JPH06101090B2 - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents
浮上型複合磁気ヘッドInfo
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- JPH06101090B2 JPH06101090B2 JP63018382A JP1838288A JPH06101090B2 JP H06101090 B2 JPH06101090 B2 JP H06101090B2 JP 63018382 A JP63018382 A JP 63018382A JP 1838288 A JP1838288 A JP 1838288A JP H06101090 B2 JPH06101090 B2 JP H06101090B2
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- core
- magnetic
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1875—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
- G11B5/1877—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film
- G11B5/1878—"Composite" pole pieces, i.e. poles composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers including at least one magnetic thin film disposed immediately adjacent to the transducing gap, e.g. "Metal-In-Gap" structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/105—Mounting of head within housing or assembling of head and housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置において記録媒体表面よりご
く僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関
し、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な浮上
型複合磁気ヘッドに関する。
く僅かに浮上させて用いる浮上型複合磁気ヘッドに関
し、特に記録再生特性に優れ、かつ平面度の良好な浮上
型複合磁気ヘッドに関する。
〔従来の技術及び問題点〕 磁気ディスク装置での情報の書き込み、読み出しに用い
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許3823416号及
び特公昭57−569号に示されているような浮上型ヘッド
が多く使用されている。この浮上型ヘッドにおいてはス
ライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け、全体は高
透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。
られる磁気ヘッドとしては例えば米国特許3823416号及
び特公昭57−569号に示されているような浮上型ヘッド
が多く使用されている。この浮上型ヘッドにおいてはス
ライダーの後端部に磁気変換ギャップを設け、全体は高
透磁率の酸化物磁性材料で構成されている。
浮上型磁気ヘッドは、磁気ディスクが静止している時に
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触している
が、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク
表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作
用し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの
回転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁
気ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める
時の接触の状況を説明すると、回転数を落としてきた時
にその表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気
ヘッドの浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝
突するとともにその反動でとび上り、またディスク面に
落ちる。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気
ヘッドはディスク上を引きずられるようにして停止す
る。このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐え
る必要があり、その性能をCSS性（Contact Start Sto
p）と呼ぶことが多い。
はスプリングの力で軽く磁気ディスクに接触している
が、磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク
表面の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作
用し、磁気ディスクから浮上する。一方磁気ディスクの
回転を開始する時および止める時には、磁気ヘッドは磁
気ディスク上を摺動する。磁気ディスクの回転を止める
時の接触の状況を説明すると、回転数を落としてきた時
にその表面の空気の流れも次第に遅くなる。そして磁気
ヘッドの浮力が失われた時磁気ヘッドはディスク面に衝
突するとともにその反動でとび上り、またディスク面に
落ちる。このような運動を何度か繰り返した上で、磁気
ヘッドはディスク上を引きずられるようにして停止す
る。このような起動、停止時の衝撃に磁気ヘッドは耐え
る必要があり、その性能をCSS性（Contact Start Sto
p）と呼ぶことが多い。
上記高透磁率酸化物磁性材料であるフェライトで構成さ
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐CSS性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Bsの高いMn−ZnフェライトでもBsは高々
5,000G程度である。
れた浮上型磁気ヘッドは比較的良好な耐CSS性を示す
が、飽和磁束密度が小さく、高保磁力の記録媒体に対し
て充分に記録出来ないという欠点がある。すなわち比較
的飽和磁束密度Bsの高いMn−ZnフェライトでもBsは高々
5,000G程度である。
そこでBsが8,000G以上となるように金属磁性薄膜を磁気
ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドとするのが望ま
しいことがわかった。この例として特開昭58−14311号
に開示されているように、フェライトで構成された浮上
型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にのみ高飽和磁束密
度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提案されている。
しかし、この例では磁気変換部に所定の巻線を施した後
のインダクタンスが大きく、そのため共振周波数が低下
し、高周波での記録再生が不利になるという欠点があ
る。ここでインダクタンスが大きいのは磁気ヘッド全体
が磁性体で構成されていることに基づく。従って低イン
ダクタンスとするために磁気回路を小さく構成する必要
がある。このような観点から全体を磁性材料で構成せ
ず、磁気コアを非磁性のスライダー中に埋設固着した構
成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許3,562,444号に開
示された。また本発明者等は特開昭61−199219号にて磁
気コアを非磁性スライダー中に埋設した磁気ヘッドの望
ましい形状について提案した。
ギャップ部に配置した構造の磁気ヘッドとするのが望ま
しいことがわかった。この例として特開昭58−14311号
に開示されているように、フェライトで構成された浮上
型磁気ヘッドの磁気変換ギャップ部にのみ高飽和磁束密
度の金属磁性膜を設けた磁気ヘッドが提案されている。
しかし、この例では磁気変換部に所定の巻線を施した後
のインダクタンスが大きく、そのため共振周波数が低下
し、高周波での記録再生が不利になるという欠点があ
る。ここでインダクタンスが大きいのは磁気ヘッド全体
が磁性体で構成されていることに基づく。従って低イン
ダクタンスとするために磁気回路を小さく構成する必要
がある。このような観点から全体を磁性材料で構成せ
ず、磁気コアを非磁性のスライダー中に埋設固着した構
成の浮上型複合磁気ヘッドが米国特許3,562,444号に開
示された。また本発明者等は特開昭61−199219号にて磁
気コアを非磁性スライダー中に埋設した磁気ヘッドの望
ましい形状について提案した。
以上の点から高保磁力の媒体に対して充分に記録可能で
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Bsの高いMn−Znフェライトを基板
としてギャップ部に高Bsの薄膜磁性材を成膜した磁気コ
アを非磁性スライダー中に埋設したものが優れているこ
とがわかった。このような複合磁気ヘッドの例として本
発明者等により特開昭60−154310号に開示されたものが
ある。
かつインダクタンスの小さな浮上型複合磁気ヘッドを得
るには、飽和磁束密度Bsの高いMn−Znフェライトを基板
としてギャップ部に高Bsの薄膜磁性材を成膜した磁気コ
アを非磁性スライダー中に埋設したものが優れているこ
とがわかった。このような複合磁気ヘッドの例として本
発明者等により特開昭60−154310号に開示されたものが
ある。
さらに埋設される磁気コアのギャップ部の構造としてＸ
型に斜交したものが特開昭61−199217号にて提案され
た。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先端部が
鋭くとがっており、その上に高Bs磁性膜を被着させ平行
に研磨することにより磁気ギャップを形成しているの
で、所定のトラック幅を得るにはある程度高Bs磁性膜の
膜厚を厚くしておかねばならないという制約がある。
型に斜交したものが特開昭61−199217号にて提案され
た。しかしながらこのＸ型構造では各コア片の先端部が
鋭くとがっており、その上に高Bs磁性膜を被着させ平行
に研磨することにより磁気ギャップを形成しているの
で、所定のトラック幅を得るにはある程度高Bs磁性膜の
膜厚を厚くしておかねばならないという制約がある。
また優れた性能の浮上型複合磁気ヘッドを得るには磁気
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。
ディスクの回転時に安定した浮上量をいかに保つかとい
う問題もある。
磁気ディスクが回転している時には、磁気ディスク表面
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれる
が、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低
下しており、Dataquest社発行のComputer Strage Indus
try Service（Rigid Disk Drive編）1984年版2.2−６頁
の記載によると、浮上量は10マイクロインチ（0.25μ
ｍ）にまでなっている。かかるサブミクロンの浮上量を
磁気ディスクの回転中安定して保つためには、特に磁気
ヘッドの空気ベアリング面の平面度を良好に保つ必要が
ある。磁気ヘッドの浮上は、磁気ヘッドの浮上面と記録
媒体との極めて僅かな隙間に流れ込む空気流により達成
されるのであるから、浮上面の平面度が悪いと安定した
浮上を実現し得なくなるからである。
の空気が動いてスライダー下面を持ち上げる力が作用す
る。そのため磁気ヘッドは回転中は浮上し磁気ディスク
から離れている。この離れた間隔は浮上量と呼ばれる
が、磁気ディスク装置の高密度化のため浮上量は年々低
下しており、Dataquest社発行のComputer Strage Indus
try Service（Rigid Disk Drive編）1984年版2.2−６頁
の記載によると、浮上量は10マイクロインチ（0.25μ
ｍ）にまでなっている。かかるサブミクロンの浮上量を
磁気ディスクの回転中安定して保つためには、特に磁気
ヘッドの空気ベアリング面の平面度を良好に保つ必要が
ある。磁気ヘッドの浮上は、磁気ヘッドの浮上面と記録
媒体との極めて僅かな隙間に流れ込む空気流により達成
されるのであるから、浮上面の平面度が悪いと安定した
浮上を実現し得なくなるからである。
上記米国特許3823416号に記載されたような磁気ヘッド
の場合、浮上を司どる空気ベアリング面はNi−Znフェラ
イトあるいはMn−Znフェライトのような単一部材で形成
されているので、良好を平面度を容易に得ることができ
る。しかしながら、非磁性のスライダーに設けられたス
リット中に磁気コアを埋設し、ガラスを用いてその磁気
コアを固着した後に空気ベアリング面を研磨することに
より得られる複合磁気ベッドにおいては、平面度を良好
にするために格別の工夫が必要であることがわかった。
この格別な事情は磁気コア、固着ガラスおよび空気ベア
リング面を完全に同一平面内にあるように研磨すること
が著しく困難であることに起因する。
の場合、浮上を司どる空気ベアリング面はNi−Znフェラ
イトあるいはMn−Znフェライトのような単一部材で形成
されているので、良好を平面度を容易に得ることができ
る。しかしながら、非磁性のスライダーに設けられたス
リット中に磁気コアを埋設し、ガラスを用いてその磁気
コアを固着した後に空気ベアリング面を研磨することに
より得られる複合磁気ベッドにおいては、平面度を良好
にするために格別の工夫が必要であることがわかった。
この格別な事情は磁気コア、固着ガラスおよび空気ベア
リング面を完全に同一平面内にあるように研磨すること
が著しく困難であることに起因する。
従って磁気ディスク用の磁気ヘッドとして望ましい特性
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐CSS性に優れるように良好
な平面度を有することである。
は、（１）高保磁力の記録媒体に対して充分な記録が可
能であり、（２）低インダクタンスであり、（３）高再
生出力を有し、かつ（４）耐CSS性に優れるように良好
な平面度を有することである。
従って本発明の目的は上記望ましい特性を具備する浮上
型複合磁気ヘッドを提供することである。
型複合磁気ヘッドを提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は対向面がそ
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定
し、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設け
て非磁性スライダーのスリット部に固着することによ
り、簡単に加工精度よく、良好な空気ベアリング面の平
面度を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気
ヘッドを得ることができることを発見し、本発明に想到
した。
れぞれ平坦な一対のコア片により磁気コアを構成し、磁
気コアのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きを
設けるとともに、切り欠きの深さを特定の範囲に設定
し、かつ磁気コアの両側に十分な厚さのガラス層を設け
て非磁性スライダーのスリット部に固着することによ
り、簡単に加工精度よく、良好な空気ベアリング面の平
面度を有するとともに上記特性を有する浮上型複合磁気
ヘッドを得ることができることを発見し、本発明に想到
した。
すなわち、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは両側にサイ
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にFe−Al−Si薄膜が形成されており、（ｂ）前記磁気コ
アのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きが磁気
キャップと直角に設けられており、前記切り欠きの深さ
が前記磁気ギャップの深さ以上であるとともに、前記磁
気コアの接合ガラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚
さ以上であり、（ｃ）前記磁気コアの両側がガラスによ
り前記スリット部に固着されていることを特徴とする。
ドレール部を有する非磁性セラミックスからなるスライ
ダーと、前記サイドレール部の一方に設けられたスリッ
ト部と、前記スリット部内にガラスにより固定された一
対のコア片からなる磁気コアとを有し、（ａ）前記一対
のコア片の平坦な対向面が平行に配置されて磁気ギャッ
プを形成しているとともに、前記対向面の少くとも一方
にFe−Al−Si薄膜が形成されており、（ｂ）前記磁気コ
アのトラック面にトラック幅を規制する切り欠きが磁気
キャップと直角に設けられており、前記切り欠きの深さ
が前記磁気ギャップの深さ以上であるとともに、前記磁
気コアの接合ガラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚
さ以上であり、（ｃ）前記磁気コアの両側がガラスによ
り前記スリット部に固着されていることを特徴とする。
本発明を添付図面を参照して以下に詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
の全体構成を示す斜視図である。11は非磁性スライダ
ー、12はスライダー11の一方のサイドレールに設けられ
たスリット部、13はスリット部12に埋設された磁気コ
ア、14はその磁気コア13を固着するガラスである。スラ
イダー11のサイドレール15,16の片側（図では15）の端
部に磁気コア13が固着されているので、安定した浮上を
実現するためには磁気コア13が埋設固着されている部分
の平面度を良好に加工することが重要である。なおスラ
イダー11としては熱膨張係数105〜115×10-7／℃、空孔
率0.5％以下のCaTiO3からなる非磁性セラミックを用い
るのが好ましい。
の全体構成を示す斜視図である。11は非磁性スライダ
ー、12はスライダー11の一方のサイドレールに設けられ
たスリット部、13はスリット部12に埋設された磁気コ
ア、14はその磁気コア13を固着するガラスである。スラ
イダー11のサイドレール15,16の片側（図では15）の端
部に磁気コア13が固着されているので、安定した浮上を
実現するためには磁気コア13が埋設固着されている部分
の平面度を良好に加工することが重要である。なおスラ
イダー11としては熱膨張係数105〜115×10-7／℃、空孔
率0.5％以下のCaTiO3からなる非磁性セラミックを用い
るのが好ましい。
第２図は磁気コア13の拡大斜視図である。21,22はそれ
ぞれMn−ZnフェライトからなるＣ型およびＩ型コア片と
称される磁性体であり、23はＩ型コア片上に被着された
Fe−Al−Si薄膜である。24はＣ型コア片21とＩ型コア片
22との間に形成された巻線用の空間であり、その上部に
Ｃ型コア片21とＩ型コア片22を接合するガラス部25が設
けられている。
ぞれMn−ZnフェライトからなるＣ型およびＩ型コア片と
称される磁性体であり、23はＩ型コア片上に被着された
Fe−Al−Si薄膜である。24はＣ型コア片21とＩ型コア片
22との間に形成された巻線用の空間であり、その上部に
Ｃ型コア片21とＩ型コア片22を接合するガラス部25が設
けられている。
磁気コア13のトラック面にはトラック幅を規制する切り
欠き26が形成されている。切り欠き26は磁気コア13の長
手方向（磁気ヘッドに固定されたときのサイドレールの
長手方向と同じ）に延在する。これにより磁気ギャップ
27のトラック幅Twは任意に設定することができる。また
その深さは、後述するように、磁気ギャップ深より深
く、接合ガラス25より十分に浅いことが必要である。な
お磁気ギャップ27はスパッタリング等により被着された
SiO2等のギャップ規制膜により形成されている。
欠き26が形成されている。切り欠き26は磁気コア13の長
手方向（磁気ヘッドに固定されたときのサイドレールの
長手方向と同じ）に延在する。これにより磁気ギャップ
27のトラック幅Twは任意に設定することができる。また
その深さは、後述するように、磁気ギャップ深より深
く、接合ガラス25より十分に浅いことが必要である。な
お磁気ギャップ27はスパッタリング等により被着された
SiO2等のギャップ規制膜により形成されている。
本発明の磁気コア13において、切り欠き26の深さＤと磁
気ギャップ27の深さGdとの間、及び接合ガラス部25の残
りの厚さGwと磁気コアの厚さCwとの間にはそれぞれ実質
的に次の関係が満たされている必要がある。
気ギャップ27の深さGdとの間、及び接合ガラス部25の残
りの厚さGwと磁気コアの厚さCwとの間にはそれぞれ実質
的に次の関係が満たされている必要がある。
Ｄ≧Gd・・・（１） Gw≧Cw・・・（２） 式（１）について、切り欠き26の深さＤがギャップ深さ
Gdより小さいとトラック幅Twの規制の効果が不満足とな
る。すなわちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、
ギャップ先端よりもれる磁界が減少するために、記録の
効率が低下する。また式（２）について、接合ガラス部
25の残りの厚さGwが磁気コアの厚さCwより小さいと、磁
気コアの加工時にガラス部25に亀裂が入ったり、磁気コ
ア13をスライダーのスリット部内に固着する際に両コア
片の接合が不安定となるという問題が生ずる。
Gdより小さいとトラック幅Twの規制の効果が不満足とな
る。すなわちヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、
ギャップ先端よりもれる磁界が減少するために、記録の
効率が低下する。また式（２）について、接合ガラス部
25の残りの厚さGwが磁気コアの厚さCwより小さいと、磁
気コアの加工時にガラス部25に亀裂が入ったり、磁気コ
ア13をスライダーのスリット部内に固着する際に両コア
片の接合が不安定となるという問題が生ずる。
高密度記録を達成する上でギャップ長さGl及びトラック
幅Twは小さくなる傾向にあり、リジッド・ディスク・ド
ライド用としては現在１μｍ以下のGl、及び20μｍ以下
のTwのものが用いられている。一方磁気コア13の幅Cwは
0.1〜0.2mm程度である。このような寸法の磁気コアにお
いて、上記条件（１）及び（２）を実質的に満たすこと
を前提として、一般的にギャップ深さGdは、２〜20μ
ｍ、切り欠き深さＤは20〜200μｍ、接合ガラス部の厚
さGwは150〜700μｍとするのが好ましい。
幅Twは小さくなる傾向にあり、リジッド・ディスク・ド
ライド用としては現在１μｍ以下のGl、及び20μｍ以下
のTwのものが用いられている。一方磁気コア13の幅Cwは
0.1〜0.2mm程度である。このような寸法の磁気コアにお
いて、上記条件（１）及び（２）を実質的に満たすこと
を前提として、一般的にギャップ深さGdは、２〜20μ
ｍ、切り欠き深さＤは20〜200μｍ、接合ガラス部の厚
さGwは150〜700μｍとするのが好ましい。
この磁気ヘッドは以下のプロセスにより製造することが
できる。まずＩ型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Bsでかつ高周波での透磁率が極力大きいMn
−Znフェライトが望ましい。またガラス接合時にガラス
中に生じる気泡（void）を減らすために、熱間静水圧プ
レス（Hot Isostatic Press）法により高密度化された
ものを用いるのが好ましい。特にB10＝4700〜5400G、Hc
＝0.1〜0.2Oe、5MHzに於る透磁率800〜1300、空孔率0.5
％以下、熱膨張係数105〜120×10-7／℃のMn−Zn多結晶
フェライトを用いるのが好ましいが、多結晶フェライト
の代りに単結晶材を用いても良い。
できる。まずＩ型コア片及びＣ型コア片を構成すべきフ
ェライト材料のブロックを準備する。このフェライト材
料としては高Bsでかつ高周波での透磁率が極力大きいMn
−Znフェライトが望ましい。またガラス接合時にガラス
中に生じる気泡（void）を減らすために、熱間静水圧プ
レス（Hot Isostatic Press）法により高密度化された
ものを用いるのが好ましい。特にB10＝4700〜5400G、Hc
＝0.1〜0.2Oe、5MHzに於る透磁率800〜1300、空孔率0.5
％以下、熱膨張係数105〜120×10-7／℃のMn−Zn多結晶
フェライトを用いるのが好ましいが、多結晶フェライト
の代りに単結晶材を用いても良い。
Ｉ型コアブロック上にはFe−Al−Si膜をスパッタリング
で被着する。スパッタの条件としては安定な放電を維持
するため５〜12mTorrのArガス圧が望ましい。また電力
は合金ターゲットの温度上昇による割れを防ぐととも
に、800Å／分程度の膜生成速度を得るために、600〜12
00W（直径150mmのターゲットの例）が望ましい。Fe−Al
−Si膜の組成としては高透磁率を得るため、重量基準で
83〜86％のFe、５〜８％のAl、８〜11％のSiが好まし
い。特に磁歪定数を小さくする目的で、重量基準で83.5
〜85％のFe、５〜７％のAl、９〜10.5％のSiのものが望
ましい。Fe−Al−Si膜には耐食性を向上させる目的で微
量の添加物を加えてもよい。この場合、２重量％以下の
Ti、Ru、Cr等を単独あるいは複合添加するのが望まし
い。
で被着する。スパッタの条件としては安定な放電を維持
するため５〜12mTorrのArガス圧が望ましい。また電力
は合金ターゲットの温度上昇による割れを防ぐととも
に、800Å／分程度の膜生成速度を得るために、600〜12
00W（直径150mmのターゲットの例）が望ましい。Fe−Al
−Si膜の組成としては高透磁率を得るため、重量基準で
83〜86％のFe、５〜８％のAl、８〜11％のSiが好まし
い。特に磁歪定数を小さくする目的で、重量基準で83.5
〜85％のFe、５〜７％のAl、９〜10.5％のSiのものが望
ましい。Fe−Al−Si膜には耐食性を向上させる目的で微
量の添加物を加えてもよい。この場合、２重量％以下の
Ti、Ru、Cr等を単独あるいは複合添加するのが望まし
い。
次に第３図に示すように、Fe−Al−Si膜33を被着したＩ
型コアブロック32にＣ型コアブロック31を接触させ、巻
線窓34中に置いたガラス棒35を加熱流入させることによ
り接合する。この場合、好ましい接合ガラスは軟化点54
0〜630℃、熱膨張係数94〜103×10-7／℃のものであ
る。このような物性を示す接合用ガラス（第一のガラ
ス）としてはPbO−SiO2を主成分とし、他に種々の元素
を加えた多くの組合せが考えられるけれども、本発明者
による実験の結果ではPbO−SiO2にアルカリ金属酸化物
（K2O、Li2O、Na2O等）を加えた系（ａ）、PbO−SiO2−
B2O3にアルカリ金属酸化物を加えた系（ｂ）、又はPbO
−SiO2−B2O3−Al2O3にアルカリ金属酸化物を加えた系
（ｃ）が適している。このような系での好ましい組成範
囲は重量基準で、28〜49％のSiO2、44〜59％のPbO、７
〜13％のアルカリ金属酸化物からなる組成（ａ）、28〜
49％のSiO2、５〜15％のB2O3、７〜13％のアルカリ金属
酸化物、残部PbOからなる組成（ｂ）、又は28〜49％のS
iO2、５〜15％のB2O3、５〜12％のAl2O3、７〜13％のア
ルカリ金属酸化物、残部PbOからなる組成（ｃ）であ
る。この第一のガラスの特に好ましい例として重量基準
で、40PbO-37SiO2‐13B2O3‐10Na2Oの組成のもの（軟化
点560℃、熱膨張係数95×10-7／℃）が挙げられる。こ
のガラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は5k
g/mm2であり申し分なく、またFe−Al−Si膜の浸食も認
められない。
型コアブロック32にＣ型コアブロック31を接触させ、巻
線窓34中に置いたガラス棒35を加熱流入させることによ
り接合する。この場合、好ましい接合ガラスは軟化点54
0〜630℃、熱膨張係数94〜103×10-7／℃のものであ
る。このような物性を示す接合用ガラス（第一のガラ
ス）としてはPbO−SiO2を主成分とし、他に種々の元素
を加えた多くの組合せが考えられるけれども、本発明者
による実験の結果ではPbO−SiO2にアルカリ金属酸化物
（K2O、Li2O、Na2O等）を加えた系（ａ）、PbO−SiO2−
B2O3にアルカリ金属酸化物を加えた系（ｂ）、又はPbO
−SiO2−B2O3−Al2O3にアルカリ金属酸化物を加えた系
（ｃ）が適している。このような系での好ましい組成範
囲は重量基準で、28〜49％のSiO2、44〜59％のPbO、７
〜13％のアルカリ金属酸化物からなる組成（ａ）、28〜
49％のSiO2、５〜15％のB2O3、７〜13％のアルカリ金属
酸化物、残部PbOからなる組成（ｂ）、又は28〜49％のS
iO2、５〜15％のB2O3、５〜12％のAl2O3、７〜13％のア
ルカリ金属酸化物、残部PbOからなる組成（ｃ）であ
る。この第一のガラスの特に好ましい例として重量基準
で、40PbO-37SiO2‐13B2O3‐10Na2Oの組成のもの（軟化
点560℃、熱膨張係数95×10-7／℃）が挙げられる。こ
のガラスを使用し接合を行った磁気コアの接合強度は5k
g/mm2であり申し分なく、またFe−Al−Si膜の浸食も認
められない。
なおB2O3は高湿度下でのガラスの腐食を防止する作用を
有する。しかし逆にB2O3が多すぎるとFe−Al−Si膜ある
いはMn−Znフェライトとの濡れ性が悪くなり、接合強度
が保てない。Al2O3は高温度下でのガラスの変色を防止
するが、逆に多すぎると軟化点が高くなり接合できなく
なる。アルカリ金属酸化物類はさらにガラスの流動性を
調節する効果を担っている。
有する。しかし逆にB2O3が多すぎるとFe−Al−Si膜ある
いはMn−Znフェライトとの濡れ性が悪くなり、接合強度
が保てない。Al2O3は高温度下でのガラスの変色を防止
するが、逆に多すぎると軟化点が高くなり接合できなく
なる。アルカリ金属酸化物類はさらにガラスの流動性を
調節する効果を担っている。
このようなガラスを用い700〜760℃で接合を行う。この
接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることができる。
接合ブロックを切断し、磁気コアを得ることができる。
この磁気コアのスライダーのスリット部への固着は次の
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア43をスライ
ダー41のスリット部42内に設置するとともに、ガラス棒
48をスライダー41の上面に乗せた状態を示す斜視図であ
る。磁気コア43の切り欠き45はスライダーの片端部44に
向けられているので、磁気コア43が片端部44に押し付け
られていても、スリット部の内面との間に隙間47、49が
形成される。磁気コア43の固定はバネ材46による仮固定
で容易に達成される。ガラス棒48は第二のガラスとして
磁気コア43をスリット部42に固着するものであり、かか
る第二のガラスとしては熱膨張係数87〜96×10-7／℃、
軟化点370〜480℃程度のものが好ましい。このような性
質を示す組成としては、重量基準で70〜83％のPbO、３
〜10％のAl2O3、４〜10％のSiO3、４〜10％のB2O3のも
のがあり、特に好ましい一例として80PbO-7Al2O3‐６Si
O2‐７B2O3（重量％）がある。このガラスの熱膨張係数
は93×10-7／℃であり軟化点は440℃である。このガラ
スを用いて例えば530℃で固着すれば、クラックのない
接合を行うことができる。
ようにして行う。第４図は接合した磁気コア43をスライ
ダー41のスリット部42内に設置するとともに、ガラス棒
48をスライダー41の上面に乗せた状態を示す斜視図であ
る。磁気コア43の切り欠き45はスライダーの片端部44に
向けられているので、磁気コア43が片端部44に押し付け
られていても、スリット部の内面との間に隙間47、49が
形成される。磁気コア43の固定はバネ材46による仮固定
で容易に達成される。ガラス棒48は第二のガラスとして
磁気コア43をスリット部42に固着するものであり、かか
る第二のガラスとしては熱膨張係数87〜96×10-7／℃、
軟化点370〜480℃程度のものが好ましい。このような性
質を示す組成としては、重量基準で70〜83％のPbO、３
〜10％のAl2O3、４〜10％のSiO3、４〜10％のB2O3のも
のがあり、特に好ましい一例として80PbO-7Al2O3‐６Si
O2‐７B2O3（重量％）がある。このガラスの熱膨張係数
は93×10-7／℃であり軟化点は440℃である。このガラ
スを用いて例えば530℃で固着すれば、クラックのない
接合を行うことができる。
以上のような第二のガラスによる磁気コアのスリット部
への固着には、一般に第二のガラスを500〜580℃に加熱
して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その後磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面を研削後研磨加工し、磁気ヘッ
ドを完成する。
への固着には、一般に第二のガラスを500〜580℃に加熱
して磁気コアの両側の隙間に流入させる。その後磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面を研削後研磨加工し、磁気ヘッ
ドを完成する。
第４図に明確に示されるように、磁気コア43とスライダ
ーのスリット部42の一方の内面との隙間は、磁気コア43
の下部においては零であるが（すなわちスライダーのス
リット部の一方の内面に磁気コア43が接触している
が）、上部においては49で示されるように十分な幅とな
っている。これにより磁気コア43は両側に設けられた第
二のガラス層によりスリット部内に強固に固定されるこ
とになる。
ーのスリット部42の一方の内面との隙間は、磁気コア43
の下部においては零であるが（すなわちスライダーのス
リット部の一方の内面に磁気コア43が接触している
が）、上部においては49で示されるように十分な幅とな
っている。これにより磁気コア43は両側に設けられた第
二のガラス層によりスリット部内に強固に固定されるこ
とになる。
本発明をさらに以下の具体的な実施例により詳細に説明
する。
する。
実施例１ 第２図に示す構造の磁気コアを形成するためにMn−Zn多
結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片を作
成した。Mn−Zn多結晶フェライトは熱間静水圧プレス法
により高密度化されたもので、空孔率が0.1％であり、
磁気特性としてはB10＝5100G、Hc＝0.15Oe、5MHzにおけ
る透磁率＝950であり、また熱膨張係数は115×10-7／℃
であった。
結晶フェライトからなるＣ型コア片及びＩ型コア片を作
成した。Mn−Zn多結晶フェライトは熱間静水圧プレス法
により高密度化されたもので、空孔率が0.1％であり、
磁気特性としてはB10＝5100G、Hc＝0.15Oe、5MHzにおけ
る透磁率＝950であり、また熱膨張係数は115×10-7／℃
であった。
各Ｃ型コアブロック及びＩ型コアブロックは外周スライ
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン（商標名、トリ
クロロエタン）煮沸を行い、クロロセン中、アセトン中
及びアルコール中でそれぞれ超音波洗浄を行った後、フ
レオン煮沸を行い、最後にフレオン蒸気で洗浄した。
サーにより成形し、平面研削盤で研削後ラップ機により
研磨したものである。研磨後クロロセン（商標名、トリ
クロロエタン）煮沸を行い、クロロセン中、アセトン中
及びアルコール中でそれぞれ超音波洗浄を行った後、フ
レオン煮沸を行い、最後にフレオン蒸気で洗浄した。
またＩ型コアブロック上にマグネトロンスパッタ装置に
よりFe−Al−Si薄膜を形成した。マグネトロンスパッタ
装置の投入電力は0.8kw、アルゴン圧は8mTorr、基板温
度は200℃であった。またFe−Al−Si薄膜は重量基準で8
5％のFe、６％のAl及び９％のSiからなる組成を有し、
厚さは2.9μｍであった。この膜の特性はBs＝11,000G、
Hc＝0.3〜0.5Oe、5MHzにおける透磁率＝1,000〜2,000、
磁歪定数＝＋１×10-6であった。
よりFe−Al−Si薄膜を形成した。マグネトロンスパッタ
装置の投入電力は0.8kw、アルゴン圧は8mTorr、基板温
度は200℃であった。またFe−Al−Si薄膜は重量基準で8
5％のFe、６％のAl及び９％のSiからなる組成を有し、
厚さは2.9μｍであった。この膜の特性はBs＝11,000G、
Hc＝0.3〜0.5Oe、5MHzにおける透磁率＝1,000〜2,000、
磁歪定数＝＋１×10-6であった。
次にFe−Al−Si溝膜を形成したＩ型コアブロック上にRF
スパッタ装置を用いて、0.3kwの投入電力、5mTorrのア
ルゴン圧、150℃の基板温度で0.5μｍの膜厚のSiO2ギャ
ップ規制膜を形成した。
スパッタ装置を用いて、0.3kwの投入電力、5mTorrのア
ルゴン圧、150℃の基板温度で0.5μｍの膜厚のSiO2ギャ
ップ規制膜を形成した。
さらにＣ型コアブロックとＩ型コアブロックを接合した
第一のガラスの組成は以下の通りであった。
第一のガラスの組成は以下の通りであった。
PbO 40 重量％ SiO2 37 〃 B2O3 13 〃 Na2O3 10 〃 この第一のガラスの軟化点は560℃、熱膨張係数は95×1
0-7／℃であった。第一のガラスによるコアブロックの
接合は電気炉によりN2ガス中で300℃／時間の昇温速度
で加熱し、700℃に30分間保持することにより行った。
0-7／℃であった。第一のガラスによるコアブロックの
接合は電気炉によりN2ガス中で300℃／時間の昇温速度
で加熱し、700℃に30分間保持することにより行った。
このようにして接合したコアブロックを平面研削盤及び
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤーソーにより厚
さ152μｍに切断した。
ラップ機を用いて研削、研磨し、ワイヤーソーにより厚
さ152μｍに切断した。
次に各磁気コアのトラック幅を規定するために、高剛性
ダイサーにより幅138.5μｍ、深さ200μｍの切り欠きを
形成した。
ダイサーにより幅138.5μｍ、深さ200μｍの切り欠きを
形成した。
このようにして得られた磁気コアの構造は以下の通りで
ある。
ある。
磁気コアの幅Cw 152μｍ トラック幅 Tw 13.5μｍ ギャップ長さGl 0.55μｍ 接合ガラスの厚さGw 約200μｍ 次に熱膨張係数が108×10-7℃、空孔率が0.15のCaTiO3
セラミックからなるスライダーの一方のサイドレールの
端部に、長さ1.5mm、幅220μｍのスリット部を形成し、
その中に上記磁気コアを板ばねにより固定して、下記組
成の第二のガラスにより固着した。
セラミックからなるスライダーの一方のサイドレールの
端部に、長さ1.5mm、幅220μｍのスリット部を形成し、
その中に上記磁気コアを板ばねにより固定して、下記組
成の第二のガラスにより固着した。
PbO 78 重量％ SiO2 6 〃 Al2O3 7 〃 B2O3 7 〃 第二のガラスの熱膨張係数は91×10-7／℃、軟化点は44
0℃であった。これを電気炉でN2中300℃／時間の昇温速
度で加熱し、540℃の温度に30分間保持することにより
スリット部と磁気コアとの間隙に流入させた。このよう
にして得た磁気ヘッドの空気ベアリング面を鏡面研削盤
及びラップ機により研削、研磨し、本発明の浮上型複合
磁気ヘッドとした。これにより切り欠き深さＤは75μｍ
となった。この空気ベアリング面の加工後のギャップ深
さGdは４μｍであった。なおスリット部の内面と磁気コ
アの両側部との間隙はそれぞれ68μｍ、138.5μｍであ
った。
0℃であった。これを電気炉でN2中300℃／時間の昇温速
度で加熱し、540℃の温度に30分間保持することにより
スリット部と磁気コアとの間隙に流入させた。このよう
にして得た磁気ヘッドの空気ベアリング面を鏡面研削盤
及びラップ機により研削、研磨し、本発明の浮上型複合
磁気ヘッドとした。これにより切り欠き深さＤは75μｍ
となった。この空気ベアリング面の加工後のギャップ深
さGdは４μｍであった。なおスリット部の内面と磁気コ
アの両側部との間隙はそれぞれ68μｍ、138.5μｍであ
った。
この磁気ヘッドを用い、Co−Niスパッタ記録媒体（Hc＝
1150Oe）を有する5.25インチの磁気ディスクに対して浮
上量0.3μｍ、周速12.1m/秒で2.5MHzにおける再生出力
特性その他のヘッド特性を測定した。また比較のために
Fe−Al−Si薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについ
ても、同じ測定を行った。結果を第１表に示す。
1150Oe）を有する5.25インチの磁気ディスクに対して浮
上量0.3μｍ、周速12.1m/秒で2.5MHzにおける再生出力
特性その他のヘッド特性を測定した。また比較のために
Fe−Al−Si薄膜を有さない従来の複合磁気ヘッドについ
ても、同じ測定を行った。結果を第１表に示す。
また本発明の磁気ヘッド（Ａ）及び従来例の磁気ヘッド
（Ｂ）を用いて、上記磁気ディスクに対する書き込み電
流と再生出力との関係を求めた。結果を第５図に示す。
（Ｂ）を用いて、上記磁気ディスクに対する書き込み電
流と再生出力との関係を求めた。結果を第５図に示す。
以上の比較から、本発明の磁気ヘッドは優れた再生出力
特性及びヘッド特性を有することがわかる。
特性及びヘッド特性を有することがわかる。
実施例２ 実施例１の磁気コアにおいて接合ガラスの厚さを種々変
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。
更し、切り欠き形成時における接合ガラスの亀裂の発生
状況を調べた。結果を第２表に示す。
以上の結果から、接合ガラスの厚さが80〜100μｍの場
合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形成に
よるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が発生
し、製品歩留りが低下することがわかる。
合（コア厚より実質的に小さい場合）、切り欠き形成に
よるトラック幅出し加工時に接合ガラス内に亀裂が発生
し、製品歩留りが低下することがわかる。
実施例３ 実施例１においてＩ型コアに被着するFe−Al−Si薄膜の
厚さを3,8,12μｍと変化させ、それ以外は同じ方法によ
り磁気コアを作成し、加工時のFe−Al−Si薄膜の剥離及
び磁気コアの脱粒について調べた。またその磁気コアを
用いて各磁気ヘッドを作成し、実施例１と同じ磁気ディ
スクにより再生出力特性を測定した。結果を第３表に示
す。
厚さを3,8,12μｍと変化させ、それ以外は同じ方法によ
り磁気コアを作成し、加工時のFe−Al−Si薄膜の剥離及
び磁気コアの脱粒について調べた。またその磁気コアを
用いて各磁気ヘッドを作成し、実施例１と同じ磁気ディ
スクにより再生出力特性を測定した。結果を第３表に示
す。
以上の結果から明らかな通り、Fe−Al−Si薄膜の膜厚が
３μｍ及び８μｍの場合、磁気コアの加工時に問題がな
いのみならず、磁気ヘッドの特性も良好であるが、12μ
ｍとなると加工時に膜剥離やコアの脱粒等が起こり、か
つ得られる磁気ヘッドの再生出力特性を低い。これはFe
−Al−Si薄膜が厚すぎるために、コア基板と膜との界面
に熱膨張係数の差による大きな応力がかかり、膜の剥離
やコア基板の脱粒が発生するためである。
３μｍ及び８μｍの場合、磁気コアの加工時に問題がな
いのみならず、磁気ヘッドの特性も良好であるが、12μ
ｍとなると加工時に膜剥離やコアの脱粒等が起こり、か
つ得られる磁気ヘッドの再生出力特性を低い。これはFe
−Al−Si薄膜が厚すぎるために、コア基板と膜との界面
に熱膨張係数の差による大きな応力がかかり、膜の剥離
やコア基板の脱粒が発生するためである。
実施例４ 実施例１と同様にして磁気コアを作成し、これに２通り
の深さのトラック幅規制用の切り欠きを形成した。切り
欠きの深さはそれぞれ２μｍ及び165μｍであった。こ
れらの磁気コアを用い、実施例１と同様にして磁気ヘッ
ドを作成した。得られた磁気ヘッドの諸元は以下の通り
であった。
の深さのトラック幅規制用の切り欠きを形成した。切り
欠きの深さはそれぞれ２μｍ及び165μｍであった。こ
れらの磁気コアを用い、実施例１と同様にして磁気ヘッ
ドを作成した。得られた磁気ヘッドの諸元は以下の通り
であった。
磁気コアの幅Cw 152μｍ トラック幅Tw 13.5μｍ ギャップ長さGl 0.55μｍ ギャップ深さGd ５μｍ Fe−Al−Si膜厚 2.9μｍ 接合ガラスの厚さ 約200μｍ 巻き数Ｎ 42ターン これらの磁気ヘッドを用いて、実施例１と同じ磁気ディ
スクによりヘッド特性を測定した。結果を第４表に示
す。
スクによりヘッド特性を測定した。結果を第４表に示
す。
以上の結果から、切り欠き深さＤがギャップ深さGdより
小さいと再生出力が小さく、その他のヘッド特性も劣っ
ていることがわかる。これは切り欠きが浅すぎるために
ヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、ギャップ先端
よりもれる磁界が減少し、記録効率が低下するためであ
る。これに対して切り欠き深さＤが十分に大きいと（コ
ア幅より大）優れた磁気特性が得られることがわかる。
小さいと再生出力が小さく、その他のヘッド特性も劣っ
ていることがわかる。これは切り欠きが浅すぎるために
ヘッド先端の磁気抵抗が小さくなりすぎ、ギャップ先端
よりもれる磁界が減少し、記録効率が低下するためであ
る。これに対して切り欠き深さＤが十分に大きいと（コ
ア幅より大）優れた磁気特性が得られることがわかる。
以上に詳述した通り、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの深さが
ギャップ深さ以上であるとともに接合ガラスの残り厚さ
が磁気コアの幅以上であり、かつ磁気コアが両側のガラ
ス層により非磁性スライダーのスリット部内に固着され
る構造を有するので、良好なヘッド特性を有するのみな
らず、簡単に加工精度良く作製することができるという
利点を有する。また磁気コアの両側がガラス層を介して
スライダーのスリット部に固着されているので、磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面の平面度が良好であるという利
点も有する。
いわゆる平行型であるとともにトラック面にトラック幅
を規制する切り欠きを有し、かつ前記切り欠きの深さが
ギャップ深さ以上であるとともに接合ガラスの残り厚さ
が磁気コアの幅以上であり、かつ磁気コアが両側のガラ
ス層により非磁性スライダーのスリット部内に固着され
る構造を有するので、良好なヘッド特性を有するのみな
らず、簡単に加工精度良く作製することができるという
利点を有する。また磁気コアの両側がガラス層を介して
スライダーのスリット部に固着されているので、磁気ヘ
ッドの空気ベアリング面の平面度が良好であるという利
点も有する。
第１図は本発明の一実施例による浮上型複合磁気ヘッド
を示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
磁気コアの一例を示す斜視図であり、 第３図は両コア片を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻
線用窓内に挿入した状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は書き込み電流と再生出力との関係を示すグラフ
である。 11…スライダー 12…スリット部 13…磁気コア 14…接合ガラス 15、16…サイドレール 21…Ｃ型コア片 22…Ｉ型コア片 23…Fe−Al−Si薄膜 24…巻線用窓 25…接合ガラス部 26…切り欠き 27…磁気ギャップ Tw…トラック幅 Gl…ギャップ長さ Gd…ギャップ深さ Gw…接合ガラス部の残りの厚さ Ｄ…切り欠き深さ Cw…磁気コア幅
を示す斜視図であり、 第２図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドに組み込まれる
磁気コアの一例を示す斜視図であり、 第３図は両コア片を組み合わせた後接合用ガラス棒を巻
線用窓内に挿入した状態を示す斜視図であり、 第４図は第１図の浮上型複合磁気ヘッドを製造するため
に第二のガラスを充填するための工程を示す図であり、 第５図は書き込み電流と再生出力との関係を示すグラフ
である。 11…スライダー 12…スリット部 13…磁気コア 14…接合ガラス 15、16…サイドレール 21…Ｃ型コア片 22…Ｉ型コア片 23…Fe−Al−Si薄膜 24…巻線用窓 25…接合ガラス部 26…切り欠き 27…磁気ギャップ Tw…トラック幅 Gl…ギャップ長さ Gd…ギャップ深さ Gw…接合ガラス部の残りの厚さ Ｄ…切り欠き深さ Cw…磁気コア幅
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠原 肇 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地 日立金属株 式会社磁性材料研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−36708（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−295207（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−295208（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−14306（ＪＰ，Ａ)
Claims (13)
- 【請求項１】両側にサイドレール部を有する非磁性セラ
ミックスからなるスライダーと、前記サイドレール部の
一方に設けられたスリット部と、前記スリット部内にガ
ラスにより固定された一対のコア片からなる磁気コアと
を有する浮上型複合磁気ヘッドにおいて、 （ａ）前記一対のコア片の平坦な対向面が平行に配置さ
れて磁気ギャップを形成しているとともに、前記対向面
の少くとも一方にFe−Al−Si薄膜が形成されており、 （ｂ）前記磁気コアのトラック面にトラック幅を規制す
る切り欠きが設けられており、前記切り欠きの深さが前
記磁気ギャップの深さ以上であるとともに前記磁気コア
の接合ガラス部の残りの厚さが前記磁気コアの厚さ以上
であり、 （ｃ）前記磁気コアの両側がガラスにより前記スリット
部に固着されている ことを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項に記載の浮上型複合
磁気ヘッドにおいて、前記スライダーがCaTiO3からなる
ことを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の
浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記Fe−Al−Si薄膜の
膜厚が10μｍ以下であることを特徴とする浮上型複合磁
気ヘッド。 - 【請求項４】特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれ
かに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コ
アがMn−Znフェライトからなることを特徴とする浮上型
複合磁気ヘッド。 - 【請求項５】特許請求の範囲第１項乃至第４項のいずれ
かに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コ
アがＣ型コア片とＩ型コア片からなり、前記Ｃ型コア片
と前記Ｉ型コア片を接合するガラス部の切り欠き方向に
おける厚さが前記磁気コアの厚さ以上であることを特徴
とする浮上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項６】特許請求の範囲第１項乃至第５項のいずれ
かに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コ
アのトラック幅が３〜20μｍであることを特徴とする浮
上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項７】特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれ
かに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気コ
アの幅が100〜200μｍであることを特徴とする浮上型複
合磁気ヘッド。 - 【請求項８】特許請求の範囲第１項乃至第７項のいずれ
かに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記一対の
コア片を接合するガラスが28〜49重量％のSiO2を含有す
ることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項９】特許請求の範囲第８項に記載の浮上型複合
磁気ヘッドにおいて、前記接合ガラスが実質的に44〜59
重量％のPbO、28〜49重量％のSiO2及び７〜13重量％の
アルカリ金属酸化物からなることを特徴とする浮上型複
合磁気ヘッド。 - 【請求項１０】特許請求の範囲第８項に記載の浮上型複
合磁気ヘッドにおいて、28〜49重量％のSiO2、５〜15重
量％のB2O3、７〜13重量％のアルカリ金属酸化物及び残
部が実質的にPbOからなることを特徴とする浮上型複合
磁気ヘッド。 - 【請求項１１】特許請求の範囲第８項に記載の浮上型複
合磁気ヘッドにおいて、前記接合ガラスが28〜49重量％
のSiO2、５〜15重量％のB2O3、５〜12重量％のAl2O3、
７〜13重量％のアルカリ金属酸化物及び残部が実質的に
PbOからなることを特徴とする浮上型複合磁気ヘッド。 - 【請求項１２】特許請求の範囲第１項乃至第11項のいず
れかに記載の浮上型複合磁気ヘッドにおいて、前記磁気
コアを前記スライダーのスリット部に固着するガラスが
87〜96×10-7／℃の熱膨張係数及び370〜480℃の軟化点
を有し、かつ前記スライダーが105〜115×10-7／℃の熱
膨張係数を有するCaTiO3からなることを特徴とする浮上
型複合磁気ヘッド。 - 【請求項１３】特許請求の範囲第12項に記載の浮上型複
合磁気ヘッドにおいて、前記固着ガラスが実質的に70〜
83重量％のPbO、３〜10重量％のAl2、O3、４〜10重量％
のSiO2、４〜10重量％のB2O3からなることを特徴とする
浮上型複合磁気ヘッド。
Priority Applications (4)
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Applications Claiming Priority (1)
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