JPH0295203A - 位置合わせ装置 - Google Patents
位置合わせ装置Info
- Publication number
- JPH0295203A JPH0295203A JP63248141A JP24814188A JPH0295203A JP H0295203 A JPH0295203 A JP H0295203A JP 63248141 A JP63248141 A JP 63248141A JP 24814188 A JP24814188 A JP 24814188A JP H0295203 A JPH0295203 A JP H0295203A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction
- diffraction grating
- diffraction gratings
- vernier
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体の露光装置などに用い、近接した回折
格子からの回折光により微小変位を検出し、マスク、ウ
エノ・などの位置合わせを行う位置合わせ装置に関する
ものである。
格子からの回折光により微小変位を検出し、マスク、ウ
エノ・などの位置合わせを行う位置合わせ装置に関する
ものである。
従来の技術
従来、この種の位置合わせ装置において、近接した複数
の回折格子からの回折光により微小変化を読み取る方式
としては、光波術コンタク）Ｖｏ１２５ Ｎｏ、７（１
９８７） ３７５頁に記載されているＸ線リソグラ
フィ用マスク、ウニ／・の立置合わせ装置が知られてい
る。μ下、この従来の位置合わせ装置について図面を参
照しながら説明する。
の回折格子からの回折光により微小変化を読み取る方式
としては、光波術コンタク）Ｖｏ１２５ Ｎｏ、７（１
９８７） ３７５頁に記載されているＸ線リソグラ
フィ用マスク、ウニ／・の立置合わせ装置が知られてい
る。μ下、この従来の位置合わせ装置について図面を参
照しながら説明する。
第６図に示すように横ゼーマンレーザ１０１から出射し
た光１０２は、偏光ビームスプリッタ１０３によって周
波数ｆ１の光Ｆ１と周波数ｆ２の光Ｆ２に分割され、ミ
ラー１０４ 、１０５によってマスク１０６、ウェハ１
０７に角度θで照射される。マスク１０６及びウェハ１
０７の被照射領域には、ピッチＰの回折格子１０８ 、
１０９が形成されている。光Ｆｌ。
た光１０２は、偏光ビームスプリッタ１０３によって周
波数ｆ１の光Ｆ１と周波数ｆ２の光Ｆ２に分割され、ミ
ラー１０４ 、１０５によってマスク１０６、ウェハ１
０７に角度θで照射される。マスク１０６及びウェハ１
０７の被照射領域には、ピッチＰの回折格子１０８ 、
１０９が形成されている。光Ｆｌ。
Ｆ２は各々ｓｉｎθ＝λ／Ｐ（λ：レーザ波長）なる方
向より照射されているため、光Ｆ’ｌ 、 Ｆ２の回折
格子１０８ 、１０９による±１次回折光は、マスク１
０６、ウェハ１０７の平面に対して垂直方向に回折され
、ミラー１１０により２つの７オトデイテクタ１１１
、１１２へ入射する。ここで入射光として互いにわずか
に周波数が異なるＦｌ、Ｆ２の光を用いているため、フ
ォトディテクタ１１１では、マスク１０６の位置ずれに
よる光ビート信号が、ディテクタ１１２ではウェハ１０
７の位置ずれによる光ビート信号が検出される。これら
の２つの光ビート信号の位相差をＯとすることにより、
マスク１０６とウェハ１０７の相対立置合わせを行うこ
とが可能となる。
向より照射されているため、光Ｆ’ｌ 、 Ｆ２の回折
格子１０８ 、１０９による±１次回折光は、マスク１
０６、ウェハ１０７の平面に対して垂直方向に回折され
、ミラー１１０により２つの７オトデイテクタ１１１
、１１２へ入射する。ここで入射光として互いにわずか
に周波数が異なるＦｌ、Ｆ２の光を用いているため、フ
ォトディテクタ１１１では、マスク１０６の位置ずれに
よる光ビート信号が、ディテクタ１１２ではウェハ１０
７の位置ずれによる光ビート信号が検出される。これら
の２つの光ビート信号の位相差をＯとすることにより、
マスク１０６とウェハ１０７の相対立置合わせを行うこ
とが可能となる。
半導体の露光装置では、数１０ミリ離れたマスク１０６
とウェハ１０７上の位置合わせマークを数１０ｍｍの精
度で位置合わせしなければならない。このため、レーザ
渉計をフィードバック検出器として持つ粗合わせテーブ
ルと、第６図に示したような位置合わせ装置をフィード
バック検出器として持つ精密合わせテーブルの２段構成
とするのが一般的である。
とウェハ１０７上の位置合わせマークを数１０ｍｍの精
度で位置合わせしなければならない。このため、レーザ
渉計をフィードバック検出器として持つ粗合わせテーブ
ルと、第６図に示したような位置合わせ装置をフィード
バック検出器として持つ精密合わせテーブルの２段構成
とするのが一般的である。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来例の構成で得られる位置ずれ信
号は回折格子１０８ 、１０９のピッチの半分を一周期
とする周期信号となり、粗合わせチーフルはこの周期の
範囲内にウェハ１０７とマスク１０６を位置合わせしな
ければならず、最終的な位置合わせ精度を上げようとす
ればするほど、粗合わせテーブルの精度負担が重くなる
という課題があった０ 本発明は、従来技術のμ上のような課題を解決するもの
で、マスク、ウェハなどの位置ずれ計測範囲を拡大する
ことができ、したがって、最終位置合わせ精度が上がっ
ても、粗合わせテーブルに要求される機械精度負担を軽
減することができ、粗合わせテーブルのコストの低下を
図ることができるようにした位置合わせ装置を提供する
ことを目的とするものである。
号は回折格子１０８ 、１０９のピッチの半分を一周期
とする周期信号となり、粗合わせチーフルはこの周期の
範囲内にウェハ１０７とマスク１０６を位置合わせしな
ければならず、最終的な位置合わせ精度を上げようとす
ればするほど、粗合わせテーブルの精度負担が重くなる
という課題があった０ 本発明は、従来技術のμ上のような課題を解決するもの
で、マスク、ウェハなどの位置ずれ計測範囲を拡大する
ことができ、したがって、最終位置合わせ精度が上がっ
ても、粗合わせテーブルに要求される機械精度負担を軽
減することができ、粗合わせテーブルのコストの低下を
図ることができるようにした位置合わせ装置を提供する
ことを目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明の技術的手段は、ピッ
チの異なる２つの回折格子を有し、可干渉な光束をそれ
ぞれ２分割するバーニア型基準回折格子と、２分割され
た回折光を集光する照明レンズと、第１と第２の物体に
それぞれ設けられ、ピッチが異なり、近接した２つの回
折格子を有し、上記照明レンズによる各２分割された回
折光の照射により上記各回折格子から回折光を生じる第
１と第２のバーニア型回折格子と、これら第１と第２の
バーニア型回折格子の各回折格子より生じる回折角が等
しい回折光を集光する正のパワーを有するレンズと、こ
のレンズにより結像された各回折光を受光する分割型フ
ォトディテクタを具備したものである。
チの異なる２つの回折格子を有し、可干渉な光束をそれ
ぞれ２分割するバーニア型基準回折格子と、２分割され
た回折光を集光する照明レンズと、第１と第２の物体に
それぞれ設けられ、ピッチが異なり、近接した２つの回
折格子を有し、上記照明レンズによる各２分割された回
折光の照射により上記各回折格子から回折光を生じる第
１と第２のバーニア型回折格子と、これら第１と第２の
バーニア型回折格子の各回折格子より生じる回折角が等
しい回折光を集光する正のパワーを有するレンズと、こ
のレンズにより結像された各回折光を受光する分割型フ
ォトディテクタを具備したものである。
作 用
本発明、上記構成により次のような作用を有する。
可干渉な光をバーニア型基準回折格子のピッチの異なる
２つの回折格子によりそれぞれ分割し。
２つの回折格子によりそれぞれ分割し。
各２分割した回折光を照明レンズにより集光し、第１と
第２の物体に設けられた第１と第２のバーニア型回折格
子におけるピッチを異にする近接した２つの回折格子に
より回折光を生じさせ、各回折光を結像レンズにより分
割型フォトディテクタに集光させることにより、第１と
第２の物体の位置ずれに対応した信号を得てこの周期の
差により第１と第２の物体の位置ずれ計測範囲を拡大す
ることができる。
第２の物体に設けられた第１と第２のバーニア型回折格
子におけるピッチを異にする近接した２つの回折格子に
より回折光を生じさせ、各回折光を結像レンズにより分
割型フォトディテクタに集光させることにより、第１と
第２の物体の位置ずれに対応した信号を得てこの周期の
差により第１と第２の物体の位置ずれ計測範囲を拡大す
ることができる。
実施例
以下１本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図ないし第５図は本発明の一実施例における位置合
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図は
バーニア型基準回折格子の拡大斜視図、第３図はマスク
とウェハのバーニア型回折格子の拡大斜視図、第４図は
分割型フォトディテクタの拡大斜視図、第５図は信号処
理動作の説明図である。
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図は
バーニア型基準回折格子の拡大斜視図、第３図はマスク
とウェハのバーニア型回折格子の拡大斜視図、第４図は
分割型フォトディテクタの拡大斜視図、第５図は信号処
理動作の説明図である。
第１図において、１はマスクであり、マスク搬送手段（
図示省略）により搬送され、光学手段（図示省略）等に
より調整されて露光位置に配置される。２はウェハであ
り、ウェハ搬送手段（図示省略）により搬送され、光学
手段（図示省略）等によりウエノ・ステージ３上に粗い
（ｌｆｆｌ置決めが行われる。ウェハステージ３は駆動
手段（図示省略）によりＸ、Ｙの直交方向に移動される
と共に、θ方向に回転される０４は可干渉な光束を出射
するレーザ、５はレーザ４から出射された光束を反射す
るミラー ６は反射された光束をそれぞれ２分割するバ
ーニア型基準回折格子であり、第２図に示すように微妙
にピッチの異なる２つの回折格子６１と６２が互いに近
接して平行に設けられている。
図示省略）により搬送され、光学手段（図示省略）等に
より調整されて露光位置に配置される。２はウェハであ
り、ウェハ搬送手段（図示省略）により搬送され、光学
手段（図示省略）等によりウエノ・ステージ３上に粗い
（ｌｆｆｌ置決めが行われる。ウェハステージ３は駆動
手段（図示省略）によりＸ、Ｙの直交方向に移動される
と共に、θ方向に回転される０４は可干渉な光束を出射
するレーザ、５はレーザ４から出射された光束を反射す
るミラー ６は反射された光束をそれぞれ２分割するバ
ーニア型基準回折格子であり、第２図に示すように微妙
にピッチの異なる２つの回折格子６１と６２が互いに近
接して平行に設けられている。
７はマスク１に設けられた第１のバーニア型回折格子、
８はウェハ２に設けられた第２のバーニア型回折格子で
あり、これら第１と第２のバーニア型回折格子７と８は
第３図に示すようにそれぞれピッチを微妙に異にし、互
いに接近して平行な２つの回折格子７１ 、７２と８１
．８２とからなる。９は照明レンズであり、バーニア型
基準回折格子６の各回折格子６１ 、６２で分割された
２つの光束を集光し、第１と第２のバーニア型回折格子
７と８の回折格子７１ 、７２と８１．８２に特定の角
度で照射する。１０は正のパワーを有する結像レンズで
あり、第１と第２のバーニア型回折格子７と８の各回折
格子７１ 、７２と８１ 、８２から生じ、回折角が等
しい回折光を集光する。１１は結像レンズ１０により結
像されたバーニア型回折格子７と８の回折格子７１ 、
７２と８１ 、８２の像を反射するミラー１２は反射さ
れた像を検出する４分割型フォトディテクタであり、第
４図に示すように４つの受光素子１２ａを有する。１３
は４分割フォトディテクタ１２で検出された信号をマス
ク１とウェハ２の位置ずれ信号に変換する信号処理装置
である。
８はウェハ２に設けられた第２のバーニア型回折格子で
あり、これら第１と第２のバーニア型回折格子７と８は
第３図に示すようにそれぞれピッチを微妙に異にし、互
いに接近して平行な２つの回折格子７１ 、７２と８１
．８２とからなる。９は照明レンズであり、バーニア型
基準回折格子６の各回折格子６１ 、６２で分割された
２つの光束を集光し、第１と第２のバーニア型回折格子
７と８の回折格子７１ 、７２と８１．８２に特定の角
度で照射する。１０は正のパワーを有する結像レンズで
あり、第１と第２のバーニア型回折格子７と８の各回折
格子７１ 、７２と８１ 、８２から生じ、回折角が等
しい回折光を集光する。１１は結像レンズ１０により結
像されたバーニア型回折格子７と８の回折格子７１ 、
７２と８１ 、８２の像を反射するミラー１２は反射さ
れた像を検出する４分割型フォトディテクタであり、第
４図に示すように４つの受光素子１２ａを有する。１３
は４分割フォトディテクタ１２で検出された信号をマス
ク１とウェハ２の位置ずれ信号に変換する信号処理装置
である。
次に上記実施例の動作について説明する。
レーザ４から出射した可干渉な光は、ミラー５によりバ
ーニア型基準回折格子６に反射される。
ーニア型基準回折格子６に反射される。
第２図に示すようにバーニア基準回折格子６０回折格子
６１と６２のピッチはそれぞれＰとａＰに設定されてい
る（本実施例ではａ＝１．１）。そして上記可干渉な光
は回折格子６１と回折格子６２の両方だ照射され、その
結果、２分割された１次回折光６３ 、６４と６５ 、
６６を生じる。第３図に示すようにマスク１の第１のバ
ーニア型回折格子７の回折格子７１と７２およびウェハ
２の第２のバーニア型回折格子８の回折格子８１と８２
のピンチは上記と同様にそれぞれＰとａＰに設定されて
いる。第２図に示した１次回折光６３と６４は照明レン
ズ９によりマスク１の回折格子７１、ウエノ・２の回折
格子８１上に集光され、回折光７３ 、８３を生じる。
６１と６２のピッチはそれぞれＰとａＰに設定されてい
る（本実施例ではａ＝１．１）。そして上記可干渉な光
は回折格子６１と回折格子６２の両方だ照射され、その
結果、２分割された１次回折光６３ 、６４と６５ 、
６６を生じる。第３図に示すようにマスク１の第１のバ
ーニア型回折格子７の回折格子７１と７２およびウェハ
２の第２のバーニア型回折格子８の回折格子８１と８２
のピンチは上記と同様にそれぞれＰとａＰに設定されて
いる。第２図に示した１次回折光６３と６４は照明レン
ズ９によりマスク１の回折格子７１、ウエノ・２の回折
格子８１上に集光され、回折光７３ 、８３を生じる。
一方、第２図に示した回折光６５と６６も照明レンズ９
によりマスクｌの回折格子７２、ウエノ１の回折格子８
２上に集光され、回折光７４ 、８４を生じる。バーニ
ア型基準回折格子６により生じる回折光６３．６４と６
５ 、６６のなす角は異なっているが、照射レンズ９を
用いているため、マスク１、ウェハ２上の同一位置の回
折格子に集光することができる。回折光７３ 、８３％
７４ 、８４は結像レンズ１０によりミラー１１を介し
て第４図に示す４分割型フォトディテクタ１２に受光素
子１２ａにそれぞれ集光される。信号処理装＃１３は本
実施例では、回折光の位相遅れを検出できるようにヘテ
ロダイン検波方式を用いている。したがって、第５図に
示すようにマスク１とウエノＳ２の位置ずれＸに対応し
て信号Ｂ （Ｘ）、Ｃ（Ｘ）が得られる。Ｂ （Ｘ）は
周期Ｌ）／２で繰り返す周期信号であり、Ｃ（Ｘ）は周
期ａ Ｐ ／ ２で繰り返す周期信号である。このため
、この周期以上の位置ずれは計測することができない。
によりマスクｌの回折格子７２、ウエノ１の回折格子８
２上に集光され、回折光７４ 、８４を生じる。バーニ
ア型基準回折格子６により生じる回折光６３．６４と６
５ 、６６のなす角は異なっているが、照射レンズ９を
用いているため、マスク１、ウェハ２上の同一位置の回
折格子に集光することができる。回折光７３ 、８３％
７４ 、８４は結像レンズ１０によりミラー１１を介し
て第４図に示す４分割型フォトディテクタ１２に受光素
子１２ａにそれぞれ集光される。信号処理装＃１３は本
実施例では、回折光の位相遅れを検出できるようにヘテ
ロダイン検波方式を用いている。したがって、第５図に
示すようにマスク１とウエノＳ２の位置ずれＸに対応し
て信号Ｂ （Ｘ）、Ｃ（Ｘ）が得られる。Ｂ （Ｘ）は
周期Ｌ）／２で繰り返す周期信号であり、Ｃ（Ｘ）は周
期ａ Ｐ ／ ２で繰り返す周期信号である。このため
、この周期以上の位置ずれは計測することができない。
そこで、信号Ｂ （Ｘ）とＣ（Ｘ）の差を取ると、この
匝はＰ／２÷（ａ−１）の周期信号となり、本実施例で
は、ａ＝１．１であるので、Ｐ／２の１０倍の範囲で立
置ずれを計測することが可能となる。
匝はＰ／２÷（ａ−１）の周期信号となり、本実施例で
は、ａ＝１．１であるので、Ｐ／２の１０倍の範囲で立
置ずれを計測することが可能となる。
このように本実施例によれば、位置ずれの計測範囲を容
易に拡大することができるので、ウェハ２とマスク１を
位置ずれ計測範囲内に位置決めするための粗合わせテー
ブルに対する精度要求が緩やかになる。このため、粗合
わせテーブルの構成を簡単にすることができ、コストを
低下させることができる。また、将来予想される更に高
い位置合わせ精度要求に対しても、粗合わせテーブルを
現状の精度のままで使用することができるので、大変有
効である。
易に拡大することができるので、ウェハ２とマスク１を
位置ずれ計測範囲内に位置決めするための粗合わせテー
ブルに対する精度要求が緩やかになる。このため、粗合
わせテーブルの構成を簡単にすることができ、コストを
低下させることができる。また、将来予想される更に高
い位置合わせ精度要求に対しても、粗合わせテーブルを
現状の精度のままで使用することができるので、大変有
効である。
発明の詳細
な説明したように本発明によれば、可干渉な光をバーニ
ア型基準回折格子のピッチの異なる２つの回折格子によ
りそれぞれ分割し、各２分割した回折光を照明レンズに
より集光し、第１と第２の物体に設けられた第１と第２
のバーニア型回折格子におけるピッチを異にする近接し
た２つの回折格子により回折光を生じさせ、各回折光を
結像レンズにより分割型フォトディテクタに集光させる
ことにより、第１と第２の物体の位置ずれに対応した信
号を得てこの周期の差により第１と第２の物体の位置ず
れ計測範囲を拡大することができる。このように、第１
と第２の物体であるマスクとウェハなどの位置ずれ計測
範囲を大きくすることができることにより、マスクとウ
ェハなどを位置ずれ計測範囲内に位置決めするための粗
合わせテーブルに要求される機械精度要求を低くするこ
とができる。したがって、粗合わせテーブルのコストを
低下させることができ、また、将来位置合わせ精度が高
まっても粗合わせテーブルに対する負担を軽減すること
ができる０
ア型基準回折格子のピッチの異なる２つの回折格子によ
りそれぞれ分割し、各２分割した回折光を照明レンズに
より集光し、第１と第２の物体に設けられた第１と第２
のバーニア型回折格子におけるピッチを異にする近接し
た２つの回折格子により回折光を生じさせ、各回折光を
結像レンズにより分割型フォトディテクタに集光させる
ことにより、第１と第２の物体の位置ずれに対応した信
号を得てこの周期の差により第１と第２の物体の位置ず
れ計測範囲を拡大することができる。このように、第１
と第２の物体であるマスクとウェハなどの位置ずれ計測
範囲を大きくすることができることにより、マスクとウ
ェハなどを位置ずれ計測範囲内に位置決めするための粗
合わせテーブルに要求される機械精度要求を低くするこ
とができる。したがって、粗合わせテーブルのコストを
低下させることができ、また、将来位置合わせ精度が高
まっても粗合わせテーブルに対する負担を軽減すること
ができる０
【図面の簡単な説明】
第１図ないし第５図は本発明の一実施例における位置合
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図は
バーニア型基準回折格子の拡大斜視図、第３図はマスク
とウェハのバーニア型回折格子の拡大斜視図、第４図は
分割型フォトディテクタの拡大斜視図、第５図は信号処
理動作の説明図、第６図は従来の位置合わせ装置を示す
概略斜視図である。 １・・・マスク、２・・・ウェハ ３・・・ウェハステ
ージ、４・・・レーザ、６・・・バーニア型基準回折格
子、７・・・第１のバーニア型回折格子、８−・第２の
バーニア型回折格子、９・・・照明レンズ、１０・・・
結像レンズ。 １２・・・４分割型フォトディテクタ、１３・・・信号
処理装置、６１．６２．７１．７２．８１．８２・・・
回折格子。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第２
図 旦 第 ｊ 図 第５ 図 ＼ ５２可耽り マス７ ？７幻＼召唖で立ｌ 第 図 第・３ 図
わせ装置を示し、第１図は全体の概略斜視図、第２図は
バーニア型基準回折格子の拡大斜視図、第３図はマスク
とウェハのバーニア型回折格子の拡大斜視図、第４図は
分割型フォトディテクタの拡大斜視図、第５図は信号処
理動作の説明図、第６図は従来の位置合わせ装置を示す
概略斜視図である。 １・・・マスク、２・・・ウェハ ３・・・ウェハステ
ージ、４・・・レーザ、６・・・バーニア型基準回折格
子、７・・・第１のバーニア型回折格子、８−・第２の
バーニア型回折格子、９・・・照明レンズ、１０・・・
結像レンズ。 １２・・・４分割型フォトディテクタ、１３・・・信号
処理装置、６１．６２．７１．７２．８１．８２・・・
回折格子。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか１名第２
図 旦 第 ｊ 図 第５ 図 ＼ ５２可耽り マス７ ？７幻＼召唖で立ｌ 第 図 第・３ 図
Claims (1)
- ピッチの異なる２つの回折格子を有し、可干渉な光束
をそれぞれ２分割するバーニア型基準回折格子と、２分
割された回折光を集光する照明レンズと、第１と第２の
物体にそれぞれ設けられ、ピッチが異なり、近接した２
つの回折格子を有し、上記照明レンズによる各２分割さ
れた回折光の照射により上記各回折格子から回折光を生
じる第１と第２のバーニア型回折格子と、これら第１と
第２のバーニア型回折格子の各回折格子より生じる回折
角が等しい回折光を集光する正のパワーを有するレンズ
と、このレンズにより結像された各回折光を受光する分
割型フォトディテクタを具備した位置合わせ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63248141A JPH0295203A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63248141A JPH0295203A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 位置合わせ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295203A true JPH0295203A (ja) | 1990-04-06 |
Family
ID=17173834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63248141A Pending JPH0295203A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0295203A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040005216A (ko) * | 2002-07-09 | 2004-01-16 | 오수익 | 두 극소 대상물의 정렬을 위한 이미지획득시스템 |
| JP2012220458A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Canon Inc | エンコーダ |
| US9121731B2 (en) | 2011-04-14 | 2015-09-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Encoder having a scale with two areas in which an increasing direction of the amplitude of the energy distribution is opposite between the two areas for precisely obtaining a position of the scale |
| US9354089B2 (en) | 2011-04-14 | 2016-05-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Encoder |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63248141A patent/JPH0295203A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040005216A (ko) * | 2002-07-09 | 2004-01-16 | 오수익 | 두 극소 대상물의 정렬을 위한 이미지획득시스템 |
| JP2012220458A (ja) * | 2011-04-14 | 2012-11-12 | Canon Inc | エンコーダ |
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