JPH0276889A - アルキル錫オキサイドの分離製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は工業的に有用なモノ、ジまたはトリ有機錫オキ
サイドの分離製造法に関する。

〔従来の技術・発明が解決しようとする課題〕モノおよ
びジアルキル錫オキサイドは工業的に価値が高く、ポリ
塩化ビニル樹脂用安定剤、有機合成触媒、カチオン電着
塗装触媒などに多用され、またビス（トリアルキル錫）
オキサイドまたはトリアルキル錫ハイドロオキサイド（
以下、あわせてトリアルキル錫オキサイドという、、）
は防汚塗料の分野で重要な位置を占めている。これらア
ルキル錫オキサイドは、従来広くたとえば、米国特許第
２７１８５２２号および同３３９０１５９号明細書に記
載されているように、アルキル錫ハライドを有機溶媒の
存在下にアルカリ金属水酸化物、または水酸化アンモニ
ウムなどの強塩基性物質にてバッチ法にて加水分解し、
塩類および場合によってはモノアルキル錫オキサイドの
アルカリ金属塩を含む水層と、ジおよびトリアルキル錫
オキサイドを含む有機層の二相を形成させ水相を分液し
たのち、油相から濾過または遠心分離などの機械的方法
により、ジまたはトリアルキル錫オキサイドを分離する
ことにより製造されてきた。

しかしながら、このような方法では、以下に述べるよう
な労働安全衛生上、環境対策上および設備経済上の大き
な問題を呈していた。すなわち、油相中のジアルキル錫
オキサイドの平均粒子径は、ｉｍ常１０μｍ以下の非常
に微細なものであり、さらに圧力により容易に圧縮され
て、独立した粒子径を保ち得えないため、濾過または遠
心分離などの圧力を利用する方法で、分離することは長
時間を要し、その１間、溶媒またはトリアルキル錫オキ
サ・ｆドの揮散は非常に大きかった。たとえば、トリア
ルキル錫オキサイドを製造する場合、副生ずるジアルキ
ル錫オキサイドは、液状のトリアルキる錫オキサイド中
に非常に微細な粒子として懸濁状態で生成するため、酸
性白土などの濾過助剤を用いて始めて分離が可能である
。さらに、分離したジアルキル錫オキサイドは濾過助剤
と混じっているため、そのままでは再使用は不可能であ
り、産業廃棄物として処理することも困難であった。

モノアルキル錫オキサイドを含有する塩類水相ば、トリ
アルキル錫オキサイド相との明確な分離が困難なため、
一部混入したトリアルキル錫化合物を有機溶媒で抽出し
、除去する必要があった。トリアルキル錫オキサイドの
ヒトおよび環境に対する影響は無視できないことから、
製造工程全体を閉鎖系にする必要があるが、従来法での
濾過または遠心分離操作では装置そのものが極めて高価
であるばかりではなく、完全に閉鎖系で行なうことはで
きなかった。

ジまたはモノアルキル錫オキサイドの場合、基本的には
トリアルキル錫オキサイドの従来法と同様の欠点がある
が、固体を大量に取り扱うためさらに複雑である。すな
わち、ジアルキル錫シバライドの加水分解反応生成物は
、モノアルキル錫オキサイド含を水相とトリおよびジア
ルキル錫オキサイドを含む有機相の二つからなり、目的
とするジアルキル錫オキサイドは有機相から遠心分離ま
たは濾過等の手段で分離し、得られたジアルキル錫オキ
サイドを溶媒にて懸濁洗浄し、再度、濾過または遠心分
離するという操作を数回繰り返すことにより、副生ずる
トリアルキル錫オキサイドを除去することができる。と
ころが、反応副生物である塩類チよびモノアルキル錫オ
キサイドのアルカリ金属塩または塩類を完全に除くため
には、再度、上記のようにして得られたジアルキル錫オ
キサイドを多量の水で洗浄を行ない、その都度、濾過お
よび遠心分離等の手段で分離する必要があった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、従来法の欠点の最大の理由は濾過または
遠心分離操作を必要とすることにあると考え、それに代
わる手段として反応生成物を水相を中間として、を機相
を上に、ジアルキル錫オキサイドを下に分離できる三相
を形成させることができれば分液により各相が容易に分
離でき、さらに、完全閉鎖系で操作が行なえるとの考え
に基づき、研究を重ねた結果、本発明の方法を完成する
ことができた。

本発明の基本的な概念は、（１）加水分解反応の方法お
よび条件を適切に選ぶことで、反応生成物中のジアルキ
ル錫オキサイドの粒子径を大きくして重質化することに
より、塩類水相より下相に分離させること、（２）水相
の比重を調節することにより、それより上にトリアルキ
ル錫オキサイドからなる液体有機相およびジアルキル錫
オキサイドを実質的に単独に含む下相の各々を鮮明に分
相させること、および（３）三相は分液操作にて分離さ
れ、分離された各相からモノ、ジおよびトリアルキル錫
オキサイドを単離することから成る。

本発明は、モノ、ジまたはトリアルキル錫ハライドを１
〜５０％塩基性物質水溶液を用いて、当該アルキル錫オ
キサイドが固体の場合は常圧における沸点が１５０℃以
下で、かつ比重が１．１以下の水難溶性有機溶媒の存在
下、３０〜１００℃の温度で１０分から３時間以内に連
続的に加水分解反応に付すことにより、反応生成物中に
平均粒子径１０μｍ以上のジアルキル錫オキサイドを生
成させ、得られた反応生成物を静置することにより油相
、水相および水相に対し、比重０．０２以上を有する実
質的にジアルキル錫オキサイドからなる相の三相を形成
させ、ついで分液操作により分離された油相からビス（
トリアルキル錫）オキサイドまたはトリアルキル錫ハイ
ドロオキサイド、水相からモノアルキル錫オキサイド、
および水相に対し、比重差０．０２以上を有する実質的
にジアルキル錫オキサイドからなる相から、ジアルキル
錫オキサイドを単離することを特徴とするアルキル錫オ
キサイド化合物の分離製造法に関する。

本発明方法により製造されるアルキル錫オキサイドとは
、モノアルキル錫オキサイドおよび／またはジアルキル
錫オキサイドおよび／またはビス（トリアルキル錫）オ
キサイドもしくはトリアルキル錫ハイドロオキサイドで
あり、反応条件などにより一種または二種以上が高純度
、高品位に得られる。ここで、アルキルとは炭素数１〜
８個のアルキル基であり、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級ブチル、第３級
ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−
ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘ
キシル、１．１，３．３−テトラメチルブチルなどがあ
げられ、ブチル、オクチルなどが工業上有用である。す
なわち、モノ−ｎ−ブチル錫オキサイド、ジ−ｎ−ブチ
ル錫オキサイド、ジーｎ−オクチル錫オキサイド、ビス
（トリーｎ−ブチル錫）オキサイドなどである。

原料として用いられるモノ、ジまたはトリアルキル錫ハ
ライドとはモノアルキル錫トリハライド、ジアルキル錫
シバライドまたはトリアルキル錫ハライドであり、たと
えば、トリーｎ−ブチル錫クロライド、ジーｎ−ブチル
錫ジプロマイド、モノ−ｎ−ブチル錫トリアイオダイド
、ジーｎ−オクチル錫ジアイオダイド、ジメチル錫ジク
ロライドがあげられるが、これらに限定されるものでは
ない。このアルキル錫ハライドには通常、他のアルキル
錫ハライドおよび場合によっては、テトラアルキル錫が
含まれているが、その量は実質的に反応を阻害しない量
であればよく、一般には１０重量％程度以下である。す
なわち、原料として用いるアルキル錫ハライドの純度は
通常９０％程度以上あれば十分使用できる。

さらに、本発明において用いられる塩基性物質とは、ア
ルカリ金属水酸化物、水酸化アンモニウム等であり、た
とえば、それらに限定されるものではないが、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウムが用い
られ、工業的には水酸化ナトリウムが有利である。これ
らの塩基性物質は、通常水溶液として使用され、その濃
度は加水分解反応後、生成する塩類水溶液の比重が加水
分解反応相の中間にあるように選ばれ、通常１〜５０％
、より好ましくは５〜３０％が用いられる。

また、有機溶媒としては原料のモノ、ジまたはトリアル
キル錫ハライドをよく溶かし、さらに、水および目的と
する固体のアルキル錫オキサイドをン容かさないものが
望ましい。さらに、これらの溶媒は回収再使用されるこ
とから、その沸点の高いものは取り扱いが不利であり、
常圧沸点として１５０℃程度以下のものが有利である。

また、加水分解反応後の塩類水溶液の比重より小さいこ
とが望ましく、１．１以下のものが用いられる。例示す
るとそれらに限定されるものではないが、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ペンタン、ヘキサン、イソヘキサン
、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロヘキサン
、メチルシクロヘキサン、メチルイソブチルケトン、石
油エーテル、石油ベンジン、リグロイン、石油ナフサ、
エチルベンゼン、ｎ−ブタノール、イソブタノール、５
ｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノー
ル、イソペンタノール、ヘキサノール、ヘプタツール、
シクロヘキサノール、モノクロロベンゼン、ジクロロプ
ロパン、塩化ブチル、塩化アミルなどがあげられ、好ま
しくはへブタン、トルエン、キシレン等の炭化水素が用
いられる。これらの溶媒は単独または混合物として使用
される。

本発明方法の基本概念の一つである加水分解反応生成物
中のジアルキル錫オキサイドの粒子径を大きくし、重質
化することで塩類水相より下相に実質的にジ有機錫オキ
サイドを単独に含む相を形成させるために、加水分解反
応は連続的に行なわれ、生成物は連続的に抜き取ること
が必要であり、その反応時間としては好ましくは１０分
から３時間以内、より好ましくは１０分から１時間以内
に行なうのがよい。反応温度は３０〜１００℃、好まし
くは５０〜８０℃に進行させるのが望ましい。

この方法にて得られるジアルキル錫オキサイドの平均粒
子径は１１０ｌ１以上であり、最適な条件を選択するこ
とにより５０μｍ以上で、かつ粒度分布の揃ったものが
得られる。このような粒子は、従来の方法では決して得
られず、通常は１０μｍ程度以下のものである。

基本概念のもう一つである三相間の比重の調整は、加水
分解反応生成物に水、塩基性物質、塩類などを加えるか
、あらかじめ反応に使用する水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化アンモニウムなどの塩基性物質の濃度
を調整することで行なわれる。溶媒相の比重は反応に用
いられる溶媒の種類を選択することで行なわれる。

塩基性物質としては、水酸化ナトリウム水溶液を用いる
のが最も経済的であり、その濃度によりモノ、ジおよび
トリアルキル錫オキサイドを実質的に単独に含む三相が
鮮明に分離するように中間水相の比重が調整される。三
相間の比重差は０．０２以上である。

本発明の概念をより理解するために、図面により米国特
許第２，７１８，５２２号明細書に記載の方法と対比し
つつ、さらに説明する。すなわち、第１図（ａ）に示し
たように、本発明方法によると、モノ、ジまたはトリア
ルキル錫ハライイドを本発明の特定の条件下で加水分解
することにより、三相分離が行なわれ、上相からビス（
トリアルキル錫）オキサイドまたはトリアルキル錫ハイ
ドロオキサイドが、中和を中和することにより１．モノ
アルキル錫オキサイドが、下相からはジアルキル錫オキ
サイドが分離製造される。本発明方法により加水分解反
応生成物が三相を形成することは、第２図に示した通り
であり、調製されたジ−ｎ−ブチル錫オキサイドの粒子
状態を第４図に示す。一方、米国特許第２．７１８．５
２２号の方法はブチル錫トリクロライド、ジブチル錫ク
ロライド、ｌ・ジブチル錫クロライドおよびテトラブチ
ル錫の粗混合物を塩化第二錫により処理してテトラブチ
ル錫を反応させてブチル錫クロライド化合物とし、抽出
して得た有機相をアルカリで加水分解して濾過すること
によりジプチル錫オキサイドを製造する方法であり、同
様にして製造したジ−ｎ−ブチル錫オキサイドは、第３
図のようにビス（トリーｎ−ブチル錫）オキサイＶ相中
に混濁した状態で二相（下相は塩類水層である）を形成
し、ジ−ｎ−ブチル錫オキサイドの粒子状態は第５図に
示した通りである。このことをまとめると、次の第１〜
２表の通りである。

−以下余白一 ＋１４　　加水分解反応生成物の形態およびジ−ｎ−ブ
チル錫オキサイド平均粒子径との関係：第　　　１　　
　表 物の形態 下相：　ＤＢＴＯ相 下相：塩類水相 反応条件： 原料ニジ−ｎ−ブチル錫ジクロライド 塩基性物質：１５％苛性ソーダ水溶液 溶媒：トルエン 反応温度ニア０℃ 一以下余白一 （２）塩類水相の比重と相分離との関係：第　　　２　
　　表 （比重１．１）　　（比重１．１）　　　（比重１，１
）〜１．２６） より大）　　　　より小） 反応条件： 原料ニトリ−ｎ−ブチル錫クロライド 塩基性物質：苛性ソーダ水溶液 ＊　副生ＤＢＴＯの平均粒子径は３０μｍである。

第１〜２表中、ＤＢＴＯおよびＴＢＴＯはそれぞれジ−
ｎ−ブチル錫オキサイドおよびビス（トＩＪ　−ｎ−ブ
チル錫）オキサイドを意味する。

本発明の方法でトリアルキル錫オキサイドを製造する場
合、目的物は液体であり溶媒を使用する必要はない。加
水分解反応物は静置すると直ちに塩類水相と実質的にト
リアルキル錫オキサイドからなる油相に分離し、次いで
油相中のジアルキル錫オキサイド粒子は若干量の油相を
常開して油滴状で塩類水相を通下し、底に沈む。沈降が
完了すれば加水分解生成物は完全に三相に分離し、トリ
アルキル錫オギサイド相は上に、水相は中間に、そして
ジアルキル錫オキサイド相は底にあり、各相の界面は鮮
明であり、分液により三相を容易に分離できる。下相は
ジアルキル錫オキサイドを約５０％以上含むのにも拘ら
ず、流動性に冨み、分液操作は容易である。中間の水相
にはモノアルキル錫オキサイドがアルカリ金属塩として
溶解しており、酸析により品位の高いモノアルキル錫オ
キサイドとして回収できるし、また、その量が少ない場
合は、そのまま生物処理に付すことができ、産業排水と
して排出し得る。上相のトリアルキル錫オキサイド中に
はジアルキル錫オキサイドは殆んど残存せず、通常２０
００ｐｐｍ程度以下であり、両者はほぼ完全に分離され
ている。このことから上相は少量含まれる水分を蒸留等
で除去したのち、析出する少量の塩類を除去するため、
簡単な濾過操作を経てそのまま高品質なトリアルキル錫
オキサイドを得ることができる。下相は、濾過すること
により容易にジおよびトリアルキル錫オキサイドをそれ
ぞれ分離回収することできるし、また、そのまま常法に
より塩酸などのハロゲン化水素酸で処理して、相当する
ジおよびトリアルキル錫ハライドとしたのち、これをテ
トラアルキル錫と反応させて全量高品位のトリアルキル
錫ハライドとし、再び原料として使用することができる
本発明の方法によりジアルキル錫オキサイドを製造する
場合には、目的物が固体であるため、有機溶媒を加水分
解反応に使用すること以外は本質的にトリアルキル錫オ
キサイドの場合と同じである。この場合、加水分解反応
生成物を静置すると溶媒相、塩類水相、溶媒を含んだジ
アルキル錫オキサイド相がそれぞれ上中下の三相に鮮明
に分離する。各相を分液により分離したのち、溶媒相は
溶媒を除去することによりトリアルキル錫オキサイドが
得られる。また、塩類水相からは酸析によりモノアルキ
ル錫オキサイドが回収される。下相中の溶媒含量は通常
４０％以下であり、高い固体濃度にも拘らず流動性に富
み、少量含まれる塩類を水洗にて除去したのち、そのま
ま減圧乾燥などの手段で有機溶媒を除去することによっ
て高品位のジアルキル錫オキサイドを得ることができる
。回収されたモノまたはトリアルキル錫オキサイドは、
そのまま目的に応じて使用することができるが、トリア
ルキル錫オキサイドの製造の場合で述べたようにアルキ
ル錫ハライドとなしたのち、常法によりテトラアルキル
錫または四ハロゲン化錫と反応させて高品質のジアルキ
ル錫ハライドとなし、これを再び原料として使用するこ
とができる。

〔実施例〕

以下に実施例をあげて、さらに本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではな
い。

実施例１ 側方にオーバーフローノズルを付けた口頚フラスコにＩ
’Ａ拌装置、温度計および還流冷却器を付け、２０％苛
性ソーダ水溶液３８５０ｇおよびジ−ｎ−ブチル錫ジク
ロライドを４．８％を含むトリーｎ−ブチル錫クロライ
ド１９９０ｇを連続的に供給し、攪拌下、５０℃に加熱
して３０分間加水分解反応を行なった。オーバーフロー
した反応液を静置した。内容物は三相に鮮明に分離し、
上相はビス（トリーｎ−ブチル錫）オキサイド相、中間
相は塩類水相および下相はビス（トリーｎ−ブチル錫）
オキサイド４８％を含むジーｎ−ブチル錫オキサイド相
であり、その平均粒子径は３０μｍであった。各相の比
重は夫々１．１．１．２および１．３であった。各層を
分液により分離し、上相を減圧脱水し、次いで析出する
少量の塩類を濾過することによりビス（トリーｎ−ブチ
ル錫）オキサイド１６２９ｇを得た。塩酸滴定による分
析値は９８．５％であり、原料からの理論収率は８９．
４％であった。

実施例２ 実施例１と同じ装置を用い、３０％苛性カリ水ン容液４
５０ｇおよびジ〜ｎ−フ゛チルＳ易シフ゛ロマイド３．
５％を含むトリーｎ−ブチル錫ブロマイド３００ｇを連
続的に供給し、攪拌下、６０℃にて６０分間加水分解反
応を行なった。その反応生成物に比重を調整するために
、水２６０ｇを加えた。

実施例１と同様の沈降現象が起こり、反応生成物は鮮明
な三相に分離した。水相の比重を測定した結果、１．２
５であった。その後、実施例１と同様の操作を行なうこ
とにより、最上相からビス（トリーｎ−ブチル錫）オキ
サイド２２４．４ｇ（収率９２．８％）が得られた。分
析の結果、純度９８．３％で、溶解するジ−ｎ−ブチル
錫オキサイドが３００ｐｐｍの高品位なものであった。

最下相１２．５　ｇはジ−ｎ−ブチル錫オキサイド４５
％、ビス（トリーｎ−ブチル錫）オキサイド５０％の組
成であった。これを真空濾過し、ケーキはトルエンで洗
浄後、乾燥して白色のジーｎ　−ブチル錫オキサイドを
得た。平均粒子径は７０μｍであり、酸滴定法による分
析値は９９．２％であった。母液および洗液を合せ、ト
ルエンを留去したのち、残香としてビス（トリーｎ−ブ
チル錫）オキサイドを得た。分析の結果、純度は９６．
３％であった。原料よりの合計収率は９８．１％であっ
た。

実施例３ 実施例１と同様な装置を用いて、２０％苛性ソーダ水溶
液２２０ｇおよびジーｎ−オクチル錫ジアイオダイド６
％を含むトリーｎ−オクチル錫アイオダイド２００ｇを
連続的に供給し、攪拌下、７０℃にて６０分間加水分解
反応を行なった。その反応生成物にトルエン５０ｇと水
１４８ｇを加えて、比重を調整した結果、実施例１と同
様な沈降現象が起こり、反応生成物は鮮明な三相に分離
した。その後、上相から通常の操作でトルエンを留去す
ると、ビス（トリーｎ−オクチル錫）オキサイド１４１
．０ｇ（収率８８．５％）が得られた。

分析の結果、純度９８．１％の高品位なものであった。

比較例１ 口頚フラスコに撹拌装置、温度計および還流冷却器をつ
け、２０％苛性ソーダ水溶液３８５ｇを仕込み、５０℃
に加熱した。ジ−ｎ−ブチル錫ジクロライド４．８％を
含むトリーｎ−ブチル錫クロライド２００ｇを３０分で
滴下し、次いで同温度にて１時間反応を行なった。静置
すると、乳濁した有機相と水相に分離し、夫々の比重は
１．１５および１．２であったが、生成したジ−ｎ−ブ
チル錫オキサイドの粒子径が非常に小さいため、界面は
エマルジョン状を呈し、二相の界面は不鮮明であり、両
者の分液は困難であった。有機相はビス（トリーｎ−ブ
チル錫）オキサイドと平均粒子径２μｍのジ−ｎ−ブチ
ル錫オキサイドの混合物であり、真空濾過による分離は
そのままではできなかった。酸性白土を濾過助剤として
５ｇ加え、濾過した。母液に水１００ｇを加え水洗し、
分液後、有機相を減圧脱水してビス（トリーｎ−ブチル
錫）オキサイド１６７ｇを得た。塩酸滴定による分析値
は９６．３％であり、原料からの収率は９２％であった
。酸性白土との混合物として分離されたケーキ中には、
反応で生じたジ−ｎ−ブチル錫オキサイドの全量とさら
に、これとほぼ同量のビス（トリーｎ−ブチル錫）オキ
サイドが含まれているが、それらを分離、回収する経済
的な方法は見出せなかった。

実施例４ 実施例１と同様な装置を用い、３０％苛性カリ水溶液１
０７５ｇおよびトリーｎ−ブチル錫ブロマイド１．８％
、モノ−ｎ−ブチル錫トリブロマイド１．５％を含むジ
ーｎ−ブチル錫ジプロマイド７５０ｇをシクロヘキサン
７５０ｇに？容解したン容液を連続的に供給し、攪拌下
、７０℃にて４５分間加水分解反応を行なった。オーバ
ーフローした反応液に水３６００ｇを加え、静置すると
鮮明な三相に分離した。三相の比重は夫々０．９．１．
１および１．３であった。分液された下相を水洗したの
ち、減圧乾燥すると白色のジ−ｎ−ブチル錫オキサイド
が４４５ｇ得られた。酸滴定法による純度は９９．８％
であり、平均粒子径は５０μｍであった。中間水相は澄
明であり、炭酸ガスにて中和して析出する白色結晶を水
洗後、乾燥してモノ−ｎ−ブチル錫オキサイド５．５ｇ
を得た。その純度は９６．１％であった。上相からはシ
クロヘキサンを留去した残りとして液状のビス（トリー
ローブチル）錫オキサイド１０．５　ｇが得られ、その
純度は９５．８％であった。全ブチル錫オキサイドの原
料からの合計収率は９９．０％であった。

実施例５ 実施例１と同様な装置に、１６％苛性ソーダ水溶液１３
００ｇおよびトリーｎ−ブチル錫クロライド１．５％、
モノ−ｎ−ブチル錫トリクロライド１．０％を含むジ−
ｎ−ブチル錫ジクロライド１９１２ｇをトルエン３５９
２ｇに溶解した液を連続的に供給し、攪拌下、７５℃に
て６０分間加水分解反応を行なった。オーバーフローし
た反応生成物は静置すると三相に鮮明に分離し、夫々の
比重は０．９．１．１．１．２であワた。三相を各々分
液後、実施例４と同様な処理を行ない、下相からジ−ｎ
−ブチル錫オキサイド１５２０ｇを得た。その純度は９
９．８％であり、粒子径は８０μｍであった。

中間相からモノ−ｎ−ブチル錫オキサイド２．６ｇ（純
度９５．９％）が、上相からビス（トリーｎ−ブチル錫
）オキサイドが５．９ｇ（純度９５．６％）が得られ、
原料からの合計収率は９９．２％であった。

比較例２ 比較のため実施例５を従来法にて実施した。１６％苛性
ソーダ水溶／Ｆｊ、１３０　ｇを７５℃に加熱し、同温
度にてトリ□−ｎ−ブチル錫クロライド１．５％、モノ
−ｎ−ブチル錫トリクロライド１．０％を含むジ−ｎ−
ブチル錫ジクロライド１９２ｇをトルエン３６０ｇに溶
解した溶液を２時間で滴下し、撹拌下で加水分解を行な
った。静置すると二相になりその界面は不鮮明であった
。有機相を分液しジ−ｎ−ブチル錫オキサイドとトルエ
ンを真空濾過により分離した。濾過は非常に困難で２時
間を要した。得られた白色のジ−ｎ−ブチル錫オキサイ
ドの粒子径は平均８μｍであった。混入する多量の塩類
およびビス（トリーｎ−ブチル錫）オキサイドを除去す
るためトルエン２００ｇ、水３００ｇにて撹拌し、分液
後、有機相を濾過しようとしたが、濾過は殆ど不可能で
あった。

〔発明の効果〕

本発明方法によれば、アルキル錫ハライドの加水分解反
応生成物はモノ、ジおよびトリアルキル錫オキサイドを
実質的に単独で含む三相に鮮明に分離する。目的とする
アルキル錫オキサイドを含有する相が分液にて容易に分
離され、分離された各相からは簡単な手段で容易に高純
度の製品を得ることができる。その結果、従来、加水分
解反応生成物からモノ、ジおよびトリ有機錫オキサイド
を分離するために必要不可欠であった遠心分離や濾過等
での機械的分離操作を省略することが可能となり、従来
法での労働安全衛生、環境および経済性での問題点が全
て解決される。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は、本発明方法の各工程の概略を示すフロ
ーシートであり、第１図（ｂ）は米国特許第２７１８５
２２号明細書に記載の方法の工程の概略を示すフローシ
ートである。 第２図は、本発明方法により分離製造されたビス（トリ
ーｎ−ブチル錫）オキサイドおよびジ−ｎ−ブチル錫オ
キサイドで、上相がビス（トリー塩類水相、下相が実質
的にジ−ｎ−ブチル錫オキサイドからなる相（Ｗ）であ
ることを示す凹面である。 第３図は、米国特許第２７１８５２２号明細書に記載の
方法により製造されたジ−ｎ−ブチル錫オキサイドで、
上相のビス（トリーｎ−ブチル錫）オキサイド相（［）
に混濁していることを示す図面である（下相は塩類水相
である）。 第４図は、本発明方法により分離製造されたジ−ｎ−ブ
チル錫オキサイドの粒子構造を示す顕微鏡写真（倍率１
００倍）である。 第５図は、米国特許第２７１８５２２号明細書に記載の
方法により製造されたジ−ｎ−ブチル錫オキサイドの粒
子構造を示す顕微鏡写真（倍率１００倍）である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）モノ、ジまたはトリアルキル錫ハライドを１〜５
   ０％塩基性物質水溶液を用いて、当該アルキル錫オキサ
   イドが固体の場合は常圧における沸点が１５０℃以下で
   、かつ比重が１．１以下の水難溶性有機溶媒の存在下、
   ３０〜１００℃の温度で１０分から３時間以内に連続的
   に加水分解反応に付すことにより、反応生成物中に平均
   粒子径１０μｍ以上のジアルキル錫オキサイドを生成さ
   せ、得られた反応生成物を静置することにより油相、水
   相および水相に対し、比重差０．０２以上を有する実質
   的にジアルキル錫オキサイドからなる相の三相を形成さ
   せ、ついで分液操作により分離された油相からビス（ト
   リアルキル錫）オキサイドまたはトリアルキル錫ハイド
   ロオキサイド、水相からモノアルキル錫オキサイド、お
   よび水相に対し、比重差０．０２以上を有する実質的に
   ジアルキル錫オキサイドからなる相からジアルキル錫オ
   キサイドを単離することを特徴とするアルキル錫オキサ
   イド化合物の分離製造法。