JPH03100874A - パターン断線検出装置 - Google Patents
パターン断線検出装置Info
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- JPH03100874A JPH03100874A JP1238491A JP23849189A JPH03100874A JP H03100874 A JPH03100874 A JP H03100874A JP 1238491 A JP1238491 A JP 1238491A JP 23849189 A JP23849189 A JP 23849189A JP H03100874 A JPH03100874 A JP H03100874A
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 22
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン断線検出装置に関する。
従来の技術としては、例えば、「武藤、安藤、“プリン
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン断線検査装置がある。
ト基板の目視検査の自動化”、機械設計、２９巻、２号
、８７〜９６頁、１９８２年」に示されるように、専用
の検査マスクを用いるパターン断線検査装置がある。
従来のパターン断線検査装置について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第４図は従来の一例を示す模式図である。
第４図に示すパターン断線検出装置は、パターン１１に
対して、検査マスク３１を走査し、検査マスク３１上の
点がすべてパターン上になく、かつ、検査エリア３２に
パターン上の点がある場合に断線として検出する。
対して、検査マスク３１を走査し、検査マスク３１上の
点がすべてパターン上になく、かつ、検査エリア３２に
パターン上の点がある場合に断線として検出する。
上述した従来のパターン断線検出装置は、あらかじめ指
定した方向のみのパターン断線検査が可能であるが、こ
のためには、高精度のテーブルを使用して検査対象パタ
ーンの傾きを補正しなければならないという欠点があっ
た。
定した方向のみのパターン断線検査が可能であるが、こ
のためには、高精度のテーブルを使用して検査対象パタ
ーンの傾きを補正しなければならないという欠点があっ
た。
本発明のパターン断線検出装置は、
（Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、直
径が１からあらかじめ設定されたＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の前記円形マスクの最大直径を求め、この最大直径を算
出した位置で最大直径より１ｂｉｔ大きい円形マスクを
走査して向い合う２点がともにパターン上にない場合に
、前記最大直径を算出した位置をパターン中心として求
めて細線化画像を求めるパターン中心算出回路、 （Ｃ）前記細線化画像に対してあらかじめ設定した大き
さの断線検出マスクを走査して、前記断線検出マスクの
中心が前記細線化画像のパターン上にあり、かつ、前記
断線検出マスクと前記細線化画像のパターン部との交点
の個数を求め、前記個数が１個の場合にパターン終端部
以外で終端しているとしてパターン断線として検出する
パターン断線検出回路、 とを含んで構成される。
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、直
径が１からあらかじめ設定されたＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の前記円形マスクの最大直径を求め、この最大直径を算
出した位置で最大直径より１ｂｉｔ大きい円形マスクを
走査して向い合う２点がともにパターン上にない場合に
、前記最大直径を算出した位置をパターン中心として求
めて細線化画像を求めるパターン中心算出回路、 （Ｃ）前記細線化画像に対してあらかじめ設定した大き
さの断線検出マスクを走査して、前記断線検出マスクの
中心が前記細線化画像のパターン上にあり、かつ、前記
断線検出マスクと前記細線化画像のパターン部との交点
の個数を求め、前記個数が１個の場合にパターン終端部
以外で終端しているとしてパターン断線として検出する
パターン断線検出回路、 とを含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示すパターン断線検出装置は、（Ａ）測定対象
パターンを光電変換スキャナｌで走査して読み出した入
力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４に、直径が１からあらかじめ設定さ
れたＮｂｉｔまでの円形マスクをラスタースキャンに同
期して走査し、この走査した円形マスクの内部の点がす
べてパターン上にある場合の前記円形マスクの最大直径
を求め、この最大直径を算出した位置で最大直径より１
ｂｉｔ大きい円形マスクを走査して向い合う２点がとも
にパターン上にない場合に、前記最大直径を算出した位
置をパターン中心として求めて細線化画像６を出力する
パターン中心算出回路５、（Ｃ）細線化画像６に対して
あらかじめ設定した大きさの断線検出マスクを走査して
、前記断線検出マスクの中心が前記細線化画像のパター
ン上にあり、かつ、前記断線検出マスクと細線化画像６
のパターン部との交点の個数を求め、前記個数が１個の
場合にパターン終端部以外で終端しているとしてパター
ン断線として検出し、パターン断線信号８を出力するパ
ターン断線検出回路、 とを含んで構成される。
パターンを光電変換スキャナｌで走査して読み出した入
力画像２を２値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４に、直径が１からあらかじめ設定さ
れたＮｂｉｔまでの円形マスクをラスタースキャンに同
期して走査し、この走査した円形マスクの内部の点がす
べてパターン上にある場合の前記円形マスクの最大直径
を求め、この最大直径を算出した位置で最大直径より１
ｂｉｔ大きい円形マスクを走査して向い合う２点がとも
にパターン上にない場合に、前記最大直径を算出した位
置をパターン中心として求めて細線化画像６を出力する
パターン中心算出回路５、（Ｃ）細線化画像６に対して
あらかじめ設定した大きさの断線検出マスクを走査して
、前記断線検出マスクの中心が前記細線化画像のパター
ン上にあり、かつ、前記断線検出マスクと細線化画像６
のパターン部との交点の個数を求め、前記個数が１個の
場合にパターン終端部以外で終端しているとしてパター
ン断線として検出し、パターン断線信号８を出力するパ
ターン断線検出回路、 とを含んで構成される。
第２図は第１図に示すパターン中心算出回路の動作を説
明するための模式図である。
明するための模式図である。
検査位置Ａ１２でパターン１１に対して、直径が１から
あらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査す
ると、最大円形マスクＡ１３の内部の点がすべてパター
ン１１上にあるので、最大直径Ａ１４が求まる。
あらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査す
ると、最大円形マスクＡ１３の内部の点がすべてパター
ン１１上にあるので、最大直径Ａ１４が求まる。
しかし、検査位置Ａ１２では、最大直径Ａ１４よりも１
ｂｉｔ大きい円形マスクＣ１８を走査すると、この円形
マスクＣ１８上の向い合う２点で、ともにパターン１１
上にない点が求まらないため、パターン中心を算出しな
い。
ｂｉｔ大きい円形マスクＣ１８を走査すると、この円形
マスクＣ１８上の向い合う２点で、ともにパターン１１
上にない点が求まらないため、パターン中心を算出しな
い。
一方、検査位置Ｂ１５でパターン１１に対して、直径が
１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを
走査すると、最大円形マスク８１６の内部の点がすべて
パターンｌｌ上にあるので、最大直径Ｂ１７が求まる。
１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを
走査すると、最大円形マスク８１６の内部の点がすべて
パターンｌｌ上にあるので、最大直径Ｂ１７が求まる。
さらに、この位置で最大直径Ｂ１７よりも１ｂｉｔ大き
い円形マスクＤ１９を走査すると、この円形マスクＤ１
９上の向い合う２点ａ、ｂがともにパターン１１上にな
いので、検査位置Ｂ１５をパターン中心として出力する
。
い円形マスクＤ１９を走査すると、この円形マスクＤ１
９上の向い合う２点ａ、ｂがともにパターン１１上にな
いので、検査位置Ｂ１５をパターン中心として出力する
。
第３図は第１図に示すパターン断線検出回路の動作を説
明するための模式図である。
明するための模式図である。
パターン中心算出回路５で求めた細線化画像２１に対し
て、あらかじめ設定した大きさの断線検出マスク２２を
走査すると、検査位置Ｅ２３および検査位置Ｆ２４では
、断線検出マスク２２と細線化画像２１との交点が２個
以上求まる。
て、あらかじめ設定した大きさの断線検出マスク２２を
走査すると、検査位置Ｅ２３および検査位置Ｆ２４では
、断線検出マスク２２と細線化画像２１との交点が２個
以上求まる。
しかし、検査位置Ｄ２５では、断線検出マスク２２と細
線化画像２１との交点が１個しか求まらないため、検査
値１１Ｄ２５にパターン断線があると検出する。
線化画像２１との交点が１個しか求まらないため、検査
値１１Ｄ２５にパターン断線があると検出する。
本発明のパターン断線検出装置は、限定された方向に対
するパターン断線を検査する代りに、あらかじめ設定し
た直径の円形マスクを走査してパターン断線検査を行っ
ているので、検査対象パターンの傾きを補正することな
く検査できるという効果がある。
するパターン断線を検査する代りに、あらかじめ設定し
た直径の円形マスクを走査してパターン断線検査を行っ
ているので、検査対象パターンの傾きを補正することな
く検査できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図、第２図は
第１図に示すパターン中心算出回路の動作を説明するた
めの模式図、第３図は第１図に示すパターン断線検出回
路の動作を説明するための模式図、第４図は従来の一例
を示す模式図である。 １・・・・・・光電変換スキャナ、２・・・・・・入力
画像信号、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・
２値化画像、５−・−・・・パターン中心算出回路、６
・−・・−・細線化画像、７・・・・・−パターン断線
検出回路、８・・・・−・パターン断線信号、１１・・
・・・・パターン、１２・・−・・・検査位置Ａ、１３
・・・・・・最大円形マスクＡ、１４・・・−・−最大
直径Ａ、１５・・−・・・検査位置Ｂ、１６・・・・・
・最大円形マスクＢ、１７・・・・・・最大直径Ｂ、１
８・・・・・・円形マスクＣ１１９・−・・・・円形マ
スクＤ、２１・−・・・・細線化画像、２２・・・・・
・断線検出マスク、２３・・・・・・検査位置Ｅ、２４
・・・・・・検査位置Ｆ、２５・・−・・・検査位置Ｄ
、３１・・・・−・検査マスク、３２・・・・・・検査
エリア。 第 １ 暗
第１図に示すパターン中心算出回路の動作を説明するた
めの模式図、第３図は第１図に示すパターン断線検出回
路の動作を説明するための模式図、第４図は従来の一例
を示す模式図である。 １・・・・・・光電変換スキャナ、２・・・・・・入力
画像信号、３・・・・・・２値化回路、４・・・・・・
２値化画像、５−・−・・・パターン中心算出回路、６
・−・・−・細線化画像、７・・・・・−パターン断線
検出回路、８・・・・−・パターン断線信号、１１・・
・・・・パターン、１２・・−・・・検査位置Ａ、１３
・・・・・・最大円形マスクＡ、１４・・・−・−最大
直径Ａ、１５・・−・・・検査位置Ｂ、１６・・・・・
・最大円形マスクＢ、１７・・・・・・最大直径Ｂ、１
８・・・・・・円形マスクＣ１１９・−・・・・円形マ
スクＤ、２１・−・・・・細線化画像、２２・・・・・
・断線検出マスク、２３・・・・・・検査位置Ｅ、２４
・・・・・・検査位置Ｆ、２５・・−・・・検査位置Ｄ
、３１・・・・−・検査マスク、３２・・・・・・検査
エリア。 第 １ 暗
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を２値化画像に変換する２値化回路
、 （Ｂ）前記２値化回路より出力される２値化画像に、直
径が１からあらかじめ設定されたＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の前記円形マスクの最大直径を求め、この最大直径を算
出した位置で最大直径より１ｂｉｔ大きい円形マスクを
走査して向い合う２点がともにパターン上にない場合に
、前記最大直径を算出した位置をパターン中心として求
めて細線化画像を求めるパターン中心算出回路、 （Ｃ）前記細線化画像に対してあらかじめ設定した大き
さの断線検出マスクを走査して、前記断線検出マスクの
中心が前記細線化画像のパターン上にあり、かつ、前記
断線検出マスクと前記細線化画像のパターン部との交点
の個数を求め、前記個数が１個の場合にパターン終端部
以外で終端しているとしてパターン断線として検出する
パターン断線検出回路、 とを含むことを特徴とするパターン断線検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238491A JPH03100874A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン断線検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238491A JPH03100874A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン断線検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100874A true JPH03100874A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17031038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238491A Pending JPH03100874A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン断線検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100874A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010096544A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 配線検査装置及び配線検査方法 |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238491A patent/JPH03100874A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010096544A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 配線検査装置及び配線検査方法 |
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