JPH0294146A - 光磁記録媒体 - Google Patents
光磁記録媒体Info
- Publication number
- JPH0294146A JPH0294146A JP24703188A JP24703188A JPH0294146A JP H0294146 A JPH0294146 A JP H0294146A JP 24703188 A JP24703188 A JP 24703188A JP 24703188 A JP24703188 A JP 24703188A JP H0294146 A JPH0294146 A JP H0294146A
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- Japan
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- magneto
- recording
- cover layer
- layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、書き換えが可能な光磁気記録媒体に関し、特
に水分による機械的な変形や腐食劣化を効果的に防止す
る光磁気記録媒体に関するものである。
に水分による機械的な変形や腐食劣化を効果的に防止す
る光磁気記録媒体に関するものである。
近年、書き換え可能な光記録媒体として、磁気光学効果
を利用した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、一
部では実用化されるに至っている。
を利用した光磁気記録媒体が精力的に研究開発され、一
部では実用化されるに至っている。
この光磁気記録媒体は大容量高密度記録、非接触記録再
生、アクセスの容易さ等の利点に加え、重ね書き(オー
バーライド)が可能という点で文書情報ファイル、ビデ
オ・静止画ファイル、コンピューター用メモリ等への利
用が期待されている。
生、アクセスの容易さ等の利点に加え、重ね書き(オー
バーライド)が可能という点で文書情報ファイル、ビデ
オ・静止画ファイル、コンピューター用メモリ等への利
用が期待されている。
上記光磁気記録媒体は、垂直磁化膜すなわち膜面と垂直
な方向に磁化容易軸を有する磁性膜を記録層とし、レー
ザービームを照射するとともに磁界を印加することによ
り情報の記録、再生及び消去を行うようになっている。
な方向に磁化容易軸を有する磁性膜を記録層とし、レー
ザービームを照射するとともに磁界を印加することによ
り情報の記録、再生及び消去を行うようになっている。
そして記録層には、非晶質構造の重希土類/軽希土類金
属と遷移金属との合金、例えば、Tb−Fe−Co、G
d−Tb−FeCo、 Dy−Fe−Co、Dy−Tb
−Fe−Co、Gd−Dy−Fe−Co等の材料の使用
が提案されている。これらの材料は酸化による腐食を受
けやすく経時とともに記録)Wの保磁力や垂直磁気異方
性等の磁気特性が劣化するという欠点がある。このため
、記録媒体の構成としては記録層をサンドインチ状に保
護膜でカバーする三層構造が採用されている場合が多い
。
属と遷移金属との合金、例えば、Tb−Fe−Co、G
d−Tb−FeCo、 Dy−Fe−Co、Dy−Tb
−Fe−Co、Gd−Dy−Fe−Co等の材料の使用
が提案されている。これらの材料は酸化による腐食を受
けやすく経時とともに記録)Wの保磁力や垂直磁気異方
性等の磁気特性が劣化するという欠点がある。このため
、記録媒体の構成としては記録層をサンドインチ状に保
護膜でカバーする三層構造が採用されている場合が多い
。
一方、光磁気記録媒体用基板としてはプリグループ付の
ガラス基板やポリカーボネー1− (PC)基板等が使
用され、特にポリカーボネート基板は安価であるために
実用−1−有利である。
ガラス基板やポリカーボネー1− (PC)基板等が使
用され、特にポリカーボネート基板は安価であるために
実用−1−有利である。
ところが、このポリカーボネート基板は透湿性や酸素透
過性が高く、使用時の温湿度により反りや変形が生しや
すい。特に湿度の影響が大きく、乾燥状態から多湿状態
へ外気が変化したりすると、反りの発生頻度が高くなる
。さらには、酸素の透過により、記録層に対しても保護
膜のピンホールを介してダメージを与える。
過性が高く、使用時の温湿度により反りや変形が生しや
すい。特に湿度の影響が大きく、乾燥状態から多湿状態
へ外気が変化したりすると、反りの発生頻度が高くなる
。さらには、酸素の透過により、記録層に対しても保護
膜のピンホールを介してダメージを与える。
以上の機械的な変形や腐食劣化は、記録磨製サントイン
チ状に保護層でカバーする構成にしても十分であるとは
いえない。
チ状に保護層でカバーする構成にしても十分であるとは
いえない。
これに対し、特開昭63−20745号公報には、外界
と接している樹脂基板部を撥水性樹脂や低透湿性樹脂で
カバーすることにより、C/N、ピットエラーレートの
経時的変化を少なくする技術が開示されている。
と接している樹脂基板部を撥水性樹脂や低透湿性樹脂で
カバーすることにより、C/N、ピットエラーレートの
経時的変化を少なくする技術が開示されている。
しかしながら、上記公報に開示された技術でカバー層と
して使用されている材料は有機質のものであり、撥水性
あるいは低透湿といってもその保護効果は十分であると
はいえず、さらに保護効果を向上させることが望まれて
いた。
して使用されている材料は有機質のものであり、撥水性
あるいは低透湿といってもその保護効果は十分であると
はいえず、さらに保護効果を向上させることが望まれて
いた。
本発明はこのような従来技術の問題点を解消し、温湿度
が大きく変化した環境でも反りゃ変形を防止でき、しか
も再生特性が長期に渡って安定に維持される光磁気記録
媒体を提供することをI」的とする。
が大きく変化した環境でも反りゃ変形を防止でき、しか
も再生特性が長期に渡って安定に維持される光磁気記録
媒体を提供することをI」的とする。
上記目的を達成するため、本発明によれば、透光性樹脂
基板と、該基板上に形成される非晶質磁性合金膜からな
る記録層と、該記録層の両面を被覆する保護膜を具備し
て構成される光磁気記録媒体において、当該記録媒体の
記録面と反対側の基板面及び当該記録媒体の内外周端部
に、無機材料の酸化物又は窒化物又はこれらの複合体か
らなるカバー層を設けたことを特徴とする光磁気記録媒
体が提供される。
基板と、該基板上に形成される非晶質磁性合金膜からな
る記録層と、該記録層の両面を被覆する保護膜を具備し
て構成される光磁気記録媒体において、当該記録媒体の
記録面と反対側の基板面及び当該記録媒体の内外周端部
に、無機材料の酸化物又は窒化物又はこれらの複合体か
らなるカバー層を設けたことを特徴とする光磁気記録媒
体が提供される。
次に、本発明を図面を参照して詳述する。
第1図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す断
面図である。この光磁気記録媒体は透光性樹脂基板1上
に、第1の保護M(アンダーコート)2、光磁気記録層
3及び第2の保護層(トップコート)4が順次積層され
、さらに当該媒体の記録面とは反対側の面と、当該媒体
の内周側及び外周側の端部(内外周側面部)にカバー層
5が形成されている。
面図である。この光磁気記録媒体は透光性樹脂基板1上
に、第1の保護M(アンダーコート)2、光磁気記録層
3及び第2の保護層(トップコート)4が順次積層され
、さらに当該媒体の記録面とは反対側の面と、当該媒体
の内周側及び外周側の端部(内外周側面部)にカバー層
5が形成されている。
透光性樹脂基板1には、ポリカーボネート(pc)、ポ
リメチルメタクリレート(PMMA)、エポキシ等の樹
脂が使用される。
リメチルメタクリレート(PMMA)、エポキシ等の樹
脂が使用される。
光磁気記録層3には、Tb、Gd、Dy、 Nd等の希
土類金属を少なくとも1種以上と、遷移金属Fe、 C
。
土類金属を少なくとも1種以上と、遷移金属Fe、 C
。
の少なくとも1種以上とを組合わせた非晶質の磁性合金
が使用される。このような合金としては例えばTbFe
Co、GdTbFeCo、NdDyFeCo、 TbD
yFeC。
が使用される。このような合金としては例えばTbFe
Co、GdTbFeCo、NdDyFeCo、 TbD
yFeC。
等が例示される。この光磁気記録層3はスパッタ法、蒸
着法等により400〜1000人の膜厚に形成される。
着法等により400〜1000人の膜厚に形成される。
第1及び第2の保護層2,4はSiN、 5iAQON
等を使用し、蒸着法やスパッタ法により400〜100
0人の膜厚に形成される。なお、第1の保護層2はエン
ハンスメント膜を兼ねるため、多重反射によってみがけ
の磁気光学効果がなるべく大きくなるようにその屈折率
に応じた膜厚に設定する。また、第1の保護層2と第2
の保護層4とは同一の材料で形成してもよいし、各々の
機能を考慮し異なった材料で形成してもよい。
等を使用し、蒸着法やスパッタ法により400〜100
0人の膜厚に形成される。なお、第1の保護層2はエン
ハンスメント膜を兼ねるため、多重反射によってみがけ
の磁気光学効果がなるべく大きくなるようにその屈折率
に応じた膜厚に設定する。また、第1の保護層2と第2
の保護層4とは同一の材料で形成してもよいし、各々の
機能を考慮し異なった材料で形成してもよい。
カバー層5は無機材料の酸化物、無機材料の窒化物又は
無機材料の酸化物と窒化物との複合体を用いて、蒸着法
、スパッタ法により100〜3000人の膜厚に形成さ
れる。カバー層5の形成に使用され7、、l具体的な材
料トシテハ、5iAQON、 Sin、AQ20..5
i02・Aう03、ZrO2、SnO2、工n2o3、
Nb2O5、Tie、 Y2O3、AQN、 GeN等
が挙げられる。このカバー層5は、記録媒体の透湿性や
酸素透過性を改善し、温湿度が大きく変化した環境でも
反りゃ変形を十分防止し、しかも記録媒体の再生特性を
長期に渡って安定に維持可能とする。
無機材料の酸化物と窒化物との複合体を用いて、蒸着法
、スパッタ法により100〜3000人の膜厚に形成さ
れる。カバー層5の形成に使用され7、、l具体的な材
料トシテハ、5iAQON、 Sin、AQ20..5
i02・Aう03、ZrO2、SnO2、工n2o3、
Nb2O5、Tie、 Y2O3、AQN、 GeN等
が挙げられる。このカバー層5は、記録媒体の透湿性や
酸素透過性を改善し、温湿度が大きく変化した環境でも
反りゃ変形を十分防止し、しかも記録媒体の再生特性を
長期に渡って安定に維持可能とする。
以下に実施例をあげて本発明をさらに説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1)
ポリカーボネート基板(直径約130m、厚さ1.2M
n)をスパッタ装置にセットし、該基板」二に、スパツ
タリングでSiN保護膜(アンダーコート)を800人
の厚さに成膜し、その」二にTb12Dy1□FeG1
1COIl光磁気記録層を800人の厚さに成膜し、さ
らに5iiON保護膜(トップコート)を800人の厚
さに成膜した。
n)をスパッタ装置にセットし、該基板」二に、スパツ
タリングでSiN保護膜(アンダーコート)を800人
の厚さに成膜し、その」二にTb12Dy1□FeG1
1COIl光磁気記録層を800人の厚さに成膜し、さ
らに5iiON保護膜(トップコート)を800人の厚
さに成膜した。
このようにして得たディスクの記録面と反対側にカバー
層が形成できるように、該ディスクをスパッタ装置にセ
ノ1へした。そしてスパッタ装置のチャンバー内の真空
度がI X IF7torrに達するまで真空排気し、
ポリカーボネート基板の水分や吸蔵している空気を脱水
、脱気した。次いで、Ar+02の混合ガスをA「:0
□=5:1の比でチャンバー内が3×1O−3t、or
rになるように導入した。その後、5iAllkONタ
ーゲツトにDC電圧を印加し、約IKWのパワーで放電
させ、1000人の膜厚となるまで放電を持続し、カバ
ー層を形成させて、単板構成の記録媒体を得た。
層が形成できるように、該ディスクをスパッタ装置にセ
ノ1へした。そしてスパッタ装置のチャンバー内の真空
度がI X IF7torrに達するまで真空排気し、
ポリカーボネート基板の水分や吸蔵している空気を脱水
、脱気した。次いで、Ar+02の混合ガスをA「:0
□=5:1の比でチャンバー内が3×1O−3t、or
rになるように導入した。その後、5iAllkONタ
ーゲツトにDC電圧を印加し、約IKWのパワーで放電
させ、1000人の膜厚となるまで放電を持続し、カバ
ー層を形成させて、単板構成の記録媒体を得た。
一方、カバー層が形成されていないこと以外は上記と同
様にして比較例の記録媒体を得た。
様にして比較例の記録媒体を得た。
以上のようにして作製した実施例1及び比較例の記録媒
体(単板ディスク)について、まず5反り量を測定した
。その結果を第2図に示す。カバー層無しの比較例の記
録媒体では100μm以上の反りがあり、大きいもので
はこの反りは600μmにも達していた。ところが、実
施例1の記録媒体によれば、カバー層を設けたため反り
は10μm程度に小さくなっていた。これは、カバー層
の形成により、基板の両側で応力のバランスがとれたた
めと考えられる。
体(単板ディスク)について、まず5反り量を測定した
。その結果を第2図に示す。カバー層無しの比較例の記
録媒体では100μm以上の反りがあり、大きいもので
はこの反りは600μmにも達していた。ところが、実
施例1の記録媒体によれば、カバー層を設けたため反り
は10μm程度に小さくなっていた。これは、カバー層
の形成により、基板の両側で応力のバランスがとれたた
めと考えられる。
次に、画記録媒体について、70℃、20%Rhの乾燥
状態から70℃、80%R1+の高湿下へ連続変化させ
たときの反り量及び表面状態を調べた。その結果、反り
量は比較例の記録媒体では2倍程度増加し、実施例1の
記録媒体では変化しなかった。また、比較例の記録媒体
の場合には反り量が大きいためにクラックの発生が認め
れなかった。
状態から70℃、80%R1+の高湿下へ連続変化させ
たときの反り量及び表面状態を調べた。その結果、反り
量は比較例の記録媒体では2倍程度増加し、実施例1の
記録媒体では変化しなかった。また、比較例の記録媒体
の場合には反り量が大きいためにクラックの発生が認め
れなかった。
以上のように、媒体の反りに対して実施例1のカバー層
は1−分な効果を示した。
は1−分な効果を示した。
さらに、画記録媒体について、80℃、85%RI+の
高温高湿下での経時変化に対する効果を調べた。
高温高湿下での経時変化に対する効果を調べた。
第:3図に反り量の経時変化を示す。比較例の記録媒体
では、500時間の経過で反り量がわずかに増加しその
後少し減少する傾向が認められるものの、やはり100
μm程度の反り量があった。これに対し、実施例1の記
録媒体では、反り量は無変化であり、その大きさも10
μm程度であった。
では、500時間の経過で反り量がわずかに増加しその
後少し減少する傾向が認められるものの、やはり100
μm程度の反り量があった。これに対し、実施例1の記
録媒体では、反り量は無変化であり、その大きさも10
μm程度であった。
以上のように、実施例1では機械的特性の長期安定性に
ついて大幅な向上が顕著に認められた。
ついて大幅な向上が顕著に認められた。
次いで、画記録媒体について、80℃、85%RHの高
温高湿下でのエラーレートの経時変化について調べた。
温高湿下でのエラーレートの経時変化について調べた。
その結果を第4図に示す。なお、図中エラーレートは初
期値で正規化しである。実施例1の記録媒体では200
0時間経過後でも無変化であった。ところが、比較例の
記録媒体では、500時間=8 経過後にエラーレートが10倍に劣化し、しかもクラッ
ク発生等によりそれ以後測定ができない状況となる位劣
化していた。
期値で正規化しである。実施例1の記録媒体では200
0時間経過後でも無変化であった。ところが、比較例の
記録媒体では、500時間=8 経過後にエラーレートが10倍に劣化し、しかもクラッ
ク発生等によりそれ以後測定ができない状況となる位劣
化していた。
以上のように、実施例1の記録媒体ではエラーレート(
再生特性)の長期安定性についても著しい改善が認めら
れた。
再生特性)の長期安定性についても著しい改善が認めら
れた。
(実施例2)
実施例1において、カバー層として膜厚2000人のS
iO膜を形成した以外は同様にして記録媒体を得た。
iO膜を形成した以外は同様にして記録媒体を得た。
(実施例3)
実施例1において、カバー層として膜厚1000人の5
ilQN膜を形成した以外は同様にして記録媒体を得た
。
ilQN膜を形成した以外は同様にして記録媒体を得た
。
(実施例4)
実施例1において、アンダーコート層として5iZrN
を700人の厚さに成膜し、その上にTb1zDYx2
Fet o Co6の光磁気記録層を800人、さらに
その上に5iZrNのトップコート層を800人成膜し
た。さらに、カバー層として膜厚500人の5iZrN
を形成し、記録媒体を作製した。
を700人の厚さに成膜し、その上にTb1zDYx2
Fet o Co6の光磁気記録層を800人、さらに
その上に5iZrNのトップコート層を800人成膜し
た。さらに、カバー層として膜厚500人の5iZrN
を形成し、記録媒体を作製した。
以上のようにして作製した実施例2と実施例3の記録媒
体においても実施例1と同様、優れた効果を得ることが
できた。
体においても実施例1と同様、優れた効果を得ることが
できた。
また、−1〕記以外にも材料として、AQ203、Si
n、・AQ203、ZrO7、SnO□、In2O,、
Nb2O6、Tie、 y2o3、AQN及びGeNを
用い、800−2000人の膜厚でカバー層を形成した
記録媒体を作製し、その特性を評価したところ、カバー
層の材質によらず、酸化物でも窒化物でもまたそれらの
複合体でも、媒体の初期の反り景、乾燥状態から高温高
湿下への連続変化させたときの反り量及び表面状態、高
温高湿下での経時変化に対する効果、及びエラーレート
の経時変化について上記実施例と同様ないしは十分な効
果を示した。
n、・AQ203、ZrO7、SnO□、In2O,、
Nb2O6、Tie、 y2o3、AQN及びGeNを
用い、800−2000人の膜厚でカバー層を形成した
記録媒体を作製し、その特性を評価したところ、カバー
層の材質によらず、酸化物でも窒化物でもまたそれらの
複合体でも、媒体の初期の反り景、乾燥状態から高温高
湿下への連続変化させたときの反り量及び表面状態、高
温高湿下での経時変化に対する効果、及びエラーレート
の経時変化について上記実施例と同様ないしは十分な効
果を示した。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、記録面と
反対側の基板面と、記録媒体の内外周端部に、無機材料
の酸化物又は窒化物又はこれらの複合体からなるカバー
層を設けたので、温湿度が大きく変化した環境でも記録
媒体の反りゃ変形を十分防止できるようになるとともに
、再生特性を長期に渡って安定に維持できるようになる
。従って、信頼性の高い、高品質の光磁気記録媒体の提
供が可能となる。
反対側の基板面と、記録媒体の内外周端部に、無機材料
の酸化物又は窒化物又はこれらの複合体からなるカバー
層を設けたので、温湿度が大きく変化した環境でも記録
媒体の反りゃ変形を十分防止できるようになるとともに
、再生特性を長期に渡って安定に維持できるようになる
。従って、信頼性の高い、高品質の光磁気記録媒体の提
供が可能となる。
第1図は本発明による光磁気記録媒体の構成例を示す断
面図、第2図は本発明の実施例と比較例の記録媒体にお
ける反り量の測定結果を示す図、第3図は本発明の実施
例と比較例の記録媒体における高温高湿下での反り量の
経時変化を示す図、第4図は本発明の実施例と比較例の
記録媒体における高温高湿下でのエラーレートの経時変
化を示す図である。 1・・透光性樹脂基板 2・・第1の保護層(アンダーコート)3・・・光磁気
記録層 4・・・第2の保護層(トップコート)5・・カバー層
面図、第2図は本発明の実施例と比較例の記録媒体にお
ける反り量の測定結果を示す図、第3図は本発明の実施
例と比較例の記録媒体における高温高湿下での反り量の
経時変化を示す図、第4図は本発明の実施例と比較例の
記録媒体における高温高湿下でのエラーレートの経時変
化を示す図である。 1・・透光性樹脂基板 2・・第1の保護層(アンダーコート)3・・・光磁気
記録層 4・・・第2の保護層(トップコート)5・・カバー層
Claims (1)
- (1)透光性樹脂基板と、該基板上に形成される非晶質
磁性合金膜からなる記録層と、該記録層の両面を被覆す
る保護膜を具備して構成される光磁気記録媒体において
、 当該記録媒体の記録面と反対側の基板面及び当該記録媒
体の内外周端部に、無機材料の酸化物又は窒化物又はこ
れらの複合体からなるカバー層を設けたことを特徴とす
る光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247031A JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63247031A JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0294146A true JPH0294146A (ja) | 1990-04-04 |
| JP2740814B2 JP2740814B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=17157379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63247031A Expired - Fee Related JP2740814B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 光磁記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2740814B2 (ja) |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60115037A (ja) * | 1983-11-26 | 1985-06-21 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61139961A (ja) * | 1984-12-12 | 1986-06-27 | Tdk Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPS6220156A (ja) * | 1985-07-19 | 1987-01-28 | Daicel Chem Ind Ltd | 光磁気デイスク |
| JPS62197939A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-09-01 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録用媒体 |
| JPS63122037A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Fuji Electric Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS63124244A (ja) * | 1986-11-13 | 1988-05-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光デイスコ |
| JPS63253549A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Hitachi Ltd | 光硬化型樹脂基板光磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JPH01217745A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-31 | Seiko Epson Corp | 光磁気記録媒体 |
| JPH0218729A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-23 | Seiko Epson Corp | 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63247031A patent/JP2740814B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2740814B2 (ja) | 1998-04-15 |
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