JPH0676422B2 - ジオルガノ錫オキサイドの製造法 - Google Patents
ジオルガノ錫オキサイドの製造法Info
- Publication number
- JPH0676422B2 JPH0676422B2 JP60131646A JP13164685A JPH0676422B2 JP H0676422 B2 JPH0676422 B2 JP H0676422B2 JP 60131646 A JP60131646 A JP 60131646A JP 13164685 A JP13164685 A JP 13164685A JP H0676422 B2 JPH0676422 B2 JP H0676422B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diorganotin
- oxide
- snx
- chlorine
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 15
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 14
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 11
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 10
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 2
- LHHPEAQVCCPLBC-UHFFFAOYSA-N tributyltin;hydrate Chemical compound O.CCCC[Sn](CCCC)CCCC LHHPEAQVCCPLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloropropane Chemical compound CC(Cl)CCl KNKRKFALVUDBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N butyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn]=O BVFSYZFXJYAPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTVGGZBELVUNIL-UHFFFAOYSA-K butyltin(3+);triiodide Chemical compound CCCC[Sn](I)(I)I GTVGGZBELVUNIL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HLATYLIVBMECMN-UHFFFAOYSA-L dibutyltin(2+);diiodide Chemical compound CCCC[Sn](I)(I)CCCC HLATYLIVBMECMN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ISXUHJXWYNONDI-UHFFFAOYSA-L dichloro(diphenyl)stannane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ISXUHJXWYNONDI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- VPPWQRIBARKZNY-UHFFFAOYSA-N oxo(diphenyl)tin Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Sn](=O)C1=CC=CC=C1 VPPWQRIBARKZNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 trichloroethylene, perchloroethylene, chloroform Chemical class 0.000 description 1
- WRTMQOHKMFDUKX-UHFFFAOYSA-N triiodide Chemical compound I[I-]I WRTMQOHKMFDUKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000003021 water soluble solvent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/22—Tin compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ジオルガノ錫オキサイドの製造法に関する。
本発明の目的物であるジオルガノ錫オキサイドは、通常
は式R2SnOで表わされるが、この物質の組成は複雑であ
って、式R2SnOで表わされるもののほか、例えばR2Sn(O
H)2、R2SnO・H2O、 鎖状オリゴマーとして例えば (式中のmは18以下の整数を表わす。)、あるいは環状
オリゴマーとして例えば などの式で表わされるものの存在も考えられている。本
発明においてジオルガノ錫オキサイドとは、これらのす
べてを含むものである。すなわち、1個の錫原子にRで
表わされる有機基が2個結合し、且つ酸素がそれ自体で
あるいは−OH基または−OM基(Mはアルカリ金属原子を
表わす。)となって結合している4価の錫の化合物であ
る。
は式R2SnOで表わされるが、この物質の組成は複雑であ
って、式R2SnOで表わされるもののほか、例えばR2Sn(O
H)2、R2SnO・H2O、 鎖状オリゴマーとして例えば (式中のmは18以下の整数を表わす。)、あるいは環状
オリゴマーとして例えば などの式で表わされるものの存在も考えられている。本
発明においてジオルガノ錫オキサイドとは、これらのす
べてを含むものである。すなわち、1個の錫原子にRで
表わされる有機基が2個結合し、且つ酸素がそれ自体で
あるいは−OH基または−OM基(Mはアルカリ金属原子を
表わす。)となって結合している4価の錫の化合物であ
る。
ジオルガノ錫オキサイドは、ポリ塩化ビニル樹脂用安定
剤、有機合成触媒などに多量に使用されており、またポ
リエステル重合触媒、硬化性樹脂原料、難燃性材料、酸
化錫膜関係などの新しい用途も実用化されつつある。
剤、有機合成触媒などに多量に使用されており、またポ
リエステル重合触媒、硬化性樹脂原料、難燃性材料、酸
化錫膜関係などの新しい用途も実用化されつつある。
従来の技術 ジオルガノ錫オキサイドは一般式R2SnX2で表わされるジ
オルガノ錫ジハライドの加水分解によってつくられる。
このジオルガノ錫ジハライドは、それがいわゆるアルキ
ルアルミニウム法〔「ジャーナル・オブ・オーガニック
・ケミストリ」(J.Org.Chem.)第25巻、第2253ページ
(1960)、「アンナーレン・デア・ヘキー」(Ann.)65
3,157(1962)〕またはグリニャール法〔「プロシーデ
イング・オブ・ザ・ケミストリ(Pro−ceeding of th
e Chem.)S.C.19,290(1903)、「ジャーナル・オブ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ(J.Am.Chem.
Soc.)第79巻第5881ページ(1957)、同誌、第79巻第51
5ページ(1957)〕でつくられたものである場合には、
ハロゲンが塩素であるジオルガノ錫ジクロライドの形で
つくられ、この物質は工業的な蒸留が可能であるので、
反応時に副生するモノクロライドあるいはトリクロライ
ドの含有量の低いジクロライドを蒸留によって得ること
ができ、そのようにして純度を高められたジオルガノ錫
ジクロライドは、例えばアルコール類を溶媒として容易
に加水分解を行なうことができる。
オルガノ錫ジハライドの加水分解によってつくられる。
このジオルガノ錫ジハライドは、それがいわゆるアルキ
ルアルミニウム法〔「ジャーナル・オブ・オーガニック
・ケミストリ」(J.Org.Chem.)第25巻、第2253ページ
(1960)、「アンナーレン・デア・ヘキー」(Ann.)65
3,157(1962)〕またはグリニャール法〔「プロシーデ
イング・オブ・ザ・ケミストリ(Pro−ceeding of th
e Chem.)S.C.19,290(1903)、「ジャーナル・オブ・
ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテイ(J.Am.Chem.
Soc.)第79巻第5881ページ(1957)、同誌、第79巻第51
5ページ(1957)〕でつくられたものである場合には、
ハロゲンが塩素であるジオルガノ錫ジクロライドの形で
つくられ、この物質は工業的な蒸留が可能であるので、
反応時に副生するモノクロライドあるいはトリクロライ
ドの含有量の低いジクロライドを蒸留によって得ること
ができ、そのようにして純度を高められたジオルガノ錫
ジクロライドは、例えばアルコール類を溶媒として容易
に加水分解を行なうことができる。
しかしながらR2SnX2で表わされるジオルガノ錫ジハライ
ドが、いわゆるヨード法〔「工業化学雑誌」第63巻、第
114ページ(1960)、Appl.Chem.第4巻、301ページ(19
54)、同誌第7巻、第369ページ(1957)、特公昭35−7
810号公報〕でつくられる場合にはR2SnX2はジオルガノ
錫ジアイオダイドとして得られ、この物質は熱分解を受
けやすいため工業的な蒸留が困難であって、副生するモ
ノアイオダイドあるいはトリアイオダイドなどとの分解
が困難である。そしてこのような純度の高くないジオル
ガノ錫ジアイオダイドをアルコール類あるいはケトン類
などのような水溶性溶媒中で加水分解すると、得られる
製品の結晶形が極めて細かいためロ過が非常に困難とな
るか、もしくは顆粒状又は塊状となり、加水分解を受け
ずに内部に包含されている残る原料物質の量も多いとい
う欠点がある。
ドが、いわゆるヨード法〔「工業化学雑誌」第63巻、第
114ページ(1960)、Appl.Chem.第4巻、301ページ(19
54)、同誌第7巻、第369ページ(1957)、特公昭35−7
810号公報〕でつくられる場合にはR2SnX2はジオルガノ
錫ジアイオダイドとして得られ、この物質は熱分解を受
けやすいため工業的な蒸留が困難であって、副生するモ
ノアイオダイドあるいはトリアイオダイドなどとの分解
が困難である。そしてこのような純度の高くないジオル
ガノ錫ジアイオダイドをアルコール類あるいはケトン類
などのような水溶性溶媒中で加水分解すると、得られる
製品の結晶形が極めて細かいためロ過が非常に困難とな
るか、もしくは顆粒状又は塊状となり、加水分解を受け
ずに内部に包含されている残る原料物質の量も多いとい
う欠点がある。
またベンゼン、トルエンあるいはキシレンなどのような
疎水性芳香族炭化水素系溶媒中で加水分解を行なう方法
もあるが、この場合には生成物がゲル状になるような傾
向が見られるのでロ過性が悪いばかりでなく、これらの
溶媒は可燃性であるため常に引火、爆発などの危険があ
る。そのほかに有機溶媒を使用しないでアルカリ水溶液
だけで加水分解を行なった場合には、ロ過しやすい粉末
状製品が得られにくく、且つ加水分解反応が順調に進行
しにくいため、製品中に多量の未反応物が残存するとい
う欠点がある。
疎水性芳香族炭化水素系溶媒中で加水分解を行なう方法
もあるが、この場合には生成物がゲル状になるような傾
向が見られるのでロ過性が悪いばかりでなく、これらの
溶媒は可燃性であるため常に引火、爆発などの危険があ
る。そのほかに有機溶媒を使用しないでアルカリ水溶液
だけで加水分解を行なった場合には、ロ過しやすい粉末
状製品が得られにくく、且つ加水分解反応が順調に進行
しにくいため、製品中に多量の未反応物が残存するとい
う欠点がある。
発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、下記(1)〜(3)のすべてを満たす
ジオルガノ錫オキサイドの製造方法を提供することであ
る。
ジオルガノ錫オキサイドの製造方法を提供することであ
る。
(1)RpSnXqで表わされる錫化合物(これはR2SnX2
で表わされるジオルガノ錫ジハライドの製造に際して副
生する。)を含有するR2SnX2を原料として使用して、未
反応ハロゲン化物を含有せず、且つ原料中に併存する各
種ハライドから生成するオキサイドをも含有しないジオ
ルガノ錫オキサイドを製造する方法を提供すること。
で表わされるジオルガノ錫ジハライドの製造に際して副
生する。)を含有するR2SnX2を原料として使用して、未
反応ハロゲン化物を含有せず、且つ原料中に併存する各
種ハライドから生成するオキサイドをも含有しないジオ
ルガノ錫オキサイドを製造する方法を提供すること。
(2)ロ過性の良好な粉末状のジオルガノ錫オキサイド
を製造する方法を提供すること。
を製造する方法を提供すること。
(3)引火、爆発などの危険なくジオルガノ錫オキサイ
ドを製造する方法を提供すること。
ドを製造する方法を提供すること。
問題点を解決するための手段 本発明は、一般式 R2SnX2 (式中のRは炭素原子数が1ないし7個のアルキル基、
フェニル基またはシクロヘキシル基を表わし、Xはハロ
ゲン原子を表わす。) で表わされるジオルガノ錫ジハライドまたは一般式 R2
SnX2で表わされるジオルガノ錫ジハライドと 一般式 RpSnXq (式中のR及びXは上記と同じ意義を有し、p及びqは
それぞれ0、1、3または4を表わし、しかもpとqと
の和は4である。) で表わされるオルガノ錫ハライドとの混合物を、塩素系
有機溶媒中において、アルカリ金属水酸化物または水酸
化アンモニウムの水溶液によって加水分解することを特
徴とするジオルガノ錫オキサイドの製造法である。
フェニル基またはシクロヘキシル基を表わし、Xはハロ
ゲン原子を表わす。) で表わされるジオルガノ錫ジハライドまたは一般式 R2
SnX2で表わされるジオルガノ錫ジハライドと 一般式 RpSnXq (式中のR及びXは上記と同じ意義を有し、p及びqは
それぞれ0、1、3または4を表わし、しかもpとqと
の和は4である。) で表わされるオルガノ錫ハライドとの混合物を、塩素系
有機溶媒中において、アルカリ金属水酸化物または水酸
化アンモニウムの水溶液によって加水分解することを特
徴とするジオルガノ錫オキサイドの製造法である。
本発明の構成要素について、以下に詳説する。
(塩素系有機溶媒) 本発明に使用する塩素系有機溶媒としては、例えば、1,
1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パーク
ロロエチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化ブチ
ル、1,2−ジクロロプロパン、モノクロロベンゼンある
いはジクロロベンゼンなどを挙げることができるが、こ
れらのみに限られるものではない。
1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パーク
ロロエチレン、クロロホルム、四塩化炭素、塩化ブチ
ル、1,2−ジクロロプロパン、モノクロロベンゼンある
いはジクロロベンゼンなどを挙げることができるが、こ
れらのみに限られるものではない。
これらの塩素系有機溶媒の使用量は、反応に用いるオル
ガノ錫ハライド1重量部に対して1ないし10重量部とす
ることができ、好ましい範囲は1〜5重量部である。
ガノ錫ハライド1重量部に対して1ないし10重量部とす
ることができ、好ましい範囲は1〜5重量部である。
(アルカリ水溶液) 加水分解に使用するアルカリ金属水酸化物または水酸化
アンモニウムの水溶液の濃度は、10ないし20重量%が適
当であり、その使用量は加水分解に必要とされる計算量
のやや過剰量から2倍量の範囲内で選択され、さらに大
過剰を使用することは無意味である。
アンモニウムの水溶液の濃度は、10ないし20重量%が適
当であり、その使用量は加水分解に必要とされる計算量
のやや過剰量から2倍量の範囲内で選択され、さらに大
過剰を使用することは無意味である。
ここで使用するアルカリ金属水酸化物としては水酸化ナ
トリウムおよび水酸化カリウムが経済的に使用され、と
くに前者が安価であって好ましい。
トリウムおよび水酸化カリウムが経済的に使用され、と
くに前者が安価であって好ましい。
(ジオルガノ錫オキサイドの分離) ジオルガノ錫オキサイドは塩素系有機溶媒にも上記のア
ルカリ性水溶液にも溶解しないが、R2SnX2及びRpSnX
qはいずれも塩素系有機溶媒によく溶解し、またRSnX3
の加水分解によって生成するRSn(OH)3及びRSn(OM)
3は上記のアルカリ性水溶液に溶解し、R3SnXの加水分
解によって生成する(R3Sn)2Oは塩素系有機溶媒に良く
溶解するので、目的物と未反応物及び各種副生物との分
離は容易に行なわれる。
ルカリ性水溶液にも溶解しないが、R2SnX2及びRpSnX
qはいずれも塩素系有機溶媒によく溶解し、またRSnX3
の加水分解によって生成するRSn(OH)3及びRSn(OM)
3は上記のアルカリ性水溶液に溶解し、R3SnXの加水分
解によって生成する(R3Sn)2Oは塩素系有機溶媒に良く
溶解するので、目的物と未反応物及び各種副生物との分
離は容易に行なわれる。
(操作の概説) 本発明の方法は、例えば次のようにして行なわれる。
所要量の塩素系有機溶媒とアルカリ水溶液を反応器に仕
込み、撹拌下に加熱して還流させながらオルガノ錫ハラ
イドを滴下する。オルガノ錫ハライドの加水分解は常温
でも進行するが、常温では反応が遅く、且つ生成物のロ
過性が悪いので実用的でない。還流下に反応を行なうこ
とは、反応温度を一定に保つことができるから有利であ
る。
込み、撹拌下に加熱して還流させながらオルガノ錫ハラ
イドを滴下する。オルガノ錫ハライドの加水分解は常温
でも進行するが、常温では反応が遅く、且つ生成物のロ
過性が悪いので実用的でない。還流下に反応を行なうこ
とは、反応温度を一定に保つことができるから有利であ
る。
オルガノ錫ハライドは、必要に応じて塩素系有機溶媒に
溶解して滴下しても良い。オルガノ錫ハライドを滴下せ
ずに、その全量を塩素系有機溶媒とアルカリ水溶液との
中に一時に加えても良いが、この場合には急激な反応を
避けるために加熱は徐々に行うべきである。
溶解して滴下しても良い。オルガノ錫ハライドを滴下せ
ずに、その全量を塩素系有機溶媒とアルカリ水溶液との
中に一時に加えても良いが、この場合には急激な反応を
避けるために加熱は徐々に行うべきである。
加水分解終了後、静置するとジオルガノ錫オキサイド
〔これはR2Sn(OH)2、R2Sn(ONa)2、R2SnOあるいは
それらのオリゴマーの混合物として存在すると考えられ
る〕は、塩素系有機溶媒層中に沈降析出する。上層の水
層を分離し、新たに水を加えて撹拌洗浄し〔この際、R2
Sn(ONa)2は R2Sn(OH)2あるいはR2SnOに変化する。)、静置後に
水層を分解し、ジオルガノ錫オキサイドを塩素系有機溶
媒からロ別する。このロ過は極めて容易に行われる。ロ
別後、ジオルガノ錫オキサイドを乾燥すれば、極めて純
度の高いジオルガノ錫オキサイドを得ることができる。
〔これはR2Sn(OH)2、R2Sn(ONa)2、R2SnOあるいは
それらのオリゴマーの混合物として存在すると考えられ
る〕は、塩素系有機溶媒層中に沈降析出する。上層の水
層を分離し、新たに水を加えて撹拌洗浄し〔この際、R2
Sn(ONa)2は R2Sn(OH)2あるいはR2SnOに変化する。)、静置後に
水層を分解し、ジオルガノ錫オキサイドを塩素系有機溶
媒からロ別する。このロ過は極めて容易に行われる。ロ
別後、ジオルガノ錫オキサイドを乾燥すれば、極めて純
度の高いジオルガノ錫オキサイドを得ることができる。
発明の作用 上述したようにオルガノ錫ハライドの加水分解をベンゼ
ン、トルエン或いはキシレンなどのような疎水性芳香族
炭化水素系溶媒中で行なうと、生成物のロ過性が極めて
悪いのであるが、加水分解を塩素系有機溶媒中で行なう
と、意外にもその生成物はロ過の容易な粉末状で得られ
ることを本発明者らは見出したのである。この理由は詳
しくは不明であるが、おそらくこれら両系統の溶媒に対
する原料のオルガノ錫ハライド及び生成物のオルガノ錫
オキサイドの溶解度の影響があるものと考えられる。
ン、トルエン或いはキシレンなどのような疎水性芳香族
炭化水素系溶媒中で行なうと、生成物のロ過性が極めて
悪いのであるが、加水分解を塩素系有機溶媒中で行なう
と、意外にもその生成物はロ過の容易な粉末状で得られ
ることを本発明者らは見出したのである。この理由は詳
しくは不明であるが、おそらくこれら両系統の溶媒に対
する原料のオルガノ錫ハライド及び生成物のオルガノ錫
オキサイドの溶解度の影響があるものと考えられる。
実施例 以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する
が、本発明はこれによって何ら制限されるものではな
い。
が、本発明はこれによって何ら制限されるものではな
い。
実施例1 内容積が1の4頚フラスコに撹拌装置、温度計、還流
冷却器及び滴下ロートを付け、12.5%の苛性ソーダ水溶
液517gと1,1,1−トリクロロエタン330gを仕込んだ、撹
拌下に加熱して還流下に滴下ロートからジ−n−ブチル
錫ジアイオダイドを主成分とするn−ブチル錫アイオダ
イド混合物〔C4H9SnI3が3%、(C4H9)2SnI2が92%、 (C4H9)3SnIが5%〕250gをおよそ50分間で滴下した。
滴下終了後、同温度で2時間撹拌を続けたのち、室温ま
で冷却した。静置すると、生成したジ−n−ブチル錫オ
キサイドは1,1,1−トリクロロエタン層の下部に沈降し
た。上層のアルカリ水溶液層を除き、新たに水300mlを
注加し、、10分間撹拌後静置して水層を除いた。有機溶
媒層とジ−n−ブチル錫オキサイドスラリーとをヌッチ
ェで吸引ロ別し、得られた細かい白色結晶を1,1,1−ト
リクロロエタン50mlで洗浄後、水で充分に洗浄した。得
られた白色結晶を80℃の送風乾燥機で8時間乾燥して、
ジ−n−ブチル錫オキサイドの粉末117gを得た。この粉
末を分析した結果、錫含量分析値は47.78%であり(計
算値は47.75%)、ヨード分は計測できるほど存在して
いなかった。
冷却器及び滴下ロートを付け、12.5%の苛性ソーダ水溶
液517gと1,1,1−トリクロロエタン330gを仕込んだ、撹
拌下に加熱して還流下に滴下ロートからジ−n−ブチル
錫ジアイオダイドを主成分とするn−ブチル錫アイオダ
イド混合物〔C4H9SnI3が3%、(C4H9)2SnI2が92%、 (C4H9)3SnIが5%〕250gをおよそ50分間で滴下した。
滴下終了後、同温度で2時間撹拌を続けたのち、室温ま
で冷却した。静置すると、生成したジ−n−ブチル錫オ
キサイドは1,1,1−トリクロロエタン層の下部に沈降し
た。上層のアルカリ水溶液層を除き、新たに水300mlを
注加し、、10分間撹拌後静置して水層を除いた。有機溶
媒層とジ−n−ブチル錫オキサイドスラリーとをヌッチ
ェで吸引ロ別し、得られた細かい白色結晶を1,1,1−ト
リクロロエタン50mlで洗浄後、水で充分に洗浄した。得
られた白色結晶を80℃の送風乾燥機で8時間乾燥して、
ジ−n−ブチル錫オキサイドの粉末117gを得た。この粉
末を分析した結果、錫含量分析値は47.78%であり(計
算値は47.75%)、ヨード分は計測できるほど存在して
いなかった。
ロ過母液の1,1,1−トリクロロエタンと洗浄に用いた1,
1,1−トリクロロエタンを合わせ、少量の水を分液して
から通常の操作で1,1,1−トリクロロエタンを留去する
と、トリ−n−ブチル錫オキサイドを主成分とした残渣
9.5gが得られた。ガスクロマトグラフ分析の結果、この
残渣はトリ−n−ブチル錫オキサイドを94%含有するこ
とが分かった。
1,1−トリクロロエタンを合わせ、少量の水を分液して
から通常の操作で1,1,1−トリクロロエタンを留去する
と、トリ−n−ブチル錫オキサイドを主成分とした残渣
9.5gが得られた。ガスクロマトグラフ分析の結果、この
残渣はトリ−n−ブチル錫オキサイドを94%含有するこ
とが分かった。
実施例2 実施例1と同様な装置を用いて12.5%の苛性ソーダ水溶
液517gと1,1,1−トリクロロエタン232gを仕込み、撹拌
下に加熱還流した。ジ−n−ブチル錫ジクロライド150g
と1,1,1−トリクロロエタン100gの混合液を滴下ロート
から滴下した。滴下終了後に同温度で2時間撹拌を続け
たのち、実施例1と同様な操作を行なって、120gのジ−
n−ブチル錫オキサイド粉末が得られた。分析の結果、
錫含有量は47.75%であった。
液517gと1,1,1−トリクロロエタン232gを仕込み、撹拌
下に加熱還流した。ジ−n−ブチル錫ジクロライド150g
と1,1,1−トリクロロエタン100gの混合液を滴下ロート
から滴下した。滴下終了後に同温度で2時間撹拌を続け
たのち、実施例1と同様な操作を行なって、120gのジ−
n−ブチル錫オキサイド粉末が得られた。分析の結果、
錫含有量は47.75%であった。
実施例3 実施例1と同様な装置を用いて、10%苛性ソーダ水溶液
420gとモノクロロベンゼン200gを仕込み、撹拌下に加熱
還流した。ジフェニル錫ジクロライド120gと1,2−ジク
ロロベンゼン100gをあらかじめ混合しておき、滴下ロー
トから滴下した。滴下終了後、同温度で2時間撹拌を行
ない、実施例1と同様な処理を行ない、真空乾燥機を用
いて乾燥し97.5g(収率96.7%)のジフェニル錫オキサ
イドを得た。
420gとモノクロロベンゼン200gを仕込み、撹拌下に加熱
還流した。ジフェニル錫ジクロライド120gと1,2−ジク
ロロベンゼン100gをあらかじめ混合しておき、滴下ロー
トから滴下した。滴下終了後、同温度で2時間撹拌を行
ない、実施例1と同様な処理を行ない、真空乾燥機を用
いて乾燥し97.5g(収率96.7%)のジフェニル錫オキサ
イドを得た。
発明の効果 本発明によって得られるジオルガノ錫オキサイドの粉末
は、ロ過が容易であるばかりでなく、未反応のオルガノ
錫ハライド類及びRpSnXqから生ずるオキサイド類を
ほとんど含まない純度の良好なものである。
は、ロ過が容易であるばかりでなく、未反応のオルガノ
錫ハライド類及びRpSnXqから生ずるオキサイド類を
ほとんど含まない純度の良好なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭43−6046(JP,B1) 特公 昭48−7090(JP,B1) 「溶剤ハンドブック」 (昭和38−3− 5)産業図書、第89−96頁
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 R2SnX2 (式中Rは炭素原子数が1ないし7個のアルキル基、フ
ェニル基又はシクロヘキシル基を表わし、Xはハロゲン
原子を表わす。) で表わされるジオルガノ錫ジハライド又は該ジオルガノ
錫ジハライドと 一般式 RpSnXq (式中R及びXは上記と同じ意義を有し、p及びqはそ
れぞれ0、1、3又は4を表わし、しかもpとqとを和
は4である。) で表わされるオルガノ錫ハライドとの混合物を塩素系有
機溶媒中においてアルカリ金属水酸化物または水酸化ア
ンモニウムの水溶液によって加水分解することを特徴と
するジオルガノ錫オキサイドの製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60131646A JPH0676422B2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | ジオルガノ錫オキサイドの製造法 |
| KR1019860004848A KR900005390B1 (ko) | 1985-06-19 | 1986-06-18 | 디오가노주석옥사이드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60131646A JPH0676422B2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | ジオルガノ錫オキサイドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61291592A JPS61291592A (ja) | 1986-12-22 |
| JPH0676422B2 true JPH0676422B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=15062920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60131646A Expired - Lifetime JPH0676422B2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 | ジオルガノ錫オキサイドの製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676422B2 (ja) |
| KR (1) | KR900005390B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0276889A (ja) * | 1988-06-03 | 1990-03-16 | Yoshitomi Pharmaceut Ind Ltd | アルキル錫オキサイドの分離製造法 |
| WO2023235534A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-07 | Gelest, Inc. | High purity alkyl tin compounds and manufacturing methods thereof |
| US12606577B2 (en) | 2022-09-28 | 2026-04-21 | Gelest, Inc. | Iodoalkyl tin compounds and preparation methods thereof |
| WO2025105013A1 (ja) * | 2023-11-15 | 2025-05-22 | 三菱ケミカル株式会社 | スズ化合物、スズ組成物、それらの製造方法、レジスト溶液、パターン形成方法、薄膜、パターン化された薄膜、および基板の製造方法 |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP60131646A patent/JPH0676422B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-06-18 KR KR1019860004848A patent/KR900005390B1/ko not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 「溶剤ハンドブック」(昭和38−3−5)産業図書、第89−96頁 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900005390B1 (ko) | 1990-07-28 |
| JPS61291592A (ja) | 1986-12-22 |
| KR870000347A (ko) | 1987-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2560034A (en) | Preparation of alkyltin carboxylates | |
| SU751326A3 (ru) | Способ получени оловоорганических соединений | |
| EP0737665A1 (en) | Process for preparation of diaryl carbonate | |
| US3287386A (en) | Process for the production of tin alkyl compounds | |
| US3390159A (en) | Process for preparing dioctyltin oxide | |
| US3454610A (en) | Synthesis of organometallic halides by redistribution | |
| JPH0676422B2 (ja) | ジオルガノ錫オキサイドの製造法 | |
| US3475472A (en) | Method for preparing triorganotin halides and bis(triorganotin) oxides | |
| US3387012A (en) | Production of dialiphatic tind dihalides | |
| US3475473A (en) | Process for preparing triorganotin halides and bis(triorganotin) oxides | |
| US3251871A (en) | Process for the isolation of pure, watersoluble alkyl tin trihalides | |
| SU511012A3 (ru) | Способ получени высших алкилоловотрихлоридов | |
| US3699138A (en) | Preparation of distannanes | |
| JPH04273884A (ja) | トリメチルアルミニウムの調製 | |
| US2868820A (en) | Preparation of hexaorganodistannoxane and triorganotin hydroxide | |
| US3547965A (en) | Process for preparing trialkyltin halides | |
| US3466311A (en) | Preparation of dialkyltin oxides | |
| PL109241B1 (en) | Method of producing tin-organic compounds | |
| US4906762A (en) | Process for producing trialkylarsenic compound | |
| US3471539A (en) | Method for preparing triorganotin halides and bis(triorganotin) oxides | |
| US4231949A (en) | Process for preparing organotin esters | |
| US4151186A (en) | Preparation of acyl chlorides | |
| US3412120A (en) | Cyanoalkylenetin sulfides and the preparation thereof | |
| US2560042A (en) | Preparation of butyltin chlorides | |
| US3644450A (en) | Method of making alkyl lead compounds |