JPH0295808A - 磁気ヘッド用スライダの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド用スライダの製造方法Info
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- JPH0295808A JPH0295808A JP24941488A JP24941488A JPH0295808A JP H0295808 A JPH0295808 A JP H0295808A JP 24941488 A JP24941488 A JP 24941488A JP 24941488 A JP24941488 A JP 24941488A JP H0295808 A JPH0295808 A JP H0295808A
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- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、磁気ディスクに記録・再生を行うための浮
上式の磁気ヘッドに採用される磁気ヘッド用スライダの
製造方法に関する。
上式の磁気ヘッドに採用される磁気ヘッド用スライダの
製造方法に関する。
[従来の技術]
従来より、磁気ディスクに記録・再生を行う浮上式磁気
ヘッドとしては、ヘッドコアとスライタにMn−Znフ
ェライト等の焼結フェライトを用いたモノリシックタイ
プのものが広く一般に用いられている。
ヘッドとしては、ヘッドコアとスライタにMn−Znフ
ェライト等の焼結フェライトを用いたモノリシックタイ
プのものが広く一般に用いられている。
以下、このモノリシックタイプの磁気ヘッドの製造方法
を簡略に説明すれば、まずMn−Znフェライト等の焼
結フェライトからなる素材ブロックを機械加工により切
断して平板状をなすスライダブロック、及び断面略コ字
状をなすヘッドコアブロックを成形し、続いてスライダ
ブロックの一側面にヘッドコアブロックをガラス接合す
る。ついで、ヘッドコアブロックをスライダブロックと
の接合面に沿って所定の間隔で切り欠いて所定のコア幅
のへソドコアを複数成形し、この後、スライダブロック
のリジットディスクと対向する面に、浮動性を上げるた
めの負圧溝をヘッドコアの接合方向に沿って多数加工す
る。そして、スライダブロックの表面にラッピングを施
してその面粗度を改善した後、スライダブロックを粒度
400〜800番の砥石により各ヘッドコアの接合面と
直交する方向にスライスして複数のスライダを得る。
を簡略に説明すれば、まずMn−Znフェライト等の焼
結フェライトからなる素材ブロックを機械加工により切
断して平板状をなすスライダブロック、及び断面略コ字
状をなすヘッドコアブロックを成形し、続いてスライダ
ブロックの一側面にヘッドコアブロックをガラス接合す
る。ついで、ヘッドコアブロックをスライダブロックと
の接合面に沿って所定の間隔で切り欠いて所定のコア幅
のへソドコアを複数成形し、この後、スライダブロック
のリジットディスクと対向する面に、浮動性を上げるた
めの負圧溝をヘッドコアの接合方向に沿って多数加工す
る。そして、スライダブロックの表面にラッピングを施
してその面粗度を改善した後、スライダブロックを粒度
400〜800番の砥石により各ヘッドコアの接合面と
直交する方向にスライスして複数のスライダを得る。
そして、各スライダ表面及びヘッドコアのエツジに所定
の面取り加工を施すことによりモノリシックタイプの磁
気ヘッドが同時に複数製造されるのである。
の面取り加工を施すことによりモノリシックタイプの磁
気ヘッドが同時に複数製造されるのである。
し発明が解決しようとする課題]
ところで、このようにして製造される従来の磁気ヘッド
においては、スライダがヘッドコアと同じく粉体を原料
とする焼結フェライト等から製造されるためスライダ表
層部の粒子が脱落しやすい欠点があった。この脱落粒子
が磁気記憶媒体である磁気ディスクに付着した場合には
、磁気ヘッドと磁気ディスクとの隙間に脱落粒子が挟ま
れてディスク表面の磁性層か破壊されるいわゆるヘッド
クラ、シュが誘発されることがあり、このヘッドクラノ
/ユは狭トランク化、高密度記録化に伴って磁気ヘッド
の浮上量が小さくなるにつれ、より発生頻度が増大し、
その解決が強く望まれていた。
においては、スライダがヘッドコアと同じく粉体を原料
とする焼結フェライト等から製造されるためスライダ表
層部の粒子が脱落しやすい欠点があった。この脱落粒子
が磁気記憶媒体である磁気ディスクに付着した場合には
、磁気ヘッドと磁気ディスクとの隙間に脱落粒子が挟ま
れてディスク表面の磁性層か破壊されるいわゆるヘッド
クラ、シュが誘発されることがあり、このヘッドクラノ
/ユは狭トランク化、高密度記録化に伴って磁気ヘッド
の浮上量が小さくなるにつれ、より発生頻度が増大し、
その解決が強く望まれていた。
この発明は、このような背景の下になされたもので、ス
ライダ表層部の脱粒を防止することができる磁気ヘッド
用スライダの製造方法を提供することを目的とする。
ライダ表層部の脱粒を防止することができる磁気ヘッド
用スライダの製造方法を提供することを目的とする。
II課題を解決するための手段]
上記課題を解決すべく、まず発明者らはスライダ表層部
の脱粒発生機構を突き止めるための種々の試験を行い、
スライダ表層部からの粒子の脱粒は、素材ブロックを切
断する際に生じたマイクロクラックが残留応力により成
長して引き起こされるものであること、及び、脱粒は高
温高湿下においてより顕著に発生し、特にマイクロクラ
ック先端部の化学的に反応性の高い面に水分か存在する
場合には、この部分において加水分解反応が生じてマイ
クロクラックの成長が助長され、脱粒の発生が顕著とな
ることを知見するに至った。
の脱粒発生機構を突き止めるための種々の試験を行い、
スライダ表層部からの粒子の脱粒は、素材ブロックを切
断する際に生じたマイクロクラックが残留応力により成
長して引き起こされるものであること、及び、脱粒は高
温高湿下においてより顕著に発生し、特にマイクロクラ
ック先端部の化学的に反応性の高い面に水分か存在する
場合には、この部分において加水分解反応が生じてマイ
クロクラックの成長が助長され、脱粒の発生が顕著とな
ることを知見するに至った。
そこで発明者らは、あらかじめ素材ブロックから切り出
されたスライダブロックを高湿下で熱処理してマイクロ
クラ、りを十分に成長させることこよって、あらかじめ
脱粒の可能性がある粒子を強制的に脱粒させておけばそ
の後の脱粒の発生か減少するものと考察した。そして、
最適な熱処理条件を求めるべく種々の試験を行い、この
結果、あらかじめスライダブロックを温度100〜15
00C1気圧1 、5〜5 kg/cm2、U度60%
以上の条件にて3〜20時間熱処理すれば、後の脱粒発
生率を大幅に低減させ得ることを突き止めた。なお、脱
粒発生率とはスライダ表面1 mm’あたり1個以上の
脱落粒子が発生した場合を100%とするもので、例え
ば表面積100 mm2のスライダから80個の脱落粒
子が生じた場合には脱粒発生率は80%となる。磁気ヘ
ッド用スライダとして使用するには、耐高l昆試験にお
ける脱粒発生率か20%以下であることが要求され、信
頼性を十分に保証する上では5%以下であることが望ま
しい。
されたスライダブロックを高湿下で熱処理してマイクロ
クラ、りを十分に成長させることこよって、あらかじめ
脱粒の可能性がある粒子を強制的に脱粒させておけばそ
の後の脱粒の発生か減少するものと考察した。そして、
最適な熱処理条件を求めるべく種々の試験を行い、この
結果、あらかじめスライダブロックを温度100〜15
00C1気圧1 、5〜5 kg/cm2、U度60%
以上の条件にて3〜20時間熱処理すれば、後の脱粒発
生率を大幅に低減させ得ることを突き止めた。なお、脱
粒発生率とはスライダ表面1 mm’あたり1個以上の
脱落粒子が発生した場合を100%とするもので、例え
ば表面積100 mm2のスライダから80個の脱落粒
子が生じた場合には脱粒発生率は80%となる。磁気ヘ
ッド用スライダとして使用するには、耐高l昆試験にお
ける脱粒発生率か20%以下であることが要求され、信
頼性を十分に保証する上では5%以下であることが望ま
しい。
以下に上述の試験を詳述すれば、まず、熱処理温度の影
響について探るためスライダブロックを気圧3 kg/
cm2、湿度80%以上の環境下において種々の温度で
10時間熱処理し、その後スライダブロックを湯度60
℃、湿度80%の環境下に96時間放置する耐高l晶高
屋環境試験を行ってその時の脱粒発生率を調査したとこ
ろ、第2図に示すように脱粒発生率は処理温度が100
°Cに至るまでは温度上昇に伴って漸減し、toooc
を超えると変化が小さくなって150°でほとんど0と
なることが判明した。
響について探るためスライダブロックを気圧3 kg/
cm2、湿度80%以上の環境下において種々の温度で
10時間熱処理し、その後スライダブロックを湯度60
℃、湿度80%の環境下に96時間放置する耐高l晶高
屋環境試験を行ってその時の脱粒発生率を調査したとこ
ろ、第2図に示すように脱粒発生率は処理温度が100
°Cに至るまでは温度上昇に伴って漸減し、toooc
を超えると変化が小さくなって150°でほとんど0と
なることが判明した。
ついで、熱処理時の気圧の影響について探るためスライ
ダブロックを種々の気圧の下に温度130°C,湿度8
0%以上の条件で10時間熱処理し、その後上記と同一
の耐高温高湿環境試験を行って脱粒発生率を調査したと
ころ、第3図に示すように処理時の気圧を1 kg/c
m’から2kg/am’に上昇させる過程で脱粒発生率
は急減し、これより処理時の気圧を1 、5 kg/c
m’〜5 kg/cm’の範囲に定めれば脱粒発生率を
十分に低減し得ることが判明しすこ。
ダブロックを種々の気圧の下に温度130°C,湿度8
0%以上の条件で10時間熱処理し、その後上記と同一
の耐高温高湿環境試験を行って脱粒発生率を調査したと
ころ、第3図に示すように処理時の気圧を1 kg/c
m’から2kg/am’に上昇させる過程で脱粒発生率
は急減し、これより処理時の気圧を1 、5 kg/c
m’〜5 kg/cm’の範囲に定めれば脱粒発生率を
十分に低減し得ることが判明しすこ。
さらに、熱処理時の湿度の影響を探るため、スライダプ
ロ、りを種々の湿度の下に温度130゜C1気圧3 k
g/am”の条件で10時間熱処理し、その後上記と同
一の耐高温高温環境試験を行って脱粒発生率を調査した
ところ、第4図に示すように湿度が高くなるほど脱粒発
生率が低くなることが突き止められ、これより処理時の
湿度を60%以上とすることが効果的であることが判明
した。
ロ、りを種々の湿度の下に温度130゜C1気圧3 k
g/am”の条件で10時間熱処理し、その後上記と同
一の耐高温高温環境試験を行って脱粒発生率を調査した
ところ、第4図に示すように湿度が高くなるほど脱粒発
生率が低くなることが突き止められ、これより処理時の
湿度を60%以上とすることが効果的であることが判明
した。
そして、最後に処理時間の影響を探るため、スライダブ
ロックを熱処理時間を変化させながら温度130℃、気
圧3 kg/cm”、湿度80%以上の条件で熱処理し
、その後上記と同一の耐高温高湿環境試験を行って脱粒
発生率を調査したところ、第5図に示すように処理時間
が3時間未満の領域ではマイクロクラックの成長が不十
分で脱粒発生率はそれはと改善されず、また、20時間
を超える領域ではその効果に差異かないことが判明し、
以上より脱粒防止には、スライダブロックを温度100
−150℃、気圧1 、5〜5 kg/cm2、湿度6
0%以上の条件にて3〜20時間熱処理すれば良いこと
が突き止められた。
ロックを熱処理時間を変化させながら温度130℃、気
圧3 kg/cm”、湿度80%以上の条件で熱処理し
、その後上記と同一の耐高温高湿環境試験を行って脱粒
発生率を調査したところ、第5図に示すように処理時間
が3時間未満の領域ではマイクロクラックの成長が不十
分で脱粒発生率はそれはと改善されず、また、20時間
を超える領域ではその効果に差異かないことが判明し、
以上より脱粒防止には、スライダブロックを温度100
−150℃、気圧1 、5〜5 kg/cm2、湿度6
0%以上の条件にて3〜20時間熱処理すれば良いこと
が突き止められた。
ところで、このような熱処理を上述のスライダ製造工程
に組み入れる場合、熱処理による表面性状の劣化を考慮
すればラッピングでスライダブロック表面を仕上げる以
前に行わねばならないこととなる。従って、上述の熱処
理はラッピング後のスライダブロック切断加工で生じる
マイクロクラックには効果がなく、切断面からの脱粒の
可能性が僅かに残されることになる。
に組み入れる場合、熱処理による表面性状の劣化を考慮
すればラッピングでスライダブロック表面を仕上げる以
前に行わねばならないこととなる。従って、上述の熱処
理はラッピング後のスライダブロック切断加工で生じる
マイクロクラックには効果がなく、切断面からの脱粒の
可能性が僅かに残されることになる。
そこで、発明者らはさらにスライダブロック切断面から
の脱粒を防止する手段を鋭意検討し、従来梨地状に仕上
げられていた切断面の面粗度を改善すればマイクロクラ
ックの発生を抑止し得ること、より具体的には第6図に
示すようにスライダブロック切断面の面粗度が1μm−
Rmax、以下に仕上げられていれば脱粒発生率が実用
的な範囲である10%以内に止どまることを突き止めた
。
の脱粒を防止する手段を鋭意検討し、従来梨地状に仕上
げられていた切断面の面粗度を改善すればマイクロクラ
ックの発生を抑止し得ること、より具体的には第6図に
示すようにスライダブロック切断面の面粗度が1μm−
Rmax、以下に仕上げられていれば脱粒発生率が実用
的な範囲である10%以内に止どまることを突き止めた
。
そして、この条件を満たす加工条件を種々検討した結果
、粒度1000〜3000番の砥石を切断工具に用い、
この砥石周速を3000〜10000 I!1/+in
、に設定することにより、切断面の面粗度を1μm−R
max、以下に仕上げることができるということが判明
した。
、粒度1000〜3000番の砥石を切断工具に用い、
この砥石周速を3000〜10000 I!1/+in
、に設定することにより、切断面の面粗度を1μm−R
max、以下に仕上げることができるということが判明
した。
[作用]
上記の製造方法においては、まず、スライダブロックの
加工過程で上記熱処理を行うことにより、スライダブロ
ック表層部のマイクロクラックは十分に成長し脱粒の発
生が加速される。このため、熱処理後のスライダブロッ
ク表層部には、脱粒を生ヒさせるマイクロクラックがほ
とんど存在しなくなり脱粒の発生が大幅に減少する。そ
して、スライダブロックの切断を上記条件の下に行うこ
とにより、スライダ切断面が面粗度1μm−Rmax以
内の鏡面に仕上げられて切断面におけるマイクロクラッ
クの発生は抑止され、この結果、スライダ表層部の総て
においてマイクロクラックがほとんど存在しな(なって
脱粒の発生が激減する。
加工過程で上記熱処理を行うことにより、スライダブロ
ック表層部のマイクロクラックは十分に成長し脱粒の発
生が加速される。このため、熱処理後のスライダブロッ
ク表層部には、脱粒を生ヒさせるマイクロクラックがほ
とんど存在しなくなり脱粒の発生が大幅に減少する。そ
して、スライダブロックの切断を上記条件の下に行うこ
とにより、スライダ切断面が面粗度1μm−Rmax以
内の鏡面に仕上げられて切断面におけるマイクロクラッ
クの発生は抑止され、この結果、スライダ表層部の総て
においてマイクロクラックがほとんど存在しな(なって
脱粒の発生が激減する。
[実施例]
以下、第1図(a)〜(g)を参照して、本発明をモノ
リフツクタイプの磁気ヘッドの製造に適用した実施例に
ついて説明する。
リフツクタイプの磁気ヘッドの製造に適用した実施例に
ついて説明する。
まず、本実施例における磁気ヘッドの製造工程を詳述す
ると、第1図(a)に示すように、本実施例の磁気ヘッ
ドの製造では、平板状をなす素材ブロック1を原材料と
して用いる。この素材ブロック1は焼結フェライトから
なるもので、その製造手順を簡略に説明すると、まず、
原料である酸化物や炭酸塩などの粉末(例えば、α−F
e、O、、M H304、M n CO3、Zn0)
をフェライトの分子成分比に秤量し、これを機械的に混
合して900〜1200°Cで加熱することにより、以
下の反応を生じさせてフェライトを生成する。
ると、第1図(a)に示すように、本実施例の磁気ヘッ
ドの製造では、平板状をなす素材ブロック1を原材料と
して用いる。この素材ブロック1は焼結フェライトから
なるもので、その製造手順を簡略に説明すると、まず、
原料である酸化物や炭酸塩などの粉末(例えば、α−F
e、O、、M H304、M n CO3、Zn0)
をフェライトの分子成分比に秤量し、これを機械的に混
合して900〜1200°Cで加熱することにより、以
下の反応を生じさせてフェライトを生成する。
M no + F e、o 、−+ M nF eto
4Z no + F eto 3−+ Z nF e
go 。
4Z no + F eto 3−+ Z nF e
go 。
ついで、生成されたフェライト粉末を適当な可撓性容器
に入れて静圧を与えることにより所要の形状に成形し、
続いて成形された圧粉体を焼結することにより固相反応
を生じさせて所要形状の焼結フェライトを製造する。な
お、成形時に熱間静水プレスを行う場合にはより高密度
のフェライトが得られる。また、フェライト粉末、の製
造方法としては液相反応によるものでも良く、ホットプ
レス法により成形と焼結を同時に行っても良い。
に入れて静圧を与えることにより所要の形状に成形し、
続いて成形された圧粉体を焼結することにより固相反応
を生じさせて所要形状の焼結フェライトを製造する。な
お、成形時に熱間静水プレスを行う場合にはより高密度
のフェライトが得られる。また、フェライト粉末、の製
造方法としては液相反応によるものでも良く、ホットプ
レス法により成形と焼結を同時に行っても良い。
このようにして製造された素材ブロック1から磁気ヘッ
ドを製造するには、まず、第1図(b)に示すように素
材ブロック1を粒度400〜600番の砥石を用いてス
ライダブロック2とコアブロック3とに切断し、ついで
第1図(C)に示すようにコアブロック3の切断面に溝
3aを加工し、この後、スライダブロック2及びコアブ
ロック3の切断面を研摩すると共にギャップ形成用のS
iO2などをスパッタリングで成膜する。そして、第1
図(d)に示すように、スライダブロック2の切断面に
コアブロック3の切断面を突き合わせてこれらをガラス
物質4により接合する。なお、このガラス物質4は、通
常のガラス物質(例えば5i01など)に比して融点が
遥かに低い、いわゆる低融点ガラスであり、そのボンデ
ィング81度は300〜500°Cである。
ドを製造するには、まず、第1図(b)に示すように素
材ブロック1を粒度400〜600番の砥石を用いてス
ライダブロック2とコアブロック3とに切断し、ついで
第1図(C)に示すようにコアブロック3の切断面に溝
3aを加工し、この後、スライダブロック2及びコアブ
ロック3の切断面を研摩すると共にギャップ形成用のS
iO2などをスパッタリングで成膜する。そして、第1
図(d)に示すように、スライダブロック2の切断面に
コアブロック3の切断面を突き合わせてこれらをガラス
物質4により接合する。なお、このガラス物質4は、通
常のガラス物質(例えば5i01など)に比して融点が
遥かに低い、いわゆる低融点ガラスであり、そのボンデ
ィング81度は300〜500°Cである。
スライダブロック2とコアブロック3を接合したら、こ
れらの上下面を一体的に研摩して所定の厚さに成形し、
ついて、第1図(e)に示すようにコアブロック3を所
定幅に加工してヘッドコア5を成形した後、第1図(f
)に示すように、スライダブロック2の上面に、当該磁
気ヘッドをリジットディスクに対して浮上させるための
負圧溝6を成形する。
れらの上下面を一体的に研摩して所定の厚さに成形し、
ついて、第1図(e)に示すようにコアブロック3を所
定幅に加工してヘッドコア5を成形した後、第1図(f
)に示すように、スライダブロック2の上面に、当該磁
気ヘッドをリジットディスクに対して浮上させるための
負圧溝6を成形する。
そして、この後上記スライダブロック2の表面をラッピ
ングし、続いて第1図(g)に示すようにスライダブロ
ック2をヘッドコア5との接合面に沿って所定間隔で逐
次スライスして複数のスライダ7に分断し、この後へラ
ドコア5及びスライダ7の表面に所定の面取り加工を施
してスライダ7の製造が完了する。
ングし、続いて第1図(g)に示すようにスライダブロ
ック2をヘッドコア5との接合面に沿って所定間隔で逐
次スライスして複数のスライダ7に分断し、この後へラ
ドコア5及びスライダ7の表面に所定の面取り加工を施
してスライダ7の製造が完了する。
以上のような磁気ヘッドの製造過程において、上記負圧
溝6を成形した後スライダブロック2の表面にラッピン
グを施す以前に、スライダブロック2及びヘッドコア3
を、温度133℃、気圧3 kg/cm”、湿度1.0
0%の条件下で10時間熱処理し、また、スライダブロ
ック2を切断する際に切断工具として粒度2000番の
砥石を用い、この砥石周速を5000 m/min、、
砥石切込み速度をl mm/sec、に設定して切断加
工を行った。そして、この後スライダ7を温度80’C
,湿度90%の環境下に24時間力父装する耐高温高湿
試験を行ったところ、その脱粒発生率は0.6%程度の
極めて低い値を示し、従来の製造方法により製造された
スライダに同一の試験を施した際の脱粒発生率が51.
5%であったことと比較して著しい脱粒抑制効果が確認
された。これは、熱処理により素材ブロックlからスラ
イダブロック2を切り出す際に生成されるマイクロクラ
ックが成長し尽くして後に脱落の可能性があった粒子の
ほとんどが熱処理時に脱落してしまい、さらに、スライ
ダブロック2からスライダ7を分断する際に切断面が面
粗度1μm−Rmax、以内の鏡面に仕上げられてマイ
クロクラックの発生が抑止されたためにマイクロクラッ
クの成長による脱粒の発生が激減したものと考えられる
。
溝6を成形した後スライダブロック2の表面にラッピン
グを施す以前に、スライダブロック2及びヘッドコア3
を、温度133℃、気圧3 kg/cm”、湿度1.0
0%の条件下で10時間熱処理し、また、スライダブロ
ック2を切断する際に切断工具として粒度2000番の
砥石を用い、この砥石周速を5000 m/min、、
砥石切込み速度をl mm/sec、に設定して切断加
工を行った。そして、この後スライダ7を温度80’C
,湿度90%の環境下に24時間力父装する耐高温高湿
試験を行ったところ、その脱粒発生率は0.6%程度の
極めて低い値を示し、従来の製造方法により製造された
スライダに同一の試験を施した際の脱粒発生率が51.
5%であったことと比較して著しい脱粒抑制効果が確認
された。これは、熱処理により素材ブロックlからスラ
イダブロック2を切り出す際に生成されるマイクロクラ
ックが成長し尽くして後に脱落の可能性があった粒子の
ほとんどが熱処理時に脱落してしまい、さらに、スライ
ダブロック2からスライダ7を分断する際に切断面が面
粗度1μm−Rmax、以内の鏡面に仕上げられてマイ
クロクラックの発生が抑止されたためにマイクロクラッ
クの成長による脱粒の発生が激減したものと考えられる
。
なお、以上の実施例においては特に熱処理を負圧溝6の
成形後に行っているが、本発明はこれに限るものではな
く、素材ブロック1からの切断直後に熱処理を行っても
十分な効果が期待できる。
成形後に行っているが、本発明はこれに限るものではな
く、素材ブロック1からの切断直後に熱処理を行っても
十分な効果が期待できる。
また、以上の説明では特に焼結フェライトを原料とする
モノリシックタイプの磁気ヘッドを対象としているが、
本発明はこれに限定されるものではな(、例えば薄膜磁
気へノドに用いられるセラミックス製のスライダの製造
にも当然に適用され、またコンポジットタイプの磁気ヘ
ッドであってもスライダの材料にセラミックスを用いる
場合には当然適用されるものである。
モノリシックタイプの磁気ヘッドを対象としているが、
本発明はこれに限定されるものではな(、例えば薄膜磁
気へノドに用いられるセラミックス製のスライダの製造
にも当然に適用され、またコンポジットタイプの磁気ヘ
ッドであってもスライダの材料にセラミックスを用いる
場合には当然適用されるものである。
また、粒度1000〜3000番の砥石の粒径について
は、J l5−R6001によれば粒子平均径の平均が
18〜4.7μmの範囲にあることとされているが、現
実的には粒子平均径の平均が20〜2μmの範囲であれ
ば概ね妥当なものであると考えられる。
は、J l5−R6001によれば粒子平均径の平均が
18〜4.7μmの範囲にあることとされているが、現
実的には粒子平均径の平均が20〜2μmの範囲であれ
ば概ね妥当なものであると考えられる。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明は、スライダブロックを
加工する過程で、スライダブロックを温度100〜15
0℃、気圧1 、5〜5 kg/cm2、湿度60%以
上の条件にて3〜20時間熱処理することにより、スラ
イダブロック表層部のマイクロクラックを十分に成長さ
せて後に脱落の可能性のある粒子をあらかじめ強制的に
脱落させ、さらには熱処理後のスライダブロック切断加
工を、粒度1000〜3000番の砥石を切断工具に用
い、この砥石周速を3000〜10000 m/min
、に設定して行うことにより、スライダブロック切断面
を面粗度1μm−R+++ax、以下の鏡面に仕上げて
切断に伴うマイクロクラックの発生を抑止するものであ
るから、スライダ表層部の総てにおいてマイクロクラッ
クが存在しなくなって脱粒の発生が激減するという優れ
た効果を奏する。
加工する過程で、スライダブロックを温度100〜15
0℃、気圧1 、5〜5 kg/cm2、湿度60%以
上の条件にて3〜20時間熱処理することにより、スラ
イダブロック表層部のマイクロクラックを十分に成長さ
せて後に脱落の可能性のある粒子をあらかじめ強制的に
脱落させ、さらには熱処理後のスライダブロック切断加
工を、粒度1000〜3000番の砥石を切断工具に用
い、この砥石周速を3000〜10000 m/min
、に設定して行うことにより、スライダブロック切断面
を面粗度1μm−R+++ax、以下の鏡面に仕上げて
切断に伴うマイクロクラックの発生を抑止するものであ
るから、スライダ表層部の総てにおいてマイクロクラッ
クが存在しなくなって脱粒の発生が激減するという優れ
た効果を奏する。
第1図(a)ないし第1図(g)は本発明の一実施例に
おけるモノリンツクタイプ磁気ヘッドの製造手順を示す
図、第2図は熱処理温度と熱処理後の環境試験における
脱粒発生率との関係を示す図、第3図は熱処理時の気圧
と熱処理後の環境試験における脱粒発生率との関係を示
す図、第4図は熱処理時の湿度と熱処理後の環境試験に
おける脱粒発生率との関係を示す図、第5図は熱処理時
間と熱処理後の環境試験における脱粒発生率との関係を
示す図、そして、第6図はスライダ表面の面粗度と脱粒
発生率との関係を示す図である。 ■・・・・・・素材ブロック、2・・・・・・スライダ
ブロック、7・・・・・・スライダ。
おけるモノリンツクタイプ磁気ヘッドの製造手順を示す
図、第2図は熱処理温度と熱処理後の環境試験における
脱粒発生率との関係を示す図、第3図は熱処理時の気圧
と熱処理後の環境試験における脱粒発生率との関係を示
す図、第4図は熱処理時の湿度と熱処理後の環境試験に
おける脱粒発生率との関係を示す図、第5図は熱処理時
間と熱処理後の環境試験における脱粒発生率との関係を
示す図、そして、第6図はスライダ表面の面粗度と脱粒
発生率との関係を示す図である。 ■・・・・・・素材ブロック、2・・・・・・スライダ
ブロック、7・・・・・・スライダ。
Claims (1)
- セラミックス製の素材ブロックから切り出されたスライ
ダブロックに、製造すべきスライダ所定の加工を複数並
行に施した後、前記スライダを切断して複数のスライダ
を得る磁気ヘッド用スライダの製造方法において、前記
スライダブロックを加工する過程で前記スライダブロッ
クを温度100〜150℃、気圧1.5〜5kg/cm
^2、湿度60%以上の条件にて3〜20時間熱処理し
、前記スライダブロックの切断を、粒度1000〜30
00番の砥石を切断工具として、この砥石周速を300
0〜10000m/min.に設定して行うことを特徴
とする磁気ヘッド用スライダの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24941488A JPH0295808A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 磁気ヘッド用スライダの製造方法 |
| US07/416,215 US4951381A (en) | 1988-10-03 | 1989-10-02 | Method of manufacturing a magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24941488A JPH0295808A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 磁気ヘッド用スライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0295808A true JPH0295808A (ja) | 1990-04-06 |
Family
ID=17192620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24941488A Pending JPH0295808A (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 磁気ヘッド用スライダの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0295808A (ja) |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP24941488A patent/JPH0295808A/ja active Pending
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