JPH07112968A - １α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロ
ール類の立体異性体の選択的な製造法を提供する。 【構成】 ハロゲン化メチレン誘導体（Ｉ）とエンイン
誘導体（II）とをパラジウム触媒の存在下に反応せしめ
ることを特徴とする下記式（III ） ［式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ は水素原子、トリ―低級アル
キルシリル基、アリール―ジ―低級アルキルシリル基、
ジアリール―低級アルキルシリル基、またはトリアリー
ルシリル基を表わし、Ｘはヨウ素原子または臭素原子を
表わし、＊はその不斉炭素に由来する異性体が一方の異
性体に偏っていることを示す。］で表わされる１α，２
４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は１α，２４―ジヒドロキ
シコレカルシフェロール類の製造法に関する。更に詳し
くは、本発明は１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフ
ェロール類の所望の立体異性体の選択的な製造法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に１α―ヒドロキシビタミンＤの合
成法は、ａ）ステロイド化合物からの合成、ｂ）ビタミ
ンＤ前駆物質からの合成、ｃ）コンバージェント法によ
るＡ環、ＣＤ環、側鎖の合成とそれらのカップリングに
よるもの、の３種類に分類される。

【０００３】従来の１α，２４―ジヒドロキシコレカル
シフェロールはａ）の方法によって製造されていたが、
原料のステロイドの入手が必ずしも容易ではない上、所
望の２４位の立体異性体を得るには２４位のＲＳ分離操
作が必須であった。一方、ｃ）の方法としてはトロスト
ら（Trost, B.M., J. Am. Chem. Soc., ジャーナル・オ
ブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティー、１１
４，９８３６―９８４５（１９９２））による報告があ
る。しかしながら、このトロストらによって具体的に開
示されているのは１α―ヒドロキシビタミンＤ₃ 及び１
α，２５―ジヒドロキシビタミンＤ₃ の合成のみであ
り、１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロールの
例はなかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは既に入手
が容易なビタミンＤ₂ を原料として、光学活性な１α，
２４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類のＣＤ環部
分の立体選択的に誘導する方法を提案している（特願平
５―５０６３３号明細書参照のこと）。

【０００５】そこで本発明者らは、このようにして誘導
された光学活性６―（４―置換インデン―１―イル）―
２―メチル―３―ヘプタノール類から１α，２４―ジヒ
ドロキシコレカルシフェロール類を、その所望の立体異
性体を選択的に製造法する方法を提供すべく鋭意研究し
た結果本発明に到達したものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は下記
式（Ｉ）

【０００７】

【化４】

【０００８】［式中、Ｒ¹ は水素原子、トリ―低級アル
キルシリル基、アリール―ジ―低級アルキルシリル基、
ジアリール―低級アルキルシリル基、またはトリアリー
ルシリル基を表わし、Ｘはヨウ素原子または臭素原子を
表わし、＊はその不斉炭素に由来する異性体が一方の異
性体に偏っていることを示す。］で表わされるハロゲン
化メチレン誘導体と下記式（II）

【０００９】

【化５】

【００１０】［式中、Ｒ² 、Ｒ³ は同一もしくは異なっ
て水素原子、トリ―低級アルキルシリル基、アリール―
ジ―低級アルキルシリル基、ジアリール―低級アルキル
シリル基、またはトリアリールシリル基を表わす。］で
表わされるエンイン誘導体とをパラジウム触媒の存在下
に反応せしめ、必要に応じて脱保護せしめることを特徴
とする下記式（III ）

【００１１】

【化６】

【００１２】［式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及び＊の定義は
前記式（Ｉ）及び（II）と同じである。］で表わされる
１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類の製
造法である。

【００１３】本発明方法において原料として用いられる
上記式（Ｉ）で表わされるハロゲン化メチレン誘導体の
うち、例えばＸが臭素原子である場合、かかる誘導体
は、例えば、特願平５―５０６３３号明細書において別
途提案した下記方法によりビタミンＤ₂ より誘導され
る。

【００１４】

【化７】

【００１５】上記反応式中、Ｒ⁰ は例えば炭素数１〜８
のアルキル基を表わし、＊はその不斉炭素に由来する異
性体が一方の異性体に偏っていることを示す。

【００１６】本発明の上記式（Ｉ）で表わされるハロゲ
ン化メチレン誘導体としては、Ｘが臭素原子であるブロ
モメチレン誘導体を好ましいものとして挙げることがで
きる。

【００１７】また、上記式（II）で表わされるエンイン
誘導体は、例えば入手容易な（Ｌ）―リンゴ酸より以下
のように誘導できる（参考文献；A.I. Meyers, J. Org.
Chem., ５１，５１１１（１９８６））。

【００１８】

【化８】

【００１９】前記式（Ｉ）においてＲ¹ は水素原子、ト
リ―低級アルキルシリル基、アリール―ジ―低級アルキ
ルシリル基、ジアリール―低級アルキルシリル基、また
はトリアリールシリル基を表わすが、これらシリル基に
おける低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ―プロピル基、ｉ―プロピル基、ｎ―ブチル
基、ｓ―ブチル基、ｉ―ブチル基、ｔ―ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基等のＣ₁ 〜Ｃ₆ の直鎖状または分岐
状アルキル基を挙げることができる。またアリール基と
しては、例えばフェニル基、ｐ―トリル基等のＣ₆ 〜Ｃ
₁₀のアリール基を挙げることができる。

【００２０】好ましくはそのようなシリル基としては、
例えばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ
イソプロピルシリル基、ｔ―ブチルジメチルシリル基
（ＴＢＤＭＳ）、ｔ―ブチルジフェニルシリル基（ＴＢ
ＤＰＳ）等を挙げることができ、本発明のＲ¹ として
は、これらのなかでもｔ―ブチルジメチルシリル基、ｔ
―ブチルジフェニルシリル基、なかでも特にｔ―ブチル
ジメチルシリル基を好ましいものとして挙げることがで
きる。

【００２１】また前記式（II）においてＲ² 、Ｒ³ は同
一もしくは異なって、水素原子、トリ―低級アルキルシ
リル基、アリール―ジ―低級アルキルシリル基、ジアリ
ール―低級アルキルシリル基、またはトリアリールシリ
ル基を表わすが、これらシリル基の具体例は、上記Ｒ¹
におけるシリル基と同じである。これらのなかでも本発
明のＲ² 、Ｒ³ としては、同一もしくは異なってトリメ
チルシリル基、ｔ―ブチルジメチルシリル基、ｔ―ブチ
ルジフェニルシリル基、なかでも特にＲ² 及びＲ³ がｔ
―ブチルジメチルシリル基を好ましいものとして挙げる
ことができる。

【００２２】本発明の製造法においては、前記式（Ｉ）
で表わされるハロゲン化メチレン誘導体と前記式（II）
で表わされるエンイン誘導体をパラジウム触媒の存在下
に反応せしめるが、例えば本発明のパラジウム触媒とは
例えば０価または２価の有機パラジウム化合物及び三置
換リン化合物（モル比１：１〜１：８）を挙げることが
できる。そのようなパラジウム化合物として例えばテト
ラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｐｄ
（Ｐｈ₃ Ｐ）₄ ）、酢酸パラジウム（Ｐｄ₂ （ＯＡｃ）
₂ ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム
（Ｐｄ₂ （ｄｂａ） ₃ ）及びパラジウムπアリールコン
プレックス（［ＰｄＣｌ（η³ Ｃ₃ Ｈ₅ ）］ ₂ ）などを
挙げることができ、また、リン化合物として例えばトリ
フェニルホスフィン（Ｐｈ₃ Ｐ）、トリブチルホスフィ
ン（Ｂｕ₃ Ｐ）を挙げることができる。これらのなかで
も本発明のパラジウム触媒としては酢酸パラジウム／ト
リフェニルホスフィン、トリス（ジベンジリデンアセト
ン）ジパラジウム／トリフェニルホスフィン、又はパラ
ジウムπアリールコンプレックス／トリフェニルホスフ
ィン（１：１〜１：８）を挙げることができる。

【００２３】本発明の製造法において式（Ｉ）で表わさ
れるハロゲン化メチレン誘導体と式（II）で表わされる
エンイン誘導体は理論的には等モル反応を行うが、反応
を確実に完結させるためにどちらか一方、普通は入手容
易な方を小過剰用いることが望ましい。

【００２４】本発明の製造法において用いられるパラジ
ウム触媒は式（Ｉ）で表わされるハロゲン化メチレン誘
導体に対して１〜１００モル％、好ましくは５〜３０モ
ル％の範囲で使用される。また、本発明の製造法におい
て三置換リン化合物を用いる場合は、活性なパラジウム
を生成するために有機パラジウム触媒に対して１〜４当
量必要である。

【００２５】本発明の製造方法において用いられる有機
溶媒としては、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、Ｎ，Ｎ―ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等
の水溶性溶媒またはこれらの混合溶媒などがあげられ、
いずれも十分に脱気ののち使用することが重要である。

【００２６】反応温度は室温〜溶媒の沸点の範囲が採用
される。反応時間は用いる反応溶媒及び反応温度により
異なり、通常、薄層クロマトグラフィーなどの分析手段
を用いて式（Ｉ）のハロゲン化メチレン誘導体あるいは
式（II）のエンイン誘導体のいずれかが消失するまで実
施する。

【００２７】本発明においては、パラジウム触媒に加え
て、生成するハロゲン化水素を捕捉するために、例えば
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の塩
基の存在下に反応せしめることが好ましい。かかる塩基
の量としては式（Ｉ）で表わされるハロゲン化メチレン
誘導体に対して１当量以上が好ましく、必要により溶媒
と兼用することもできる。

【００２８】かくして前記式（III ）で表わされる目的
とする保護された１α，２４―ジヒドロキシコレカルシ
フェロール類を得ることができるが、本発明の製造法に
おいては、必要により脱保護反応せしめてＲ¹ ないしＲ
³ の少なくとも１以上の保護基が水素原子に置換された
１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類を得
ることができる。

【００２９】かかる脱保護反応は、それ自体従来公知の
方法（例えば、Calverley, M.J., Tetrahedron, ２０，
４６０９〜４６１９，１９８７）に準じて行なうことが
でき、その場合の脱保護剤としては例えばテトラブチル
アンモニウムフルオリド、ピリジニウムｐ―トルエンス
ルフォネート等を挙げることができる。

【００３０】本発明の製法の目的物である前記式（III
）においてＲ¹ 〜Ｒ³ の定義は式（Ｉ）及び（II）と
同じであるが、これらのなかでも式（III ）のＲ¹ 〜Ｒ
³ としてはＲ¹ 〜Ｒ³ が水素原子であるもの、Ｒ¹ がｔ
―ブチルジメチルシリル基であって、Ｒ² 及びＲ³ がｔ
―ブチルジメチルシリル基であるか、ｔ―ジフェニルシ
リル基であるか、又はトリメチルシリル基であるものを
好ましいものとして挙げることができる。これらのなか
でもＲ¹ 〜Ｒ³ が水素原子である場合か、又はＲ ¹ 〜Ｒ
³ がｔ―ブチルジメチルシリル基である場合を好ましい
ものとして挙げることができる。Ｒ¹ 〜Ｒ³ が水素原子
である場合には、式（III ）で表わされる化合物は１
α，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフェロール又
は１α，２４（Ｓ）―ジヒドロキシコレカルシフェロー
ルを提供することになる。

【００３１】本発明の製造方法において、Ｒ¹ 〜Ｒ³ 、
Ｘ、及びパラジウム触媒の好ましい組み合せとしては、
式（Ｉ）、式（II）においてＸが臭素原子又はヨウ素原
子であって、Ｒ¹ 〜Ｒ³ がｔ―ブチルジメチルシリル基
及び／又はｔ―ブチルジフェニルシリル基であって、パ
ラジウム触媒がテトラキス（トリフェニルホスフィン）
パラジウム、パラジウムπアリールコンプレックス／ト
リフェニルホスフィン、酢酸パラジウム／トリフェニル
ホスフィン又はトリス（ジベンジリデンアセトン）パラ
ジウム／トリフェニルホスフィンであって、式（III ）
においてＲ¹ 〜Ｒ³ が水素原子、ｔ―ブチルジメチルシ
リル基及び／又はｔ―ブチルジフェニルシリル基であっ
て２４位（＊）が（Ｒ）配置にあるものを挙げることが
できる。より好ましくは、式（Ｉ）、式（II）において
Ｘが臭素原子で、Ｒ¹ 〜Ｒ³ がｔ―ブチルジメチルシリ
ル基であって、パラジウム触媒が前記３種類のパラジウ
ムπアリールコンプレックス、酢酸パラジウム又はトリ
ス（ベンジリデンアセトン）パラジウム／トリフェニル
ホスフィン、特に酢酸パラジウム／トリフェニルホスフ
ィンであって、式（III ）においてＲ¹ 〜Ｒ³ が水素原
子である場合であるかＲ¹ 〜Ｒ³ がｔ―ブチルジメチル
シリル基である場合を２４位（＊）が（Ｒ）配置にある
目的物を得る場合の製造法として挙げることができる。
なお、これら好適例において、生成するハロゲン化水素
を捕捉するために加える塩基としてはトリエチルアミン
を好ましいものとして挙げることができる。

【００３２】かくして得られた１α，２４―ジヒドロキ
シコレカルシフェロール類から所望の立体異性体を、例
えば再結晶、クロマトグラフィー等によって、特別なＲ
Ｓ分離操作を行なう必要なく、単離・精製することがで
きる。

【００３３】そのような再結晶の方法としては、例えば
特公平３―５９０６３号公報に記載された方法に従うこ
とができる。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように、入手容易な原料よ
り出発できる本発明の製造法は、ＲＳ分離操作を回避で
きる効果的な１α，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカル
シフェロール類または１α，２４（Ｓ）―ジヒドロキシ
コレカルシフェロール類の合成法を提供するものであ
る。

【００３５】

【実施例】以下、参考例、実施例によって本発明をさら
に説明する。

【００３６】［参考例１］（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ブロモメ
チレン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチ
ル―３―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエー
テルの製造

【００３７】

【化９】

【００３８】（４Ｒ）―４―［（７ａＲ），（４Ｅ）―
４―ブロモメチレン―７ａ―メチルインデン―１―イ
ル］ペンタナール（１）（１１３ｍｇ、０．３７５ｍｍ
ｏｌ）と（−）―ＤＢＮＥ（１９．７ｍｇ、０．０７５
ｍｍｏｌ；２０モル％）のトルエン（４ｍｌ）溶液にジ
イソプロピル亜鉛のトルエン溶液（０．８７Ｍ；０．９
５ｍｌ、０．８２５ｍｍｏｌ）を０℃で滴下し、０℃で
１８時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に０．５Ｎ
塩酸（２０ｍｌ）を加えて後処理し、酢酸エチル（３５
ｍｌ）を用いて抽出した。分液した有機層を飽和硫酸水
素カリウム水溶液（１２ｍｌ×２）、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液（１２ｍｌ×２）、飽和食塩水（１２ｍｌ
×２）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮して１３６ｍｇの粗生成物を得た。この粗生成物をシ
リカゲル（３０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィー
に付し、ヘキサン：酢酸エチルの比を３０：１から５：
１に徐々に変化させて溶出し、原料アルデヒドのイソプ
ロピル化生成物である（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），
（４Ｅ）―４―ブロモメチレン―７ａ―メチルインデン
―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタノール（８６ｍ
ｇ、０．２４９ｍｍｏｌ、６６％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．５６（３Ｈ，
ｓ），０．７〜１．０（９Ｈ，ｍ），１．１〜１．８
（１５Ｈ，ｍ），１．８〜２．１（３Ｈ，ｍ），２．８
〜２．９５（１Ｈ，ｍ），３．２５〜３．４（１Ｈ，
ｍ），５．６５（１Ｈ，ｍ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；３３７０，３０７０，１６２
５，１４６０，１３７５，１２６０，９９５，８４０，
７６５，６９５．¹³ Ｃ―ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）δ；１１．９，１
７．３，１８．８，１８．９，２２．１，２２．６，２
７．７，３０．６，３１．１，３２．０，３３．６，３
６．０，３９．９，４５．６，５５．８，５５．９，７
７．１，９７．４，１４５．２． 上記イソプロピル化反応における立体選択性を求めるた
めに、イソプロピル化生成物（４３．８ｍｇ、０．１２
７ｍｍｏｌ）をメタノール（１５ｍｌ）、塩化メチレン
（５０ｍｌ）の混合溶媒に溶かし、−７８℃に冷却して
オゾンを吹き込んだ。過剰のオゾンで反応液が着色する
のを確認した後、反応液に水素化ホウ素ナトリウム（５
００ｍｇ）を加え、冷却液を取り去って室温で１８時間
攪拌した。反応終了後飽和塩化アンモニウム水溶液（３
０ｍｌ）と酢酸エチル（５０ｍｌ）を加えて抽出し、分
液した有機層を飽和食塩錘（１５ｍｌ×２）で洗浄後濃
縮して５０ｍｇの粗生成物を得た。このものをシリカゲ
ル（２０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ヘキサン：酢酸エチル＝３０：１→１：１）による
精製を行ない、対応するジオール体を粗生成物として得
た。このものをベンゾイル化し、ジベンゾエート体であ
る（６Ｒ）―６―［（４Ｓ，７ａＳ）―４―ベンゾイル
オキシ―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチ
ル―３―ヘプチルベンゾエート（３１ｍｇ、０．０６４
ｍｍｏｌ、５０％）を得た。この物をＨＰＬＣ分析でＲ
／Ｓ生成比を分析した結果、３Ｒ：３Ｓ＝９５：５と算
出された。 ＨＰＬＣ分析条件 ＨＰＬＣ Ｚｏｒｂａｘ ＳＩＬカラム 溶離液ヘキサン：塩化メチレン：エタノール＝９０：１
０：０．１ 流量 ２．０ｍｌ／分 測定波長 ２５４ｎｍ このようにして得られた（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），
（４Ｅ）―４―ブロモメチレン―７ａ―メチルインデン
―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタナール（３Ｒ：
３Ｓ＝９５：５、４００ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）、ｔ
―ブチルジメチルシリルクロリド（３４９ｍｇ、２．３
２ｍｍｏｌ）、イミダゾール（３１６ｍｇ、４．６４ｍ
ｍｏｌ）をＤＭＦ４ｍｌに溶解し、室温で終夜反応し
た。反応終了後、注水し、酢酸エチル（５０ｍｌ）で抽
出した、分液した有機層を飽和硫酸水素カリウム水溶液
（５０ｍｌ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍ
ｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）の順で洗浄し、無水硫酸
マグネシウム上で乾燥、濾過後、濃縮し、粗生成物を得
た。この粗生成物をシリカゲル（６０ｇ）を用いてカラ
ムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン：酢酸エチルの
比を８０：１から４０：１に変化させて溶出して（６
Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレ
ン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチル―
３―ヘプタナール―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル
（５３４ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ、１００％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．０４（３Ｈ，
ｓ），０．５７（３Ｈ，ｓ），０．８〜０．９５（１８
Ｈ，ｍ），１．０５〜２．１０（１８Ｈ，ｍ），２．８
５〜２．９５（１Ｈ，ｍ），３．３３〜３．４３（１
Ｈ，ｍ），５．６５（１Ｈ，ｍ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；２９４０，２９１０，２８４
０，１４５８，１３７８，１２４４． ［参考例２］３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリル
オキシ）―１―オクテン―７―インの製造

【００３９】

【化１０】

【００４０】３（Ｓ），５（Ｒ）―ジヒドロキシ―１―
オクテン―７―イン（０．４２ｇ、３．０ｍｍｏｌ）、
ｔ―ブチルジメチルシリルクロリド（１．３６ｇ、９．
０ｍｍｏｌ）、イミダゾール（１．２２ｇ、１８．０ｍ
ｍｏｌ）をＤＭＦ４．６ｍｌに溶解し、室温で終夜反応
した。反応終了後、注水し、酢酸エチル（５０ｍｌ×
２）で抽出した。分液した有機層を飽和食塩水（１００
ｍｌ×２）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥、
濾過後、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリ
カゲル（６２ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィーに
付し、ヘキサン：トルエン＝４：１で溶出し、３
（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリルオ
キシ）―１―オクテン―７―イン（０．９９ｇ、２．６
９ｍｍｏｌ、９０％）を得た。 ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；２９６５，２９４０，２８６
５，１４７６，１４６５，１３６８，１２８０，１１０
０． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．０３（３Ｈ，
ｓ），０．０５（３Ｈ，ｓ），０．０７（３Ｈ，ｓ），
０．０８（３Ｈ，ｓ），０．８９（１８Ｈ，ｓ），１．
６〜１．７５（１Ｈ，ｍ），１．８〜２．０（２Ｈ，
ｍ），２．３〜２．４（２Ｈ，ｍ），３．８５〜４．０
（１Ｈ，ｍ），４．１５〜４．３（１Ｈ，ｂｑ），５．
０〜５．２（２Ｈ，ｍ），５．７５〜５．９５（１Ｈ，
ｍ）． ［参考例３］

【００４１】

【化１１】

【００４２】（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―
４―ブロモメチレン―７ａ―メチルインデン―１―イ
ル］―２―メチル―３―ヘプタナール―ｔ―ブチルジメ
チルシリルエーテル（２）（４９８ｍｇ、０．６１ｍｍ
ｏｌ）のエーテル溶液（７ｍｌ）にｔ―ブチルリチウム
のペンタン溶液（１．６Ｍ；２．６ｍｌ、４．１６ｍｍ
ｏｌ）を−７８℃で滴下し、そのまま１時間攪拌した。
次にその溶液にヨウ素の飽和エーテル溶液をヨウ素の色
が消えなくなるまで滴下した。３０分間攪拌後ゆっくり
と昇温し、反応混合物に飽和食塩水（３０ｍｌ）を加え
て後処理し、酢酸エチル（３０ｍｌ×３）を用いて抽出
した。分液した有機層を飽和亜硫酸ナトリウム水溶液
（５０ｍｌ×２）、飽和食塩水（３０ｍｌ×２）で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して粗生成
物を得た。この粗生成物をシリカゲル（３５ｇ）を用い
てカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサンで溶出さ
せることにより、（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４
Ｅ）―４―ヨードメチレン―７ａ―メチルインデン―１
―イル］―２―メチル―３―ヘプタナール―ｔ―ブチル
ジメチルシリルエーテル（１１）（４９０ｍｇ、８９
％）を得た。 ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；１５０９，１４５６，１２５
４ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ，ｐｐｍ）δ；０．０４（３Ｈ，
ｓ），０．５６（３Ｈ，ｓ），０．８〜０．９５（１８
Ｈ，ｍ），１．０５〜２．１０（１８Ｈ，ｍ），２．６
５〜２．８（１Ｈ，ｍ），３．３３〜４．３３（１Ｈ，
ｍ），５．６（１Ｈ，ｍ）． ［参考例４］３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（トリメチルシ
リルオキシ）―１―オクテン―７―インの製造

【００４３】

【化１２】

【００４４】３（Ｓ），５（Ｒ）―ジヒドロキシ―１―
オクテン―７―イン（０．２３ｇ、１．６８ｍｍｏ
ｌ）、トリメチルシリルクロリド（２．０ｍｌ、１５．
８ｍｍｏｌ）、１，１，１，３，３，３―ヘキサメチル
ジシラザン（７．０ｍｌ、３３．３ｍｍｏｌ）をジクロ
ロメタン１５ｍｌに溶解し、２４時間加熱攪拌した。反
応終了後、注水し、酢酸エチル（５０ｍｌ×２）で抽出
した。分液した有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾
燥、濾過後、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物を
シリカゲル（２０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサン：酢酸エチル＝４０：１で溶出し、
３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（トリメチルシリルオキシ）
―１―オクテン―７―イン（０．３３ｇ、１．１６ｍｍ
ｏｌ、６９％）を得た。 ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；２９５７，１５０９，１４７
４，１２５２． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．１２（９Ｈ，
ｓ），０．１７（９Ｈ，ｓ），１．５〜１．８５（２
Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０５（１Ｈ，ｍ），２．３〜
２．４（２Ｈ，ｍ），３．９〜４．１（１Ｈ，ｍ），
４．２〜４．３（１Ｈ，ｍ），５．０〜５．２（２Ｈ，
ｍ），５．７〜５．９（１Ｈ，ｍ）． ［参考例５］ ３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジフェニルシリ
ルオキシ）―１―オクテン―７―インの製造

【００４５】

【化１３】

【００４６】３（Ｓ）―（ｔ―ブチルジフェニルシリル
オキシ）―５（Ｒ）―ヒドロキシ―１―オクテン―７―
イン（１．００ｇ、２．４３ｍｍｏｌ）、ｔ―ブチルジ
フェニルシリルクロリド（１．０ｍｌ、３．８５ｍｍｏ
ｌ）、イミダゾール（０．５４ｇ、７．９ｍｍｏｌ）を
ジクロロメタン４ｍｌに溶解し、室温で２時間反応し
た。反応終了後、注水し、酢酸エチル（２０ｍｌ×２）
で抽出し、分液した有機層を飽和硫酸水素カリウム水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水（各２
０ｍｌ×２）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥、濾過後、濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物
をシリカゲル（５０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフ
ィーに付し、ヘキサン：トルエン＝４：１で溶出し、３
（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジフェニルシリル
オキシ）―１―オクテン―７―イン（１．２６ｇ、１．
９３ｍｍｏｌ、７９％）を得た。 ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；２９５９，２８９３，１４８
７，１４２７，１１１１． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．９９（９Ｈ，
ｓ），１．０１（９Ｈ，ｓ），１．６５〜１．８５（２
Ｈ，ｍ），１．９５〜２．２（３Ｈ，ｍ），３．７５〜
３．９（１Ｈ，ｍ），４．０５〜４．２（１Ｈ，ｍ），
４．６〜４．７５（２Ｈ，ｍ），５．４〜５．６（１
Ｈ，ｍ），７．２５〜７．５（１２Ｈ，ｍ），７．５５
〜７．７（８Ｈ，ｍ）． ［実施例１］

【００４７】

【化１４】

【００４８】トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラ
ジウムクロロホルム錯体（１８ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（３８ｍｇ、０．１５ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、参考例１で得られた（６
Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレ
ン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチル―
３―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル
（２）（３Ｒ：３Ｓ＝９５：５、１８６ｍｇ、０．４１
ｍｍｏｌ）及び参考例２で得られた３（Ｓ），５（Ｒ）
―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリルオキシ）―１―オク
テン―７―イン（４）（１００ｍｇ、０．２７ｍｍｏ
ｌ）のトルエン溶液（１ｍｌ）を加え、２時間加熱還流
した。反応終了後反応混合物をシリカゲルカラムを用い
て濾過したのち濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物
をシリカゲル（６５ｇ）を用いてカラムクロマトグラフ
ィーに付し、ヘキサン：トルエンの比を５０：１から
５：１に徐々に変化させて溶離し、目的物である１，２
４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフェロール―１，
３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチルシリル）エーテ
ル（９）（１１６ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ，５６％）を
得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．０３（３Ｈ，
ｓ），０．０５（３Ｈ，ｓ），０．０７（１２Ｈ，
ｓ），０．５３（３Ｈ，ｓ），０．８〜０．９５（３６
Ｈ，ｍ），１．２〜３．０（２２Ｈ，ｍ），３．３〜
３．４（１Ｈ，ｍ），４．１５〜４．２５（１Ｈ，
ｍ），４．３５〜４．４５（１Ｈ，ｍ），４．８５〜
４．９０（１Ｈ，ｍ），５．１５〜５．２０（１Ｈ，
ｍ），６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1 ２９５５，２８５７，１４７２，１３６２，１２５６，
１０８４．ＵＶ（λｍａｘ：エタノール） ２６４ｎｍ（ε＝１５９００）． 旋光度［α］²⁰ _D ＋５８．２（エタノール，Ｃ＝０．０
０１）． ［実施例２］

【００４９】

【化１５】

【００５０】酢酸パラジウム（４ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（２５ｍｇ、０．１０ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、（６Ｒ）―６―［（７ａ
Ｒ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレン―７ａ―メチルイ
ンデン―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタノール―
ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル（２）（３Ｒ：３Ｓ
＝９５：５、８３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及び３
（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリルオ
キシ）―１―オクテン―７―イン（４）（４５ｍｇ、
０．１２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１ｍｌ）を加え、
４時間加熱還流した。反応終了後、実施例１と同様の後
処理とシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行ない、
１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフェロール―
１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチルシリル）エ
ーテル（９）（５１ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ，５５％）
を得た。このもののＮＭＲ、ＩＲは実施例１で得られた
化合物のものと一致した。

【００５１】［実施例３］

【００５２】

【化１６】

【００５３】実施例１で得られた１，２４（Ｒ）―ジヒ
ドロキシコレカルシフェロール―１，３，２４―トリス
（ｔ―ブチルジメチルシリル）エーテル（９）（９４ｍ
ｇ、０．１３ｍｍｏｌ）をメタノール（４５ｍｌ）に溶
解し、ｐ―トルエンスルフォン酸ピリジニウムポリマー
バウンド（２２５ｍｇ、約０．９０ｍｍｏｌ）を加え、
室温で１６時間攪拌した。反応終了後、反応混合物をア
ルミナ（２ｃｍ）を通したのち濃縮し、粗生成物を得
た。この粗生成物をヘキサン：酢酸エチルの比を５：１
から１：２に徐々に変化させて溶離し、目的物である
１．２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフェロール
（３８ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ、７５％）を得た。この
物をメタノールと水の混合溶媒より再結晶し、１α，２
４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフェロール（１０）
の一水和物（２２ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を得た。 融点 ９６．５〜１００℃（水―メタノールより再結
晶） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ^-1 ３３１５，２７４０，２８７２，１４７２，１０４３． ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．５６（３Ｈ，
ｓ），０．８１〜１．００（９Ｈ，ｍ），１．１５〜
２．８５（２２Ｈ，ｍ），３．３１〜３．４５（１Ｈ，
ｍ），４．１５〜４．３（１Ｈ，ｍ），４．４〜４．５
（１Ｈ，ｍ），５．００（１Ｈ，ｂｒｓ），５．３２
（１Ｈ，ｂｒｓ），６．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）． 上記結晶のＨＰＬＣ分析を行なったところ、２４Ｒと２
４Ｓの比は２４Ｒ／２４Ｓ＝９９．１／０．９であっ
た。ＨＰＬＣ分析はＹＭＣ ＡＭ ３０３カラム（ＹＭ
Ｃ社製）を用いて行ない、溶離液としてはメタノール：
水＝４：１（流量１．０ｍｌ／ｍｉｎ）を使用し、２５
４ｎｍのＵＶ波長で検出し定量した。

【００５４】［実施例４］

【００５５】

【化１７】

【００５６】テトラキス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム（１１．５ｍｇ、０．０１ｍｌ）をトルエン
（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２ｍｌ）の混合溶媒に
溶解し、（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―
ブロモメチレン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―
２―メチル―３（Ｒ）―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメ
チルシリルエーテル（２）（４２ｍｇ、０．０９ｍｍｏ
ｌ）および３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメ
チルシリルオキシ）―１―オクテン―７―イン（４）
（２４ｍｇ、０．０６５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１
ｍｌ）を加え、３時間加熱還流した。反応終了後実施例
１と同様の後処理とシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーを行い、１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフ
ェロール―１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチル
シリル）エーテル（９）（１０ｍｇ、０．０１３ｍｍｏ
ｌ、２０％）を得た。このもののＮＭＲ、ＩＲは実施例
１で得られた化合物のそれと一致した。

【００５７】［実施例５］

【００５８】

【化１８】

【００５９】トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラ
ジウム（１０ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）とトリフェニル
ホスフィン（２１ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）をアセトニ
トリル（１．５ｍｌ）とトリエチルアミン（１．５ｍ
ｌ）の混合溶媒に溶解し、（６Ｒ）―６―［（７ａ
Ｒ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレン―７ａ―メチルイ
ンデン―１―イル］―２―メチル―３（Ｒ）ヘプタノー
ル―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル（２）（４２ｍ
ｇ、０．０９ｍｍｏｌ）および３（Ｓ），５（Ｒ）―ビ
ス（ｔ―ブチルジメチルシリルオキシ）―１―オクテン
―７―イン（４）（２４ｍｇ、０．０６５ｍｍｏｌ）の
アセトニトリル／トリエチルアミン（１／１）溶液（１
ｍｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応終了後実施例
１と同様の後処理とシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーを行い、１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフ
ェロール―１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチル
シリル）エーテル（９）（５ｍｇ、０．００７ｍｍｏ
ｌ、１０％）を得た。この者のＮＭＲ、ＩＲは実施例１
で得られた化合物のそれと一致した。

【００６０】［実施例６］

【００６１】

【化１９】

【００６２】酢酸パラジウム（４ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（１９ｍｇ、０．０７ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、（６Ｒ）―６―［（７ａ
Ｒ），（４Ｅ）―４―ヨードメチレン―７ａ―メチルイ
ンデン―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタノール―
ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル（５）（３Ｒ：３Ｓ
＝９５：５、９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及び３
（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリルオ
キシ）―１―オクテン―７―イン（４）（４５ｍｇ、
０．１２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１ｍｌ）を加え、
２時間１００℃で加熱攪拌した。反応終了後、実施例１
と同様の後処理とシリカゲルカラムクロマトグラフィー
を行ない、１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフ
ェロール―１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチル
シリル）エーテル（９）（４６ｍｇ、０．０６ｍｍｏ
ｌ、４８％）を得た。このもののＮＭＲ、ＩＲは実施例
１で得られた化合物のものと一致した。

【００６３】［実施例７］

【００６４】

【化２０】

【００６５】酢酸パラジウム（４ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（１９ｍｇ、０．０７ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とジイソプロピルエチル
アミン（２ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、（６Ｒ）―６―
［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ヨードメチレン―７ａ―
メチルインデン―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタ
ノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル（５）（３
Ｒ：３Ｓ＝９５：５、９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及
び３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリ
ルオキシ）―１―オクテン―７―イン（４）（４５ｍ
ｇ、０．１２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１ｍｌ）を加
え、２時間１００℃で加熱攪拌した。反応終了後、実施
例１と同様の後処理とシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーを行ない、１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカル
シフェロール―１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメ
チルシリル）エーテル（９）（５６ｍｇ、０．０７ｍｍ
ｏｌ、５９％）を得た。このもののＮＭＲ、ＩＲは実施
例１で得られた化合物のものと一致した。

【００６６】［実施例８］

【００６７】

【化２１】

【００６８】酢酸パラジウム（４ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（１９ｍｇ、０．０７ｍ
ｍｏｌ）をヘプタン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、（６Ｒ）―６―［（７ａ
Ｒ），（４Ｅ）―４―ヨードメチレン―７ａ―メチルイ
ンデン―１―イル］―２―メチル―３―ヘプタノール―
ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル（５）（３Ｒ：３Ｓ
＝９５：５、９３ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）及び３
（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチルジメチルシリルオ
キシ）―１―オクテン―７―イン（４）（４５ｍｇ、
０．１２ｍｍｏｌ）のヘプタン溶液（１ｍｌ）を加え、
２時間１００℃で加熱攪拌した。反応終了後、実施例１
と同様の後処理とシリカゲルカラムクロマトグラフィー
を行ない、１，２４（Ｒ）―ジヒドロキシコレカルシフ
ェロール―１，３，２４―トリス（ｔ―ブチルジメチル
シリル）エーテル（９）（６０ｍｇ、０．０８ｍｍｏ
ｌ、６３％）を得た。このもののＮＭＲ、ＩＲは実施例
１で得られた化合物のものと一致した。

【００６９】［実施例９］

【００７０】

【化２２】

【００７１】パラジウムπアリルコンプレックス（６．
５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン
（２５ｍｇ、０．０７ｍｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）
とトリエチルアミン（２ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、
（６Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ヨードメ
チレン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチ
ル―３―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエー
テル（５）（３Ｒ：３Ｓ＝９５：５、９３ｍｇ、０．１
８ｍｍｏｌ）及び３（Ｓ），５（Ｒ）―ビス（ｔ―ブチ
ルジメチルシリルオキシ）―１―オクテン―７―イン
（４）（４５ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）のトルエン溶液
（１ｍｌ）を加え、２時間１００℃で加熱攪拌した。反
応終了後、実施例１と同様の後処理とシリカゲルカラム
クロマトグラフィーを行ない、１，２４（Ｒ）―ジヒド
ロキシコレカルシフェロール―１，３，２４―トリス
（ｔ―ブチルジメチルシリル）エーテル（９）（６６ｍ
ｇ、０．０９ｍｍｏｌ、６９％）を得た。このもののＮ
ＭＲ、ＩＲは実施例１で得られた化合物のものと一致し
た。

【００７２】［実施例１０］

【００７３】

【化２３】

【００７４】トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラ
ジウムクロロホルム錯体（１８ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（３８ｍｇ、０．１５ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、参考例１で得られた（６
Ｒ）―６―［（７ａＳ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレ
ン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチル―
３―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル
（２）（３Ｒ：３Ｓ＝９５：５、１８６ｍｇ、０．４１
ｍｍｏｌ）及び参考例４で得られた３（Ｒ），５（Ｓ）
―ビス（トリメチルシリルオキシ）―１―オクテン―７
―イン（７）（３４ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）のトルエ
ン溶液（１ｍｌ）を加え、３時間加熱還流した。反応終
了後反応混合物をシリカゲルカラムを用いて濾過したの
ち濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物をシリカゲル
（２０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィーに付し、
ヘキサン：トルエンの比を５０：１から５：１に徐々に
変化させて溶離し、目的物である２４（Ｒ）―ｔ―ブチ
ルジメチルシリルオキシ―１―ヒドロキシコレカルシフ
ェロール―１，３―ビス（トリメチルシリル）エーテル
（１１）（１２ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ、１５％）を得
た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．０３（６Ｈ，
ｓ），０．１３（１８Ｈ，ｓ），０．５４（３Ｈ，
ｓ），０．８〜１．０（１８Ｈ，ｍ），１．１〜３．０
（２２Ｈ，ｍ），３．３〜３．４（１Ｈ，ｍ），４．１
〜４．２５（１Ｈ，ｍ），４．３〜４．４（１Ｈ，
ｍ），４．８５〜４．９０（１Ｈ，ｍ），５．１５〜
５．２０（１Ｈ，ｍ），６．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２
Ｈｚ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ）， ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；２９６０，１５５９，１５０
９，１４７３，１２５０． ＵＶ（λｍａｘ：エタノール） ２６５ｎｍ ［実施例１１］

【００７５】

【化２４】

【００７６】トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラ
ジウムクロロホルム錯体（１８ｍｇ、０．０２ｍｍｏ
ｌ）とトリフェニルホスフィン（３８ｍｇ、０．１５ｍ
ｍｏｌ）をトルエン（１ｍｌ）とトリエチルアミン（２
ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、参考例１で得られた（６
Ｒ）―６―［（７ａＲ），（４Ｅ）―４―ブロモメチレ
ン―７ａ―メチルインデン―１―イル］―２―メチル―
３―ヘプタノール―ｔ―ブチルジメチルシリルエーテル
（２）（３Ｒ：３Ｓ＝９５：５、８３ｍｇ、０．１８ｍ
ｍｏｌ）及び参考例５で得られた３（Ｒ），５（Ｓ）―
ビス（ｔ―ブチルジフェニルシリルオキシ）―１―オク
テン―７―イン（８）（７８ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）
のトルエン溶液（１ｍｌ）を加え、６時間加熱還流し
た。反応終了後反応混合物をシリカゲルカラムを用いて
濾過したのち濃縮し、粗生成物を得た。この粗生成物を
シリカゲル（２０ｇ）を用いてカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ヘキサン：トルエンの比を５０：１から５：
１に徐々に変化させて溶離し、目的物である２４（Ｒ）
―ｔ―ブチルジメチルシリルオキシ―１―ヒドロキシコ
レカルシフェロール―１，３―ビス（ｔ―ブチルジフェ
ニルシリル）エーテル（１２）（１５ｍｇ、０．０１５
ｍｍｏｌ、１２％）を得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ 、ｐｐｍ）δ；０．０４（３Ｈ，
ｓ），０．０６（３Ｈ，ｓ），０．５１（３Ｈ，ｓ），
０．８５〜２．８５（３１Ｈ，ｍ），３．３１〜３．４
５（１Ｈ，ｍ），４．２〜４．３５（１Ｈ，ｍ），４．
５〜４．６（１Ｈ，ｍ），４．８〜４．８５（１Ｈ，ｂ
ｒ），５．０５〜５．１（１Ｈ，ｂｒ），６．０１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１
２Ｈｚ）． ＩＲ（ｎｅａｔ）ｃｍ^-1；１５５９，１５２２，１４７
３，１４５８．

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は水素原子、トリ―低級アルキルシリル
   基、アリール―ジ―低級アルキルシリル基、ジアリール
   ―低級アルキルシリル基、またはトリアリールシリル基
   を表わし、Ｘはヨウ素原子または臭素原子を表わし、＊
   はその不斉炭素に由来する異性体が一方の異性体に偏っ
   ていることを示す。］で表わされるハロゲン化メチレン
   誘導体と下記式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ² 、Ｒ³ は同一もしくは異なって水素原子、
   トリ―低級アルキルシリル基、アリール―ジ―低級アル
   キルシリル基、ジアリール―低級アルキルシリル基、ま
   たはトリアリールシリル基を表わす。］で表わされるエ
   ンイン誘導体とをパラジウム触媒の存在下に反応せし
   め、必要により脱保護反応せしめることを特徴とする下
   記式（III ） 【化３】 ［式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 及び＊の定義は前記式（Ｉ）
   及び（II）と同じである。］で表わされる１α，２４―
   ジヒドロキシコレカルシフェロール類の製造法。
2. 【請求項２】 パラジウム触媒がテトラキス（トリフェ
   ニルホスフィン）パラジウム、酢酸パラジウム／トリフ
   ェニルホスフィン、パラジウムπ―アリル錯体／トリフ
   ェニルホスフィン、またはトリス（ジベンジリデンアセ
   トン）ジパラジウム／トリフェニルホスフィンである請
   求項１記載の１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェ
   ロール類の製造法。
3. 【請求項３】 式（Ｉ）及び式（II）において、Ｒ¹ 、
   Ｒ² 及びＲ³ がトリメチルシリル基、ｔ―ブチルジメチ
   ルシリル基及び／又はｔ―ブチルジフェニルシリル基で
   ある請求項１または２に記載の１α，２４―ジヒドロキ
   シコレカルシフェロール類の製造法。
4. 【請求項４】 Ｘが臭素原子である請求項１〜３のいず
   れか１項に記載の１α，２４―ジヒドロキシコレカルシ
   フェロール類の製造法。
5. 【請求項５】 式（III ）において、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ
   ³ が水素原子である請求項１〜４のいずれか１項に記載
   の１α，２４―ジヒドロキシコレカルシフェロール類の
   製造法。