derivative and pharmaceutical compositions and use thereof | |
| FI96423C (fi) | Menetelmä terapeuttisesti käyttökelpoisten diastereomeeristen 5R,6S-6-(1R-hydroksietyyli)-2-(cis-1-okso-3-tiolanyylitio)-2-penem-3-karboksyylihappojohdannaisten valmistamiseksi | |
| SK130599A3 (en) | Novel pyridine derivatives and pharmaceutical compositions containing them | |
| JPH0261950B2 (ja) | ||
| US20100121091A1 (en) | Processes of preparing asymmetric dinitrobenzamide mustard compounds, intermediate compounds useful therein and products obtained therefrom | |
| ES2203762T3 (es) | Piridinas intermedias utiles en la sintesis de agonistas del receptor adrenergico beta. | |
| RU2188821C2 (ru) | Способ получения производных имидазола | |
| JP3084578B2 (ja) | 光学活性化合物の製造法 | |
| JP3527255B2 (ja) | 6−n−置換アミノピコリン酸誘導体及びその製造法 | |
| TWI394757B (zh) | 嘌呤衍生物及使用它之抗腫瘤劑 | |
| JPH0812670A (ja) | 新規なピロリジン誘導体 |