JPH0280329A - 合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
合成石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH0280329A JPH0280329A JP22933388A JP22933388A JPH0280329A JP H0280329 A JPH0280329 A JP H0280329A JP 22933388 A JP22933388 A JP 22933388A JP 22933388 A JP22933388 A JP 22933388A JP H0280329 A JPH0280329 A JP H0280329A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- quartz glass
- particle size
- synthetic quartz
- heated
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は合成石英ガラスの製造方法、特にはＯＨ基含有
量がｉｐｐｍ以下と低く、高温粘性が高いことからシリ
コン単結晶の引上げ用るつぼ材として有用とされる合成
石英ガラスをゾル−ゲル法で製造する方法に関するもの
である６ （従来の技術と解決すべき課題） 半導体物質、特にシリコン単結晶の引上げ用るつぼは高
温での耐熱性にすぐれていることから天然石英ガラス製
のものが汎用されているが、天然石英ガラスは不純物を
含有していることから最近における半導体メモリの高集
積化のために歩留まりの低下が問題となり、この高純度
化が要望されている。
量がｉｐｐｍ以下と低く、高温粘性が高いことからシリ
コン単結晶の引上げ用るつぼ材として有用とされる合成
石英ガラスをゾル−ゲル法で製造する方法に関するもの
である６ （従来の技術と解決すべき課題） 半導体物質、特にシリコン単結晶の引上げ用るつぼは高
温での耐熱性にすぐれていることから天然石英ガラス製
のものが汎用されているが、天然石英ガラスは不純物を
含有していることから最近における半導体メモリの高集
積化のために歩留まりの低下が問題となり、この高純度
化が要望されている。
このため、このるつぼを純度の高い合成石英ガラスで作
ることも検討されているが、■四塩化けい素などを酸水
素火炎中で加水分解させてシリカ微粒子とし、これを溶
融して石英ガラスとする方法にはガラス中にＯＨ基が１
．ＯＯＯｐｐｍも残留し、高温粘性が低く、真空中高温
では発泡するという問題点があり、■この酸水素火炎を
プラズマ炎とする方法にはコストが高く、量産化も難し
いという不利があるため、これについてはアルコキシシ
ランをアルコール溶媒中で加水分解してシリカを作り、
これを溶融して合成石英を得るという、いわゆるゾル−
ゲル法によることも検討されており、これには高純度品
を安価に得ることができるという利益があるもののＯＨ
基が残り易く。
ることも検討されているが、■四塩化けい素などを酸水
素火炎中で加水分解させてシリカ微粒子とし、これを溶
融して石英ガラスとする方法にはガラス中にＯＨ基が１
．ＯＯＯｐｐｍも残留し、高温粘性が低く、真空中高温
では発泡するという問題点があり、■この酸水素火炎を
プラズマ炎とする方法にはコストが高く、量産化も難し
いという不利があるため、これについてはアルコキシシ
ランをアルコール溶媒中で加水分解してシリカを作り、
これを溶融して合成石英を得るという、いわゆるゾル−
ゲル法によることも検討されており、これには高純度品
を安価に得ることができるという利益があるもののＯＨ
基が残り易く。
製造に長時間が必要とされるという不利があり、高温粘
性で特に高いものが得られ難いという欠点がある。
性で特に高いものが得られ難いという欠点がある。
（課題を解決するための手段）
本発明はこのような不利を解決した合成石英ガラスの製
造方法に関するもので、これはメチルシリケートをメタ
ノール溶媒中でアンモニアを溶媒として加水分解させて
粒径が２００〜３，０００ｎｍのシリカを調製し、濃縮
、乾燥後、加熱酸化し、閉孔、ガラス化し、粉砕して粒
度を整えたのち。
造方法に関するもので、これはメチルシリケートをメタ
ノール溶媒中でアンモニアを溶媒として加水分解させて
粒径が２００〜３，０００ｎｍのシリカを調製し、濃縮
、乾燥後、加熱酸化し、閉孔、ガラス化し、粉砕して粒
度を整えたのち。
１．７００℃以上で溶融することを特徴とするものであ
る。
る。
すなわち、本発明者らはシリコン単結晶の引上げ用るつ
ぼ材として使用し得る合成石英ガラスの製造方法につい
て種々検討した結果、メチルシリケートをメタノール溶
媒中でアンモニアを触媒として加水分解させると粒径が
２００〜３．００ＯｎＩ１１のシリカが得られること、
このシリカを濃縮し、乾燥してから加熱酸化してさらに
閉孔化し、ガラス化するとＯＨ基の少ない石英ガラス塊
が得られること、これを粉砕して粒径を揃えたのち１，
７００℃以上で溶融ガラス化すると高温粘性の高い合成
石英ガラスが得られることを見出し、各工程についての
研究を進めて本発明を完成させた。
ぼ材として使用し得る合成石英ガラスの製造方法につい
て種々検討した結果、メチルシリケートをメタノール溶
媒中でアンモニアを触媒として加水分解させると粒径が
２００〜３．００ＯｎＩ１１のシリカが得られること、
このシリカを濃縮し、乾燥してから加熱酸化してさらに
閉孔化し、ガラス化するとＯＨ基の少ない石英ガラス塊
が得られること、これを粉砕して粒径を揃えたのち１，
７００℃以上で溶融ガラス化すると高温粘性の高い合成
石英ガラスが得られることを見出し、各工程についての
研究を進めて本発明を完成させた。
以下、これを詳述する。
本発明の方法はゾル−ゲル法によるものであるが、本発
明の方法では始発材としてメチルシリケートが使用され
る。すなわち、従来公知のゾル−ゲル法では通常エチル
シリケートを始発材とし、これをエタノール溶媒中でア
ンモニアまたは塩酸を触媒として加水分解させており、
この場合も５００ｎｌ！１程度の粒径をもつシリカが得
られ、これを乾燥後１，０５０℃で焼結し、さらに１，
５００℃で溶融ガラス化すれば透明な石英ガラスを得る
ことができるけれども、この石英ガラスはＯＨ基含有量
が多く、高温粘性も低いという不利があることが判った
。
明の方法では始発材としてメチルシリケートが使用され
る。すなわち、従来公知のゾル−ゲル法では通常エチル
シリケートを始発材とし、これをエタノール溶媒中でア
ンモニアまたは塩酸を触媒として加水分解させており、
この場合も５００ｎｌ！１程度の粒径をもつシリカが得
られ、これを乾燥後１，０５０℃で焼結し、さらに１，
５００℃で溶融ガラス化すれば透明な石英ガラスを得る
ことができるけれども、この石英ガラスはＯＨ基含有量
が多く、高温粘性も低いという不利があることが判った
。
しかし、このエチルシリケートをメチルシリケートとす
るとコスト的に有利であることのほか、これをメタノー
ル溶媒中でアンモニアを触媒として加水分解させるとこ
の加水分解反応はメチルシリケート注加直後に始まって
瞬時にシリカの生成が行われるという有利性が与えられ
る。この加水分解で得られたシリカの粒径はこＮに使用
するメタノール、アンモニア、メチルシリケートの重量
比１反応温度、攪拌速度によって制御可能とされるが、
ＯＨ基含有量の少ないシリカ粉を製造するためには平均
粒径が２００ｎｍ以上のものとする必要があるし、乾燥
して塊状とするためにはある程度の微粉であることが必
要とされるので本発明の方法ではこぎに得られるシリカ
は平均粒径が２００〜３．ＯＯＯｎｍのものとすること
が必要とされる。
るとコスト的に有利であることのほか、これをメタノー
ル溶媒中でアンモニアを触媒として加水分解させるとこ
の加水分解反応はメチルシリケート注加直後に始まって
瞬時にシリカの生成が行われるという有利性が与えられ
る。この加水分解で得られたシリカの粒径はこＮに使用
するメタノール、アンモニア、メチルシリケートの重量
比１反応温度、攪拌速度によって制御可能とされるが、
ＯＨ基含有量の少ないシリカ粉を製造するためには平均
粒径が２００ｎｍ以上のものとする必要があるし、乾燥
して塊状とするためにはある程度の微粉であることが必
要とされるので本発明の方法ではこぎに得られるシリカ
は平均粒径が２００〜３．ＯＯＯｎｍのものとすること
が必要とされる。
このようにして得られたシリカは遠心分離器またはフィ
ルタープレスで固液分離したのち、真空中あるいは窒素
ガス雰囲気中で濃縮、乾燥し、ついで空気中あるいは酸
素雰囲気で５００℃程度に加熱すると有機物が除去され
たものとなるので、つぎにこれを真空中、ヘリウムガス
中または水素ガス中において１，５００℃程度に加熱す
るとこのものはシリカが閉孔化されガラス化されて、透
明で通常の石英ガラスと同等の比重を有する塊状体とな
るが、このシリカが粒径３ｔＯ００ｎ＋ａ以下のものと
されているので上記における閉孔化は容易に進行し、泡
を含まないガラス塊が容易に得られる。
ルタープレスで固液分離したのち、真空中あるいは窒素
ガス雰囲気中で濃縮、乾燥し、ついで空気中あるいは酸
素雰囲気で５００℃程度に加熱すると有機物が除去され
たものとなるので、つぎにこれを真空中、ヘリウムガス
中または水素ガス中において１，５００℃程度に加熱す
るとこのものはシリカが閉孔化されガラス化されて、透
明で通常の石英ガラスと同等の比重を有する塊状体とな
るが、このシリカが粒径３ｔＯ００ｎ＋ａ以下のものと
されているので上記における閉孔化は容易に進行し、泡
を含まないガラス塊が容易に得られる。
このようにして得られたガラス塊はついでボールミル、
ロールミル、ロッドミルなどで粉砕して平均粒径が５０
から２００メツシユのものに粒度を調整したのち、酸洗
浄を行ない真空中あるいは不活性ガス存在下で１，７０
０℃以上に加熱し、溶融すれば合成石英ガラスとするこ
とができるが。
ロールミル、ロッドミルなどで粉砕して平均粒径が５０
から２００メツシユのものに粒度を調整したのち、酸洗
浄を行ない真空中あるいは不活性ガス存在下で１，７０
０℃以上に加熱し、溶融すれば合成石英ガラスとするこ
とができるが。
二へに得られた合成石英ガラスはＯＨ基含有量が例えば
ｉｐｐｍ以下というように低いし、これはまた上記方法
で作られたシリカが極めて規則正しい構造をもつもので
あり、上記した加熱溶融時にもこの構造が不規則になる
こともないので高温粘性が例えば１，４００℃において
１〜４ Ｘ １０”ポイズと高い値を示すという特性を
もっているので、このものは特にシリコン単結晶引上げ
用るつぼ材として有用とされるという工業的な有利性を
もつものになる。
ｉｐｐｍ以下というように低いし、これはまた上記方法
で作られたシリカが極めて規則正しい構造をもつもので
あり、上記した加熱溶融時にもこの構造が不規則になる
こともないので高温粘性が例えば１，４００℃において
１〜４ Ｘ １０”ポイズと高い値を示すという特性を
もっているので、このものは特にシリコン単結晶引上げ
用るつぼ材として有用とされるという工業的な有利性を
もつものになる。
（実施例）
つぎに本発明方法による実施例をあげる。
実施例
反応容器にメタノール１５０モル、純水１２０モル、ア
ンモニア５０モルを入れて２０℃に保ち、こへにメチル
シリケート１０モルを１２０分で滴下して加水分解反応
させ、反応終了後生成したシリカを自然沈降させてから
沈殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥し
たところ、平均粒径が７００ｎｍであるシリカ粉が得ら
れた。
ンモニア５０モルを入れて２０℃に保ち、こへにメチル
シリケート１０モルを１２０分で滴下して加水分解反応
させ、反応終了後生成したシリカを自然沈降させてから
沈殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥し
たところ、平均粒径が７００ｎｍであるシリカ粉が得ら
れた。
ついで、このシリカ粉を空気中において５００℃に加熱
して有機物を酸化除去したのち、真空中で１，５００℃
に加熱してこのシリカを閉４孔化し。
して有機物を酸化除去したのち、真空中で１，５００℃
に加熱してこのシリカを閉４孔化し。
ガラス化したところ、粒径が１〜５＋ｍである透明なガ
ラス塊を収率９８％で得ることができた。
ラス塊を収率９８％で得ることができた。
つぎにこの透明ガラス塊をコニカルボールミルで粉砕後
、５０〜２００メツシユに篩別し、塩酸で酸処理してか
ら８００℃に仮焼後、磁力選鉱機で磁選し、この粉末を
アルゴンガス中において１゜９５０℃で溶融し、成形し
たところ、３０ＩＩａφ×厚さ５閣の不透明合成石英ガ
ラス板が得られ、このもののＯＨ基含有量を赤外吸収ス
ペクトルでしらべたところ、これにはＯＨ基は検出され
ず、またこれを化学分析したところ、この不純物量はＡ
ｌ ６０ｐｐｂ、Ｆｅ ７５ｐｐｂ、Ｎａ ３５
ｐｐｂ、Ｋ ２０ｐｐｂであった。
、５０〜２００メツシユに篩別し、塩酸で酸処理してか
ら８００℃に仮焼後、磁力選鉱機で磁選し、この粉末を
アルゴンガス中において１゜９５０℃で溶融し、成形し
たところ、３０ＩＩａφ×厚さ５閣の不透明合成石英ガ
ラス板が得られ、このもののＯＨ基含有量を赤外吸収ス
ペクトルでしらべたところ、これにはＯＨ基は検出され
ず、またこれを化学分析したところ、この不純物量はＡ
ｌ ６０ｐｐｂ、Ｆｅ ７５ｐｐｂ、Ｎａ ３５
ｐｐｂ、Ｋ ２０ｐｐｂであった。
また、上記で得た粉末の溶融を真空中において１．８０
０℃に１５分間加熱して行なったときは透明な合成石英
ガラス体が得られ、このものもＯＨ基含有量は検出され
なかったし、さらにこの粉末をアーク溶融し、これから
るつぼを成形したところ、得られたるつぼは不透明で、
このものＯＨ基含有量は溶融前における空気中からの吸
湿のためか１５ｐｐｍとなっていた。
０℃に１５分間加熱して行なったときは透明な合成石英
ガラス体が得られ、このものもＯＨ基含有量は検出され
なかったし、さらにこの粉末をアーク溶融し、これから
るつぼを成形したところ、得られたるつぼは不透明で、
このものＯＨ基含有量は溶融前における空気中からの吸
湿のためか１５ｐｐｍとなっていた。
なお、上記で得た合成石英ガラスの高温粘性をファイバ
ー二ロンゲーション法でしらべたところ、アルゴンガス
中での常圧溶融品は１，４００℃における粘度が２．５
Ｘ １０”ポイズ、真空溶融品は３．７Ｘ１０”ポイ
ズ、７ ’１ ｍ融品ハ１ 、９ Ｘ１０１０ボイズ
であり、いずれも高い高温粘性を示した。
ー二ロンゲーション法でしらべたところ、アルゴンガス
中での常圧溶融品は１，４００℃における粘度が２．５
Ｘ １０”ポイズ、真空溶融品は３．７Ｘ１０”ポイ
ズ、７ ’１ ｍ融品ハ１ 、９ Ｘ１０１０ボイズ
であり、いずれも高い高温粘性を示した。
比較例１
反応容器にメタノール１５０モル、純水１２０モル、ア
ンモニア１モルを入れて８０℃に保ち、こＮにメチルシ
リケート１０モルを１２０分で滴下して加水分解反応さ
せ、反応終了後生成したシリカを自然沈降させてから沈
殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥した
ところ、平均粒径が１１００ｎであるシリカ粉が得られ
た。
ンモニア１モルを入れて８０℃に保ち、こＮにメチルシ
リケート１０モルを１２０分で滴下して加水分解反応さ
せ、反応終了後生成したシリカを自然沈降させてから沈
殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥した
ところ、平均粒径が１１００ｎであるシリカ粉が得られ
た。
ついで、このシリカ粉を空気中において５００℃に加熱
して有機物を酸化除去したのち、真空中で１，５００℃
に加熱してこのシリカを閉孔化し、ガラス化したが、こ
の場合は発泡して満足なガラス塊を得ることができなか
った。
して有機物を酸化除去したのち、真空中で１，５００℃
に加熱してこのシリカを閉孔化し、ガラス化したが、こ
の場合は発泡して満足なガラス塊を得ることができなか
った。
比較例２
反応容器にメタノール１５０モル、純水１２Ｏモル、ア
ンモニア ５０モルを入れて０℃に保ち、こＮにメチル
シリケート １０モルを１２０分で滴下して加水分解反
応させ１反応重量後生成したシリカを自然沈降させてか
ら沈殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥
したところ、平均粒径が３，２００ｎｍであるシリカ粉
が得られた。
ンモニア ５０モルを入れて０℃に保ち、こＮにメチル
シリケート １０モルを１２０分で滴下して加水分解反
応させ１反応重量後生成したシリカを自然沈降させてか
ら沈殿物を取り出し、真空中で１５０℃に加熱して乾燥
したところ、平均粒径が３，２００ｎｍであるシリカ粉
が得られた。
ついで、このシリカ粉を空気中において５００℃に加熱
して有機物を酸化除去したところ、このものは塊になら
ず粒径が３，２ＱＱｎｍのシリカ粉のまシであったが、
このシリカ粉を真空中において１，５００℃に加熱して
シリカの閉孔化、ガラス化を行なったところ、これは不
透明で泡を含んだ合成石英ガラス塊となった。
して有機物を酸化除去したところ、このものは塊になら
ず粒径が３，２ＱＱｎｍのシリカ粉のまシであったが、
このシリカ粉を真空中において１，５００℃に加熱して
シリカの閉孔化、ガラス化を行なったところ、これは不
透明で泡を含んだ合成石英ガラス塊となった。
つぎにこの合成石英塊をコニカルボールミルで粉砕し、
５０〜２００メツシユに篩別し、真空中において１，８
００℃に加熱して溶融したところ透明ガラス体が得られ
たが、これは大きな泡を含有するものであり、このもの
はＯＨ基含有量のないものではあったが泡の大きさが１
１φ以上のものであるために実用性に問題のあるもので
あった。
５０〜２００メツシユに篩別し、真空中において１，８
００℃に加熱して溶融したところ透明ガラス体が得られ
たが、これは大きな泡を含有するものであり、このもの
はＯＨ基含有量のないものではあったが泡の大きさが１
１φ以上のものであるために実用性に問題のあるもので
あった。
Claims (1)
- メチルシリケートをメタノール溶媒中でアンモニアを触
媒として加水分解させて粒径が２００〜３，０００ｎｍ
のシリカを調製し、濃縮、乾燥後、加熱酸化し、閉孔、
ガラス化し、粉砕して粒度を整えたのち、１，７００℃
以上で溶融することを特徴とする合成石英ガラスの製造
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22933388A JPH0280329A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 合成石英ガラスの製造方法 |
| US07/404,585 US4979973A (en) | 1988-09-13 | 1989-09-08 | Preparation of fused silica glass by hydrolysis of methyl silicate |
| DE8989402471T DE68905735T2 (de) | 1988-09-13 | 1989-09-11 | Synthetisches geschmolzenes quarzglas und verfahren zu dessen herstellung. |
| EP89402471A EP0360659B1 (en) | 1988-09-13 | 1989-09-11 | Synthetic fused silica glass and method for the preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22933388A JPH0280329A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0280329A true JPH0280329A (ja) | 1990-03-20 |
Family
ID=16890513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22933388A Pending JPH0280329A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0280329A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06183769A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-05 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 機能性光ファイバロッドの製造方法 |
| JP2019502642A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-31 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 合成石英ガラス粒の調製 |
| JP2019503966A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-02-14 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 不透明石英ガラス体の調製 |
| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| US11299417B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-04-12 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal |
| US11339076B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-05-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| US11492282B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven |
| US11708290B2 (en) | 2015-12-18 | 2023-07-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60226418A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-11 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 石英ガラス塊の製造方法 |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP22933388A patent/JPH0280329A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60226418A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-11 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 石英ガラス塊の製造方法 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06183769A (ja) * | 1992-12-18 | 1994-07-05 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 機能性光ファイバロッドの製造方法 |
| JP2019502642A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-01-31 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 合成石英ガラス粒の調製 |
| JP2019503966A (ja) * | 2015-12-18 | 2019-02-14 | ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | 不透明石英ガラス体の調製 |
| US11053152B2 (en) | 2015-12-18 | 2021-07-06 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Spray granulation of silicon dioxide in the preparation of quartz glass |
| US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
| US11299417B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-04-12 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a melting crucible of refractory metal |
| US11339076B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-05-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of carbon-doped silicon dioxide granulate as an intermediate in the preparation of quartz glass |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| US11492282B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies with dew point monitoring in the melting oven |
| US11708290B2 (en) | 2015-12-18 | 2023-07-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11952303B2 (en) | 2015-12-18 | 2024-04-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Increase in silicon content in the preparation of quartz glass |
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