JPH03108125A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03108125A JPH03108125A JP1245634A JP24563489A JPH03108125A JP H03108125 A JPH03108125 A JP H03108125A JP 1245634 A JP1245634 A JP 1245634A JP 24563489 A JP24563489 A JP 24563489A JP H03108125 A JPH03108125 A JP H03108125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- base film
- substrate
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、下地膜にＣｒを用い、磁性膜にＣＯ系耐磁性
材料用いる磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
材料用いる磁気記録媒体の製造方法に関するものである
。
従来の技術
第６図は従来の磁気記録媒体を示す斜視図である。第６
図において、１はアルミ合金でできた基板、２は基板１
の上にめっき法によって形成されたＮ１−Ｐ膜で、Ｎ１
−Ｐ膜２は表面を鏡面加工した後にテクスチャー加工が
施されている。３は基板１の上に膜厚１５００Ａで形成
された下地膜で、下地膜３はＣｒで構成されている。４
は下地膜３の上に膜厚６００人で形成された磁性膜で、
磁性膜４はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料で構成されてい
る。５は磁性膜４の上に膜厚２００Ａで形成された保護
膜で、保護膜５はＣで構成されている。今回下地膜３は
磁性膜にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料を用いたので、膜
厚を１５００Ａとしたが、磁性膜にＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系
磁性材料を用いた場合には下地膜３の膜厚を１００ＯＡ
にしていた。
図において、１はアルミ合金でできた基板、２は基板１
の上にめっき法によって形成されたＮ１−Ｐ膜で、Ｎ１
−Ｐ膜２は表面を鏡面加工した後にテクスチャー加工が
施されている。３は基板１の上に膜厚１５００Ａで形成
された下地膜で、下地膜３はＣｒで構成されている。４
は下地膜３の上に膜厚６００人で形成された磁性膜で、
磁性膜４はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料で構成されてい
る。５は磁性膜４の上に膜厚２００Ａで形成された保護
膜で、保護膜５はＣで構成されている。今回下地膜３は
磁性膜にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料を用いたので、膜
厚を１５００Ａとしたが、磁性膜にＣｏ−Ｃｒ−Ｔａ系
磁性材料を用いた場合には下地膜３の膜厚を１００ＯＡ
にしていた。
近年ディスクドライブの小型化のために磁気記録媒体の
大容量化が進められている。この大容量化を実現するた
めの手段として現在−数的に進められているのは、磁気
記録媒体のトラック間を狭（する面密度の向上や、ビッ
ト間を狭くする線密度の向上である。しかしながら磁気
記録媒体の面密度および線密度を向上させて行くと再生
出力が小さくなってしまうという問題点を有していた。
大容量化が進められている。この大容量化を実現するた
めの手段として現在−数的に進められているのは、磁気
記録媒体のトラック間を狭（する面密度の向上や、ビッ
ト間を狭くする線密度の向上である。しかしながら磁気
記録媒体の面密度および線密度を向上させて行くと再生
出力が小さくなってしまうという問題点を有していた。
この問題点の解決のために磁性膜により大きな保磁力を
持たせ、面密度および線密度を向上させても再生出力が
小さくならないような磁気記録媒体の開発が進められて
いる。第７図は他の磁気記録媒体の部分断面図を示す。
持たせ、面密度および線密度を向上させても再生出力が
小さくならないような磁気記録媒体の開発が進められて
いる。第７図は他の磁気記録媒体の部分断面図を示す。
第７図において、１は基板、２はＮ１−Ｐ膜、３は下地
膜、５は保護膜でこれらは第６図に示す磁気記録媒体と
同じ構成を有している。６はＣｒで構成され、膜厚１５
００人で形成された下地膜、７は下地膜３の上に形成さ
れた磁性膜で、磁性膜７はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料
によって構成され、膜厚６００人で形成されている。こ
の様に構成された磁気記録媒体と第６図に示す磁気記録
媒体と異なる点は、磁性膜及びその下地膜の形成方法に
違いがある。第６図に示す磁気記録媒体はＮ１−Ｐ膜２
を形成した基板１の上に下地膜３を形成し、下地膜３の
上に磁性膜４をスパッタリング法等を用いて形成される
だけであるが、第７図に示す磁気記録媒体はＮ１−Ｐ膜
２及び基板１に直流電圧を加えなか下地膜６を形成し、
また基板１及びＮ１−Ｐ膜２及び下地膜６に所定の直流
電圧を加えながらさらに下地膜６の上に磁性膜７をスパ
ッタリング法等を用いて形成されている。このように形
成された第７図の磁気記録媒体は第６図のものに比べて
保磁力が非常に太き（なる。例えば下地膜３の厚さを１
５００Ａとして、その上にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料
で磁性膜４を形成してその保磁力を測定すると約１００
０エルステツドに対して、基板１及びＮ１−Ｐ膜２に一
３００ボルトの直流電圧を加えてスパッタリングにより
下地膜３を形成し、下地膜３及びＮ１−Ｐ膜２及び基板
１に一３００ボルトの直流電圧を加えてＣｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ系磁性材料をスパッタリングする事によって磁性膜７
を形成して、保磁力を測定すると約１６００エルステツ
ドであった。このように基板１等に直流電圧を加えなが
ら下地膜及び磁性膜を形成すると保磁力の大きくなるこ
とがわかる。上記の場合基板１等に加える直流電圧を一
３００ボルトとしたが一４００ボルト、−５００ボルト
と電圧を太き（していったら、保磁力はそれにともなっ
て大きくなっていく。
膜、５は保護膜でこれらは第６図に示す磁気記録媒体と
同じ構成を有している。６はＣｒで構成され、膜厚１５
００人で形成された下地膜、７は下地膜３の上に形成さ
れた磁性膜で、磁性膜７はＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料
によって構成され、膜厚６００人で形成されている。こ
の様に構成された磁気記録媒体と第６図に示す磁気記録
媒体と異なる点は、磁性膜及びその下地膜の形成方法に
違いがある。第６図に示す磁気記録媒体はＮ１−Ｐ膜２
を形成した基板１の上に下地膜３を形成し、下地膜３の
上に磁性膜４をスパッタリング法等を用いて形成される
だけであるが、第７図に示す磁気記録媒体はＮ１−Ｐ膜
２及び基板１に直流電圧を加えなか下地膜６を形成し、
また基板１及びＮ１−Ｐ膜２及び下地膜６に所定の直流
電圧を加えながらさらに下地膜６の上に磁性膜７をスパ
ッタリング法等を用いて形成されている。このように形
成された第７図の磁気記録媒体は第６図のものに比べて
保磁力が非常に太き（なる。例えば下地膜３の厚さを１
５００Ａとして、その上にＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系磁性材料
で磁性膜４を形成してその保磁力を測定すると約１００
０エルステツドに対して、基板１及びＮ１−Ｐ膜２に一
３００ボルトの直流電圧を加えてスパッタリングにより
下地膜３を形成し、下地膜３及びＮ１−Ｐ膜２及び基板
１に一３００ボルトの直流電圧を加えてＣｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ系磁性材料をスパッタリングする事によって磁性膜７
を形成して、保磁力を測定すると約１６００エルステツ
ドであった。このように基板１等に直流電圧を加えなが
ら下地膜及び磁性膜を形成すると保磁力の大きくなるこ
とがわかる。上記の場合基板１等に加える直流電圧を一
３００ボルトとしたが一４００ボルト、−５００ボルト
と電圧を太き（していったら、保磁力はそれにともなっ
て大きくなっていく。
発明が解決しようとする課題
しかしながら基板に直流電圧を加えながら作成した磁性
膜７は、保磁力は太き（できるが、磁性膜７の再生出力
の中のノイズの比が太き（なる。
膜７は、保磁力は太き（できるが、磁性膜７の再生出力
の中のノイズの比が太き（なる。
すなわちＳ／Ｎ比が悪くなる。したがって磁気ヘッドが
データを記録したり再生したりする際にエラーを起こす
事が多く磁気記録媒体の信頼性がそこなわれるという問
題点を有していた。
データを記録したり再生したりする際にエラーを起こす
事が多く磁気記録媒体の信頼性がそこなわれるという問
題点を有していた。
本発明は前記従来の問題点を解決するもので、基板に直
流電圧を加えながら磁性膜を形成しても保磁力を従来よ
りも大きくしたまま、Ｓ／Ｎ比を太き（することができ
る磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的として
いる。
流電圧を加えながら磁性膜を形成しても保磁力を従来よ
りも大きくしたまま、Ｓ／Ｎ比を太き（することができ
る磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的として
いる。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために、基板に電圧を加えながら下
地膜を１００Ａ以上１０００Ａ以下の膜厚で形成し、そ
の上に下地膜に電圧を加えながら形成された磁性膜を設
けた。
地膜を１００Ａ以上１０００Ａ以下の膜厚で形成し、そ
の上に下地膜に電圧を加えながら形成された磁性膜を設
けた。
作 用
この構成により、下地膜の粒径が小さくなるので、その
上に形成される磁性膜の粒径も小さくなり、下地膜の上
に形成さ、れる磁性膜のＳ／Ｎ比を太き（することがで
きる。
上に形成される磁性膜の粒径も小さくなり、下地膜の上
に形成さ、れる磁性膜のＳ／Ｎ比を太き（することがで
きる。
実施例
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面
図を示す拡大断面図である。第１図において１は基板、
２はＮ１−Ｐ膜、５は保護膜でこれらは従来の構成と同
じである。８はＮ１−Ｐ膜３の上に形成され、Ｃｒで構
成された下地膜で、下地膜８は膜厚３００人で形成され
ている。また下地膜８はＮ１−Ｐ膜２を形成した基板１
にスパッタ装置に対して一３００ボルトの直流電圧を加
えながら、スパッタリングをする事により形成されてい
る。９は下地膜８の上に形成され、ＣＯつｏＮ １−Ｌ
ｏ Ｃｒ＋（＋ 磁性材料で構成された磁性膜で、磁性
膜９は膜厚６００Ａで形成されている。磁性膜９は基板
ｌ及びＮｉ −Ｐ膜及び下地膜８にスパッタ装置に対し
て一３００ボルトの直流電圧をかけながらスパッタリン
グする事により形成されている。１０は磁性膜９の上に
形成され、磁性膜９が腐食するのを防止するＣｒ膜であ
る。以上の様に構成された磁気記録媒体は非常に保磁力
が大きく、シかもノイズが小さくＳ／Ｎ比が非常に大き
い。以下基板１及びＮ１−Ｐ膜２及び下地膜８に電圧を
印加する方法について説明する。スパッタ室を移動する
基板保磁部材にＮ１−Ｐ膜２まで形成した基板１を保持
し、基板保持部材にスパッタ室に設けられたブラシを接
触させる。そしてそのブラシを介してスパッタ装置に対
して一３００ボルトの電圧を印加する。すると基板１等
に電圧を加える事ができる。
図を示す拡大断面図である。第１図において１は基板、
２はＮ１−Ｐ膜、５は保護膜でこれらは従来の構成と同
じである。８はＮ１−Ｐ膜３の上に形成され、Ｃｒで構
成された下地膜で、下地膜８は膜厚３００人で形成され
ている。また下地膜８はＮ１−Ｐ膜２を形成した基板１
にスパッタ装置に対して一３００ボルトの直流電圧を加
えながら、スパッタリングをする事により形成されてい
る。９は下地膜８の上に形成され、ＣＯつｏＮ １−Ｌ
ｏ Ｃｒ＋（＋ 磁性材料で構成された磁性膜で、磁性
膜９は膜厚６００Ａで形成されている。磁性膜９は基板
ｌ及びＮｉ −Ｐ膜及び下地膜８にスパッタ装置に対し
て一３００ボルトの直流電圧をかけながらスパッタリン
グする事により形成されている。１０は磁性膜９の上に
形成され、磁性膜９が腐食するのを防止するＣｒ膜であ
る。以上の様に構成された磁気記録媒体は非常に保磁力
が大きく、シかもノイズが小さくＳ／Ｎ比が非常に大き
い。以下基板１及びＮ１−Ｐ膜２及び下地膜８に電圧を
印加する方法について説明する。スパッタ室を移動する
基板保磁部材にＮ１−Ｐ膜２まで形成した基板１を保持
し、基板保持部材にスパッタ室に設けられたブラシを接
触させる。そしてそのブラシを介してスパッタ装置に対
して一３００ボルトの電圧を印加する。すると基板１等
に電圧を加える事ができる。
次に下地膜の膜厚と本実施例の磁気記録媒体の保磁力の
関係について第２図を用いて説明する。
関係について第２図を用いて説明する。
第２図において横軸は下地膜の膜厚をとり縦軸には磁性
膜の保磁力をとっている。比較のために基板に直流電圧
を加えずに下地膜及び磁性膜を形成した従来の磁気記録
媒体の下地膜の膜厚と保磁力の関係を第３図に示す。第
３図も第２図と同様に横軸には下地膜の膜厚を、縦軸に
は保磁力をとっている。この時従来と本書の磁性膜は双
方ともＣ０ＱＯＮ ｉｍ Ｃｒｈｏ 系磁性材料によっ
て膜厚を６００Ａとして形成した。この２つを比べると
わかるように、本実施例の磁気記録媒体の保磁力は下地
ＩＩ！１６００八以上では１６００エルステツドと一定
だが、５００Ａ以下では急激に減少している。しかし急
激に減少しているとはいえ下地膜の膜厚が１０ＯＡの保
磁力を見てみると１０００エルステツドと第３図に示す
従来の磁気記録媒体の最大保磁力と同じ大きさである。
膜の保磁力をとっている。比較のために基板に直流電圧
を加えずに下地膜及び磁性膜を形成した従来の磁気記録
媒体の下地膜の膜厚と保磁力の関係を第３図に示す。第
３図も第２図と同様に横軸には下地膜の膜厚を、縦軸に
は保磁力をとっている。この時従来と本書の磁性膜は双
方ともＣ０ＱＯＮ ｉｍ Ｃｒｈｏ 系磁性材料によっ
て膜厚を６００Ａとして形成した。この２つを比べると
わかるように、本実施例の磁気記録媒体の保磁力は下地
ＩＩ！１６００八以上では１６００エルステツドと一定
だが、５００Ａ以下では急激に減少している。しかし急
激に減少しているとはいえ下地膜の膜厚が１０ＯＡの保
磁力を見てみると１０００エルステツドと第３図に示す
従来の磁気記録媒体の最大保磁力と同じ大きさである。
すなわち下地膜の膜厚が１００Ａ以上であれば十分な保
磁力が得られることがわかる。下地膜の最低の膜厚を１
００Ａとしたのは、膜厚が１００Ａ以下の場合Ｃｒの結
晶構造の安定したものができないからである。
磁力が得られることがわかる。下地膜の最低の膜厚を１
００Ａとしたのは、膜厚が１００Ａ以下の場合Ｃｒの結
晶構造の安定したものができないからである。
次に下地膜の厚さと磁気記録媒体の再生出力に関係につ
いて第４図をもちいて説明する。
いて第４図をもちいて説明する。
第４図において横軸は下地膜の膜厚で、縦軸には相対出
力値を示す。この時下地膜の膜厚が２００Ａの時の再生
出力を基準に取っている。第４図から判るように下地膜
が３０ＯＡぐらいが一番相対出力値が大きいことが判る
。従来の磁気記録媒体では下地膜の厚さは磁性膜の材料
によっても多少異なるが１００ＯＡ以上形成していた。
力値を示す。この時下地膜の膜厚が２００Ａの時の再生
出力を基準に取っている。第４図から判るように下地膜
が３０ＯＡぐらいが一番相対出力値が大きいことが判る
。従来の磁気記録媒体では下地膜の厚さは磁性膜の材料
によっても多少異なるが１００ＯＡ以上形成していた。
しかし本実施例のように基板等に電圧をかけた状態で磁
性膜及び下地膜を形成する磁気記録媒体においては、下
地膜の膜厚を１０００Ａ以下にした方がより大きな相対
出力値が得られる事がわかる。
性膜及び下地膜を形成する磁気記録媒体においては、下
地膜の膜厚を１０００Ａ以下にした方がより大きな相対
出力値が得られる事がわかる。
次に下地膜の厚さと磁気記録媒体のＳ／Ｎ比の関係につ
いて第５図を用いて説明する。
いて第５図を用いて説明する。
第５図において、横軸は下地膜の厚さをとり、縦軸には
磁気記録媒体の相対Ｓ／Ｎ比をとっている。この時下地
膜の厚さが２００ＯＡの時のＳ／Ｎ比を基準にとってい
る。第５図かられかるように第４図に示す下地膜の膜厚
と相対出力値の関係と同じ様な曲線を描いている。すな
わち下地膜を１０００Ａ以下にして、その下地膜の上に
磁性膜を形成すれば従来のＳ／Ｎ比より大きくなる事が
わかる。また第４図及び第５図かられかるように下地膜
の膜厚が１５００Ａと５００Ａの時の相対出力値を比べ
ると５００Ａの方が約１ｄＢはど大きくなっているが、
Ｓ／Ｎ比は１．３ｄＢ太き（なっている。これは何を意
味するかと言うと、通常なら出力が１ｄＢ上っ・たらＳ
／Ｎ比も１ｄＢ上るが、本実施例の場合Ｓ／Ｎ比が１．
３ｄＢに向上している。すなわち膜厚が約１００Ａから
約１０００Ａまでの間では再生出力のなかのノイズが占
める割合が下地膜を１５００Ａ以上形成した時よりも小
さ（なっている事を示している。すなわち非常に特性の
良い磁気記録媒体を作成する事ができる。この様に特性
がよくなる理由として、下地膜を薄（形成すれば、下地
膜の粒径が小さくなり、その下地膜の上に形成される磁
性膜は、下地膜の粒径と同じ粒径でエピタキシー成長し
、きめ細かな磁性膜が形成されるからではないかと考え
られる。
磁気記録媒体の相対Ｓ／Ｎ比をとっている。この時下地
膜の厚さが２００ＯＡの時のＳ／Ｎ比を基準にとってい
る。第５図かられかるように第４図に示す下地膜の膜厚
と相対出力値の関係と同じ様な曲線を描いている。すな
わち下地膜を１０００Ａ以下にして、その下地膜の上に
磁性膜を形成すれば従来のＳ／Ｎ比より大きくなる事が
わかる。また第４図及び第５図かられかるように下地膜
の膜厚が１５００Ａと５００Ａの時の相対出力値を比べ
ると５００Ａの方が約１ｄＢはど大きくなっているが、
Ｓ／Ｎ比は１．３ｄＢ太き（なっている。これは何を意
味するかと言うと、通常なら出力が１ｄＢ上っ・たらＳ
／Ｎ比も１ｄＢ上るが、本実施例の場合Ｓ／Ｎ比が１．
３ｄＢに向上している。すなわち膜厚が約１００Ａから
約１０００Ａまでの間では再生出力のなかのノイズが占
める割合が下地膜を１５００Ａ以上形成した時よりも小
さ（なっている事を示している。すなわち非常に特性の
良い磁気記録媒体を作成する事ができる。この様に特性
がよくなる理由として、下地膜を薄（形成すれば、下地
膜の粒径が小さくなり、その下地膜の上に形成される磁
性膜は、下地膜の粒径と同じ粒径でエピタキシー成長し
、きめ細かな磁性膜が形成されるからではないかと考え
られる。
以上のように本実施例によれば、基板１及びＮ１−Ｐ膜
２にスパッタ装置に対して−３００ボルトの電圧を印加
しなからＣｒで３００Ａの膜厚の下地膜８を形成し、基
板１及びＮｉ −Ｐ膜２及び下地膜８にスパッタ装置に
対して一３００ボルトの電圧を加えながら磁性膜を形成
する事によって、保磁力の大きな、しかもＳ／Ｎ比の太
き（なり、磁気記録媒体の信頼性を向上させる事ができ
る。
２にスパッタ装置に対して−３００ボルトの電圧を印加
しなからＣｒで３００Ａの膜厚の下地膜８を形成し、基
板１及びＮｉ −Ｐ膜２及び下地膜８にスパッタ装置に
対して一３００ボルトの電圧を加えながら磁性膜を形成
する事によって、保磁力の大きな、しかもＳ／Ｎ比の太
き（なり、磁気記録媒体の信頼性を向上させる事ができ
る。
なお本実施例において下地膜の厚さを３００Ａとしたが
上記述べたように下地膜の厚さを１００Ａから１００Ｏ
Ａの間にしても従来よりも保磁力を太き（でき、Ｓ／Ｎ
比が大きくする事ができる。基板等に印加される電圧を
一３００ボルトとしたが、この電圧に限定されるわけで
はない。例えば−４００ボルトや一５００ボルト等でも
同様の効果を得る事ができる。また本実施例では磁性膜
にＣ０ＱＩＩ Ｎ ｉｚｏ Ｃｒｌｏ磁性材料を用いて
いたが、ｃｏ系磁性材料でも同様の効果を得る事ができ
る。
上記述べたように下地膜の厚さを１００Ａから１００Ｏ
Ａの間にしても従来よりも保磁力を太き（でき、Ｓ／Ｎ
比が大きくする事ができる。基板等に印加される電圧を
一３００ボルトとしたが、この電圧に限定されるわけで
はない。例えば−４００ボルトや一５００ボルト等でも
同様の効果を得る事ができる。また本実施例では磁性膜
にＣ０ＱＩＩ Ｎ ｉｚｏ Ｃｒｌｏ磁性材料を用いて
いたが、ｃｏ系磁性材料でも同様の効果を得る事ができ
る。
発明の効果
本発明は、基板に電圧を加えながら下地膜を１００Ａ以
上１０００Ａ以下の膜厚で形成し、その上に下地膜に電
圧を加えながら形成された磁性膜を設けた事により、下
地膜の粒径が小さくなるので、その上に形成される磁性
膜の粒径も小さ（なり、下地膜の上に形成される磁性膜
のＳ／Ｎ比を大きくすることができるので、エラーレー
トを小さ（する事ができ、磁気記録媒体の信頼性を向上
させる事ができる。
上１０００Ａ以下の膜厚で形成し、その上に下地膜に電
圧を加えながら形成された磁性膜を設けた事により、下
地膜の粒径が小さくなるので、その上に形成される磁性
膜の粒径も小さ（なり、下地膜の上に形成される磁性膜
のＳ／Ｎ比を大きくすることができるので、エラーレー
トを小さ（する事ができ、磁気記録媒体の信頼性を向上
させる事ができる。
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の部分
断面図、第２図は本実施例における磁気記録媒体の下地
膜と保磁力の関係を示す図、第３図は磁性膜形成時に基
板に電圧を加えない従来の磁気記録媒体の下地膜と保磁
力の関係を示す図、第４図は同下地膜と相対出力値の関
係を示す図、第５図は同下地膜と相対Ｓ／Ｎ比の関係を
示す図、第６図は従来の磁気記録媒体の部分断面図、第
７図は他の従来の磁気記録媒体の部分断面図である。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・Ｎ１−Ｐ膜 ５・・・・・・保護膜 ８・・・・・・下地膜 ９・・・・・・磁性膜 １０・・・・・・Ｃｒ膜 第１図
断面図、第２図は本実施例における磁気記録媒体の下地
膜と保磁力の関係を示す図、第３図は磁性膜形成時に基
板に電圧を加えない従来の磁気記録媒体の下地膜と保磁
力の関係を示す図、第４図は同下地膜と相対出力値の関
係を示す図、第５図は同下地膜と相対Ｓ／Ｎ比の関係を
示す図、第６図は従来の磁気記録媒体の部分断面図、第
７図は他の従来の磁気記録媒体の部分断面図である。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・Ｎ１−Ｐ膜 ５・・・・・・保護膜 ８・・・・・・下地膜 ９・・・・・・磁性膜 １０・・・・・・Ｃｒ膜 第１図
Claims (2)
- （１）基板に電圧を加えながら前記基板の上に下地膜を
形成し、前記下地膜に電圧を加えながら前記下地膜の上
に磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、
前記下地膜の膜厚を１００Å以上１０００Å以下にした
事を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - （２）下地膜はＣｒで構成され、磁性膜はＣｏ系磁性材
料によって構成された事を特徴とする請求項第１項記載
の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1245634A JP2808723B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1245634A JP2808723B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03108125A true JPH03108125A (ja) | 1991-05-08 |
| JP2808723B2 JP2808723B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=17136579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1245634A Expired - Lifetime JP2808723B2 (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2808723B2 (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076026A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61227231A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Unitika Ltd | 磁気記録体の製造方法 |
| JPS61278029A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録素子の製造方法 |
| JPS63308264A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Hiroshi Teramachi | 直線運動案内機構の予圧調整装置 |
| JPS6457420A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Ayao Wada | Substrate for magnetic disk |
-
1989
- 1989-09-21 JP JP1245634A patent/JP2808723B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076026A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61227231A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-09 | Unitika Ltd | 磁気記録体の製造方法 |
| JPS61278029A (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録素子の製造方法 |
| JPS63308264A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Hiroshi Teramachi | 直線運動案内機構の予圧調整装置 |
| JPS6457420A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-03 | Ayao Wada | Substrate for magnetic disk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2808723B2 (ja) | 1998-10-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2524514B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3099790B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH0556565B2 (ja) | ||
| JPH04102223A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置 | |
| US4544591A (en) | Perpendicular magnetic recording medium | |
| JPH10228620A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH0323972B2 (ja) | ||
| JPS61199224A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3050305B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2808723B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2725502B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2990975B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2732153B2 (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH06187628A (ja) | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
| JPS61113121A (ja) | 垂直磁気記録用媒体 | |
| JP2000182233A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH053050B2 (ja) | ||
| JPS58130437A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04134618A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05135342A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0744852A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH05266454A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH02154323A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05109042A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0536054A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070731 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090731 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090731 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100731 Year of fee payment: 12 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100731 Year of fee payment: 12 |