JPH031052Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、例えば金属を薬品で処理した時に発
生する硝酸ガスや硫酸ガス等の有害ガスを除去す
る装置に関する。

（従来の技術） 例えば、スクラツプには、金、銀、銅、亜鉛、
ニツケル、コバルトなどの各種の金属が含まれて
いることが多いが、これらをスクラツプから回収
する場合、被処理物に硝酸や硫酸等の薬品を作用
させることが行われる。その際、硝酸ガスや硫酸
ガス（一般的には所謂NOxやSOx）などの有害
ガスが発生するが、この種のガスをそのまま外部
に排出したのでは環境が汚染されることになる。

そこで、このような有害ガスを除去ないし無害
化処理するために、従来においては、処理室内に
導入された被処理ガス（有害ガス）に対して水や
中和剤等を霧状ないしシヤワー状にして接触さ
せ、或いは有害ガスの移動経路途中に砂、プラス
チツク屑、コークス、活性炭等でなる有害ガス処
理用の遮蔽材を設けてその中を被処理ガスが通過
するようにした有害ガス処理装置が用いられてい
る。尚、この種の処理装置には、上記の２方法を
併用するように構成されたものもある。

（考案が解決しようとする課題） 然し乍ら、従来における上記のような有害ガス
処理装置は、比較的大掛かりで高価であるにも拘
わらず、それに見合うだけの処理効果が得られて
いないという問題があつた。

本考案は、このような実情に鑑みてなされたも
ので、酸ガス等の有害ガスを除去する装置とし
て、比較的コンパクトで且つ簡素な構成でありな
がら有害ガスを除去する能力に優れた有害ガス除
去装置を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するため、本考案に係る水滴落
下式有害ガス除去装置は、上下方向に多段に区画
形成された複数の処理室と、これらの処理室の天
井部または底部を形成する複数の水平板とを有
し、これらの水平板に、その上面側に供給される
処理水を下面側の処理室内に雨垂れ状に落下させ
る多数の水滴落下用の小孔と、当該水平板の直上
及び直下に位置する処理室の一方から他方に被処
理ガスが移動し得るように両処理室を連通させる
連通部とを夫々設けると共に、最上段処理室の天
井部を形成している水平板の上面側に処理水を供
給する処理水供給通路と、最下段処理室の下部に
溜まる処理水を外部に排出する排水路と、最上段
または最下段の処理室の何れか一方の処理室に被
処理ガスを導入する被処理ガス導入通路と、その
他方の処理室内における処理済のガスを外部に排
出する排気通路とを備えたことを特徴とする。

（作用） 上記の構成によれば、次のようにして被処理ガ
ス中の有害成分が除去される。

先ず、最上段処理室の天井部を形成している水
平板の上面側に処理水供給通路を介して処理水が
供給される。この処理水は、その供給量ないし水
位が所定値を越えた時に上記水平板における多数
の小孔から雨垂れ状態で下方の処理室内に落下し
てその底部に溜まる。そして、この溜まり水の水
位が所定値を越えると上記の場合と同様にして下
方の処理室内に落下する。このようにして最下段
の処理室まで上方からの処理水が各水平板におけ
る多数の孔を介して雨垂れ状態で順次落下し、最
終的には最下段処理室の下部に溜まると共に、そ
の溜まり水の量が設定値を越えないように、余分
の処理水が排水路を介して外部に排出される。

一方、このような状態で、最上段の処理室内に
被処理ガス導入通路を介して被処理ガスが導入さ
れる。この被処理ガスは各水平板に形成された連
通部を通つて下段側に位置する処理室内に順次拡
散しながら移動する。その際、各処理室内の天井
部から雨垂れ状に落下する水滴（処理水）が、上
昇しようとする被処理ガスに対し上方から叩き付
けるようにして接触すると共に、該ガスを絶えず
水面側に押さえるように作用する。また、その一
方で水滴落下により水面が波打つと同時に飛沫が
生じることから、上記ガスと処理水との接触面積
が全体として広くなる。そして、これらの作用が
相俟つて被処理ガス中の有害成分が次々と洗浄除
去されて行くことになる。

尚、このようにして有害成分が除去された処理
済のガスは、最終的には最下段の処理室内から排
気通路を介して室外に排出される。

（実施例） 以下、本考案の実施例を説明する。

第１，２図に示すように、この実施例に係る水
滴落下式有害ガス除去装置１は、基本的には、底
部及び周壁部を夫々備えて支持台２上に積み重ね
られた複数（図例では６個）の箱体３〜８によつ
て構成されている。換言すると、支持台２上に先
ず最下段の箱体８が載置され、更に該箱体８の上
方にその他の箱体３〜７が積み重ねられているの
である。そして、相対的に上段に位置する箱体の
底部を形成している当該水平板９が、その直下に
位置する下段の箱体の天井部を形成するようにな
つている。

また、この状態で、最上段の箱体３の内部が処
理水供給室１０とされ、且つ該箱体３を除く他の
箱体４〜８の内部が上方から順番に第１第５処理
室１１〜１５とされている。これら各室のうち処
理水供給室１０の一側部（図面上、右側部）に
は、該供給室１０内に外部から処理水を供給する
処理水供給通路１６が接続されていると共に、そ
の直下に位置する第１処理室１１の反対側の側部
（図面上、左側部）には、外部から該室１１内に
被処理ガスを導入する被処理ガス導入通路１７が
接続されている。

更に、上記処理室１１〜１５の天井部を夫々形
成している各水平板９，９には、多数の水滴落下
用小孔９ａ，９ａが夫々設けられている。そし
て、このうち最上段の水平板９，９₁を除く他の
水平板９，９には、上記被処理ガス導入通路１７
を介して第１処理室１１内に導入される被処理ガ
スが下方の第２〜第４処理室１２〜１４を通つて
最下段の第５処理室１５へと順次移動し得るよう
に、第１〜第４の各連通路１８〜２１が設けられ
ている。

その場合、この実施例においては、被処理ガス
の移動経路が最も長くなるように、第１連通路１
８（最上方に位置する連通路）及び第３連通路２
０が右側部に、また第２連通路１９及び第４連通
路２１が左側部に夫々配置されている。そして、
これらの連通路１８〜２１の上端開口部が所定の
高さに夫々設定されていることにより、第１〜第
４処理室１１〜１４の底部に溜まる処理水が一定
水位を越えないようになつている。

一方、最下段の第５処理室１５には、図面上、
処理水排水用の排水路２２が左側部に、また処理
済ガス排出用の排気通路２３が右側部に夫々接続
されている。このうち排水路２２は、第５処理室
１５内の底部に溜まつた処理水が所定水位を越え
た時に、その越えた分を外部に排出することによ
り該室内底部における処理水の溜まり量を一定に
保つようになつている。また、排気通路２３は、
当該最下段処理室１５内における処理済のガスを
外部に排出するようになつている。

ここで、本考案の特徴部分たる上記小孔９ａ，
９ａについて更に詳しく説明する。

これらの小孔９ａ，９ａは、第３図に示すよう
に当該水平板９の全面に渡つて比較的高密度に設
けられている。その場合、その直上方処理室の底
部に溜まつた処理水の水圧ないし水位が所定の一
定範囲にある条件下で、その溜まつた処理水が各
小孔９ａを通つて直下の処理室内にシヤワー状で
はなく雨垂れ状に雫となつて落下するように各小
孔９ａの直径が設定されている。また、各小孔９
ａの下端周囲つまり水平板９の下面側における各
小孔周辺部には、例えば第４，５図に示すような
凹部９ｂや凸部９ｃ、更には突部９ｄが必要に応
じて形成されていることにより、上記の雨垂れ状
に落下する処理水が当該水平板９の下面に沿つて
水平方向に逃げるのを防止するようになつてい
る。ここで、上記第４，第５図に示されている凹
凸形状は一例であり、小孔周辺部の形状がこのよ
うなものに限らないのは勿論である。

尚、この実施例においては、上記箱体３〜８を
水平に保つことができるように支持台２の四隅に
ネジ及びナツトでなる水平状態調整手段２４，２
４が配設されている。また、特に最上段の箱体３
には天板２５が設けられており、この天板２５と
当該箱体３の底部（水平板９₁）及び周壁部とに
より処理水供給室１０が密閉されるようになつて
いる。更に、この天板２５の上面側に断面コ字状
の固定用金具２６，２６を前後方向に２本セツト
して、それらの金具２６，２６の各両端部と支持
台２とをロツド２７，２７で夫々連結すると共
に、それらのロツド２７，２７の当該連結部に螺
合されたナツト２８，２８を締め付けることによ
り、最上段から最下段までの箱体３〜８が一体と
なつて支持台２上に固定されるようになつてい
る。

次に、上記実施例の作用を説明する。

水滴落下式有害ガス除去装置１においては、処
理すべきガスが第１処理室１１内に供給される以
前に、先ず、第１処理室１１の天井部を形成して
いる水平板９₁の上面側つまり処理水供給室１０
に処理水供給通路１６を介して外部から処理水が
予め供給される。この処理水は、その供給室１０
内への供給量または該室１０における水位が所定
値を越えた時に、水平板９₁の全面に亘つて比較
的密に設けられた多数の小孔９ａ，９ａから雨垂
れ状態で下方の処理室内に落下してその底部に溜
まる。

その場合、処理水が該底部に少しでも溜まる
と、その水面に上記雨垂れ状に落下する処理水の
水滴が当たり、その飛沫が周辺に飛散する。従つ
て、第１処理室１１内においては、その天井部か
ら下方に処理水の水滴が雨垂れ状に絶えず落下
し、しかも該水滴の落下によつて室内の到るとこ
ろに飛沫が生ずると共に、その底部に溜まつた処
理水の水面が絶えず波打つたような状態となる。

次に、このようにして第１処理室１１内の底部
に溜まつた処理水は、その水位が所定値を越える
と上記供給室１０の場合と同様にして下方の第２
処理室１２内に落下するが、この場合は特に第１
処理室１１内の溜まり水の水面が上記のようにし
て波打つた状態となつているので、換言すれば水
滴落下による荷重が当該水面部分に間歇的に作用
するので、第２処理室１２内においては処理水が
雨垂れ状に落下する現象が一層生じ易くなる。そ
して、これと同様のことが下方の第３〜第５処理
室１３〜１５内で順次繰り返されて、最終的には
処理水が最下段の第５処理室１５内の底部に溜ま
る。このようにして第５処理室１５内の底部に溜
まる処理水は、排水路２２によつて排水可能とな
る所定の水位に達すると、その水位を越えた分が
該排水路２２を介して外部に自然に排出される。

然して、この水滴落下式有害ガス除去装置１に
あつては、上記のようにして各処理室１１〜１５
において処理水が絶えず雨垂れ状に落下している
状態で、上記第１処理室１１内の一側部に被処理
ガス導入通路１７を介して外部から被処理ガスが
導入される。

この被処理ガスは、第１処理室１１内で拡散し
ながら上記一側部から反対側の他側部に向けて流
動する。その際、第１処理室１１内の天井部から
雨垂れ状に落下する水滴（処理水）が、上昇しよ
うとする被処理ガスに対し上方から叩き付けるよ
うにして接触すると共に、該ガスを絶えず水面側
に押さえるように作用する。また、その一方で水
滴落下により水面が波打つと同時に飛沫が生じる
ことから、上記ガスと処理水との接触面積が全体
として広くなる。そして、これらの作用が相俟つ
て被処理ガス中の有害成分が次々と洗浄除去され
て行くことになる。

更に、このようにして先ず第１処理室１１内で
洗浄された被処理ガスは、第１連通路１８を通つ
て直下の第２処理室１２内へと流れ込み、第１処
理室１１における場合と同様にして更に洗浄処理
される。そして、以下の第３、第４処理室１３，
１４においても同様の処理が繰り返して行われ、
最終的には最下段の第５処理室１５の一側部に接
続されたら排気通路２３を介して室外に排出され
る。

従つて、この水滴落下式有害ガス除去装置１に
よれば、従来のシヤワー式有害ガス除去装置のよ
うに処理水を嫌つてその死角に被処理ガスが逃げ
込んで、処理水と被処理ガスとの接触面積が水さ
くなつたり或いは接触時間が短くなつたりすると
いつた事態が起こらず、しかも複数の箱体３〜８
を積み重ねた簡素な構成でありながら、極めて効
果的に被処理ガスが洗浄されて、その中の有害成
分が除去されることになる。

また、その場合、処理水は上方の供給室１０か
ら最下段の第５処理室１５に達するまで順次落下
することにより各処理室内で繰り返し使用される
から、その分だけ従来装置に比べて処理水の量を
節約することができる。

そして、特に上記実施例によれば、被処理ガス
が複数の処理室１１〜１５内を通過する場合の距
離が最も長くなるように構成されているので、こ
の点からも処理水と被処理ガスとの接触面積はな
いし接触時間の増大といつた効果が得られること
になる。

ところで、上記の実施例において、被処理ガス
を大気圧以上に加圧した状態で第１処理室１１内
に供給すると、該室１１の内圧上昇に伴つて天井
部からの処理水落下が停止する事態が生ずる。し
かし、この場合、上方の処理水供給室１０は上述
のように密閉空間とされているから、上記処理水
落下の停止によつて該供給室１０内の水位が上昇
すると共に、その内圧も上昇する。その結果、被
処理ガスの導入開始時から所定時間が経過する
と、供給室１０の内圧と第１処理室１１の内圧と
が釣り合つた状態となり、その状態で処理水が再
び天井部から雨垂れ状に落下することになる。

要するに、上記実施例の水滴落下式有害ガス除
去装置１においては、密閉された処理水供給室１
０内の水位が被処理ガスの圧力（供給圧ないし搬
入圧）に応じて自動的に変動することによつて、
被処理ガスの圧力の大小に拘わらず処理水が雨垂
れ状に落下するようになつているのである。

尚、上記の実施例では被処理ガスを上段側から
供給する構成としたが、逆に下段側から被処理ガ
スを供給して上段側から処理済のガスを排出させ
るようにしてもよい。その場合、被処理ガスの供
給圧ないし搬入圧が高いと、最初に該ガスが導入
される処理室の直上の処理室において水位が上昇
する事態が生じるので、これらの処理室を互いに
連通させている当該連通路の上端を予め所定量だ
け高めに設定しておくことが望ましい。

更に、上記実施例の水滴落下式有害ガス除去装
置１は、６個の箱体３〜８を積み重ねた構成であ
るが、本考案はこれに限るものではない。つま
り、この種の箱体（換言すると処理室）の段数は
被処理ガスの量、性質、濃度等に応じて増減され
るものである。その場合、上記実施例のような構
成によれば、支持台２上に箱体３〜８を固定させ
ているナツト２８，２８等を取り外すだけで簡単
に箱体の段数を増やしたり減らしたりすることが
できる。

（考案の効果） 以上のように本考案によれば、酸ガス等の有害
ガスを除去する装置として、比較的コンパクトで
且つ簡素な構成でありながら有害ガスを除去する
能力に優れた有害ガス除去装置が実現されること
になる。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示すもので、第１図
は水滴落下式有害ガス除去装置の縦断正面図、第
２図は第１図−線で切断した縦断側面図、第
３図は第１図−線で切断した横断面図、第４
図は水滴落下用小孔の周辺を示す要部拡大図、第
５図は第４図−線で切断して上記小孔の周辺
部分の断面と水滴の落下状態を示す縦断面図であ
る。 １……水滴落下式有害ガス除去装置、９，９₁
……水平板、１１，１２，１３，１４，１５……
処理室（１１……最上段処理室、１５……最下段
処理室）、１６……処理水供給通路、１７……被
処理ガス導入通路、１８，１９，２０，２１……
連通部（第１〜第４の各連通路）、２２……排水
路、２３……排気通路。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 水滴の落下を利用して有害ガスを除去する装置
   であつて、上下方向に多段に区画形成された複数
   の処理室と、これらの処理室の天井部または底部
   を形成する複数の水平板とを有し、これらの水平
   板には、その上面側に供給される処理水を下面側
   の処理室内に雨垂れ状に落下させる多数の水滴落
   下用の小孔と、当該水平板の直上及び直下に位置
   する処理室の一方から他方に被処理ガスが移動し
   得るように両処理室を連通させる連通部とが夫々
   設けられていると共に、最上段処理室の天井部を
   形成している水平板の上面側に処理水を供給する
   処理水供給通路と、最下段処理室の下部に溜まる
   処理水を外部に排出する排水路と、最上段または
   最下段の処理室の何れか一方の処理室に被処理ガ
   スを導入する被処理ガス導入通路と、その他方の
   処理室内における処理済のガスを外部に排出する
   排気通路とが備えられていることを特徴とする水
   滴落下式有害ガス除去装置。