JPH03100880A - パターン幅測定装置 - Google Patents
パターン幅測定装置Info
- Publication number
- JPH03100880A JPH03100880A JP1238486A JP23848689A JPH03100880A JP H03100880 A JPH03100880 A JP H03100880A JP 1238486 A JP1238486 A JP 1238486A JP 23848689 A JP23848689 A JP 23848689A JP H03100880 A JPH03100880 A JP H03100880A
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- Japan
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- pattern
- pattern width
- maximum diameter
- circular mask
- diameter
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はパターン幅測定装置に関する。
従来の技術としては、例えば、測定範囲を指定して内部
に含まれている対象パターンのパターン幅を測定するパ
ターン幅測定装置がある。
に含まれている対象パターンのパターン幅を測定するパ
ターン幅測定装置がある。
従来のパターン幅測定装置について図面を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
第４図は従来の一例を示す模式図である。
第４図に示すパターン幅測定装置は、測定範囲２０内で
の複数個のパターン幅測定ライン２１上で、パターン１
１上にある点の個数を求めて、さらに、求めた値を平均
化することにより、パターン幅を算出していた。
の複数個のパターン幅測定ライン２１上で、パターン１
１上にある点の個数を求めて、さらに、求めた値を平均
化することにより、パターン幅を算出していた。
上述した従来のパターン幅測定装置は、あらかじめ指定
した位置でのパターン幅測定のみが可能であり、光電変
換スキャナで入力した画像全体でのパターン幅測定がで
きなく、また、斜め方向のパターン幅測定ができないと
いう欠点があった。
した位置でのパターン幅測定のみが可能であり、光電変
換スキャナで入力した画像全体でのパターン幅測定がで
きなく、また、斜め方向のパターン幅測定ができないと
いう欠点があった。
本発明のパターン幅測定装置は、
（Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を論理“１”、論理“０”の２値化
画像に変換する２値化回路、（Ｂ）前記２値化画像に、
直径が１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の円形マスクの最大直径を求め、最大直径信号を出力す
る最大直径算出回路、 （Ｃ）前記最大直径を算出した位置で、最大直径よりｌ
ｂｉ を大きい円形マスクを走査して向い合う２点がと
もにパターン上にない場合に、前記最大直径をパターン
幅として求め、パターン幅信号を出力するパターン幅算
出回路、 （Ｄ）前記パターン幅信号を、各パターン幅に応じて累
積加算し、パターン測定値信号を出力するパターン幅累
積回路、 とを含んで構成される。
読み出した入力画像を論理“１”、論理“０”の２値化
画像に変換する２値化回路、（Ｂ）前記２値化画像に、
直径が１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の円形マスクの最大直径を求め、最大直径信号を出力す
る最大直径算出回路、 （Ｃ）前記最大直径を算出した位置で、最大直径よりｌ
ｂｉ を大きい円形マスクを走査して向い合う２点がと
もにパターン上にない場合に、前記最大直径をパターン
幅として求め、パターン幅信号を出力するパターン幅算
出回路、 （Ｄ）前記パターン幅信号を、各パターン幅に応じて累
積加算し、パターン測定値信号を出力するパターン幅累
積回路、 とを含んで構成される。
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すブロック図である。
第１図に示すパターン幅測定装置は、
（Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナ１で走査し
て読み出した入力画像２を論理“１”、論理“Ｏ”の２
値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４に、直径が１からあらかじめ設定し
たＮｂｉｔまでの円形マスクをラスタースキャンに同期
して走査し、この走査した円形マスクの内部の点がすべ
てパターン上にある場合の円形マスクの最大直径を求め
、最大直径信号６を出力する最大直径算出回路５、 （Ｃ）前記最大直径を算出した位置で、最大直径より１
ｂｉｔ大きい円形マスクを走査して向い合う２点がとも
にパターン上にない場合に、前記最大直径をパターン幅
として求め、パターン幅信号８を出力するパターン幅算
出回路７、（Ｄ＞パターン幅信号８を、各パターン幅に
応じて累積加算し、パターン測定値信号１０を出力する
パターン幅累積回路９、 とを含んで構成される。
て読み出した入力画像２を論理“１”、論理“Ｏ”の２
値化画像４に変換する２値化回路３、 （Ｂ）２値化画像４に、直径が１からあらかじめ設定し
たＮｂｉｔまでの円形マスクをラスタースキャンに同期
して走査し、この走査した円形マスクの内部の点がすべ
てパターン上にある場合の円形マスクの最大直径を求め
、最大直径信号６を出力する最大直径算出回路５、 （Ｃ）前記最大直径を算出した位置で、最大直径より１
ｂｉｔ大きい円形マスクを走査して向い合う２点がとも
にパターン上にない場合に、前記最大直径をパターン幅
として求め、パターン幅信号８を出力するパターン幅算
出回路７、（Ｄ＞パターン幅信号８を、各パターン幅に
応じて累積加算し、パターン測定値信号１０を出力する
パターン幅累積回路９、 とを含んで構成される。
第２図は第１図に示す最大直径算出回路の動作を説明す
る模式図である。
る模式図である。
検査位置ＡＩ２で、パターン１１に対して、直径が１か
らあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査
すると、最大円形マスクＡ１３の内部の点がすべてパタ
ーンｌｌ上あるので、最大直径Ａ１３が求まる。
らあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査
すると、最大円形マスクＡ１３の内部の点がすべてパタ
ーンｌｌ上あるので、最大直径Ａ１３が求まる。
また、検査位置Ｂ１５でパターン１１に対して、直径が
１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを
走査すると、最大円形マスクＢ１６の内部の点がすべて
パターン１１上あるので、最大直径Ｂ１７が求まる。
１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを
走査すると、最大円形マスクＢ１６の内部の点がすべて
パターン１１上あるので、最大直径Ｂ１７が求まる。
第３図は第１図に示すパターン幅算出回路の動°作を説
明する模式図である。
明する模式図である。
検査位置ＡＩ２では、最大直径算出回路５で算出した最
大直径Ａ１４より１ｂｉｔ大きい円形マスクＣ１８を走
査すると、円形マスクＣ１８上の向い合う２点で、とも
にパターン１１上にない点が求まらないため、パターン
幅として算出しない 一方、検査位置Ｂ１５では、最大直径算出回路５で算出
した最大直径Ｂ１７より１ｂｉｔ大きい円形マスクＤ１
９を走査すると、円形マスクＤ１９の向い合う２点ａ、
ｂがともにパターン１１上にないので、最大直径Ｂ１７
をパターン幅として出力する。
大直径Ａ１４より１ｂｉｔ大きい円形マスクＣ１８を走
査すると、円形マスクＣ１８上の向い合う２点で、とも
にパターン１１上にない点が求まらないため、パターン
幅として算出しない 一方、検査位置Ｂ１５では、最大直径算出回路５で算出
した最大直径Ｂ１７より１ｂｉｔ大きい円形マスクＤ１
９を走査すると、円形マスクＤ１９の向い合う２点ａ、
ｂがともにパターン１１上にないので、最大直径Ｂ１７
をパターン幅として出力する。
本発明のパターン幅測定装置は、パターン幅測定ライン
上で、のパターン幅を算出する代りに、直径が１からあ
らかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査して
パターン幅測定を行なっているので、光電変換スキャナ
で入力した画像全体でのパターン幅測定ができ、かつ、
斜め方向のパターンについてもパターン幅測定ができる
という効果がある。
上で、のパターン幅を算出する代りに、直径が１からあ
らかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マスクを走査して
パターン幅測定を行なっているので、光電変換スキャナ
で入力した画像全体でのパターン幅測定ができ、かつ、
斜め方向のパターンについてもパターン幅測定ができる
という効果がある。
径Ａ、１５・・・・・・検査位置Ｂ、１６・・・・・・
最大円形マスクＢ、１７・・−・・・最大直径Ｂ、１８
・・・・−・円形マスクＣ１１９・・・・・・円形マス
クＤ、２０・・・・−・測定範囲、２２・・・・・・パ
ターン幅測定ライン。
最大円形マスクＢ、１７・・−・・・最大直径Ｂ、１８
・・・・−・円形マスクＣ１１９・・・・・・円形マス
クＤ、２０・・・・−・測定範囲、２２・・・・・・パ
ターン幅測定ライン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （Ａ）測定対象パターンを光電変換スキャナで走査して
読み出した入力画像を論理“１”、論理“０”の２値化
画像に変換する２値化回路、（Ｂ）前記２値化画像に、
直径が１からあらかじめ設定したＮｂｉｔまでの円形マ
スクをラスタースキャンに同期して走査し、この走査し
た円形マスクの内部の点がすべてパターン上にある場合
の円形マスクの最大直径を求め、最大直径信号を出力す
る最大直径算出回路、 （Ｃ）前記最大直径を算出した位置で、最大直径より１
ｂｉｔ大きい円形マスクを走査して向い合う２点がとも
にパターン上にない場合に、前記最大直径をパターン幅
として求め、パターン幅信号を出力するパターン幅算出
回路、
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238486A JPH03100880A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン幅測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1238486A JPH03100880A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン幅測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100880A true JPH03100880A (ja) | 1991-04-25 |
Family
ID=17030961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1238486A Pending JPH03100880A (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | パターン幅測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03100880A (ja) |
-
1989
- 1989-09-14 JP JP1238486A patent/JPH03100880A/ja active Pending
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