JPH0310528U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0310528U JPH0310528U JP7007089U JP7007089U JPH0310528U JP H0310528 U JPH0310528 U JP H0310528U JP 7007089 U JP7007089 U JP 7007089U JP 7007089 U JP7007089 U JP 7007089U JP H0310528 U JPH0310528 U JP H0310528U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- wafer
- susceptor
- periphery
- wafer tray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 11
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第1図は本考案の一例に係るウエハトレイの縦
断面図。第2図は本考案の一例に係るサセプタの
縦断面図。第3図は本考案の一例に係るトレイ受
台の縦断面図。第4図はサセプタにウエハトレイ
を戴置したものの縦断面図。第5図はウエハトレ
イをトレイ受台に戴置したものの縦断面図。第6
図は気相成長装置の一例を示す平面図。第7図は
同じものの縦断面図。第8図は実施例に係るトレ
イ受台の平面図。第9図は同じトレイ受台の正面
図。第10図はフオークの平面図。第11図は第
10図の−断面図。第12図は従来例に係る
ウエハトレイ、サセプタの嵌合状態を示す縦断面
図。 1……ウエハトレイ、2……ウエハ戴置部、3
……裏板部、4……周縁、5……内傾斜周面、6
……サセプタ、7……上面部、8……外傾斜周面
、9……サセプタ指示シヤフト、10……円筒周
面、11……ウエハ、12……トレイ受台、13
……上面部、14……下面部、15……外傾斜周
面、16……取付柄部、17……穴、19……ト
レイ受台ベース板、21……垂直壁、23……カ
セツト、25,26……ゲートバルブ、27……
直線導入機、28……搬送装置、F……ロードロ
ツク室、G……成長室、H……ゲートバルブ、s
……サセプタとウエハトレイの間隙、t……トレ
イ受台とトレイの間隙。
断面図。第2図は本考案の一例に係るサセプタの
縦断面図。第3図は本考案の一例に係るトレイ受
台の縦断面図。第4図はサセプタにウエハトレイ
を戴置したものの縦断面図。第5図はウエハトレ
イをトレイ受台に戴置したものの縦断面図。第6
図は気相成長装置の一例を示す平面図。第7図は
同じものの縦断面図。第8図は実施例に係るトレ
イ受台の平面図。第9図は同じトレイ受台の正面
図。第10図はフオークの平面図。第11図は第
10図の−断面図。第12図は従来例に係る
ウエハトレイ、サセプタの嵌合状態を示す縦断面
図。 1……ウエハトレイ、2……ウエハ戴置部、3
……裏板部、4……周縁、5……内傾斜周面、6
……サセプタ、7……上面部、8……外傾斜周面
、9……サセプタ指示シヤフト、10……円筒周
面、11……ウエハ、12……トレイ受台、13
……上面部、14……下面部、15……外傾斜周
面、16……取付柄部、17……穴、19……ト
レイ受台ベース板、21……垂直壁、23……カ
セツト、25,26……ゲートバルブ、27……
直線導入機、28……搬送装置、F……ロードロ
ツク室、G……成長室、H……ゲートバルブ、s
……サセプタとウエハトレイの間隙、t……トレ
イ受台とトレイの間隙。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 上面にウエハを戴置すべきウエハ戴置部2
が穿たれ下面にはサセプタへ差し込むための穴が
周縁4を残して穿たれ、該穴の中央の平坦な裏板
部3と周縁4底部とを結ぶ周面が上で狭く下で広
くなるよう傾斜した内傾斜周面5となつているウ
エハトレイ1と、平坦な上面部7と側周部の少な
くとも上方の一部に形成され上で狭く下で広い外
傾斜周面8とを有するサセプタ6とよりなり、ウ
エハトレイ1がサセプタ6の上に置かれた時両者
が内外傾斜周面5,8によつて接触するようにし
た事を特徴とするウエハトレイ・サセプタの形状
。 (2) 平坦な上面部13、下面部14と、取付柄
部16と、上面部13と下面部14を結ぶ周面で
あつて上で狭く下で広くなるよう傾斜する外傾斜
周面15とを有するトレイ受台12と、上面にウ
エハを戴置すべきウエハ戴置部2が穿たれ下面に
はトレイ受台12へ差し込むための穴が周縁4を
残して穿たれ、該穴の中央の平坦な裏板部3と周
縁4底部とを結ぶ周面が上で狭く下で広くなるよ
う傾斜した内傾斜周面5となつているウエハトレ
イ1とよりなり、ウエハトレイ1をトレイ受台1
2の上へ戴置させる際、ウエハトレイ1が内外傾
斜周面5,15によつて案内され、ウエハトレイ
1の周縁4の底がトレイ支持部31と取付柄部1
6に接触するようにした事を特徴とするウエハト
レイ・トレイ受台の形状。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7007089U JPH0627952Y2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | ウエハトレイ・サセプタ・トレイ受台の形状 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7007089U JPH0627952Y2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | ウエハトレイ・サセプタ・トレイ受台の形状 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0310528U true JPH0310528U (ja) | 1991-01-31 |
| JPH0627952Y2 JPH0627952Y2 (ja) | 1994-07-27 |
Family
ID=31605926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7007089U Expired - Fee Related JPH0627952Y2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | ウエハトレイ・サセプタ・トレイ受台の形状 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0627952Y2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05198663A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Hitachi Ltd | 試料搬送ホルダ |
| JP2008258508A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Sharp Corp | 気相成長装置及び気相成長方法 |
| US7780440B2 (en) | 2004-10-19 | 2010-08-24 | Canon Anelva Corporation | Substrate supporting/transferring tray |
| CN111926305A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-13 | 厦门乾照半导体科技有限公司 | 一种用于led晶圆制程的载盘 |
-
1989
- 1989-06-15 JP JP7007089U patent/JPH0627952Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05198663A (ja) * | 1992-01-21 | 1993-08-06 | Hitachi Ltd | 試料搬送ホルダ |
| US7780440B2 (en) | 2004-10-19 | 2010-08-24 | Canon Anelva Corporation | Substrate supporting/transferring tray |
| JP2008258508A (ja) * | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Sharp Corp | 気相成長装置及び気相成長方法 |
| CN111926305A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-13 | 厦门乾照半导体科技有限公司 | 一种用于led晶圆制程的载盘 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0627952Y2 (ja) | 1994-07-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |