JPH03106887A - γ位にシリル基を有する光学活性ケトアルコール及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産東上生立且允夏 本発明は，それ自体生理活性物質として有用である上、
分子構造中に２級アリルアルコール骨格を含み，かつ、
分子内に連続する２つの不斉中心を有するプロスタグラ
ンジン等の各種生纏活性物質の合成中間体として有用な
γ位にシリル基を有する光学活性アルコール類及びその
保護体並びにそれらの製造方法に関する． の　　　び　　が　　しようとする課 ２級アリルアルコールはそれ自体有用な化合物であり、
また、有用な合成中間体として従来より広く認められて
いる．特に、近年分子構造中に２級アリルアルコールの
骨格を含む各種生理活性化合物が広く知られるようにな
っているが、これらの化合物の多くは光学活性体であり
、２級アリルアルコールの光学活性体の合或は工業的に
重要な課題となっている． 特に、最終目的化合物（多くは光学活性なアリルアルコ
ールの骨格をその分子構造中に含み，一層複雑な化合物
及びその立体異性体となっている）の合戒を考えた場合
、これらのものを有利に合威できる中間体として種々の
反応操作が極めて容易に行なえる光学活性を有するアリ
ルアルコールが望まれている．このような光学活性アリ
ルアルコールとして、例えばγ位にハロゲン原子を有す
る下記一般式 １゜ぺ督）／Ｒ 二 ＯＨ （但し、Ｒは炭素数１〜１０の置換もしくは未置換のア
ルキル基又は置換もしくは未置換のフェニル基である．
） で示される光学活性アリルアルコールは、新しい型の医
薬品であるプロスタグランジン系化合物の合威に非常に
重要な合威中間体として知られている（特願昭６２−２
３８１６９号）． 更に、近年，プロスタグランジンの一種である下記式 は、下記反応式に示すように，ネロールの不斉シャープ
レス反応によって得られるエポキシアルコールから９段
階でγ位にスズを有する２Ｉ＆アリルアルコールを合威
する方法（Ｎ，　Ｋｏｌｂ等、Ｔｓｔｒａｈｅｄｒｏｎ
．　Ｌｓｔｔ．，　２　９　．　８　７　ｅ　９　，（
１９８８））が知られている． で示されるメキシプロスチル（Ｍｅｘｉｐｒｏｓｔｉｌ
）のω鎖などに有用な合或中間体して分子内に連続する
２つの不斉中心を有する２級アリルアルコールが望まれ
ている． 従来、メキシプロスチルのω鎖の合成法とじて二 〇Ｓ１く しかし、上記合成方法では不斉シャープレス反応の選択
性が低く、中間体の光学純度が医薬品の中間体としては
不十分なものであり、合成後に煩雑な精製が必要である
という問題があった．本発明は，上記事情に鑑みなされ
たもので．光学純度が高く、それ自体生理活性物質とし
て有用である上、分子内に連続する２つの不斉中心を有
する２級アリルアルコールを分子構造中に骨格として含
むプロスタグランジン等の各種生理活性物質の合成中間
体として有用なγ位にシリル基を有する光学活性アルコ
ール類及びその製造方法を提供することを目的とする． を　　するための　　　び 本発明者は、上記目的を達或するため鋭意検討を重ねた
結果、先に本出願人が特願昭６３−５７０１７号に提案
した下記一般式 ープレス反応を行なうことによって得られる下記一般式
（Ｖ） 及び下記一般式（ＶＩ） （式中、Ｒｔ　，　Ｒ＠　，　Ｒ　３は上記と同様であ
る，）で示される光学活性エポキシアルコールは光学純
度が極めて高く，これら光学活性エポキシアルコールを
それぞれ下記反応式 （式中，Ｒ″，Ｒ”，Ｒ”はそれぞれ炭素数１〜１０の
置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置
換のフエニル基で、互いに同一であっても興なっていて
もよい．以下同様．）で示されるジアリルアルコールに
対して不斉シャＯＨ ０ｘ （Ｉ［Ｉ） のように誘導して一般式（Ｉｆｆｌ，（ｆＶ）の光学活
性アルコールを得，この（ｍ）式又は（ｍＶ）式の光学
活性アルコールを蒙化することにより、下記一般式（１
） 又は下記一般式（ｎ） Ｏｘ ＯＸ （但し　Ｒ４は炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の
アルキル基又は置換もしくは未置換のフエニル基であり
、Ｘは水素原子又は水酸基の保護基である．） で示される新規なγ位にシリル基を有する光学活性ケト
アルコール及びその保護体を高い光学純度で合成でき、
しかも，これら光学活性ケトアルコール及びその保護体
は、それ自体生理活性物質として有用である上、分子内
に連続する２つの不斉中心を有する２Ｒアリルアルコー
ルを分子構造中に骨格として含むプロスタグランジン等
の各種生理活性物質の合成中間体として有用であること
を知見し、本発明をなすに至った． 従って、本発明は上記一般式（［１又は（ｎ）で示され
るγ位にシリル基を有する光学活性アルコール類、並び
に、上記（ｍ）式又は（ｍＶ）式で示される光学活性ア
ルコールを酸化することを特徴とする上記（１）式又は
ＣＩｌｌ式で示される光学活性アルコール類の製造方法
を提供する．以下，本発明につき更に詳述する． 本発明の光学活性アルコール類は、下記一般式（１） ０Ｘ 及び下記一般式（ＩＩ） で示されるγ位にシリル基を有する光学活性ケトアルコ
ール及びその保護体である． ここで、Ｒｌ，　Ｒ２，Ｒ３はそれぞれ炭素数ｌ〜１０
の置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未
置換のフェニル基で，具体的には、メチル、エチル、ｎ
−プロビル、ｉ−プロビル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、
ｔ−ブチル、アミル、ヘキシル、ヘブチル、オクチル、
ノニル、デシル、フェニル、ｐ一トリル、ｍ−クロロフ
ェニル、ｐーメトキシフェニル等の基を挙げることがで
きる６なお、Ｒ１，　Ｒ２，　Ｒ３は互いに同一であっ
ても異なっていてもよい。

更に、Ｒ４は、上述したように、炭素数１〜１０の置換
もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換の
フェニル基を示すが、具体的には，メチル、エチル、ｎ
−プロビル，ｉ−プロビル、ｎ−ブチル，ｉ−ブチル、
ｔ−ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、
ノニル、デシル、２−メチルヘキシル、２−メチル−２
−ヘキシル、２−ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘキシルメチル、ヘキサー４一イン−２
−イル，ヘブタ−４−イン−２−イル、２．６−ジメチ
ルーへブタ−５−エンー１−イル、ペンター１−エンー
１−イル、ペンター２−エンー１−イル、ヘキサー１−
エンー２−イル、３−エトキシ−２−メチループロパン
−２−イル、エトキシエチル，５−メトキシヘキシル、
６−メトキシ−２−ヘキシル，ハロゲン化メチル、ハロ
ゲン化ｎ−ブチル，ハロゲン化ｎ−ペンチル、ハロゲン
化ノニル、フェニル、ベンジル、ハロゲン化フェニル、
ｎ−ペンチルオキシメチル，１−エトキシ−２−メチル
ープロパン−２−イル、フェノキシメチル，ペンジロキ
シメチル、ｐ−クロルーフエノキシメチル、２−フェニ
ルエチル、ペンジロキシエチル，ｐ−フルオローフエノ
キシメチル、フェニルアセチレニル、ｍ−クロルーフェ
ノキシメチル．ｍ−トリフルオロメチルーフエノキシメ
チル、ｌ−ブチルーシクロプロビル、３−エチルーシク
ロペンチル，ペンゾチオフェン−５−イル，２−オクテ
ニル、３−メトキシカルボニルプロビル，ビニル等の基
を挙げることができる．また、Ｘは水素原子又は水酸基
の保護基であり、水酸基の保護基としては、例えばトリ
アルキルシリル基（例えばトリメチルシリル基，ｔ−ブ
チルジメチルシリル基，フェニルジメチルシリル基）、
アルコキシアルキル基（例えばメトキシメチル基，エト
キシエチル基２テトラヒド口ピラニル基），アラルキル
オキシアルキル基（例えばペンジルオキシメチル基）、
トリチル基更にはアシル基（例えばアセチル基，ｐ−ニ
トロベンゾイル基）が挙げられる． 本発明の（１３又は（［３式の光学活性アルコール及び
その保護体は、それぞれ下記一般式（ｍ）又は下記一般
式（ＩＶ） ０Ｘ で示される光学活性アルコールを酸化することにより得
ることができる． この場合、酸化は（Ｉ［［］，　（ｒＶ）式の化合物を
必要に応じて保護し、この保護基がはずれない酸化法で
行なうことが好ましく、具体的にはスワン（Ｓｗｏｒｎ
）酸化、コリンズ（Ｃｏｌｌｉｎｓ）酸化等の方法が好
適に採用される．なお、酸化条件に何ら制限はなく、通
常の条件とすることができる．更に、酸化終了後は、必
要に応じ、通常の方法で脱保護化することが望ましい． なお、（ＩＩＩ），　（ＩＶ）式の光学活性アルコール
は、先に本出願人が特願昭８３−５７０１７号に提案し
た下記一般式 ープレス反応を行なうことによって得られる下記一般式
（Ｖｌ ０Ｈ 又は下記一般式（Ｖｌｌ （式中、Ｒｉ，　Ｒ”，　Ｒ”ｌｉ前記Ｊ同１ｌｌテＬ
６．　）で示される光学活性エポキシアルコールを得、
これら光学活性エボキシアルコールをそれぞれ下記反応
式 （式中、Ｒ”　　Ｒ”，Ｒ’はそれぞれ炭素数１〜１０
の置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしくは未
置換のフェニル基で、互いに同一であっても異なってい
てもよい．以下同様．）で示されるジアリルアルコール
に対して不斉シャ０Ｈ ０Ｘ ［１１］ ＯＸ （但し、Ｒ４は前記と同様である．） のように誘導して合或することができる．上記（Ｖ）又
は［ＶＩ）から（Ｉｆｆ）又は（ＩＶ）へ誘導する場合
、まず（Ｖ）又は（Ｖｌ）の水酸基を常法により水酸基
の保護基Ｘで保護する．Ｘとしてはトリアルキルシリル
基（例えばトリメチルシリル基、ｔ−プチルジメチルシ
リル基），アルコキシアルキル基（例えばメトキシメチ
ル基，エトキシエチル基），アラルキルオキシアルキル
基（例えばペンジルオキシメチル基）、トリチル基、更
にはテトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基等が挙げられる
が、次の脱シリル化条件に耐え易いという点でエトキシ
エチル基などのアルコキシアルキル基が好ましい． 次いで、エポキシ部の付け根のシリル基を常法により脱
シリル化する．通常はテトラｎ−プチルアンモニウムク
ロリドあるいはフフ化水素などフッ素系の化合物０．１
〜４当量を用い、溶媒としてジメチルスルホキシド（Ｄ
ＭＳＯ）．テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等を用いて反
応させる．これらは若干の水分を含んでも良く，また混
合して用いても良い． 更に、脱シリル化されたエボキシ化合物を水素化リチウ
ムアルミニウムなどの還元剤、あるいはジメチルマグネ
シウム，メチルリチウム，メチルマグネシウムクロリド
（グリニャール試薬），シメチル銅リチウムなどの有機
金属試剤で処理し、エポキシの開裂したアルコール化合
物（Ｉ［Ｉ］又は（ＩＶ）を得る．この反応も常法のエ
ポキシ開裂の反応条件で良い．但し、本発明の化合物の
場合基質中にオレフィン部分を含むので、大過剰の還元
剤を用いたり、強く加熱するなど過激な条件にするとオ
レフィン部分が飽和になる副反応が増すので極力穏和な
条件で行なうことが好ましい．通常は還元剤あるいは有
機金属試剤を脱シリル化された化合物に対して０．８〜
４当量用いれば良く、−８０℃〜溶媒の還流温度でなる
べく穏和に反応させる． 本発明の（１３，　（ＩＩ）式の光学活性アルコール及
び保護体は、（ｍ〕，（ＩＶ）式の化合物を上記本発明
の方法で酸化して合成し、更に求核試剤を反応させると
、下記反応式のように選択的に化合物〔■〕，〔■】に
誘導することができる．（ｍ） （１） ０ｘ 〔■〕 （ＩＶＩ （ｎ） Ｃ式中、Ｒ１は炭素数１〜１０の置換もしくは未置換の
アルキル基又は置換もしくは未置換のフェ二ル基であり
、Ｒ４とＲＳは同一でないものである。） ここで、求核試薬のＲ’ＭのＲ″は、水素原子、炭素数
ｌ〜１０の置換もしくは未置換のアルキル基，アルケニ
ル基，アルキニル基，又は置換もしくは未置換のフェニ
ル基を示し，またＭは、それぞれＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ
，Ｃａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ａｊｌ，Ｓｎ
より選ばれる金属又は該金属を含む基を示す．Ｒ’Ｍと
して具体的には，Ｒ’Ｌｉ，Ｒ’ＭｇＢｒ，Ｒ’ＭＨＩ
，（Ｒ’），ＣｕＱＬｉ，，Ｒ’ＣｕＱＬｉ，（Ｒ’）
，ＣｕＱＬｉＭｇＢｒ，Ｒ’ＣｕＱＭｇＢｒ等が挙げら
れる．但し、Ｑはハロゲン原子、シアノ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基又はチオシアノ基を示す． 上記求核試薬Ｒ’Ｍを化合物〔■〕又は（ＩＩ）と反応
させるに際し、求核試薬Ｒ’Ｍは化合物に対し、０．５
〜４当量，特に０．８〜１．２当量用いることが好まし
い． また、反応は溶媒を用いることができるが、反応に用い
られる溶媒としては反応を阻害しないものであればよく
、例えばテトラヒドロフラン、ヘキサン、ベンタン、ジ
エチルエーテル等が挙げられる． なお、反応温度は通常−ｌＯＯ〜５０℃，好ましくは−
８０〜Ｏ℃であり，反応時間は通常５分〜５０時間であ
る． この求核試薬Ｒ’Ｍと（Ｉ）または〔■〕式の光学活性
アルコールの反応は既に知られた通り立体選択的に進行
させることができる．即ち、（１３又は（ＩＩ）式中の
保護又は保護されていない水酸基とカルボニル基へのＲ
’Ｍの反応によって生じる水酸基の方向をｓｙｎあるい
はａｎｔｉに制御できる．得られた化合物〔■〕，〔■
〕は、例えば下記反応式に示されるように、分子内に連
続する２つの不斉中心を有する２級アリルアルコールを
分子構造内に含むプロスタグランジンの合成中間体とし
て有用なω鎖に誘導される． （式中、Ｒ＠　，　Ｒ’ｌ　，　Ｒ＠　，　Ｒｓは，そ
れぞれ炭素数１〜ｌＯのアルキル基で、互に同一であっ
ても異なっていてもよい．） 具体的には、上記（ＩＫ３式で示される化合物の一例で
ある下記式 Ｄ〕 （Ｘ） （ＸＩ） ＣＸＩ） ＯＳｉ（ＣＨ．）． の化合物は．　Ｎ．　Ｋｏｌｂ等の方法によりメキシプ
ロスチル（Ｍ１ｘｐｒｏｓｔ１１）の合或に用いること
ができる（Ｔａｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌａｔｔ．　２　
９　，　６　７　６　９　，（１９８８））． 見豊魚亙果 以上説明したように，本発明の一般式（Ｉ）及び（ＩＩ
）で示される光学活性を有するアルコール及びその保護
体は，新規な化合物であって、各種の生理活性物質、特
に分子内に連続する２つの不斉中心を有する２級アリル
アルコールを分子骨格中に含むプロスタグランジン等の
生瑞活性物質の合成中間体として有用であると共に、ア
ルコール自身が生理活性物質として作用するものである
．また、本発明の製造方法によれば、（　１　），（Ｉ
Ｉ）式のγ位にシリル基を有する光学活性ケトアリルア
ルコール及びその保護体を高い光学純度と高い安定性を
もって任意に．選択性よく合或することができる． 以下、実施例及び参考例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
． なお、各例においてＭｅはメチル基、ｎ−Ｂｕはｎ−ブ
チル基を示す． 〔参考例１〕 三 〇Ｈ ２） 水冷下、化合物（１）（６．４４ｇ，２６．４ｍｍａｌ
ｌ）の塩化メチレン（５０ｄ）溶液にエチルビニルエー
テル（５．０５ｄ，５２．８ｍｍｏｌ）及びビリジウム
ｐ−トルエンスルホン酸（約３００ｑ）を加えた．室温
に昇温し、約４時間撹拌した後、飽和ＮａＨＣＯ，水溶
液（１５０ｄ）を加えた．有機層を分液し、水層をヘキ
サン（５０ｄ）で抽出し、得られた有機層をＭ　ｇ　Ｓ
　Ｏ４で乾燥した．？７ｔ過後、炉液の溶媒を減圧下留
去して化合物（２）の粗生成物８．４　７　ｇを得た．
このまま次の反応に用いた． 化合物（２）の粗生戒物（８．４　７　ｇ）をジメチル
スルホキシド（５０ｉｄ）に溶解し、室温でｎ一Ｂｕ４
ＮＦ（３４．８ｍｌ，ＴＨＦ中１モル溶液，３４．８ｍ
ｍａｌｌ）を加えた．室温で１２時間撹拌した後，飽和
食塩水溶液（１５０ｄ）を加え、ヘキサン（２Ｘ１００
ｄ）で抽出した．有機層をＭｇＳＯ，で乾燥し、炉過後
、炉液を減圧下留去し，化合物（３）の粗生成物（約９
ｇ）を得た．シリカゲル力ラムクロマトグラフィーによ
り精製し、化合物（３）　（５．４　８　ｇ　，　２　
２．４ｍｍｏｆｆｉ）を収率８５％で得た． 〔参考例２〕 （３）　　　　　　　　　　　　　　　　　（４）アル
ゴン雰囲気下，乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）にＬ
ＩＡＩＨ．　（４　３　４　Ｎ，　１　１　．４ｍｍｏ
Ｊｌ）を加えてＯ℃に冷却後、化合物（３）・（２．７
８ｇ，１　１　．　４　ｗｍｏｆｉ）のＴＨＦ　（１０
ａｌｌ）溶液をゆっくり滴下した．３０分間撹拌後、Ｏ
℃で水（約０．７−）をゆっくり加えた．続いてＮａ　
Ｆ　（６　ｇ）とセライト（６ｇ）を順に加え、室温で
３０分間撹拌した．ｍ液をセライトで炉過し，ｒｐ液を
減圧下で潰縮したところ，化合物（４）　（２．７　８
　ｇ　，収率〜１００％）が得られた． （実施例１） アルゴン雰囲気下、−６０℃でＣＨ．（Ｊ，（３０ｄ）
にシュウ酸塩化物（０．９　６ｍ，　１　０．９ｍｍｏ
ｆｆｉ）を加え，撹拌しなからジメチルスルホキシド（
１　−　５　６　ｄ，２　１　−　９ｇｔｍｏＪｌ）を
ゆっくり滴下した．５分間撹拌後、参考例２で得られた
化合物（４）（１．３５ｇ，５．４９ｍｍｏｎ）のＣＨ
．Ｃわ（１０ｄ）溶液を滴下し、１５分間撹拌した．次
に，−６０℃でトリエチノレアミン（６，ｌｌＩｌ！，
４４■ｗｏｎ）を滴下し、撹拌しなからｌ時間かけて０
℃に昇温した．飽和食塩水（５０ｄ）を加え、ヘキサン
（４０ｄ）で２回抽出後、有機層をＭｇＳＯ，で乾燥し
た．ｒｐ過後，ｒｐ液の溶媒を減圧下に留去して得られ
る粗生成物をヘキサン（４０＋ａｌｌ）に溶解したとこ
ろ、少量の沈殿が生じた．更に、少量のシリカゲルを用
いて炉過し，沈殿を除いた後、炉液の溶媒を減圧下で留
去したところ、ほぼ純粋な化合物（５）　（１．３　２
　ｇ，収率９９％）が得られた．なお、この化合物〈５
）はこのまま次の反応に用いた． 化合物（５）の特性値は以下の通りであった．”ＨＮＭ
Ｒ　（ＣＣＩ，，ＰＲＨ）： ６０．１４　（ｓ，　９Ｈ），　０．９８−１．４０　
（ｗ＋，　６８），　２．００（ｓｓ，　３Ｈ），　３
．１５−３．９０　（ｊ　２｝１），４．１９及び４．
３５　（Ｚｄ，　Ｊ＝４．０Ｈｚ及びＪ＝３．８Ｈｚ，
ＩＨ），５．５７−６．２３　　（ｍ，２Ｈ）Ｉ　Ｒ　
（ｎｅａｔ）　： ２９５０，　１７１０，　１２４０，　１０８０，　５
０３−’Ｒ　ｆ　＝０．４７及び０．５２　（ヘキサン
／エーテル＝２／１．２種のジアステレオマー混合物）
〔参考例３〕 アルゴン雰囲気下，　ｎ　−　ＢｕＭｇＢｒ　（　５　
．　７　ａＱ，ＴＨＦ中１．０５Ｎ溶液，　５．９　７
ｍｍｏｊｌ）にＴＨＦ（５−）を加えて−７８℃に冷却
し，−７８℃で化合物（５）（９　７　０１１１３．９
　８ｍｍｏｎ）のＴＨＦ（６−）溶液をゆっくり滴下し
た．更に、−７８℃のままで３０分間撹拌した後、約１
．５時間かけてＯ℃に昇温した．飽和食塩水（３０ｄ）
，飽和ＮＨ，Ｃｔ水溶液（１０ｄ）を加えた後，ヘキサ
ン（２０ｄ）で２回抽出した．得られた有機層をＭｇＳ
Ｏ，で乾燥後，ｔｐ過し、炉液の溶媒を減圧下で留去し
たところ、化合物（６）（１．０ｇ，３．２９ｍｓｉｏ
ＪＩ）の粗生成物を収率８３％で得た．〔参考例４〕 （５） （６） ＯＨ アルゴン雰囲気下、化合物（６）（１，ＯＯｇ，３　．
　２　９　ｍｇｉｏｆｆｉ）のＴＨＦ　（１０ｍＱ）溶
液を０℃に冷却し、ＮａＨ　（パラフィンを洗浄除去し
たもの，１　５　８　ｍｇ，　６　．　５　８ｍｍｏｎ
）を加えた後、ヨー化メチル（０　．　３　１　ｍｊｎ
，　４　．　９　４ｍｍａｌｌ）を加え，室温で１２時
間撹拌した．次に，飽和食塩水（２０ｄ）を加え、ヘキ
サン（３０ｄ）で抽出後、得られた有機層をＭｇＳ０４
で乾燥した．炉過後、炉液の溶媒を減圧下で留去したと
ころ、化合物（７）（１．０　２　ｇ）が得られた．次
いで、この化合物（７）をメタノール（２０ｄ）に溶解
し、ｐ一トルエンスルホン酸（〜３０■）を加え，室温
で３０分間撹拌した後，飽和ＮａＨＣＯ，水溶液（４０
ｄ）を加え、ヘキサン（２０ｄ）で２回抽出した，得ら
れた有機層をＭｇＳＯ４で乾燥後、炉過し、炉液の溶媒
を減圧下で留去したところ、化合物（８）の粗生成物が
得られた．これをシリカゲル力ラムクロマトグラフィー
により精製したところ、化合物（８）（６５０■，　２
．　８３ｍｓａｌｌ）が収率８６％（２段階）で得られ
た． 化合物（８）の特性値は以下の通りであった．”ＨＮＭ
Ｒ　（ＣＣＬ，ＰｈＨ）： δ０，１３　（ｓ，　９Ｈ），　０．９６　（ｔ，　Ｊ
＝６．６Ｈｚ，　３Ｈ），１．０３　（ｓ，　３Ｈ），
　１．１５−１．７４　（＋＊，　６Ｈ），　２．３３
（ｂｒｇ，　ＬＨ），　３．１７　（ｓ，　３Ｈ），　
３．９４　（ｔｔ　Ｊ＝１．８Ｈｚ，　ＩＩ｛），　５
．７８−６．０２　（ｍ，　２Ｈ）”ＣＮＭＲ　（ＣＤ
ＣＪＩ．）： δ１４３．７，　１３２．３．　７ｇ．９，　７７．２
，　４８．９，　３３．３，２４，８，　２３．１，　
１７，６，　１３Ｊ，　−１．５Ｉ　Ｒ　（ｎｅａｔ）
　： ３４５Ｇ．　２９５０，　１６２０，　１２５０，　８
４０ｃｓ−”（　α）　Ｆ　：　＋２６−４　（ｃ　１
−５Ｌ　Ｃ　Ｈ　Ｃら）ｍ　ｐ　．　：　　３１．５−
−３２．０℃（針状晶）〔参考例５〕 化合物（８）　＜２４　０１１１：−　０．９　８ｍｓ
＊ｏｊｌ）のＣＨ．ＣＤ．溶液（５ｄ）にｔ−プチルハ
イド口ベルオキシド（５．０７Ｍ，ＣＨ，ＣＩ！，溶液
，０．３９ｄ，１．９６ｍｍｏｊｌ）と酸化バナジウム
アセチルアセトナート（Ｖ　Ｏ　（ａｃａｃ）ａ）（　
１　０　ｍｇ）を加えた後，室温で３時間撹拌した．こ
の混合物に更にＶ　Ｏ　（ａｃａｃ），（１０ｍｇ）を
追加し、５時間撹拌し，次にジメチルスルフィド（０．
５ｄ）を添加し、１時間撹拌した。Ｎ　ａ　Ｈ　Ｃ　Ｏ
　ｓ水溶液（２０ｄ）とヘキサン（３０ｍＱ）を加え、
有ＩＩ＆層を分離し、また、水層をヘキサン（２０ｄ）
で抽出した。これら有機層をＭｇＳＯ４で乾燥させ、濃
縮し、得られた粗精製物をシリカゲＪレ力ラムクロマト
グラフィーにかけたところ、化合物（９）（２２５■，
０．８６５問ｏＯが収率８８％で得られた． 得られた化合物（９）の特性値は以下の通りであった。

’ＨＮＭＲ　（ＣＣゑ，，ＰｈＨ）： ６０．１２　（ｓ，　９Ｎ），　０．９８　（ｔｔ　Ｊ
−６．０Ｈｚ，　３Ｈ），１．２１　（ｓ，　３Ｈ），
　１．１７−１．８２　（＋ａ，　６Ｈ），　２．０９
及び２．１１　（２ｄ，　Ｊ＝３．６｝１ｚ及びＪ＝３
．６Ｈｚ，　ＬＨ）−２．３７　（ｂｒｓ，　ＬＨ），
　２．７２及び２．８６　（ｄｄ，　Ｊ＝３．６，６．
０Ｈｚ及びＪ＝３．６，　６．０Ｈｚ，　ＩＨ），　３
．１２−３．４０（ｍ，　ＩＨ），　３．１９　（ｓ，
　３Ｈ）Ｉ　Ｒ　　（ｎｅａｔ）： ３４４０，２９５０，１４６０，１３８０，１２５０，
１０７０．８１５ａｍ−１ Ｒ　ｆ　：　０．２２及び０．１１　（ヘキサン／Ｅｔ
２０＝　３　／　ｌ　，ジアステレオマー混合物） 〔参考例６〕 （９） （１０） 化合物（９）　（２２０ｇ，　０．８４６ｍｍｏｆｆｉ
）のＴＨＦ溶液（３ｄ）にＬＤＡ　（ジイソプ口ピルア
ミン（０．４　７ｄ，　３．３　８ｍｍａｌｌ）とｎ−
ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）（１．１ｄ，　ヘキサ
ン中２．３１モル溶液，　２．５４ｍｍｏｆｆｉ）とか
ら調製〕のＴＨＦ溶液（３ｄ）を０℃で加えた．１０分
後，この混合物にｎ−Ｂｕ３ＳｎＨ　（０．２　７ｍ，
１．０　２ｍｍｏｎ）を加え、室温まで加温し、更に３
時間撹拌した．食塩水（２０ｄ）とヘキサン（２０ｄ）
を加え，有機溜を分離し、また、水層をヘキサン（２０
ｄ）で抽出した．これら有機層をＭ　ｇ　Ｓ　Ｏ　４で
乾燥し、濃縮し、得られた粗精製物をシリカゲル力ラム
クロマトグラフィーにかけたところ、化合物（１０）（
３４８■，　０．７５５ｍｓ＋ｏｆｆｉ）が収率８９％
で得られた． 化合物（１０）の特性値は以下の通りであった．’ＨＮ
Ｒ　（Ｃ（Ｊ，，Ｍｅ４Ｓｉ）：６０．４０−２．００
　　（ｍ，３９Ｈ），２．１８　　（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈ
ｚ），３．１７　（ｓ，　３Ｈ），　３．９６　（ｄｄ
，　Ｊ＝３．０，　５．４Ｈｚ，ＩＨ），　５．９２　
（ｄｄ，　Ｊ＝５．４．　２１Ｈｚ，　ＩＨ），　６．
１６　（ｄ，Ｊ＝２１Ｈｚ，　ＩＨ） ”ＣＮＭＲ　（ＣＤＣれ）： δ１４６．２，　１３０．８，　７８．９，　７８．０
，　４Ｂ．７，　３３．２，２１Ｓ．９，　２７．０，
　２４．８，　２３．１，　１７．４，　１３．８，　
１３．４，９．３ Ｉ　Ｒ　　（ｎｅａｔ）　　：　３４５０，　２９３０
，　１４６５，　１３８０．１０７０３−’ ？α〕■＋１４．６” （ｃ　２．０１， ＣＨＣ囚，）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔 I 〕 及び下記一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔II〕 （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３はそれぞれ炭素数１〜
   １０の置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしく
   は未置換のフェニル基で、互いに同一であっても異なっ
   ていてもよく、Ｒ＾４は炭素数１〜１０の置換もしくは
   未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェニル
   基であり、Ｘは水素原子又は水酸基の保護基である。） で示されるγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
   類。 ２、下記一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔III〕 又は下記一般式〔IV〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔IV〕 （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３はそれぞれ炭素数１〜
   １０の置換もしくは未置換のアルキル基又は置換もしく
   は未置換のフェニル基で、互いに同一であっても異なっ
   ていてもよく、Ｒ＾４は炭素数１〜１０の置換もしくは
   未置換のアルキル基又は置換もしくは未置換のフェニル
   基であり、Ｘは水素原子又は水酸基の保護基である。） で示される光学活性アルコールを酸化することを特徴と
   する下記一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔 I 〕 又は下記一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・〔II〕 （但し、式中のＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｘは
   それぞれ前記と同様である。） で示されるγ位にシリル基を有する光学活性アルコール
   類の製造方法。