JPH0283803A - 磁気ディスク装置 - Google Patents

磁気ディスク装置

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JPH0283803A
JPH0283803A JP23604688A JP23604688A JPH0283803A JP H0283803 A JPH0283803 A JP H0283803A JP 23604688 A JP23604688 A JP 23604688A JP 23604688 A JP23604688 A JP 23604688A JP H0283803 A JPH0283803 A JP H0283803A
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JP
Japan
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magnetic
magnetic disk
recording medium
head
film
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JP23604688A
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English (en)
Inventor
Tomoji Morita
森田 知二
Kouji Yabushita
藪下 荒二
Isato Nishinakagawa
西中川 勇人
Kayoko Kurosai
黒宰 加代子
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は磁気ディスク装置、とくにフェライトヘッド
に対する磁気ディスクの構成に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、コンピュータシステムにおける磁気ディスク装置
などの外部記憶装置の重要性が増大し、高記録m度に対
する要求がますます高まっている。
磁気ディスク装置は記録再生ヘッドおよび磁気ディスク
の主構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し
記録再生ヘッドすなわち、磁気ヘッドは磁気ディスクよ
シ微小間隔浮上している。磁気ディスクの高記録密度化
、高性能化を図るためには、磁気記録媒体の薄層化、均
−一様化、磁気特性の改良(保磁力、角形比の向上)、
磁気ヘッドの低浮上化などが挙けられる。
これまで磁気ディスクは塗布形といい、バインダーなど
の高分子材料とγ−Fe203磁気記録媒体粒子を混合
して塗布して製作していた。この方法では、磁気記録媒
体の薄層化、均−一様化に限界がある。このため最近で
は、磁気記録媒体をスパッタリングなどの方法によシ連
続薄膜として基材上に設けるようになってきた。γ−F
e20gを連続薄膜媒体とした磁気ディスクの構成の一
例を第9図に示す。第9図は例えば電電公社研究実用化
報告第31巻第9号の1731〜1744頁に報告され
た薄膜磁気ディスクの断面を示す図である。図において
、(1)はディスク状のアルミニウム合金基材、(2)
はアルマイトから成る磁気記録媒体の下地層、(3)は
磁気記録媒体となるγ−Fe203薄膜である。
現在、磁気ディスク装置では、起動および停止時に磁気
ディスクと磁気ヘッドが接触するコンタクトeスタート
・ストップ(aSS)方式を採用しておシ、起動および
停止時には磁気ヘッドと磁気ディスク表面が接触し九ま
ま回転する。この接触摩擦状態における磁気ヘッドと磁
気ディスクの間に生じる摩擦力は、磁気ヘッドと磁気デ
ィスク表面を摩耗させ、つbには磁気ヘッドおよび磁気
記録媒体膜に傷を作ることがらる0磁気記録媒体に連続
薄膜を用いた場合、わずかな傷であっても記録媒体の欠
如となり、記録信号の消失につながる。
このことは、磁気ディスク装置の外部記憶装置としての
信頼性に関わる重大な問題である。
このため、磁気ディスクの表面に、磁気ヘッドと磁気記
録媒体との接触摩擦および接触破壊から磁気記録媒体を
保護するために、51oz膜、カーボン膜、A120B
膜のような保護膜を設けることが考案されている(例え
ば、田子章男ら、第8回日本応用磁気学会学術講演概要
集(19B4)、222頁:木町良弘ら、昭和61年度
電子通信学会総合全国大会予稿集(1986)、l−1
66頁:刈本博保ら、日本潤滑学会第30助奏期研究発
表会予稿集(1985)、141頁などに発表されてい
る。)。まだ、磁気記録媒体が金属の場合、この保Wi
膜は金属膜の腐食を防ぐ保藤も兼ねる役目がある。
一方、磁気ヘッドの抵浮上化も進められている。
低浮上量における安定したヘッド浮上状態を確保し、磁
気ヘッドと磁気ディスクの衝突(ヘッドクラッシュ)を
防止するだめのディスク表面精度の向上、耐ヘツドクラ
ツシユ性の向上が検討されている。特にディスク表面精
度の向上は著しく、従来のディスクのRmax ij 
2000人以)、あったのが、現在ではRmaxが10
0人前後と1桁以上小さくなっている。このようにディ
スクの表面精度が年々向上するので、磁気ヘッドが磁気
ディスク表面に吸着し、磁気ディスクが回転を始めても
磁気ヘッドが浮上できず磁気ヘッドなどが破損する問題
が起きてきた(例えば、ジャーナル・オブ・アプライド
−フィジックス(J 、 Appl Ph、ys 、 
) 55巻、6号、2254頁(E、 M、 Roaa
1他))。このため、−旦鏡面のように仕上げられた基
板表面に微粉末を塗布する、再度研磨あるいはエツチン
グして微小な突起を表面に設けるといった手法が考えら
れている(例えば、特開昭59−117735.60−
38720.60−40528、61−29418.6
1−203259.6l−261820)0そして、こ
の後に磁気記録媒体及び保護膜が設けられる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の磁気ディスクは以上のように構成され、保*gと
して酸化膜を設ける簡便な方法として、溶液から成膜す
ることが知られている。ゾルゲル法などのように溶液か
ら5102膜、Al2O3膜などを成膜する場合熱処理
を行うが、磁気記録媒体の特性を変質させない程度の熱
処理(約400°C以下)では、十分ガラス化せず、通
常のセラミックに比べて硬度、強度などがか6D劣る(
柳沢雅弘、日本潤滑学会1り立30周年記念全国大会予
稿集(1985)、45頁)。例えは、金属アルコキシ
ドからガラスを合成する場合、金属アルコキシドを加水
分解させたゲルをガラス化させるのに必安な熱処理温度
は600〜1000”Cであり、溶融法によるシリカガ
ラスと同一の性質を示すのは900〜1000″Cの熱
処理をした場合であると言われている(作花済夫「ガラ
ス非晶質の科学」、内田老鶴1!l11(1983)、
147〜164頁)0このため、溶液から作成した酸化
膜では硬度、強度共に十分ではなかった。
この点では、スパッタリングなどによって成膜される酸
化膜やカーボン膜は、強度的には優れたものができる(
例えば、本町良弘ら、昭和61年度電子通信学会総合全
国大会予稿集(1986)、I −166頁)。しかし
、現在のように表面に微小な突起を設けである基材にお
いては、多くの学会発表例にみられるような8102膜
、AJO3膜、カーボン膜などの保護膜では硬いが脆い
という欠点があった。すなわち、微小な突起の上を磁気
ヘッドが接触するため、突起部に相当する像層膜部が脆
いために折れて削シ取られてしまう。この性質について
は、薄膜酸化物でめってもバルクのセラミックと同様で
ある。また、磁気記録媒体にまで損傷が及ばなくとも、
表面の微小な突起が消失するために磁気ヘッドが吸着し
て、磁気ヘッドが浮上できなくなるという問題点が生じ
た。また、硬度が大きすぎても、ビッカース硬度が65
0程度のフェライトヘッドに対しては、磁気ヘッドの浮
動面(磁気ディスクとの接触i)が摩耗して磁気ヘッド
が破損する、ヘッドの摩耗粉によ)磁気ディスクが傷つ
けられるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためのなされ
たもので磁気ヘッドによる磁気ディスクへの損傷を防ぎ
、保護膜の剥離を防止して、磁気ヘッドの磁気ディスク
基板に対する吸着を防止すると共に、磁気ディスクによ
るヘッドの摩耗を防止し、信頼性の高い磁気ディスク装
置を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発11に係る磁気ディスク装置は、フェライトヘッ
ドに対する、磁気記録媒体層の保sgとして、酸化イツ
トリウムを2〜6 mol %含有する、10CI−1
000人厚さの酸化ジルコニウム膜を用いるものである
〔作用〕
この発明に係る磁気ディスク装置は、表面に適度の硬度
と靭性に富む酸化ジルコニウム膜を設けることによシ、
フェライトを用いたヘッドに対して磁気ディスク表面の
膜の耐久性が従来の酸化物膜やカーボン膜に比べ格段に
強化され、信頼性が増加する。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例に係る磁気ディスクを示す断面
図で、図において(1)はAl−Mg合金基板、(2)
は磁気記録媒体層の下地層、(3)は磁気記録媒体層、
(4)は酸化ジルコニウム膜よりなる保護膜でおる。
Al−Mg合金基板(1)の表面にN1−P 6るいは
Ni−0u−Pメツキ膜よりなる下地層(2)を成膜し
、鏡・面加工しである基板に対して、テープ研摩機を用
い、ラッピングテープWA#6000.押し圧IKg、
基板回転数200rp!Elsテープ送シ速度20mm
/minの条件でテクスチャ加工を行った。これにより
 Rmax 500人程度の基板が得られる。この基板
上に磁気記録媒体をスパッタリングによシ成膜した。
実施例1 磁気記録媒体としてr−Fe2O2を用いた。
この磁気記録媒体層(3)の上に酸化イツトリウム4m
ox%含有の酸化ジルコニムをスパッタリングにより成
膜した。スパッタ条件はRFパワー300W/8インチ
、Ar圧力3mTorrで基板加熱は行わなかった。酸
化ジルコニウムの膜厚は500人であった。
実施例2 磁気記録媒体としてCo−Ni−0rを用いた。
この磁気記録媒体層の上に酸化イツトリウム4mox%
含有の酸化ジルコニムを電子ビーム蒸着により成膜した
。蒸着条件は加速型EE10に′v1電流100mA 
、基板温度150°C1酸素圧力1mTorrにした。
酸化ジルコニウムの膜厚は600人であった。
比較例1 磁気記録媒体としてγ−F0203を用いた。
この磁気記録媒体層の上に51o2膜をスパッタによや
成膜した。スパッタ条件はほぼ実施例1と同様である。
5102の膜厚は500人にした。
比較例2 磁気記録媒体としてr−Fe20gを用いた。
この磁気記録媒体層の上に酸化イツ) IJウム9mo
1 %含有の酸化ジルコニムをスパッタリングによシ成
膜した。スパッタ条件は■パワー300W/8インチ、
Ar圧力3mTorrで基板加圧は行わなかった。酸化
ジルコニウムの膜厚は500人であった。
これらの比較例を含めた磁気ディスクの初期特性を以下
に示す。
実施例1による磁気ディスクの表面粗さを触針式表面粗
さ計で測定した特性図を第2図に示した。
実施例2、比較例1.2とも同様の特性を示したので、
特性図は省略する。ディスクの表面には微小な凹凸が認
められた。
実施例1,2による磁気ディスクと比較例1゜2による
磁気ディスクの表面に、3370形フエライトヘツドを
接触させ静摩擦係数を測定した。実施例1による磁気デ
ィスクではO,]、9、実施例2による磁気ディスクで
は0.20、比較例1による磁気ディスクでは0.20
.比較例2による磁気ディスクでは0.19であった。
すべて良好な特性を示した0ここで、磁気ディスクの耐
久試験であるO8S試験を行った。ヘッドとしてはスラ
イダ材料がフェライトである3370形ヘツドを使用し
た。第3図はaSS試験を行った結果を示しており、縦
軸は初期再生出力を1とした規格化再生出力、横軸は0
88回数(X104)をとっである。図中O印を結ぶ線
はこの発明の実施例1.2によるディスクの場合、X印
を結ぶ線は比較例11△印を結ぶ線は比較例2によるデ
ィスクの場合を示している。
この発明の実施例1.2によるディスクの場合には、0
8820000回においても再生出力の低下は認められ
なかった。これに対し、比較例1では当初再生出力の低
下は認められないものの、CB58000回前後から次
第に再生出力が低下し始め、比較例1ではc s 82
0000回では初期の5(lになった。また、比較例2
では比較例1に比べると再生出力の低下は小さいが、(
38S12000回前後においてヘッドクラッシュを起
こした。これは酸化ジルコニウムの膜が硬いため、フェ
ライト磁気へラドスライダの損傷が犬きく、スライダの
浮動面が削られ、その摩耗粉がヘッドクラッシュの原因
になったと考えられる。
OS 85000回を行った磁気ディスクの表面粗さを
触針式表面粗さ計で測定した。第4図は実施例IKよる
磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第5図は実施例
2による磁気ディスクの表面粗さを示す特性図、第6図
は比較例1による磁気ディスクの表面粗さを示す特性図
、第7図は比較例2による磁気ディスクの表面粗さを示
す特性図である。図中の(5)は磁気ヘッドがコンタク
)−スタート・ストップにより磁気ディスクに接触した
領域を表す。周辺の粗さとの比較から実施例1,2、比
較例2による磁気ディスクでは初期の表面粗さを保って
いることが分かる。これに対して、比較例1による磁気
ディスクでは微小突起部に相当する部分が削シ取られて
いることが分かる。しかし、比較例2のaSS試験を行
ったフェライトよシなる磁気へラドスライダの浮動面に
は摺動方向に沿った大きな線状の傷が認められ、酸化イ
ツトリウムの添加量によりヘッド/ディスクの耐久性に
違いが出たことが明白である。
また、この0885000回を行った磁気ディスク表面
にヘッドを接触させ60’C,85%の状態で8時間放
置し、静摩擦係数を測定した。実施例1による磁気ディ
スクでは0,22、実施例2による磁気ディスクでは0
624、比較例1,2による磁気ディスクでは0.9を
越えておシ吸着現象が認められた。
第8図(a)、■)は各々酸化ジルコニウムの曲げ強度
及び靭性値と酸化イツトリウムの含有量との関係を示す
特性図であシ、ビッカース硬度にして650程度のフェ
ライトを材料とする磁気ヘッドに対する保護膜としては
、高い靭性とフェライトに合う硬度を実現するため酸化
イツ) IJウムが2〜6m01チの範囲、特に2〜3
m01%の範囲がいいことが分かる。
即ち、フェライトヘッドのような比較的ビッカース硬度
の低いものでは、酸化イツトリウム含有量が多すぎると
硬くなシすぎるため、酸化イツトリウムの含有量は6m
o1%以下がよく、靭性の点からは2m01チ以上が好
ましい。
々お、酸化ジルコニウムの膜厚は100Å以下では均一
な膜にはなっておらず、1oOOÅ以上では磁気ヘッド
と磁気ディスクの磁気記録媒体層までの距離が広がシ、
再生出力が低下するという悪影響が出てくる。このため
、酸化ジルコニウム膜は100〜1000人が適してい
る。成膜のしやすさ、均一性、再生出力からは300〜
800 Aが望ましい。
また、酸化ジルコニウムの添加成分として、酸化アルミ
ニウム、酸化セリウム、炭化シリコン、炭化チタンなど
が考えられるが、靭性の高い酸化ジルコニウムの膜を実
現するには酸化イツトリウムの添加が必須である。
また、基材の表面粗さはR+nax100 A以下では
吸着が必ず発生し、1OOOÅ以上では突起が浮上中の
磁気ヘッドに衝突するなど磁気ヘッドの浮上特性に悪影
響を与えるため好ましくない0静摩擦力を再現性よく小
さく安定させるためには、Rmax400〜800人が
望ましい。
上記実施例では磁気記録媒体層(3)がr−Fe203
の場合について説明したが、他のOr○2のような金属
酸化物媒体であってもよく上記実施例と同様の効果を奏
する。
また、上記実施例では磁気記録媒体層(3)がGo−N
i−Orの場合について説明しだが、他のCo−Ni、
0o−Or、 Feなどの合金媒体、金属媒体であって
もよく上記実施例と同様の効果を奏する。
また、上記実施例では下地層(2)としてN1−Pメツ
キ膜、Ni−0u−Pメツキ膜の場合について説明した
が、他のアルマイト膜などであってもよく上記実施例と
同様の効果を奏する。
また、上記実施例では下地層(2)に凹凸をつけて所定
の表面粗さを得るようにしたが、保護膜(4)に凹凸処
理を施すようにしてもよい。
また、上記実施例ではフェライトヘッドのビッカース硬
度は650程度のものを示したが、他のビッカース硬度
のフェライトヘッドでも同様の効果がある。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によればフェライトヘッドに対
し、磁気記録媒体層の保護膜として、酸化イツトリウム
を2〜6m01%含有する、100〜1000人厚さの
酸化ジルコニウム膜を用いたので、ヘッドに対応する適
度の硬度と靭性に富む保護膜が形成でき、磁気ディスク
と磁気へッドスライタ間の摩擦力、吸着力が小さく、十
分に耐久性及び信頼性の高い磁気ディスク装置が得られ
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る磁気ディスクを示す
断面図、第2図は表面粗さ計による初期の表面粗さを示
す特性図、第3図はこの発明の実施例に係る磁気ディス
クと、従来の磁気ディスクそれぞれに加速試験を行った
結果を示し、aSS回数と再生出力の関係を示す特性図
、第4図、第5図、及び第6図、第7図は各々OS 8
5000回を行ったこの発明の実施例に係る磁気ディス
ク及び従来の磁気ディスクの表面粗さ計による表面粗さ
を示す特性図、第8図(a) 、 (b)は各々酸化ジ
ルコニウムの曲げ強度と靭性値を示す特性図、並びに第
9図は従来の薄膜磁気ディスクを示す断面図である。 (1)・・・Al−Mg合金基板、(2)・・・下地層
、(3)・・・磁気記録媒体層、(4)・・・保護膜 なお、図中、同一符号は同−又は和尚部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上に設けられた磁気記録媒体層、この磁気記録媒体
    上に設けられ、酸化イットリウムを2〜6mol%含有
    する100〜1000Å厚さの酸化ジルコニウム膜より
    なる保護膜、及び上記磁気記録媒体に情報を記録または
    記録された情報を再生するフェライトヘッドを備えた磁
    気ディスク装置。
JP23604688A 1988-09-20 1988-09-20 磁気ディスク装置 Pending JPH0283803A (ja)

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JP23604688A JPH0283803A (ja) 1988-09-20 1988-09-20 磁気ディスク装置

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