JPH028023B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH028023B2 JPH028023B2 JP14690782A JP14690782A JPH028023B2 JP H028023 B2 JPH028023 B2 JP H028023B2 JP 14690782 A JP14690782 A JP 14690782A JP 14690782 A JP14690782 A JP 14690782A JP H028023 B2 JPH028023 B2 JP H028023B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heater
- heat input
- control plate
- input control
- plating material
- Prior art date
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- Expired
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、所望のメツキ量を瞬時に変化させる
ことのできる真空蒸着炉に関するものである。
ことのできる真空蒸着炉に関するものである。
鋼帯等の連続的にZn，Al等の金属皮膜を真空
蒸着させるための蒸発源のうち、上部加熱方式と
して現在考えられている蒸着炉は、第１図に示す
ような構造のものである。
蒸着させるための蒸発源のうち、上部加熱方式と
して現在考えられている蒸着炉は、第１図に示す
ような構造のものである。
第１図において、４は鋼帯、２は真空容器、３
は蒸着鍋、４は加熱ヒータ、５はメツキ材である
溶融金属、６は蒸着口、７は保温材、１１はスノ
ーケル、１２は溶解炉である。
は蒸着鍋、４は加熱ヒータ、５はメツキ材である
溶融金属、６は蒸着口、７は保温材、１１はスノ
ーケル、１２は溶解炉である。
真空容器２内に配置された蒸着鍋３は、その内
部にメツキ材５を保有し、該メツキ材５は加熱ヒ
ータ４によつて加熱されて蒸発し、蒸着口６より
噴出して、その上方を走行している鋼帯１に連続
的にメツキされる。
部にメツキ材５を保有し、該メツキ材５は加熱ヒ
ータ４によつて加熱されて蒸発し、蒸着口６より
噴出して、その上方を走行している鋼帯１に連続
的にメツキされる。
なお、このメツキ材５は溶解炉１２で予め溶解
した後、圧力差によつてスノーケル１１を経て蒸
着鍋３内に吸上げられる。
した後、圧力差によつてスノーケル１１を経て蒸
着鍋３内に吸上げられる。
このような従来の蒸着炉には次のような欠点が
ある。
ある。
例えば、供給される鋼帯の厚みが変化した場
合、鋼帯にメツキすべき量を瞬間的に変化させた
いことがあるが、蒸着炉内のメツキ材及び炉体自
身の熱容量が大きいために、加熱源の加熱量を瞬
間的に変化させても、メツキ材の蒸発速度の応答
が遅れ、整定するまでに規格外の目付量を持つた
製品ができてしまう。
合、鋼帯にメツキすべき量を瞬間的に変化させた
いことがあるが、蒸着炉内のメツキ材及び炉体自
身の熱容量が大きいために、加熱源の加熱量を瞬
間的に変化させても、メツキ材の蒸発速度の応答
が遅れ、整定するまでに規格外の目付量を持つた
製品ができてしまう。
本発明は、このような欠点を排除し、鋼帯にメ
ツキさせたい量を瞬間的に変化させることのでき
る真空蒸着炉を提供するものである。
ツキさせたい量を瞬間的に変化させることのでき
る真空蒸着炉を提供するものである。
すなわち本発明は、炉内上方に加熱源ヒータを
有する真空蒸着炉において、該加熱源ヒータと浴
面との間に回動可能な入熱制御板を設けたことを
特徴とする真空蒸着炉に関するものである。
有する真空蒸着炉において、該加熱源ヒータと浴
面との間に回動可能な入熱制御板を設けたことを
特徴とする真空蒸着炉に関するものである。
第２図は本発明蒸着炉の一実施態様例を示す図
である。
である。
第２図中、第１図と同一符号は第１図と同一機
能部品を示し、第１図と異なる点は加熱ヒータ４
とメツキ材５との間に回転軸８を中心に回転する
ことのできる入熱制御板９を備えている点であ
る。
能部品を示し、第１図と異なる点は加熱ヒータ４
とメツキ材５との間に回転軸８を中心に回転する
ことのできる入熱制御板９を備えている点であ
る。
この回転軸８及び入熱制御板９は、図示省略の
炉側に設けられた駆動機構により駆動されるよう
になつている。
炉側に設けられた駆動機構により駆動されるよう
になつている。
第２図において、定常運転時には、入熱制御板
９を或る一定の開度（例えば、水平に対し45゜の
位置）に保持する。
９を或る一定の開度（例えば、水平に対し45゜の
位置）に保持する。
蒸発レートを変化させたい場合は、加熱ヒータ
４のヒータパワーを瞬間的に変化させる（例え
ば、増加させる）と同時に、入熱制御板９の開度
を変化させる（開く、すなわち加熱ヒータ４から
メツキ材５への有効照射面積を増加させる）。
４のヒータパワーを瞬間的に変化させる（例え
ば、増加させる）と同時に、入熱制御板９の開度
を変化させる（開く、すなわち加熱ヒータ４から
メツキ材５への有効照射面積を増加させる）。
蒸発レートが整定されたならば、入熱制御板９
の開度を徐々に元に戻す。
の開度を徐々に元に戻す。
この時の蒸発レートの制御性を第３図により模
式的に説明する。
式的に説明する。
第３図中、Ａは入熱制御板９の開度を、Ｂは加
熱ヒータ４のヒータパワーをそれぞれ(1)、(2)、
(3)、(4)の態様で変化させることを示しており、
Ｃ，Ｄ，E.Fはこの変化に応じてヒータ外表面温
度（周方向に温度分布があり、その平均温度を示
す）Ｃ、メツキ材５への入熱Ｄ、メツキ材５表面
温度Ｅ、蒸発レートＦがそれぞれ(1)、(2)、(3)、(4)
の態様で変化することを示している。
熱ヒータ４のヒータパワーをそれぞれ(1)、(2)、
(3)、(4)の態様で変化させることを示しており、
Ｃ，Ｄ，E.Fはこの変化に応じてヒータ外表面温
度（周方向に温度分布があり、その平均温度を示
す）Ｃ、メツキ材５への入熱Ｄ、メツキ材５表面
温度Ｅ、蒸発レートＦがそれぞれ(1)、(2)、(3)、(4)
の態様で変化することを示している。
先ず、第３図の(1)は、入熱制御板９の開度Ａを
一定にし、加熱ヒータ４のヒータパワーＢのみを
ステツプ変化させる場合であり、ヒータ外表面温
度Ｃはヒータ４及び炉体２の熱容量のために一次
遅れで応答し、従つてメツキ材５への入熱Ｄも一
次遅れで変化し、これに伴なつてメツキ材５の表
面温度Ｅ及び蒸発レートＦが一次遅れに近い応答
を示す。
一定にし、加熱ヒータ４のヒータパワーＢのみを
ステツプ変化させる場合であり、ヒータ外表面温
度Ｃはヒータ４及び炉体２の熱容量のために一次
遅れで応答し、従つてメツキ材５への入熱Ｄも一
次遅れで変化し、これに伴なつてメツキ材５の表
面温度Ｅ及び蒸発レートＦが一次遅れに近い応答
を示す。
次に、第３図の(2)は、加熱ヒータ４のヒータパ
ワーＢを一定にし、入熱制御板９の開度Ａのみを
ステツプ変化させる場合であり、ヒータ外表面温
度Ｃは上記の(1)の場合と同様に一次遅れで応答
し、メツキ材５への入熱Ｄも一次遅れで応答する
が、ヒータパワーＢが一定のままであるから、整
定後の値は変化前と同一になる。メツキ材５の表
面温度Ｅ及び蒸発レートＦも、メツキ材５への入
熱Ｄとほぼ同様の応答を示す。
ワーＢを一定にし、入熱制御板９の開度Ａのみを
ステツプ変化させる場合であり、ヒータ外表面温
度Ｃは上記の(1)の場合と同様に一次遅れで応答
し、メツキ材５への入熱Ｄも一次遅れで応答する
が、ヒータパワーＢが一定のままであるから、整
定後の値は変化前と同一になる。メツキ材５の表
面温度Ｅ及び蒸発レートＦも、メツキ材５への入
熱Ｄとほぼ同様の応答を示す。
第３図の(3)は、加熱ヒータ４のヒータパワーＢ
と入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化
させる場合であり、メツキ材５への入熱Ｄ及びメ
ツキ材５の表面温度Ｅは図示のようにステツプ変
化に近い応答を示し、そして入熱制御板９の開度
Ａを図示するように段階的に徐々に元に戻すと上
記の(2)の入熱制御板９の開度のみをステツプ変化
させる場合に相当するので蒸発レートＦは図示の
ように応答する。
と入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化
させる場合であり、メツキ材５への入熱Ｄ及びメ
ツキ材５の表面温度Ｅは図示のようにステツプ変
化に近い応答を示し、そして入熱制御板９の開度
Ａを図示するように段階的に徐々に元に戻すと上
記の(2)の入熱制御板９の開度のみをステツプ変化
させる場合に相当するので蒸発レートＦは図示の
ように応答する。
第３図の(4)は、加熱ヒータ４のヒータパワーＢ
と入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化
させた後に、入熱制御板９の開度Ａを連続的に滑
らかに元に戻す場合であり、蒸発レートＦは先ず
上記の(3)の場合と同様にステツプ的に変化する
が、その後は上記の(3)のようなステツプ変化は示
さず、図示するように変化した値をそのまま保持
する。
と入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化
させた後に、入熱制御板９の開度Ａを連続的に滑
らかに元に戻す場合であり、蒸発レートＦは先ず
上記の(3)の場合と同様にステツプ的に変化する
が、その後は上記の(3)のようなステツプ変化は示
さず、図示するように変化した値をそのまま保持
する。
このように、加熱ヒータ４のヒータパワーＢと
入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化さ
せ、所望の蒸発レートが整定された後に、入熱制
御板９の開度を第３図(4)のように連続的に滑らか
に元に戻せば、蒸発レートＦをヒータパワーＢの
変化に対して遅れなく変化させることができるの
である。
入熱制御板９の開度Ａとを同時にステツプ変化さ
せ、所望の蒸発レートが整定された後に、入熱制
御板９の開度を第３図(4)のように連続的に滑らか
に元に戻せば、蒸発レートＦをヒータパワーＢの
変化に対して遅れなく変化させることができるの
である。
以上詳述したことから明らかなように、本発明
蒸着炉においては、鋼帯等へのメツキ量を瞬時に
変化させることができ、工業上極めて有益であ
る。
蒸着炉においては、鋼帯等へのメツキ量を瞬時に
変化させることができ、工業上極めて有益であ
る。
第１図は従来の真空蒸着炉を示す図、第２図本
発明蒸着炉の一実施態様例を示す図、第３図は本
発明蒸着炉による作用効果を説明するための図で
ある。
発明蒸着炉の一実施態様例を示す図、第３図は本
発明蒸着炉による作用効果を説明するための図で
ある。
Claims (1)
- １ 炉内上方に加熱源ヒータを有する真空蒸着炉
において、前記加熱源ヒータと浴面との間に回動
可能な入熱制御板を設けたことを特徴とする真空
蒸着炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14690782A JPS5938381A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 真空蒸着炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14690782A JPS5938381A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 真空蒸着炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5938381A JPS5938381A (ja) | 1984-03-02 |
| JPH028023B2 true JPH028023B2 (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=15418264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14690782A Granted JPS5938381A (ja) | 1982-08-26 | 1982-08-26 | 真空蒸着炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938381A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101167547B1 (ko) * | 2007-03-26 | 2012-07-20 | 가부시키가이샤 알박 | 증착원, 증착 장치, 성막 방법 |
| KR101885245B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2018-09-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
-
1982
- 1982-08-26 JP JP14690782A patent/JPS5938381A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5938381A (ja) | 1984-03-02 |
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