JPH028374B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH028374B2 JPH028374B2 JP57195642A JP19564282A JPH028374B2 JP H028374 B2 JPH028374 B2 JP H028374B2 JP 57195642 A JP57195642 A JP 57195642A JP 19564282 A JP19564282 A JP 19564282A JP H028374 B2 JPH028374 B2 JP H028374B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- tape
- protective film
- magnetic layer
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明はビデオテープ等として用いられる磁気
層の表面に形成する保護膜形成用組成物の改良に
関する。 磁性層が強磁性金属もしくは合金薄膜のみで構
成された磁気テープは、VTRデツキの如く高速
回転ヘツドとの接触で極めて短時間に磁性層が剥
離したり又は傷が入るという欠点を有している。
この原因の一つにテープ表面とこれに接触するヘ
ツドとの間の摩擦抵抗が挙げられる。このため従
来より磁性層表面に潤滑性材料を塗布あるいは蒸
着し、表面摩擦を低減する方策をとつている。し
かし、これらの材料は薄膜形成手法上、分解反応
が激しく起きたり、均一に形成するための条件が
困難であつたりするという問題を有している。ま
た形成した膜自体も強度が弱く、徐々に削られた
りしてヘツドをつまらせて入出力特性に悪影響を
およぼす等の欠点もある。 本発明はこれらの欠点を解消し、表面潤滑性が
良く、膜自体の強度が高く、しかも必要厚みも薄
くてすむという利点をもつた磁気テープ保護膜形
成用組成物を提供するものである。 しかして本発明の保護膜形成用組成物は、酸化
ホウ素（B2O3）を70重量パーセント以上含有す
る酸化ホウ素と二酸化ケイ素（SiO2）の混合物
よりなることを要旨としている。このような混合
物で保護膜を形成するには、酸素を導入しつつ50
〜300Åの程度の厚みに蒸着するという方法によ
るのがよい。この場合、膜厚はあまり厚くすると
膜自体が堅くなり、また摩擦抵抗が大きくなつて
好ましくない。従つて、VTR用のテープの場合
は潤滑性の点から上記の如く50〜300Åの範囲と
するのが良い。好適に使用できる範囲は100〜200
Åである。この厚みの範囲で形成すると、保護膜
の動摩擦係数は0.1〜0.5であり、VTRテープとし
て必要な0.3以下を満足する。なお、酸化ホウ素
が60重量パーセント以下の混合物で保護膜を形成
すると動摩擦係数は大きく、また膜強度も弱くな
るため好ましくない。 次に本発明の実施例を詳述する。 〔実施例〕 ポリエチレンテレフタレートフイルム（12μ
厚）上に電子ビーム加熱にてCoを斜め蒸着して
磁性層とする。蒸着時の真空度は３×10-5torr以
下とし、磁性層厚みは1500Åとした。この磁性層
の表面にB2O3を70wt％（残部SiO2）含む保護膜
及びB2O3を85wt％含む保護膜を酸素分圧７×
10-5torrとなるように酸素導入しつつ真空蒸着を
行なつた。得られた蒸着フイルムを10mm幅にスリ
ツトした後荷重50ｇ、相対速度2m／secの条件で
表面の動摩擦係数を測定した。比較のために同様
な条件で作成したCo磁性層のみのフイルムにつ
いても動摩擦係数を測定した。これらの結果を下
表に示す。
層の表面に形成する保護膜形成用組成物の改良に
関する。 磁性層が強磁性金属もしくは合金薄膜のみで構
成された磁気テープは、VTRデツキの如く高速
回転ヘツドとの接触で極めて短時間に磁性層が剥
離したり又は傷が入るという欠点を有している。
この原因の一つにテープ表面とこれに接触するヘ
ツドとの間の摩擦抵抗が挙げられる。このため従
来より磁性層表面に潤滑性材料を塗布あるいは蒸
着し、表面摩擦を低減する方策をとつている。し
かし、これらの材料は薄膜形成手法上、分解反応
が激しく起きたり、均一に形成するための条件が
困難であつたりするという問題を有している。ま
た形成した膜自体も強度が弱く、徐々に削られた
りしてヘツドをつまらせて入出力特性に悪影響を
およぼす等の欠点もある。 本発明はこれらの欠点を解消し、表面潤滑性が
良く、膜自体の強度が高く、しかも必要厚みも薄
くてすむという利点をもつた磁気テープ保護膜形
成用組成物を提供するものである。 しかして本発明の保護膜形成用組成物は、酸化
ホウ素（B2O3）を70重量パーセント以上含有す
る酸化ホウ素と二酸化ケイ素（SiO2）の混合物
よりなることを要旨としている。このような混合
物で保護膜を形成するには、酸素を導入しつつ50
〜300Åの程度の厚みに蒸着するという方法によ
るのがよい。この場合、膜厚はあまり厚くすると
膜自体が堅くなり、また摩擦抵抗が大きくなつて
好ましくない。従つて、VTR用のテープの場合
は潤滑性の点から上記の如く50〜300Åの範囲と
するのが良い。好適に使用できる範囲は100〜200
Åである。この厚みの範囲で形成すると、保護膜
の動摩擦係数は0.1〜0.5であり、VTRテープとし
て必要な0.3以下を満足する。なお、酸化ホウ素
が60重量パーセント以下の混合物で保護膜を形成
すると動摩擦係数は大きく、また膜強度も弱くな
るため好ましくない。 次に本発明の実施例を詳述する。 〔実施例〕 ポリエチレンテレフタレートフイルム（12μ
厚）上に電子ビーム加熱にてCoを斜め蒸着して
磁性層とする。蒸着時の真空度は３×10-5torr以
下とし、磁性層厚みは1500Åとした。この磁性層
の表面にB2O3を70wt％（残部SiO2）含む保護膜
及びB2O3を85wt％含む保護膜を酸素分圧７×
10-5torrとなるように酸素導入しつつ真空蒸着を
行なつた。得られた蒸着フイルムを10mm幅にスリ
ツトした後荷重50ｇ、相対速度2m／secの条件で
表面の動摩擦係数を測定した。比較のために同様
な条件で作成したCo磁性層のみのフイルムにつ
いても動摩擦係数を測定した。これらの結果を下
表に示す。
【表】
次にこれらの試料をVTR用テープ巾にスリツ
トし、市販のVTRデツキにより走行性及び録画、
再生テストを実施したところ比較例のテープは殆
んど走行しなかつた。安定に走行し録画再生の繰
返しにおいてもまつたく異常が認められなかつた
のは本発明の保護膜形成用組成物を付与したテー
プであつた。 以上説明したように本発明の磁気テープ保護膜
形成用組成物によれば、テープ表面の摩擦抵抗を
減少させ、磁気ヘツド上での走行性を顕著に向上
させ得るとともに、保護膜を形成する混合物が酸
化物であるため化学的、機械的に安定していると
いう効果がある。また実施例の如く膜厚を300Å
以下にすると、上記効果に加えて、テープ再生出
力の損失が少なくなり、それだけ良好な入出力特
性をもつた磁気テープが得られるという効果があ
る。
トし、市販のVTRデツキにより走行性及び録画、
再生テストを実施したところ比較例のテープは殆
んど走行しなかつた。安定に走行し録画再生の繰
返しにおいてもまつたく異常が認められなかつた
のは本発明の保護膜形成用組成物を付与したテー
プであつた。 以上説明したように本発明の磁気テープ保護膜
形成用組成物によれば、テープ表面の摩擦抵抗を
減少させ、磁気ヘツド上での走行性を顕著に向上
させ得るとともに、保護膜を形成する混合物が酸
化物であるため化学的、機械的に安定していると
いう効果がある。また実施例の如く膜厚を300Å
以下にすると、上記効果に加えて、テープ再生出
力の損失が少なくなり、それだけ良好な入出力特
性をもつた磁気テープが得られるという効果があ
る。
Claims (1)
- １ 酸化ホウ素（B2O3）を70重量パーセント以
上含有する酸化ホウ素と二酸化ケイ素（SiO2）
の混合物よりなることを特徴とする磁気テープ保
護膜形成用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57195642A JPS5984350A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 磁気テ−プ保護膜形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57195642A JPS5984350A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 磁気テ−プ保護膜形成用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5984350A JPS5984350A (ja) | 1984-05-16 |
| JPH028374B2 true JPH028374B2 (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=16344561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57195642A Granted JPS5984350A (ja) | 1982-11-08 | 1982-11-08 | 磁気テ−プ保護膜形成用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5984350A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0775068B2 (ja) * | 1987-11-09 | 1995-08-09 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
-
1982
- 1982-11-08 JP JP57195642A patent/JPS5984350A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5984350A (ja) | 1984-05-16 |
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