JPH03111496A - 洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は環境汚染の少ない洗浄剤に関する。

〔従来の技術〕

従来より、家電製品製作時の液晶の洗浄やプリント基板
製作時のハンダブラックス、油類、グリースなどの洗浄
や家庭の油汚れの洗浄には、トリクａＶＸエチレン、テ
トラクロロエチレンなどの塩素系溶剤あるいはトリク＋
＝＋ｐモノフルオロメタン（）ｐンＲ−１１）、トリク
Ｉ：Ｉロジフルオｐエタン（フロンＲ−１１２）、トリ
クｐｃ１トリプルオーエタン（７ａンＲ−１１３）など
のフロン系溶剤が用いられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし近年になり、塩素系溶剤は自然界に蓄積して生棲
系に悪影響を及ぼし、フロン系溶剤は大気中のオゾン層
を破壊することが判明し、これらの溶剤を使用するため
におこる環境汚染が地球的規模の大館な問題となってき
た。このため、現在これら鷹素系溶剤あるいはフｐン系
溶剤の使用が禁止される方向（向かっており、これらえ
変わる環境汚染の少ない洗浄剤が強（求められている。

本発明は塩素系やフーン系の洗浄剤と同等の効果を持ち
、しかも環境汚染の少ない洗浄剤を提供することを目的
とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは芳香族含酸素化合物溶剤とエーテル系非イ
オン界面活性剤とを組み合せた洗浄剤が優れた洗浄力を
持ち、水洗により容易−除去する二とができ、しかも環
境汚染の少ないことを見出し、本発明に到達した。

すなわち本発明は、芳香族含酸素化合物溶剤と一般式（
１１で示される界面活性剤とからなる洗浄剤である。

（２は２〜８個の水酸基をもつ化合物の残基、ＡＯは炭
素数３〜１８のオキシアルキレン基　Ｒ１は〜２２の７
シル基、ａ≧０、ｂ≧０．ｃ≧０．ｄ≧０、ｅ≧Ｏ，ｆ
≧ｏ、ｇとｈとｌは０または正の整数でｇ＋ｈ＋１＝２
〜８．ｄｇ＋ｓｈ＋ｆｉ≧１、（ａ＋ａ　）ｇ＋（ｂ＋
ａ　）ｈ＋（ｃ＋ｆ　）ｌ＝１〜５００である。） 一般式（１）において、２を残基とする２〜８個の水酸
基を持つ化合物としては、エチレングリコール、プロピ
レングリフール、ブチレングリコール。

ヘキシレングリコール、スチレングリコール、炭素数８
〜１８のフルキレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル等のグリコール類；グリセリン、ジグリセリン、ポリ
グリセリン、トリメチｐ−ルエタン、トリメチロールプ
ロパン、１，３．５−ペンタントリオール、エリスリト
ール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール
、ソルビトール、ソルビタン、ソルバイト、ソルビトー
ルとト グリセリンの縮合物、アドニ＊−ル、アラビトール、キ
シリトール、マンニトール等の多価アルコール類、ある
いはそれらの部分エーテル化物またはエステル化物；キ
シロース、アラビノース、リボース、ラムノース、グル
コース、フルクトース、ガラクトース、マンノース、ソ
ルボース、セロビオース、マルトース、インマルトース
、トレハロース、シェークロース、ラフィノース、ゲン
チアノース、メレジトース等の糖類あるいはそれらの部
分エーテル化物またはエステル化物；カテコール、レゾ
ルシノール、ヒドロキノン、フルログルシン等のフェノ
ール類が挙げられる。

ＡＯで示される炭素数３〜１８のオキシアルキレン基と
しては、オキシプロピレン基、オキシスチレン基、オキ
シテトラメチレン基、オキシスチレン基、オキシアルキ
レン基、オキシテトラメチレン基、オキシヘキサデシレ
ン基、オキシオクタデシレン基が挙げられ、これらは１
種だけ付加してもよく、また２種以上が同時に付加して
いてもてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペン
チル基、インペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２
−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基
、ウンデシル基、ドデシル基。

トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、イン
ヘキサデシル基、オクタデシル基、インオクタデシル基
、オレイル基、オクチルドデシル基、トコシル基、デシ
ルテトラデシル基、ベンジル基、クレジル基、ブチルフ
ェニル基、ジブチルフェニル基、オクチルフェニル基、
ノニルフェニル基、ドデシルフェニル基、ジオクチルフ
ェニル基、ジノニルフェニル基、スチレン化フヱニル基
等カする。

ＣＯＲ”で示される炭素数２〜２２のアシル基としては
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリル酸、
ペラルゴン酸、２−エチルへキサン酸、ノナン酸、カプ
リン酸、ウンデシレン酸、ラクリン酸、ミリスチ／宜、
パルζチン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキン
酸、ベヘン酸。

パルｊ）レイン酸、オレイン酸、リノール酸、リルン酸
、エルカ酸、イソパルミチン酸、インステアリン酸、安
息香酸、ヒドロキシ安息香酸、種木糖化合物溶剤を水に
対して乳化性にするために最低１モルは必要である。Ａ
Ｏは洗浄後の排水を低泡性にするためにある方が好まし
いが、別に無くてもよい。また、オキシアルキレン基と
オキシエチレン基の合計付加モル数は界面活性能を持た
せるためＫは２モル以上は必要であり、５００モルを越
えると粘度が著しく増加して使用が困難になるので５０
０モル以下である必要がある。また、オキシエチレン基
の含有量は芳香族含酸素化性剤の組み合わせによっても
異なるのでさくに規しンオキシドの量は分子址の２０重
量％以上である。

また。

オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブーツク状に
付加していても、ランダム状に付加していても良い。

芳香族含酸素化合物溶剤としては、芳香族基をもつケト
ン、エーテル、アルコール、カルボン酸エステルなどが
あり、芳香族基と酸素原子をもつものが使用される。

芳香族基をもつケトンとし【は、たとえば−最大（２）
で示されるケトンがある。

（Ｒ３は炭素数１〜９のフルキル基、水酸基またはアミ
ン基で、ｋはＯ〜５、Ｒ４は炭素数１〜２２の炭化水素
基である。） Ｒ３で示される炭素数１〜９のアルキル基としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル
基、ノニル基等がある。

Ｒ４で示される炭素ｆｉ１〜２２の炭化水素基としては
、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、
インペンチル基、ヘキシル基。

ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ドデシル基、イントリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、インヘキサデシル基、オ
クタデシル基、インオクタデシル基、オレイル基、オク
チルドデシル基、ベヘニル基、デシルテトラデシル基、
ベンジル基、クレジル基、ブチルフェニル基、ジグチル
フェニル基。

オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、ドデシルフェ
ニル基、ジオクチルフェニル）１ＭＳスチレン化フェニ
ル基等がある。

芳香族基をもフェーテルとしては、たとえば−最大（３
）で示されるエーテルがある。

（Ｒ５は炭素数１〜９のアルキル基、水酸基またはアミ
７基で、ｔはＯ〜５、Ｒ６は炭素数１〜５の炭化水素基
、ｍは０または１　、　Ｒ７は炭素数１〜２２の炭化水
素基である。） Ｒ５で示される炭素数１〜９のアルキル基としては一般
式（２）のＲ３に例示されたものがある。

Ｒ６で示される炭素数１〜５の炭化水素基としては、メ
チレン基、エチレン基、エチリデン基、プロピレンｆｊ
、インプロピリデン基、ブチレン基、ビニレン基、プロ
ペニレンｓ等がある。

Ｒ７で示される炭素数１〜２２の炭化水素基としては、
−最大（２）のＲ４に例示されたものがある。

芳香族基をもつフルフールとしては、たとえば−最大（
４）で示されるアルコールがある。

（Ｒ１１は炭素ｌ・〜９のフルキル基、メトキシ基また
は水酸基、ｎはθ〜５、Ｒ９は炭素数１〜５の炭化水素
基、ｐは０または１　、　Ｒ”Ｏは炭素数２〜１８のオ
キシフルキレン基、ｑはＯ〜５である。）Ｒ１１で示さ
れる炭素数１〜９のアルキル基としては、−最大（２）
のＲ４に例示されたものがある。

Ｒ９で示される炭素数１〜５の炭化水素基としては、−
数式（３）のＲ６に例示されたものがある。

Ｒ１００で示される炭素数２〜１８のオキシフルキレン
基としては、オキシエチレン基のほか、−数式（１）の
ＡＯＫ例示されたものがある。

芳香族基をもつカルボン酸エステルｈしては、−数式（
５）で示されるカルボン酸エステルがある。

（Ｒ１１は炭素数１〜９のアルキル基、メトキシ基また
は水酸基、ｒは０〜５　、　Ｒ１為！炭素数１〜５の炭
化水素基、ＩＩは０または１　、　Ｂｌｓは炭素数１〜
２２の炭化水素基、ｔは１または２．ｒ＋ｔ＝１〜６で
ある。） ａｌｌで示される炭素数１〜９のアルキル基としては、
−数式（２）のＲ３に例示されたものがある。

Ｒｔｚで示される炭素数１〜５の炭化水素基としては、
−数式（３）の８６に例示されたものがある。

Ｒ１３で示される炭素数１〜２２の炭化水素基としては
、−数式（２）のＲ４に例示されたものがある。

芳香族含酸素化合物溶剤は汚れに対し【充分な溶解力が
あればよいのでとくに限定されないが。

融点が高くなると使用に際して加温、あるいはメタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール。

アセトン、メチルエチルケトン、トルエンなどの有機溶
剤が必要になるので、融点が４０Ｃ以下であるものが好
ましい。

芳香族含酸素化合物溶剤を水に乳化するための一般式（
りの界面活性剤の好ましいＨＬＢは、溶剤の種類によっ
ても異なるが、約ｌθ〜１６である。

洗浄剤中における一般式（１）で示される界面活性剤の
割合は、芳香族含酸素化合物溶剤な水に乳化するのく必
要な量であり、とくに規定はされないが、洗浄力を低下
させないためには２〜４０重量％の範囲が好ましい。

〔発明の効果〕

本発明の洗浄剤は油汚れな除去する能力の大きい芳香族
含酸素化合物溶剤とそれを水に対して乳化できる界面活
性剤を組み合わせているので、家庭の油汚れやプリント
基板上のロジンフラックス、液晶などの汚れを簡便に除
去で？！、水を用いて容易にすすぎができ、また排水処
理も容易にできる環境汚染の少ない洗浄剤である。

〔実施例〕

本発明の洗浄剤および比較の洗浄剤を用いて洗浄力テス
トおよびすすぎ性テストを行なった。

テストの方法をつぎに示す。

（洗浄力テスト１） 松脂の飽和イソプロピルアルコール溶液にスライドグラ
ス（７６ｍ＋１１Ｘ２６■）を浸漬したのち、風乾した
ものをテストピースとして用いた。

洗浄剤２００ｄの入った２００ｄ容ビーカーにテストピ
ースを入れ、超音波洗浄器で５分間処理して洗浄を行な
りた。つぎＫすすぎとして、テストピースをイオン交換
水２００ｄの入ったビーカーに移し替え、超音波洗浄器
で２分間処理し、取り出して風乾したのち外観を評価し
た。

（洗浄力テスト２） 洗浄力テスト１と同様の方法で、テストピースとし【液
晶の付着したプリント基板を使用して洗浄力テストを実
施した。

（洗浄カブスト３） 洗浄力テストｌと同様の方法で、テストピースとしてテ
ンプラ油を付滑させたテストピースを用いて洗浄力テス
トを実施した。

なお、洗浄力テスト１〜３はつぎの基準で評価した。

○：汚れがきれいに落ちている。

Δ：汚れが部分的に残っている。

×：汚れがほとんど落ちていない。

（すすぎ性テスト） 洗浄剤に清浄なスライドグラスを浸したのち。

１００ｄの水の入ったビーカーに移し、マグネティック
スターラーで１分間攪拌した。つぎにテストピースを取
り出し、風乾してから表面の触感を調べた。

すすぎ性テストはつぎの基準で評価した。

○：べとつきがない。

△：若干べとつきが残っている。

×：べとつきが残っている。

実施例　１゜ 表２に示す芳香族基なもつケトンまたはエーテルと表１
に示す界面活性剤とからなる表３の洗浄剤についてテス
トを行なった。

結映を表４に示すが１本発明の洗浄剤は洗浄力に優れ、
かつすすぎが容易であることがわかる。

表 注：１） （ ）内はランダム状に付和していることを示す。

２） ＯＲ は牛脂脂肪酸のアシル基でちる。

表 表 王：１） ドテシルジメチルアミンオキシド、ポリオキシエチレン
（２０モル）ノニルフェニルエーテル、トリポリリン酸
ナトリウムおよびメタケイ酸ナトリウムの配合品を、濃
度７ｔｔチ水溶液として用いた。

表 ４ 実施例　２ 表５に示す芳香族基をもつアルコールと表１に示す界面
活性剤とからなる表６の洗浄剤についてテストを行なっ
た。

結果な表７に示すが１本発明の洗浄剤は洗浄力に優れ、
かつすすぎが容易であることがわかる。

表 注：１） （ ）内はランダム状付加であることを示す。

表 注＝１） 表３に同じ 表 実施例　λ 表８ＩＣ示す芳香族基をもつカルボン酸エステルと表Ｉ
Ｋ示す界面活性剤とからなる表９の洗浄剤についてテス
トを行なった。

結果を表１Ｏに示すが、本発明の洗浄剤は洗浄力に優れ
、かつすすぎが容易である二とがわかる。

表 ８ 表 注：１） 表３に同じ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. １．芳香族含酸素化合物溶剤と一般式（１）で示される
   界面活性剤とからなる洗浄剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｚは２〜８個の水酸基をもつ化合物の残基、ＡＯは炭
   素数３〜１８のオキシアルキレン基、Ｒ＾１は炭素数１
   〜２４の炭化水素基、ＣＯＲ＾２は炭素数２〜２２のア
   シル基、ａ≧０、ｂ≧０、ｃ≧０、ｄ≧０、ｅ≧０、ｆ
   ≧０、ｇとｈとｉは０または正の整数でｇ＋ｈ＋ｉ＝２
   〜８、ｄｇ＋ｅｈ＋ｆｉ≧１、（ａ＋ｄ）ｇ＋（ｂ＋ｅ
   ）ｈ＋（ｃ＋ｆ）ｉ＝１〜５００である。）
2. ２．芳香族含酸素化合物溶剤が芳香族基をもつケトン、
   エーテル、アルコールまたはカルボン酸エステルである
   請求項１記載の洗浄剤。