JPH03100873A - パターン終端部検査装置 - Google Patents
パターン終端部検査装置Info
- Publication number
- JPH03100873A JPH03100873A JP1238487A JP23848789A JPH03100873A JP H03100873 A JPH03100873 A JP H03100873A JP 1238487 A JP1238487 A JP 1238487A JP 23848789 A JP23848789 A JP 23848789A JP H03100873 A JPH03100873 A JP H03100873A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- termination
- termination part
- circuit
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Image Analysis (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン終端部検査装置に関する。
従来の技術としては、例えば、「武藤、安藤、“プリン
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、29巻、2号
>87〜96頁、1982年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン終端部検査装置がある。
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、29巻、2号
>87〜96頁、1982年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン終端部検査装置がある。
従来のパターン終端部検査装置について図面を参照して
詳細に説明する。
詳細に説明する。
第4図は従来の一例を示す模式図である。
第4図に示すパターン終端部検査装置は、中心Pから放
射状に4つの測長センサA〜Dによりパターン終端部が
途切れるまでの画素数を数えて、それぞれの測長値とす
る。
射状に4つの測長センサA〜Dによりパターン終端部が
途切れるまでの画素数を数えて、それぞれの測長値とす
る。
互いに反対方向の測長センサA、C1測長センサB、D
の測長値の差にもとづいて、終端部の中心領域を求める
0点Pがこの領域にあるとき、点Pから終端部幅の1/
4程度離れた位置に設けた測長センサE−Hの値を求め
、AとC,BとD、FとH,BとHlおよびEとGの測
長値の和が、それぞれ許容範囲内にあるかどうかを調べ
、このうち1つでも許容値を外れていれば、欠陥として
検出する。
の測長値の差にもとづいて、終端部の中心領域を求める
0点Pがこの領域にあるとき、点Pから終端部幅の1/
4程度離れた位置に設けた測長センサE−Hの値を求め
、AとC,BとD、FとH,BとHlおよびEとGの測
長値の和が、それぞれ許容範囲内にあるかどうかを調べ
、このうち1つでも許容値を外れていれば、欠陥として
検出する。
上述した従来のパターン終端部検査装置は、終端部に大
きな欠陥がある場合にのみ検出可能であり、終端部の形
状に応じた小さい欠陥を誤検出なく検出することが不可
能であるという欠点があった。
きな欠陥がある場合にのみ検出可能であり、終端部の形
状に応じた小さい欠陥を誤検出なく検出することが不可
能であるという欠点があった。
本発明のパターン終端部検査装置は、
(A)検査対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を2値化画像に変換する2値化回路
、 (B)前記2値化回路より出力される2値化画像に、あ
らかじめ設定された寸法および形状の第1の終端部検出
マスクをラスタースキャンに同期して走査し、パターン
終端部のみを検出する終端部検出回路、 (C)前記終端部検出回路で検出された前記パターン終
端部で、前記第1の終端部検出マスクの寸法より指定し
た大きさだけ小さい第2の終端部検出マスクを走査して
、内部にパターン上にない点が含まれる場合に終端欠陥
として検出する終端部検査回路、 とを含んで構成′される。
読み出した入力画像を2値化画像に変換する2値化回路
、 (B)前記2値化回路より出力される2値化画像に、あ
らかじめ設定された寸法および形状の第1の終端部検出
マスクをラスタースキャンに同期して走査し、パターン
終端部のみを検出する終端部検出回路、 (C)前記終端部検出回路で検出された前記パターン終
端部で、前記第1の終端部検出マスクの寸法より指定し
た大きさだけ小さい第2の終端部検出マスクを走査して
、内部にパターン上にない点が含まれる場合に終端欠陥
として検出する終端部検査回路、 とを含んで構成′される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第1図に示すパターン終端部検査装置は、(A)検査対
象パターンを光電変換スキャナ1で走査して読み出した
入力画像2を2値化画像4に変換する2値化回路3、 (B)2値化回路3より出力される2値化画像4に、あ
らかじめ設定された寸法および形状の第1の終端部検出
マスクをラスタースキャンに同期して走査し、検出信号
6を出力する終端部検出回路5、 (C)検出信号6により、前記第1の終端部検出マスク
の寸法より指定した大きさだけ小さい第2の終端部検出
マスクを走査して、内部にパターン上にない点が含まれ
る場合に終端欠陥として検出する終端部検査回路7、 とを含んで構成される。
象パターンを光電変換スキャナ1で走査して読み出した
入力画像2を2値化画像4に変換する2値化回路3、 (B)2値化回路3より出力される2値化画像4に、あ
らかじめ設定された寸法および形状の第1の終端部検出
マスクをラスタースキャンに同期して走査し、検出信号
6を出力する終端部検出回路5、 (C)検出信号6により、前記第1の終端部検出マスク
の寸法より指定した大きさだけ小さい第2の終端部検出
マスクを走査して、内部にパターン上にない点が含まれ
る場合に終端欠陥として検出する終端部検査回路7、 とを含んで構成される。
第2図は第1図に示す終端部検出回路の動作を説明する
ための模式図である。
ための模式図である。
入力2値画像10に対して、あらかじめ設定された寸法
および形状の終端部検出マスクllを、ラスタースキャ
ンに同期して走査し、終端部検出マスク11をN分割し
た対向する4箇所(M2゜MIO,M6.Mt4)が、
同時にパターン上にある場合にパターン終端部12とし
て検出する。
および形状の終端部検出マスクllを、ラスタースキャ
ンに同期して走査し、終端部検出マスク11をN分割し
た対向する4箇所(M2゜MIO,M6.Mt4)が、
同時にパターン上にある場合にパターン終端部12とし
て検出する。
第3図は第1図に示す終端部検査回路の動作を説明する
ための模式図である。
ための模式図である。
終端部検出マスク11より小さい、終端部検出マスク1
2で走査して、内部にパターン上にない点が含まれる場
合に終端部欠陥14として検出する。
2で走査して、内部にパターン上にない点が含まれる場
合に終端部欠陥14として検出する。
本発明のパターン終端部検査装置は、パターン終端部形
状に応じた終端部検出マスクを用いることにより微少な
欠陥を問違いなく検出できるという効果がある。
状に応じた終端部検出マスクを用いることにより微少な
欠陥を問違いなく検出できるという効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
第1図に示す終端部検出回路の動作を説明するための模
式図、第3図は第1図に示す終端部検査回路の動作を説
明するための模式図、第4図は従来の一例を示す模式図
である。 l・・・・・・光電変換スキャナ、2・・・・・・入力
画像、3・・・・・・2値化回路、4・・・・・・2値
化画像、5・・・・・・終端部検出回路、6・・−・−
終端部検出信号、7・・・・・・終端部検査回路、8・
・・・・・終端部欠陥信号、10・・・・・・入力2値
化画像、11・・・・−・終端部検出マスク、12・・
・・・・パターン終端部、13・・・・・・終端部検出
マスク、14・−・・・・終端部欠陥。
第1図に示す終端部検出回路の動作を説明するための模
式図、第3図は第1図に示す終端部検査回路の動作を説
明するための模式図、第4図は従来の一例を示す模式図
である。 l・・・・・・光電変換スキャナ、2・・・・・・入力
画像、3・・・・・・2値化回路、4・・・・・・2値
化画像、5・・・・・・終端部検出回路、6・・−・−
終端部検出信号、7・・・・・・終端部検査回路、8・
・・・・・終端部欠陥信号、10・・・・・・入力2値
化画像、11・・・・−・終端部検出マスク、12・・
・・・・パターン終端部、13・・・・・・終端部検出
マスク、14・−・・・・終端部欠陥。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)検査対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を2値化画像に変換する2値化回路
、 (B)前記2値化回路より出力される2値化画像に、あ
らかじめ設定された寸法および形状の第1の終端部検出
マスクをラスタースキャンに同期して走査し、パターン
終端部のみを検出する終端部検出回路、 (C)前記終端部検出回路で検出された前記パターン終
端部で、前記第1の終端部検出マスクの寸法より指定し
た大きさだけ小さい第2の終端部検出マスクを走査して
、内部にパターン上にない点が含まれる場合に終端欠陥
として検出する終端部検査回路、 とを含むことを特徴とするパターン終端部検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238487A JPH03100873A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン終端部検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238487A JPH03100873A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン終端部検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100873A true JPH03100873A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17030977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238487A Pending JPH03100873A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン終端部検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100873A (ja) |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238487A patent/JPH03100873A/ja active Pending
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