JPH0285396A - 電解処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ストリップの電解処理を行うための電解処理
方法およびその装置に関する。

〈従来の技術〉 従来から、電解処理において高電流密度で電解でき、か
つ低電圧操業が可能な電解処理装置が提案されている。

特公昭５０−８０２０は、第７図に示すように筒状電解
槽１を通過するストリップ２に対し、ストリップ２の進
行方向と反対方向に電解液を噴射して、電解液に対する
ストリップ２の相対速度を大きくして高電流密度での電
解を可能にした。　　しかし、この装置を用いた場合ス
トリップ２の安定通板には効果がなく、ストリップ２と
電極３の間隔を短縮できず、高電流密度で電解した場合
、電圧が上昇してしまう。

また、ストリップ２の通過速度が低い場合は、ストリッ
プの進行方向とは反対方向に電解液を送り出すことがで
きるが、ライン速度が高速になった場合ストリップ２と
電解液の粘度によって、電解液がストリップ２の進行方
向に持ち出されるため、電解液をストリップ２の進行方
向と反対方向に噴射した場合、筒状電解槽１中で電解液
が停滞し電解面で発生したガスが除去されず、電解電圧
が上昇してしまう。なお、４はノズル、５はシール板で
ある。

また、特開昭６０−１７７２００は、第８図に示すよう
に筒状電解槽１を通過するストリップ２に対し、同じ方
向に電解液を噴射し筒状電解槽１の電解液流出口を狭め
ることにより、高速でストリップ２を通板しながら電解
面に電解液を保ち、かつ電解面で発生するガスを効率よ
く排出することを目的とした電解槽を提案したものであ
るが、この電解槽ではストリップ２の振動を抑え、スト
リップ２と電極３の間隔を短縮することはできない。

また、筒状電解槽１の出口を狭めたため、出口を狭めた
分だけ電極３とストリップ２の間隔を狭めることがさら
に困難になり、電解電圧を下げることができない、　　
６はヘッダーである。

特公昭６１−１８４３３は、第９図および第１０図に示
すように電解液の流出口にシールスプレーを設置するこ
とによって電解面に静圧を保ち、この静圧によってスト
リップ２の振動を防ぎストリップ２を安定に通板できる
ので、ストリップ２と電極３の間隔を短−縮して電解電
圧を低下でき、かつ電解面で発生したガスを容易に排出
できる電解槽である。　　しかし、この電解槽もライン
速度が２００ｍｐｍまでは有効に働くが、さらにライン
速度が増すと、ストリップ２と電解液の粘度により電解
液がストリップ２とともに持ち出され、第９図の電解槽
では電解液をストリップ２の進行方向と反対に噴出する
のが困難になり、電解面で発生したガスの滞留がおこる
。　また、第１０図の電解槽ではストリップ２によって
電解液が持ち出されるため、一部の電解面において電解
液を保つことが困難になる。

このように、これまで提案された電解処理装置では、ラ
イン速度が高よるにつれストリップの安定通板と電解面
で発生したガスの効率的な除去を同時に満足することは
できなかった。

〈発明が解決しようとする課題〉 電解槽でのストリップの振動を防ぐには、ストリップの
両電解面に電解液によフて静圧を発生させることが有効
である。

電解面に静圧を発生させる方法の１つとして、電極を内
側に有する筒状電解槽にストリップを通過させ、かつ筒
状電解槽のストリップ入口から電解液を噴射し筒状電解
槽のストリップ出口では電解面で発生したガスを除去で
きる程度に電解液を排出しながら、電解面で静圧を発生
させる圧力を加える方法がある。

しかし、筒状電解槽のストリップ出口でシールスプレー
を用いる方法では、ストリップの速度が高まるにつれて
ストリップと電解液の粘度によフて電解液が持ち出され
てしまうため、ストリップの出口でシールスプレーを用
いても電解面に静圧を発生させることが困難になるとい
う問題がある。

本発明は、上記問題点を解消し、高速でストリップを通
板しながら高電流密度、低電圧で電解処理し、安定した
操業で安定した品質のめフき鋼板を得ることができる電
解処理方法およびその装置を提供することを目的として
いる。

く課題を解決するための手段〉 本発明者らは、ストリップが高速で通過する筒状の電解
槽中にも静圧を保つには、筒状電解槽のストリップ入口
から電解液を噴射しながら、ストリップ出口ではストリ
ップ入口からの電解液の噴射とストリップ自身によって
持ち出される電解液を、電解面で発生したガスを除去す
る程度に排出させる圧力を与えればよいとの知見に基づ
き本発明をなすに至りた。

上記目的を達成するために本発明によれば、通過するス
トリップの両面に対向して配置した電極を内部に有する
筒状電解槽のストリップ入側からストリップ面に平行に
電解液を噴出して電解する電解処理方法において、スト
リップ通過速度に応じて前記筒状電解槽に連通ずる電解
液槽の液面を調整することを特徴とする電解処理方法が
提供される。

また、本発明によれば、通過するストリップの両面に対
向して配置した電極を内部に有する筒状電解槽と、該電
解槽のストリップ入側に設けたストリップ入側からスト
リップ面に平行に電解液を噴出するノズルを有するヘッ
ダーと、前記電解槽ストリップ出側に連通して設けた前
記電解槽出側の開口部上面の高さよりも高い位置まで壁
面を有し、かつ液面調整手段を有する槽とを有すること
を特徴とする電解処理装置が提供される。

以下に本発明をさらに詳細に説明する。

′Ｍ１図〜第３図は、本発明の１例を示す電解処理装置
の一部断面側面図、同平面図および同正面図である。

電８ｉ３を内部に配設した筒状電解槽１のストリップ２
の入側にはノズル４を通じて筒状電解槽１内へ電解液を
噴射するためのヘッダー６が設けられている。

また、筒状電解槽１のストリップ２の出側は、筒状電解
槽１の開口部上面の高さよりも高い位置まで壁面を有す
るン夜槽７に前記出側開口部を開口して連結されている
。

前記液槽７内には、液面調整手段として適宜のオーバー
フロー管８が設けられている。　　９はコンダクタロー
ルである。

つぎに、箪１図に示す好適実施例に基づき本発明の電解
処理方法を説明する。

第１図において、筒状電解槽１のストリップ２の入側か
らノズル４を通じて電解液を噴射している筒状電解槽１
内へストリップ２を通過させると、電解液は走行するス
トリップ２面に平行に電解液が噴射され、ストリップ２
の両面に対向して配設されている電極により電解処理さ
れる。

ここで、筒状電解槽１内に噴射された電解液はその出側
に設けられた液槽７と連通しており、この液槽７の液面
をオーバーフロー管８の高さを調整して前記筒状電解槽
１の出側開口部上面よりも高い所定の高さに保持すれば
、筒状電解槽１内で前記ストリップ２の上下電解面に静
圧が生じ、ストリップ面２の振動を抑えることができる
。

ライン速度が高くなるに従い、ストリップ２によフて電
解液が電解面から持ち出されやすくなるが、液槽７の液
面の高さを調整することによって、筒状電解槽１のスト
リップ２出側の圧力を調整し、電解面に静圧を保ちつつ
電解面で発生したガスが液槽７を介して除去でき石程度
に電解液をオーバーフロー管８から排出することができ
る。

液槽７の液面調整にあたっては、ストリップ速度に応じ
てオーバーフロー管８の高さを調整してその時のストリ
ップ速度に適した一定の液面に、あるいはストリップ速
度が変るごとに液面を適正な位置に調整すればよいが好
適には、第４図に示すように液槽７に液面レベル計１０
を設け、液面レベル信号１１とストリップ速度信号１２
を予め適切なストリップ速度と液面の高さの関係値が入
力されている制御器１３へ送り、この制御器１３からの
指令に基づいてオーバーフロー管８の位置を調整すると
ともに、ポンプ１４での電解液供給量制御あるいはバ）
１ご１５での電解液排出量制御を行う自ａ−制御とし７
てもよい。　なお、１６はプライドルロール、１７はパ
ルスジェネレーター　１８はオーバーフロー管位置調整
信号、１９は電解液供給！調整信号、２０は電解液排出
量調整信号である。

また、第３図に示すように筒状電解ａ１中でストリップ
２のエツジ近傍にエツジマスク２１を設置すれば、スト
リップ２のエツジオーバーコートを防ぐとともにストリ
ップ２の上下の電解面を分離し、静圧によるストリップ
２へのクツション効果をさらに高めることができる。

第１図に示す本発明装置において、ストリップ速度と筒
状電解槽の電解液出側での電解液流出量との関係および
無水クロム酸１００ｇ／ｊ２．硫酸０．４ｇ／ｊｌ、ケ
イフッ化ナトリウム５ｇ／ｌの電解液を用い、８０００
Ａの電解電流を流して電解した場合のストリップ速度と
電解電圧との関係は第５図および第６図のとおりであっ
た。　ストリップと電極の間隔は８ｍｍとし、電極には
電極長５００ｍｍのＰｂ電極を用いた。　また、ストリ
ップ速度に応じて液槽の液面レベルを調整した（ｕｌ）
。

なお、比較のため第７図の装置（ｕ、）、第８図の装置
（ｕａ）、第９図の装置（ｕｌ）および第１０図の装置
（Ｕ＋。）をそれぞれ用いた場合も示した。　ただし、
第５図におけるｕｌ（ＩＡは電解槽のストリップ入側、
ｕ　ｆｏｉｌはストリップ出側での電解液流出量を示す
。

ｕ、　　ｕ６は電解液流出口での電解液流出量が一定で
あるが、ｕ？、ｕｌではストリップ速度が増すにつれて
電解液が押しもどされ電解液流出口での電解液流出量が
減ってしまう。

ｕｌ。ではストリップ速度が増すに従いストリップ出側
での電解液流出量が増すが（ｕ１０６）、ストリップ入
側での電解液流出量が減ってしまい（ｕｌｏ＾）、スト
リップ速度が２００ｍｐｍ以上では電解槽の中央からス
トリップ出側までの半分しか電解液が流れなくなる（第
５図参照）。

電解槽の電解電圧については、Ｕ、はストリップ速度が
増してもストリップの振動が抑えられ、かつ電解面で発
生したガスが効率よく除去されるので、電解電圧は安定
している。

ｕ７、ｕｌはストリップ速度が増すに従い電解面での電
解液の滞留がおこり、電解面にガスが留って電圧が上昇
する。　ｕｌ。では、ストリップ速度が増すに従い電解
槽中央の電解液供給口からストリップ入側までの電解面
の電解液が不足し、電解電圧が上昇する。　ｕ６　では
ストリップの振動が大きいので電解電圧が変動し、途中
でストリップが電極に接触したため、電解を中止した。

〈実施例〉 以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。

（実施例１、比較例１〜２） 第１図に示す本発明の電解槽を用い、無水クロム酸１０
０　ｇ／ｕ、硫酸０．４ｇ／Ｉｔ、ケイフッ化ナトリウ
ム５ｇ／２のめっき液を用い、ストリップ速度の増加に
従い電解電流も増加させてめっきを行った。　めっき結
果を第１表に示す。

電解電流の増加に従い電解電圧が上昇するが、ストリッ
プの振動が抑えられているためストリップ速度が５００
ｍｐｍになってもクロムめっきが可能で、均一なりロム
層が良好な外観で得られた。

第７図の電解槽を用いた比較例１は、第１表に示すよう
にストリップ速度の増加と電解電圧の増加により、スト
リップ速度が１００ｍｐｍを越えると電解電圧が整流器
容量を越え、電解が不可能になった。　また、第１０図
に示す電解槽を用いた比較例２は、第１表に示すように
ストリップ速度が増すと電解槽中の電解液の流れが不均
一になり、かり色状の汚れが発生し、さらにストリップ
速度が１５０ｍｐｍを越えると電解電圧が整流器容量を
越えるため電解ができなくなった。

〈発明の効果〉 本発明は以上詳述したように構成されているので、高速
でストリップを通板しながら高電流密度、低電圧で電解
処理できるようになり電解プロセスの効率化が可能にな
り、ストリップが高速で通過しても、安定した操業と品
質の安定しためっき鋼板を得ることが可能になった。

また、本発明装置は、構造の簡単な部材の組合わせによ
り、ストリップが高速走行しても筒状電解槽中に適度の
静圧を保ちながら電解液の排出ができ、かつストリップ
の速度に応じて筒状電解槽の電解液出側の圧力が簡単に
調整でき、ストリップ速度が低速の場合から高速の場合
まで電解槽中のストリップの振動を抑え、かつ電解面で
発生するガスの除去が行えるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の電解処理装置の１例を示す一部断面
側面図である。 第２図は、同平面図である。 第３図は、同正面図である。 第４図は、本発明装置の他の例を示す一部断面側面図で
ある。 第５図は、ストリップ速度と電解液流出量との関係を示
すグラフである。 第６図は、ストリップ速度と電解電圧との関係を示すグ
ラフである。 第７図は、第１の従来例を示す図である。 第８図は、第２の従来例を示す図である。 第９図は、第３の従来例を示す図である。 第１０図は、第４の従来例を示す図である。 符号の説明 １・・・筒状電解槽、 ２・・・ストリップ、 ３・・・電極、 ４・・・ノズル、 ５・・・シール板、 ６・・・ヘッダー ７・・・液槽、 ８・・・オーバーフロー管、 ９・・・コンダクタロール、 １０・・・液面レベル計、 １１・・・液面レベル信号、 １２・・・ストリップ速度信号、 １３・・・制御器、 １４・・・ポンプ、 ５・・・バルブ、 １３・・・プライドルロール、 １７・・・パルスジェネレーター １８・・・オーバーフロー管位置調整信号、１９・・・
電解液供給量調整信号、 ２０・・・電解液排出量調整信号、 ２１・・・エツジマスク

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）通過するストリップの両面に対向して配置した電
   極を内部に有する筒状電解槽のストリップ入側からスト
   リップ面に平行に電解液を噴出して電解する電解処理方
   法において、ストリップ通過速度に応じて前記筒状電解
   槽に連通する電解液槽の液面を調整することを特徴とす
   る電解処理方法。
2. （２）通過するストリップの両面に対向して配置した電
   極を内部に有する筒状電解槽と、該電解槽のストリップ
   入側に設けたストリップ入側からストリップ面に平行に
   電解液を噴出するノズルを有するヘッダーと、前記電解
   槽ストリップ出側に連通して設けた前記電解槽出側の開
   口部上面の高さよりも高い位置まで壁面を有し、特徴と
   する電解処理装置。