JPH03243700A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/18—Hydrocarbons
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は強力な洗浄力を有し、環境汚染が少なく低泡性
の洗浄剤組成物に関する。
の洗浄剤組成物に関する。
［従来の技術〕
従来より、リモネン、ピネン等のテルペン系化合物が優
れた洗浄力を有することは公知であり、オゾン破壊や自
然界への蓄積等の環境汚染が少ないことに着目し、ガラ
ス、プリント基盤等の汚れの洗浄剤として使用できるこ
とが提案されている。
れた洗浄力を有することは公知であり、オゾン破壊や自
然界への蓄積等の環境汚染が少ないことに着目し、ガラ
ス、プリント基盤等の汚れの洗浄剤として使用できるこ
とが提案されている。
例えば、特開昭５４−１４４０６号公報にはＤ−リモネ
ンと界面活性剤とと水とからなる手、絨秩、ガラス等の
洗浄剤が開示されており、特表昭６３−５０１９０８号
公報にはテルペン系化合物と界面活性剤からなるプリン
ト配線盤の洗浄剤が開示されている。
ンと界面活性剤とと水とからなる手、絨秩、ガラス等の
洗浄剤が開示されており、特表昭６３−５０１９０８号
公報にはテルペン系化合物と界面活性剤からなるプリン
ト配線盤の洗浄剤が開示されている。
しかしながら、これまでの技術で使用されてきた界面活
性剤は、アルキルベンゼンスルホネート、ポリソルベー
トエステル、アルコールエトキシレート及びエトキシス
ルホネート、アルキル及びジアルキルスルホサクシネー
ト、アルキルフェニルエトキシレート等のエチレンオキ
シド付加物、硫酸エステル、スルホン酸エステルであっ
たため、洗浄剤使用中或いは使用後の排水が非常に泡立
ち易いという問題があった。家庭用等小規模で使用する
場合には泡は特に問題にならないが、工業的に使用する
場合には泡が槽から溢れたり、必要以上に大きな洗浄装
置を要するという問題が生しる。
性剤は、アルキルベンゼンスルホネート、ポリソルベー
トエステル、アルコールエトキシレート及びエトキシス
ルホネート、アルキル及びジアルキルスルホサクシネー
ト、アルキルフェニルエトキシレート等のエチレンオキ
シド付加物、硫酸エステル、スルホン酸エステルであっ
たため、洗浄剤使用中或いは使用後の排水が非常に泡立
ち易いという問題があった。家庭用等小規模で使用する
場合には泡は特に問題にならないが、工業的に使用する
場合には泡が槽から溢れたり、必要以上に大きな洗浄装
置を要するという問題が生しる。
本発明はこれらの欠点を解消し、低泡性で環境汚染の少
ない洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
ない洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明者らは、テルペン系化合物と、界面活性を有する
特定の化合物からなる洗浄剤組成物が優れた洗浄力を有
し、低泡性であり、しかも環境汚染の少ないことを見出
して本発明を完成するに至った。
特定の化合物からなる洗浄剤組成物が優れた洗浄力を有
し、低泡性であり、しかも環境汚染の少ないことを見出
して本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明はテルペン系化合物と一般式（１）で
示される化合物とからなる洗浄剤組成物である。
示される化合物とからなる洗浄剤組成物である。
（式中、Ｚは２〜８個の水酸基をもつ化合物の残基、Ａ
Ｏは炭素数３〜Ｉ８のオキシアルキレン基、Ｒ１は炭素
数１〜２４の炭化水素基、Ｃ０Ｒ２は炭素数２〜２２の
アシル基、ａ≧０、ｂ≧０、Ｃ２０、ｄ≧Ｏ，ｅ≧０、
ｆ≧Ｏ，ｇとｈとｉは０または正の整数で、ｇ＋ｈ＋ｉ
−２〜８、ｄｇ＋ｅｈ＋ｆ ｉ≧１、（ａ＋ｄ）ｇ＋
（ｂ＋ｅ）ｈ＋（ｃ＋ｆ）ｉ＝２〜５００である。） テルペン系化合物としては、Ｄ−及びＬ−リモネン、ｐ
−メンタン、ボルネオール、メントン、α−テルピネオ
ール、α−及びＴ−テルピネン、テルビルン、α−１β
−及びσ−ピネン、シトロネロール、ゲラニオール、シ
トロネラール、Ｃカルボン等のモノテルペン、オレンジ
ピールオイル、パインオイル、ユーカリオイル等の植物
精油が挙げられる。
Ｏは炭素数３〜Ｉ８のオキシアルキレン基、Ｒ１は炭素
数１〜２４の炭化水素基、Ｃ０Ｒ２は炭素数２〜２２の
アシル基、ａ≧０、ｂ≧０、Ｃ２０、ｄ≧Ｏ，ｅ≧０、
ｆ≧Ｏ，ｇとｈとｉは０または正の整数で、ｇ＋ｈ＋ｉ
−２〜８、ｄｇ＋ｅｈ＋ｆ ｉ≧１、（ａ＋ｄ）ｇ＋
（ｂ＋ｅ）ｈ＋（ｃ＋ｆ）ｉ＝２〜５００である。） テルペン系化合物としては、Ｄ−及びＬ−リモネン、ｐ
−メンタン、ボルネオール、メントン、α−テルピネオ
ール、α−及びＴ−テルピネン、テルビルン、α−１β
−及びσ−ピネン、シトロネロール、ゲラニオール、シ
トロネラール、Ｃカルボン等のモノテルペン、オレンジ
ピールオイル、パインオイル、ユーカリオイル等の植物
精油が挙げられる。
一般式（１）において、Ｚを残基とする２〜８個の水酸
基を有する化合物としてはエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリ
コール、スチレングリコール、炭素数８〜１８のアルキ
レングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコー
ル類；グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ｌ、３
．５ペンタトリオール、エリスリトール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、ソ
ルビタン、ソルバイト、ソルビトールとグリセリンの縮
合物、アドニトール、アラビトール、キシリトール、マ
ンニトール等の多価アルコール類、或いはそれらの部分
エーテル化物またはエステル化物；キシロース、アラビ
ノース、リボース、ラムノース、グルコース、フルクト
ース、ガラクトース、マンノース、ソルボース、セロビ
オース、マルトース、イソマルトース、トレハロース、
シュークロース、ラフィノース、ゲンチアノース、メレ
ジトース等の塘類或いはそれらの部分エーテル化物また
はエステル化物；カテコール、レゾルシノール、ヒドロ
キノン、フロログルシン等のフェノール類が挙げられる
。
基を有する化合物としてはエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリ
コール、スチレングリコール、炭素数８〜１８のアルキ
レングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコー
ル類；グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ｌ、３
．５ペンタトリオール、エリスリトール、ペンタエリス
リトール、ジペンタエリスリトール、ソルビトール、ソ
ルビタン、ソルバイト、ソルビトールとグリセリンの縮
合物、アドニトール、アラビトール、キシリトール、マ
ンニトール等の多価アルコール類、或いはそれらの部分
エーテル化物またはエステル化物；キシロース、アラビ
ノース、リボース、ラムノース、グルコース、フルクト
ース、ガラクトース、マンノース、ソルボース、セロビ
オース、マルトース、イソマルトース、トレハロース、
シュークロース、ラフィノース、ゲンチアノース、メレ
ジトース等の塘類或いはそれらの部分エーテル化物また
はエステル化物；カテコール、レゾルシノール、ヒドロ
キノン、フロログルシン等のフェノール類が挙げられる
。
ＡＯで示される炭素数３〜１８のオキシアルキレン基と
しては、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキ
シテトラメチレン基、オキシスチレン基、オキシアルキ
レン基、オキシテトラメチレン基、オキシヘキサデシレ
ン基、オキシオクタデシレン基等が挙げられ、これらは
１種だけ付加していてもよく、２種以上が同時に付加し
ていてもよい。
しては、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキ
シテトラメチレン基、オキシスチレン基、オキシアルキ
レン基、オキシテトラメチレン基、オキシヘキサデシレ
ン基、オキシオクタデシレン基等が挙げられ、これらは
１種だけ付加していてもよく、２種以上が同時に付加し
ていてもよい。
Ｒ１で示される炭素数１〜２４の炭化水素基としてはメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、第三ブチル基、ヘンチル基、イソ
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキ
シル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラゾ°シル基、ヘ
キサデシル基、イソヘキサデシル基、オクタデシル基、
イソオクタデシル基、オレイル基、オクチルドデシル基
、トコシル基、デシルテトラデシル基、ベンジル基、ク
レジル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、オ
クチルフェニル基、ノニルフェニル基、ドデシルフェニ
ル基、ジオクチルフェニル基、ジノニルフェニル基、ス
チレン化フェニル基等が挙げられる。
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、第三ブチル基、ヘンチル基、イソ
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキ
シル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラゾ°シル基、ヘ
キサデシル基、イソヘキサデシル基、オクタデシル基、
イソオクタデシル基、オレイル基、オクチルドデシル基
、トコシル基、デシルテトラデシル基、ベンジル基、ク
レジル基、ブチルフェニル基、ジブチルフェニル基、オ
クチルフェニル基、ノニルフェニル基、ドデシルフェニ
ル基、ジオクチルフェニル基、ジノニルフェニル基、ス
チレン化フェニル基等が挙げられる。
Ｃ０Ｒ２で示される炭素数２〜２２のアシル基としては
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリル酸、
ペラルゴン酸、２−エチルへキサン酸、ノナン酸、カプ
リン酸、ウンデシレン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パル旦チン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキン
酸、ベヘン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノー
ル酸、リルン酸、エルカ酸、イソパルミチン酸、イソス
テアリン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、桂皮酸、
没食子酸等に由来するアシル基がある。
、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリル酸、
ペラルゴン酸、２−エチルへキサン酸、ノナン酸、カプ
リン酸、ウンデシレン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パル旦チン酸、マーガリン酸、ステアリン酸、アラキン
酸、ベヘン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノー
ル酸、リルン酸、エルカ酸、イソパルミチン酸、イソス
テアリン酸、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、桂皮酸、
没食子酸等に由来するアシル基がある。
一般式（１）において、オキシエチレン基はテルペン系
化合物を水に対して乳化性にするために最低１モルは必
要である。Ａ○は洗浄後の排水を低泡性にするために含
有させることが好ましいが必ずしも必要でない。またオ
キシアルキレン基とオキシエチレン基の合計付加モル数
は界面活性能をもたせるためには２モル以上は必要であ
り、５００モルを越えると粘度が著しく増加して使用し
難くなるため５００モル以下であることを要する。また
、オキシエチレン基の含有量はテルペン系化合物の水へ
の乳化に適した量であればよく、テルペン系化合物の種
類或いは一般式（１）で示される化合物の組合わせによ
っても異なるので特に限定できないが、オレンジビール
オイル等の天然系オイルを使用する場合、好ましいエチ
レンオキシドの量は分子量の２０〜８０重量％である。
化合物を水に対して乳化性にするために最低１モルは必
要である。Ａ○は洗浄後の排水を低泡性にするために含
有させることが好ましいが必ずしも必要でない。またオ
キシアルキレン基とオキシエチレン基の合計付加モル数
は界面活性能をもたせるためには２モル以上は必要であ
り、５００モルを越えると粘度が著しく増加して使用し
難くなるため５００モル以下であることを要する。また
、オキシエチレン基の含有量はテルペン系化合物の水へ
の乳化に適した量であればよく、テルペン系化合物の種
類或いは一般式（１）で示される化合物の組合わせによ
っても異なるので特に限定できないが、オレンジビール
オイル等の天然系オイルを使用する場合、好ましいエチ
レンオキシドの量は分子量の２０〜８０重量％である。
また、オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロッ
ク状に付加していてもランダム状に付加していてもよい
。
ク状に付加していてもランダム状に付加していてもよい
。
洗浄剤組成物中における一般式（１）で示される化合物
の割合はテルペン系化合物を乳化するのに必要な量であ
り、特に限定できないが、洗浄力を低下させないために
は２〜４０重量％の範囲が好ましい。
の割合はテルペン系化合物を乳化するのに必要な量であ
り、特に限定できないが、洗浄力を低下させないために
は２〜４０重量％の範囲が好ましい。
（発明の効果〕
本発明の洗浄剤組成物は、テルペン系化合物とそれを自
己乳化できるような低泡性の界面活性を有する化合物と
を組合わせているので、家庭の油汚れやプリント基盤上
のロジンフラックス、液晶等の汚れを簡便に除去でき、
水によるすすぎがきわめて容易であり、また、排水処理
も容易にでき、環境汚染の少ない洗浄剤である。
己乳化できるような低泡性の界面活性を有する化合物と
を組合わせているので、家庭の油汚れやプリント基盤上
のロジンフラックス、液晶等の汚れを簡便に除去でき、
水によるすすぎがきわめて容易であり、また、排水処理
も容易にでき、環境汚染の少ない洗浄剤である。
〔実施例］
以下に示す実施例及び比較例については、下記に示すテ
ストを行った。
ストを行った。
（洗浄力テストｌ）
松脂の飽和イソフロビルアルコール溶液にスライドグラ
ス（７６ｍｍＸ ２６ｍｍ）を浸漬した後、風乾したも
のをテストピースとして用いた。
ス（７６ｍｍＸ ２６ｍｍ）を浸漬した後、風乾したも
のをテストピースとして用いた。
洗浄剤２００ｍｆの入った２ ００ｍｌｍｌ−カーにテ
ストピースを入れ、超音波５分間処理して洗浄を行った
。次にすすぎとして、テストピースをイオン交換水２０
０ｍｆの入ったビーカーに移し替え、超音波洗浄器で２
分間処理し、取り出して風乾した後、外観を評価した。
ストピースを入れ、超音波５分間処理して洗浄を行った
。次にすすぎとして、テストピースをイオン交換水２０
０ｍｆの入ったビーカーに移し替え、超音波洗浄器で２
分間処理し、取り出して風乾した後、外観を評価した。
（洗浄力テスト２）
洗浄力テスト１と同様の方法で、テストピースとして液
晶を付着させたプリント基盤を使用して洗浄力テストを
実施した。
晶を付着させたプリント基盤を使用して洗浄力テストを
実施した。
（洗浄力テスト３）
洗浄力テストｌと同様の方法で、テストピースとしてテ
ンプラ油を付着させたテストピースを用いて洗浄力テス
トを実施した。
ンプラ油を付着させたテストピースを用いて洗浄力テス
トを実施した。
なお、洗浄力テスト１〜３は次の基準で評価した。
○：汚れがきれいに落ちている。
△：汚れが部分的に残っている。
×：汚れがほとんど落ちていない。
（すすぎ性テスト）
洗浄剤に清浄なスライドグラスを浸した後、１００ｍｌ
の水の入ったビーカーに移し、マグネテイックスターラ
ーで１分間撹拌した。次にテストピースを取り出し、風
乾してから表面の触感を調べた。
の水の入ったビーカーに移し、マグネテイックスターラ
ーで１分間撹拌した。次にテストピースを取り出し、風
乾してから表面の触感を調べた。
すすぎ性テストは次の基準で評価した。
Ｏ：べとつきがない。
△：若干べとつきが残っている。
×：べとつきが残っている。
（排水の泡立ちテスト）
洗浄力テスト１と同様の方法で２０枚のロジン付着テス
トピースを洗浄した後５００ｍｆｆ１のイオン交換水を
用いて連続してすすぎを行った。
トピースを洗浄した後５００ｍｆｆ１のイオン交換水を
用いて連続してすすぎを行った。
次にすすぎ水１００ｍｊ２を共栓付２００ｍｊ２容のメ
スシリンダーにとり、１０回激しく震盪した後、静置し
て泡立ちの状態を調べた。
スシリンダーにとり、１０回激しく震盪した後、静置し
て泡立ちの状態を調べた。
排水の泡立ちテストは次の基準で評価した。
○：静置後５分以内に泡が消える。
×：静置後１０分経過しても泡がある。
（実施例１〜１４）及び〔比較例１〜４］第１表に示す
化合物を含有する第２表の洗浄剤組成物についてテスト
を行った。その結果を第３表に示した。
化合物を含有する第２表の洗浄剤組成物についてテスト
を行った。その結果を第３表に示した。
本発明の洗浄剤組成物は洗浄力に優れ、かつすすぎが容
易であり、泡立ちが少ないことが判明した。
易であり、泡立ちが少ないことが判明した。
第
２
表
第
表
１諷枡ｉ１８！Ｘ ｉｆ不疋す
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 テルペン系化合物と、一般式（１）で示される化合物
とからなる洗浄剤組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（１） （式中、Ｚは２〜８個の水酸基をもつ化合物の残基、Ａ
Ｏは炭素数３〜１８のオキシアルキレン基、Ｒ＾１は炭
素数１〜２４の炭化水素基、ＣＯＲ＾２は炭素数２〜２
２のアシル基、ａ≧０、ｂ≧０、ｃ≧０、ｄ≧０、ｅ≧
０、ｆ≧０、ｇとｈとｉは０または正の整数で、ｇ＋ｈ
＋ｉ＝２〜８、ｄｇ＋ｅｈ＋ｆｉ≧１、（ａ＋ｄ）ｇ＋
（ｂ＋ｅ）ｈ＋（ｃ＋ｆ）ｉ＝２〜５００である。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3731990A JPH03243700A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3731990A JPH03243700A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03243700A true JPH03243700A (ja) | 1991-10-30 |
Family
ID=12494348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3731990A Pending JPH03243700A (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03243700A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0468096A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-03 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
| EP0619365A1 (de) * | 1993-04-07 | 1994-10-12 | Sporrer, Erich | Reinigungsmittel und Herstellungsverfahren |
| CN105623866A (zh) * | 2014-11-03 | 2016-06-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种剥离清洗剂组合物及其使用方法 |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP3731990A patent/JPH03243700A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0468096A (ja) * | 1990-07-09 | 1992-03-03 | Kao Corp | 洗浄剤組成物 |
| EP0619365A1 (de) * | 1993-04-07 | 1994-10-12 | Sporrer, Erich | Reinigungsmittel und Herstellungsverfahren |
| CN105623866A (zh) * | 2014-11-03 | 2016-06-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种剥离清洗剂组合物及其使用方法 |
| CN105623866B (zh) * | 2014-11-03 | 2018-04-10 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种剥离清洗剂组合物及其使用方法 |
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